JP2012223552A - 歯科用修復物の調製のためのプロセス - Google Patents
歯科用修復物の調製のためのプロセス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012223552A JP2012223552A JP2011206373A JP2011206373A JP2012223552A JP 2012223552 A JP2012223552 A JP 2012223552A JP 2011206373 A JP2011206373 A JP 2011206373A JP 2011206373 A JP2011206373 A JP 2011206373A JP 2012223552 A JP2012223552 A JP 2012223552A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass ceramic
- oxides
- lithium
- process according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 103
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 97
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 54
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000006017 silicate glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 47
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 25
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 23
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 21
- 239000003103 lithium disilicate glass Substances 0.000 claims description 20
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 19
- WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000006065 metasilicate glass ceramic Substances 0.000 claims description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 7
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 10
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 10
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 7
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 5
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 5
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- 239000005548 dental material Substances 0.000 description 3
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 3
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 description 2
- 238000001483 high-temperature X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- BPJYAXCTOHRFDQ-UHFFFAOYSA-L tetracopper;2,4,6-trioxido-1,3,5,2,4,6-trioxatriarsinane;diacetate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[Cu+2].[Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.[O-][As]1O[As]([O-])O[As]([O-])O1.[O-][As]1O[As]([O-])O[As]([O-])O1 BPJYAXCTOHRFDQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004110 Zinc silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002605 disilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 229910052907 leucite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006123 lithium glass Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- -1 oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0009—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0007—Compositions for glass with special properties for biologically-compatible glass
- C03C4/0021—Compositions for glass with special properties for biologically-compatible glass for dental use
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Dental Prosthetics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが使用される、歯科用修復物を調製するためのプロセスに関し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。
【選択図】なし
Description
(項目1)
歯科用修復物の調製のためのプロセスであって、該プロセスにおいて、ケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが、
(i)プレスまたは
(ii)機械加工
によって該歯科用修復物に形成され、該ガラスセラミックおよび該ガラスが、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有し、該遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、プロセス。
(項目2)
前記歯科用修復物が、インレー、アンレー、歯冠、前装、咬合局面および橋脚歯から選択される、上記項目に記載のプロセス。
(項目3)
前記プレスが、700℃〜1200℃の温度で実施される、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目4)
前記プレスが、2bar〜10barの圧力で実施される、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目5)
前記機械加工が、CAD/CAMプロセスで行われる、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目6)
前記ガラスセラミックが、メタケイ酸リチウムガラスセラミックまたは二ケイ酸リチウムガラスセラミックである、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目7)
