JP2012222047A - プリント配線板およびそのプリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プリント配線板の製造方法は次の通りである。絶縁層20に導電基板10に達する貫通孔41を形成する。絶縁層20上の貫通孔41を含む領域に導電性粒子を含む導電性インクを塗布し、導電粒子層31を形成する。さらに、電気めっきにより導電粒子層31の上に電気めっき層33を形成する。そして、ブラインドビア40の周囲の導電粒子層31および電気めっき層33を除去する。
【選択図】図4
Description
図6に示すように、絶縁層に形成されている第1導電パターン110と第2導電パターン120は、絶縁層130を貫通するブラインドビア140を介して互いに接続されている。このブラインドビア140は、絶縁層に形成された貫通孔141に導電ペースト143を充填することにより形成されている。
(1)請求項1に記載の発明は、絶縁層と、この絶縁層の一方の面に形成されている第1導電層と、前記絶縁層の他方の面に形成されかつブラインドビアを通じて前記第1導電層に接続されている第2導電層とを備えているプリント配線板の製造方法において、前記絶縁層に前記第1導電層に達する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記貫通孔を含む領域に導電性粒子を含む導電性インクを塗布して導電粒子層を形成する第1層形成工程と、電気めっきにより前記導電粒子層の上に電気めっき層を形成する第2層形成工程と、前記貫通孔周囲の前記導電粒子層および前記電気めっき層を除去し、前記導電粒子層と前記電気めっき層とを含む前記第2導電層を形成するパターン層形成工程とを含み、前記第2導電層を前記導電粒子層と前記電気めっき層を含む層として形成することを要旨とする。
この発明によれば、第1導電層を銅材により形成する場合と比べて、プリント配線板を高い弾性を有する部材とすることができる。ステンレスの表面に回路が形成された部材は、振動の緩衝が必要な部品、例えばハードディスク等のヘッドサスペンション用の回路基板として用いることができる。
導電パターン30は、金属粒子により構成されている導電粒子層31と、導電粒子層31の上に形成されている無電解めっき層32と、無電解めっき層32の上に形成されている電気めっき層33とにより構成されている。なお、以降の説明においては、導電粒子層31と無電解めっき層32とを合わせた層が第1層とし、電気めっき層33を第2層とする。
図3(A)に示すように、厚さ10μm〜500μmの導電基板10の上に溶液状のポリイミド前駆体樹脂を塗布した後、300℃以上で加熱し、ポリイミド前駆体樹脂を硬化させる。これにより、導電基板10上に厚さ10μm〜200μmの絶縁層20を形成する。
第1種別の酸化物除去物質は、酸化物を還元する還元性物質である。還元性物質として、次亜リン酸、亜リン酸、アスコルビン酸、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、アルコール、ヒドラジン、ホルムアルデヒド等が挙げられる。
図4(A)に示すように、ブラインドビア40および導電パターン30に対応する部分以外の部分にレジスト50を形成する。レジスト50は、フォトレジストを基板にラミネートした上でフォトマスクを介して露光現像することにより形成される。
従来の製造方法では、絶縁層20に貫通孔41を形成した後、貫通孔41の周囲にランドパターンを形成し、次いで、貫通孔41の導電ペーストを充填することにより、ランドパターンと導電基板10とを接続していた。しかしこの方法の場合、貫通孔41の小径化に伴う導電ペーストの未充填の問題を解決するために導電ペーストの粘度を低下させる必要があったが、導電ペーストの粘度を低下させることにより、導電ペーストの硬化のときに広がり、ブラインドビア径のばらつきが生じるという新たな問題が生じていた。
実施例1〜3は、酸化物除去剤を塗布し、かつ通電加熱を行った例である。比較例は、酸化物除去剤を塗布せず、通電加熱を行った例である。なお、いずれの例についても、通電加熱の前後におけるブラインドビア40の抵抗値を計測した。
・絶縁層20が積層された導電基板10を母材として用いた。
・導電基板10は厚さ20μmのSUS304の基板である。
・絶縁層20はポリイミド樹脂により形成し、厚さを10μmとした。
・ブラインドビア40の貫通孔41は、絶縁層20にYAGレーザを照射して形成し、直径60μmとした。
・導電性インクとしては、平均粒径が40nmの銅粒子を8質量%水に分散させた水溶液を用いた。
・導電性インクを上記母材に塗布した後、水を蒸発させるため80℃にて30秒程度の期間加熱し、導電基板10を乾燥した。
・導電性インクの乾燥後、酸化物除去剤(還元剤)としてのアスコルビン酸の1.0質量%水溶液を導電性インクの乾燥物の上に塗布した。この後、不活性ガス雰囲気下、90℃で、30分維持し、さらに5℃/分の昇温速度にて350℃まで昇温し、さらにこの温度350℃で30分加熱処理した。これにより導電粒子層31を形成した。
・導電粒子層31の上に、銅の無電解めっきを行い、その厚みを0.2μmとした。
・無電解めっきの上に、セミアディティブ−パターン法により導電パターン30およびブラインドビア40を形成した。
・電流5A、パルス幅100μsのパルス電流をブラインドビア40に通電した。
(結果)
・ブラインドビア40の通電前の抵抗値は1.4Ωであった。
・ブラインドビア40の通電後の抵抗値は0.11Ωであった。
下記以外は、実施例1と同じ製造条件である。
・実施例1の酸化物除去剤としてのアスコルビン酸の水溶液の塗布に代えて、次の処理を行った。すなわち、本実施例では、導電性インクの乾燥後、酸化物除去剤(酸化物溶解剤)としてのグルタミン酸の1.0質量%水溶液を導電性インクの乾燥物の上に塗布した。
(結果)
・ブラインドビア40の通電前の抵抗値は1.2Ωであった。
・ブラインドビア40の通電後の抵抗値は0.09Ωであった。
下記以外は、実施例1と同じ製造条件である。
・実施例1の酸化物除去剤としてのアスコルビン酸の水溶液の塗布に代えて、次の処理を行った。すなわち、本実施例では、導電性インクの乾燥後、酸化物除去剤(酸化物溶解剤)としてのマレイン酸の1.0質量%水溶液を導電性インクの乾燥物の上に塗布した。
(結果)
・ブラインドビア40の通電前の抵抗値は1.2Ωであった。
・ブラインドビア40の通電後の抵抗値は0.09Ωであった。
下記以外は、実施例1〜3と同じ製造条件である。
・実施例1〜3では酸化物除去剤の塗布を行ったが、本実施例では酸化物除去剤を塗布しなかった。
(結果)
・ブラインドビア40の通電前の抵抗値は1.8Ωであった。
・ブラインドビア40の通電後の抵抗値は0.14Ωであった。
図5を参照して、実施例および比較例を比較する。
実施例および比較例のいずれについても、ブラインドビア40にパルス通電を行っている。パルス通電の効果はいずれ場合も同様である。すなわち、通電後の抵抗値は、通電前の抵抗値よりも小さい。これは、導電性粒子31A同士の接触部分および導電性粒子31Aと導電基板10との接触部分すなわち比較的高抵抗となっている部分がパルス通電により高温となり、一部溶融または焼結することに起因して、当該接触部分の抵抗値が低下したと考えられる。
(1)上記実施形態では、絶縁層20に導電性インクを塗布して導電粒子層31を形成し、電気めっきにより導電粒子層31の上にブラインドビア40を形成し、さらに、ブラインドビア40の周囲の導電粒子層31および電気めっき層33を除去する。
ブラインドビア40を絶縁層20と無電解めっきと電気めっき層33とを順に積層した構造とすることができる。しかし、この構造の場合、絶縁層20と無電解めっきとの間の接着強度が弱いため剥離するおそれがある。この点、上記構成よれば、電気めっき層33は導電粒子層31および無電解めっき層32を介して導電基板10に接続される。導電粒子層31と絶縁層20との接着力は、無電解めっきと絶縁層20との接着強度よりも大きいため、絶縁層20の導電粒子層31との間の剥離を抑制することができる。
なお、本発明の実施態様は上記各実施例にて示した態様に限られるものではなく、これを例えば以下に示すように変更して実施することもできる。また以下の各変形例は、上記各実施例についてのみ適用されるものではなく、異なる変形例同士を互いに組み合わせて実施することもできる。
Claims (12)
- 絶縁層と、この絶縁層の一方の面に形成されている第1導電層と、前記絶縁層の他方の面に形成されかつブラインドビアを通じて前記第1導電層に接続されている第2導電層とを備えているプリント配線板の製造方法において、
前記絶縁層に前記第1導電層に達する貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、
前記貫通孔を含む領域に導電性粒子を含む導電性インクを塗布して導電粒子層を形成する第1層形成工程と、
電気めっきにより前記導電粒子層の上に電気めっき層を形成する第2層形成工程と、
前記貫通孔周囲の前記導電粒子層および前記電気めっき層を除去し、前記導電粒子層と前記電気めっき層とを含む前記第2導電層を形成するパターン層形成工程とを含み、
前記第2導電層を前記導電粒子層と前記電気めっき層を含む層として形成する
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 請求項1に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記ブラインドビアを形成した後、前記ブラインドビアに対して通電加熱する
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 請求項1または2に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記第1層形成工程は、前記導電性インクを塗布する工程と、前記導電性インクの溶媒を蒸発させて前記導電粒子層を形成する工程と、前記導電粒子層に対して無電解めっき層を形成する工程とを含む
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記第1層形成工程は、前記導電性インクを塗布する工程と、前記導電性インクの溶媒を蒸発させて前記導電粒子層を形成する工程と、前記第1導電層の表面の酸化物を除去する酸化物除去剤を前記導電粒子層の上に塗布する工程と、前記酸化物除去剤の塗布後に前記導電粒子層に対して無電解めっき層を形成する工程とを含む
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記第1層形成工程は、前記導電性インクを塗布する工程と、前記導電性インクの溶媒を蒸発させて前記導電粒子層を形成する工程と、前記第1導電層の表面の酸化物を除去する酸化物除去剤を前記導電粒子層の上に塗布する工程と、前記酸化物除去剤の塗布後に不活性雰囲気で加熱処理する工程と、前記導電粒子層に対して無電解めっき層を形成する工程とを含む
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 請求項4または5に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記酸化物除去剤は前記酸化物を還元する還元剤および前記酸化物を溶解する溶解物質の少なくとも一方を含む
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記導電性インクは前記第1導電層の表面の酸化物を還元する還元剤および前記酸化物を溶解する溶解物質の少なくとも一方を含む
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記第1導電層はステンレス基板である
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 請求項8に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記ステンレス基板上で前記絶縁層が積層される側の面にニッケル層が形成されている
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に形成されている第1導電層と、前記絶縁層の他方の面に形成されかつブラインドビアを通じて前記第1導電層に接続されている第2導電層とを備えているプリント配線板において、
前記第2導電層は、前記絶縁層の上に形成されかつ導電性粒子を含む導電粒子層と、この導電粒子層に積層されている無電解めっき層と、前記無電解めっき層に積層されている電気めっき層とを備え、
前記ブラインドビアは、前記ブラインドビアの貫通孔の表面に形成されかつ前記導電性粒子を含む導電粒子層と、この導電粒子層に積層されている無電解めっき層と、前記無電解めっき層に積層されている電気めっき層とを備え、かつ前記貫通孔の底面で前記第1導電層に接続されている
ことを特徴とするプリント配線板。 - 請求項10に記載のプリント配線板において、
前記導電性粒子同士は互いに接触する部分で溶融接続または焼結接続され、かつ前記導電性粒子と前記第1導電層とは互いに接触する部分で溶融接続または焼結接続されている
ことを特徴とするプリント配線板。 - 請求項10または11に記載のプリント配線板において、
前記貫通孔の直径が10μm以上であり、かつ前記導電粒子層の層厚が0.5μm以下である
ことを特徴とするプリント配線板。
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