前記ガラスが、メタケイ酸リチウム結晶および/または二ケイ酸リチウム結晶の形成のために適切な核を含む、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目8)
前記ガラスセラミックまたは前記ガラスが、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有し、該遷移金属酸化物が、Yの酸化物、Nbの酸化物、Laの酸化物、Taの酸化物、Wの酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目9)
前記ガラスセラミックまたは前記ガラスが、以下の成分:
成分 重量%
SiO2 54.0〜80.0、特に60.0〜70.0
Li2O 11.0〜19.0、特に13.0〜17.0
Al2O3 0.2〜8.0、特に1.0〜7.0
K2O 0.5〜13.5、特に1.0〜7.0
アルカリ土類金属酸化物 0〜6.0、特に0.1〜5.0
ZnO 0〜6.0、特に0.1〜5.0
遷移金属酸化物 8.5〜30.0、特に9.0〜25.0
P2O5 0.5〜12.0、特に2.5〜6.0
ZrO2 0.1〜4.0、特に0.5〜2.0
着色剤 0.1〜8.0、特に0.2〜2.0、および
蛍光剤、
のうちの少なくとも1つ、そして好ましくはすべてを含有する、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目10)
前記ガラスセラミックおよび前記ガラスが、ブランクの形態で使用される、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目11)
前記機械加工後に、少なくとも1回の熱処理が行われて、前記形成されたガラスまたは前記形成されたガラスセラミックを二ケイ酸リチウムガラスセラミックに転換する、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目12)
前記歯科用修復物が、二ケイ酸リチウムガラスセラミックベースである、上記項目のうちのいずれか1項に記載のプロセス。
(項目13)
歯科用修復物を調製するための、ケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスの使用であって、該ガラスセラミックまたは該ガラスが、
(i)プレスまたは
(ii)機械加工
によって、該歯科用修復物に形成され、そして該ガラスセラミックおよび該ガラスは、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有し、該遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、使用。
本発明は、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが使用される、歯科用修復物を調製するためのプロセスに関し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。
(i)プレス、または
(ii)機械加工
によって歯科用修復物に形成されることを特徴とし、ここでこのガラスセラミックおよびこのガラスは、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有し、この遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される。
成分 重量%
SiO2 54.0〜80.0、特に60.0〜70.0
Li2O 11.0〜19.0、特に12.0〜15.0
K2O 0.5〜13.5、特に1.0〜7.0
Al2O3 0.2〜8.0、特に1.0〜7.0
アルカリ土類金属酸化物 0〜6.0、特に0.1〜5.0
ZnO 0〜6.0、特に0.1〜5.0
遷移金属酸化物 8.5〜30.0、特に9.0〜25.0
P2O5 0.5〜12.0、特に2.5〜6.0
ZrO2 0.1〜4.0、特に0.5〜2.0
着色剤 0.1〜8.0、特に0.2〜2.0および
蛍光剤
のうちの少なくとも1つ、そして好ましくは全てを含有するガラスセラミックが、特に好ましい。
表Iに与えられる組成(それぞれ重量%単位)を有する、合計10個のガラスおよびガラスセラミックを、対応する出発ガラスを融解し、続いて制御された核形成および結晶化のための熱処理により調製した。
(A)核を有するガラスのブランク
最初に、実施例7および実施例8による組成を有するガラスを、酸化物および炭酸塩の形態の対応する原料をTurbolaミキサー中で30分間混合し、次いでこの混合物を白金坩堝内で1450℃で120分間融解することによって調製した。微細に分割されたガラス顆粒を得る目的で、この融解物を水に注いだ。特に高い均質性を有するガラス融解物を得る目的で、これらのガラス顆粒を再度、1530℃で150分間融解した。温度を30分間にわたって1500℃まで下げ、引き続いて、a)矩形ガラスブランク(12.5mm×14mm×40mm)およびb)12.5mmの直径を有する円柱形ガラスブランクを、予熱した分離可能な鋼型または黒鉛型に注いだ。次いで、得られた矩形ガラスブロックまたはガラス円柱を、その組成に依存して500℃〜560℃の範囲で熱処理して、メタケイ酸リチウム結晶および/または二ケイ酸リチウム結晶のための核を生成し、そしてガラスの応力を軽減した。
i)核を有するガラス円柱(A)を、プレス炉EP600(Ivoclar Vivadent AG)により900℃〜950℃の温度でホットプレスにより加工して、歯科用修復物(例えば、インレー、アンレー、前装、部分歯冠、歯冠および咬合局面)を得た。
核を有する矩形ガラスブロック(A)を、(B)(ii)に従う1回目の結晶化に供して、メタケイ酸リチウムの結晶化を行った。次いで、この生成したメタケイ酸リチウムガラスセラミックブロックを、CAD/CAMプロセス(例えば、Sirona,Cerec 2(登録商標)またはCerec 3(登録商標))により機械加工して、歯科用修復物(例えば、インレー、アンレー、前装、部分歯冠、歯冠および咬合局面)を得た。引き続いて、これらの修復物を、840℃〜880℃で5分間〜1時間の、2回目の結晶化に供した。この処理後の結晶相の分析は、二ケイ酸リチウムを主要結晶相として有する、本発明によるガラスセラミックを示した。
Claims (13)
- 歯科用修復物の調製のためのプロセスであって、該プロセスにおいて、ケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスが、
(i)プレスまたは
(ii)機械加工
によって該歯科用修復物に形成され、該ガラスセラミックおよび該ガラスが、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有し、該遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、プロセス。 - 前記歯科用修復物が、インレー、アンレー、歯冠、前装、咬合局面および橋脚歯から選択される、請求項1に記載のプロセス。
- 前記プレスが、700℃〜1200℃の温度で実施される、請求項1または2のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記プレスが、2bar〜10barの圧力で実施される、請求項1〜3のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記機械加工が、CAD/CAMプロセスで行われる、請求項1〜4のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ガラスセラミックが、メタケイ酸リチウムガラスセラミックまたは二ケイ酸リチウムガラスセラミックである、請求項1〜5のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ガラスが、メタケイ酸リチウム結晶および/または二ケイ酸リチウム結晶の形成のために適切な核を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ガラスセラミックまたは前記ガラスが、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有し、該遷移金属酸化物が、Yの酸化物、Nbの酸化物、Laの酸化物、Taの酸化物、Wの酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、請求項1〜7のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記ガラスセラミックまたは前記ガラスが、以下の成分:
成分 重量%
SiO2 54.0〜80.0、特に60.0〜70.0
Li2O 11.0〜19.0、特に13.0〜17.0
Al2O3 0.2〜8.0、特に1.0〜7.0
K2O 0.5〜13.5、特に1.0〜7.0
アルカリ土類金属酸化物 0〜6.0、特に0.1〜5.0
ZnO 0〜6.0、特に0.1〜5.0
遷移金属酸化物 8.5〜30.0、特に9.0〜25.0
P2O5 0.5〜12.0、特に2.5〜6.0
ZrO2 0.1〜4.0、特に0.5〜2.0
着色剤 0.1〜8.0、特に0.2〜2.0、および
蛍光剤、
のうちの少なくとも1つ、そして好ましくはすべてを含有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載のプロセス。 - 前記ガラスセラミックおよび前記ガラスが、ブランクの形態で使用される、請求項1〜9のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記機械加工後に、少なくとも1回の熱処理が行われて、前記形成されたガラスまたは前記形成されたガラスセラミックを二ケイ酸リチウムガラスセラミックに転換する、請求項1〜10のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記歯科用修復物が、二ケイ酸リチウムガラスセラミックベースである、請求項1〜11のいずれか1項に記載のプロセス。
- 歯科用修復物を調製するための、ケイ酸リチウムガラスセラミックまたはケイ酸リチウムガラスの使用であって、該ガラスセラミックまたは該ガラスが、
(i)プレスまたは
(ii)機械加工
によって、該歯科用修復物に形成され、そして該ガラスセラミックおよび該ガラスは、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有し、該遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、使用。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP11162840.0A EP2377831B1 (de) | 2010-04-16 | 2011-04-18 | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Gehalt an ZrO2 |
EP11162840.0 | 2011-04-18 | ||
EP11173131.1A EP2407439B1 (de) | 2010-04-16 | 2011-07-07 | Verfahren zur Herstellung von Dentalrestaurationen |
EP11173131.1 | 2011-07-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012223552A true JP2012223552A (ja) | 2012-11-15 |
JP5662914B2 JP5662914B2 (ja) | 2015-02-04 |
Family
ID=47299875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011206373A Active JP5662914B2 (ja) | 2011-04-18 | 2011-09-21 | 歯科用修復物の調製のためのプロセス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5662914B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015056900A1 (ko) * | 2013-10-14 | 2015-04-23 | 주식회사 하스 | 지르코니아 상단에 안착되는 리튬 실리케이트 유리 또는 리튬 실리케이트 결정화 유리 및 이의 제조방법 |
KR20160142857A (ko) * | 2014-04-07 | 2016-12-13 | 이보클라 비바덴트 아게 | 석영-믹스 결정 상을 포함하는 유리 세라믹 |
JP2017501098A (ja) * | 2013-11-05 | 2017-01-12 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 遷移金属酸化物を含む二ケイ酸リチウム−アパタイトガラスセラミック |
JPWO2016031399A1 (ja) * | 2014-08-27 | 2017-04-27 | 株式会社ジーシー | 歯科補綴物の製造方法、歯科補綴物用二ケイ酸リチウムブランクの製造方法、及び歯科補綴物用二ケイ酸リチウムブランク |
JP2019072509A (ja) * | 2015-05-25 | 2019-05-16 | 株式会社ジーシー | 歯科補綴物用材料、歯科補綴物作製用ブロック体、及び歯科補綴物 |
CN110981204A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-04-10 | 深圳爱尔创口腔技术有限公司 | 一种荧光硅酸锂玻璃材料及其制备方法与应用 |
US11166795B2 (en) | 2014-08-27 | 2021-11-09 | Gc Corporation | Method for producing dental prosthesis, method for producing lithium disilicate blank for dental prosthesis and lithium disilicate blank for dental prosthesis |
JP2021531839A (ja) * | 2018-08-02 | 2021-11-25 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 歯科用多色ブランク |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001288027A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-10-16 | Tec Ventures Inc | 歯科修復物の形成方法及び関連の装置 |
US20010031446A1 (en) * | 1994-05-31 | 2001-10-18 | Tec Ventures, Inc. | Method for molding dental restorations and related apparatus |
US20050127544A1 (en) * | 1998-06-12 | 2005-06-16 | Dmitri Brodkin | High-strength dental restorations |
WO2009126317A1 (en) * | 2008-04-11 | 2009-10-15 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic and method for fabrication of dental appliances |
-
2011
- 2011-09-21 JP JP2011206373A patent/JP5662914B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20010031446A1 (en) * | 1994-05-31 | 2001-10-18 | Tec Ventures, Inc. | Method for molding dental restorations and related apparatus |
US20050127544A1 (en) * | 1998-06-12 | 2005-06-16 | Dmitri Brodkin | High-strength dental restorations |
JP2001288027A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-10-16 | Tec Ventures Inc | 歯科修復物の形成方法及び関連の装置 |
JP2008515549A (ja) * | 2004-10-08 | 2008-05-15 | ペントロン・セラミックス・インコーポレイテッド | 高強度歯科修復物 |
WO2009126317A1 (en) * | 2008-04-11 | 2009-10-15 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic and method for fabrication of dental appliances |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015056900A1 (ko) * | 2013-10-14 | 2015-04-23 | 주식회사 하스 | 지르코니아 상단에 안착되는 리튬 실리케이트 유리 또는 리튬 실리케이트 결정화 유리 및 이의 제조방법 |
JP2017501098A (ja) * | 2013-11-05 | 2017-01-12 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 遷移金属酸化物を含む二ケイ酸リチウム−アパタイトガラスセラミック |
CN112645601A (zh) * | 2013-11-05 | 2021-04-13 | 义获嘉伟瓦登特公司 | 包含过渡金属氧化物的焦硅酸锂-磷灰石玻璃陶瓷 |
KR20160142857A (ko) * | 2014-04-07 | 2016-12-13 | 이보클라 비바덴트 아게 | 석영-믹스 결정 상을 포함하는 유리 세라믹 |
JP2017512742A (ja) * | 2014-04-07 | 2017-05-25 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 石英固溶体相を有するガラスセラミック |
KR102231735B1 (ko) * | 2014-04-07 | 2021-03-24 | 이보클라 비바덴트 아게 | 석영-믹스 결정 상을 포함하는 유리 세라믹 |
JP2017128581A (ja) * | 2014-08-27 | 2017-07-27 | 株式会社ジーシー | 歯科補綴物の製造方法、歯科補綴物用二ケイ酸リチウムブランクの製造方法、及び歯科補綴物用二ケイ酸リチウムブランク |
US10405953B2 (en) | 2014-08-27 | 2019-09-10 | Gc Corporation | Method for producing dental prosthesis, method for producing lithium disilicate blank for dental prosthesis and lithium disilicate blank for dental prosthesis |
JP2020094057A (ja) * | 2014-08-27 | 2020-06-18 | 株式会社ジーシー | 歯科補綴物の製造方法、歯科補綴物用二ケイ酸リチウムブランクの製造方法、及び歯科補綴物用二ケイ酸リチウムブランク |
US9700392B2 (en) | 2014-08-27 | 2017-07-11 | Gc Corporation | Method for producing dental prosthesis, method for producing lithium disilicate blank for dental prosthesis and lithium disilicate blank for dental prosthesis |
JPWO2016031399A1 (ja) * | 2014-08-27 | 2017-04-27 | 株式会社ジーシー | 歯科補綴物の製造方法、歯科補綴物用二ケイ酸リチウムブランクの製造方法、及び歯科補綴物用二ケイ酸リチウムブランク |
US11166795B2 (en) | 2014-08-27 | 2021-11-09 | Gc Corporation | Method for producing dental prosthesis, method for producing lithium disilicate blank for dental prosthesis and lithium disilicate blank for dental prosthesis |
JP2019072509A (ja) * | 2015-05-25 | 2019-05-16 | 株式会社ジーシー | 歯科補綴物用材料、歯科補綴物作製用ブロック体、及び歯科補綴物 |
JP2021531839A (ja) * | 2018-08-02 | 2021-11-25 | イフォクレール ヴィヴァデント アクチェンゲゼルシャフトIvoclar Vivadent AG | 歯科用多色ブランク |
CN110981204A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-04-10 | 深圳爱尔创口腔技术有限公司 | 一种荧光硅酸锂玻璃材料及其制备方法与应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5662914B2 (ja) | 2015-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DK2407439T3 (en) | A method for producing dental restoration structures | |
JP6470793B2 (ja) | 四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス | |
JP5926808B2 (ja) | 三価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス | |
US9757311B2 (en) | Lithium silicate glass ceramics and lithium silicate glass containing cesium oxide | |
DK2765977T3 (en) | Lithium silicate glass-ceramic and glass WITH MONOVALENT metal oxide | |
JP6681659B2 (ja) | 二価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびケイ酸リチウムガラス | |
JP5662914B2 (ja) | 歯科用修復物の調製のためのプロセス | |
US9956146B2 (en) | Process for the preparation of dental restorations | |
DK2765979T3 (en) | Lithium silicate glass-ceramic and glass pentavalent metal oxide. | |
JP5990272B2 (ja) | 六価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140813 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140814 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141201 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141205 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5662914 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |