JP2012220708A

JP2012220708A - Film mirror and reflector for solar thermal power generation

Info

Publication number: JP2012220708A
Application number: JP2011086106A
Authority: JP
Inventors: Ayumi Yonezaki; 有由見米崎
Original assignee: Konica Minolta Advanced Layers Inc
Current assignee: Konica Minolta Advanced Layers Inc
Priority date: 2011-04-08
Filing date: 2011-04-08
Publication date: 2012-11-12

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film mirror and a reflector for solar thermal power generation which are able to restrain reduction of reflectance.SOLUTION: A film mirror includes lamination of an acrylic film base material, an adhesion layer, and a silver reflection layer which are arranged in this order from a side where sunlight incomes. The acrylic film base material is formed by means of solvent casting.

Description

この発明は、フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置に関する。 The present invention relates to a film mirror and a solar power generation reflecting device.

従来、太陽熱発電に用いられるミラーがある。このようなミラーとしては、軽量で取り扱いの容易なフィルムミラーが好ましく用いられる。 Conventionally, there are mirrors used for solar thermal power generation. As such a mirror, a light and easy-to-handle film mirror is preferably used.

フィルムミラーは、屋外暴露環境下で長期間に亘り用いられる。従って、フィルムミラーには、長期間の紫外線露光に対する高い耐候性、耐摩擦性が求められる。この条件を満たすため、以前より、銀反射層の上面に接着層を介して樹脂基材を貼り合わせる構成が採られている。樹脂基材には、紫外線による劣化の少ないアクリルフィルムが好適に用いられる（例えば、特許文献１）。 The film mirror is used for a long period of time in an outdoor exposure environment. Therefore, the film mirror is required to have high weather resistance and friction resistance against long-term ultraviolet exposure. In order to satisfy this condition, a configuration in which a resin base material is bonded to the upper surface of the silver reflective layer via an adhesive layer has been adopted. As the resin base material, an acrylic film that is less deteriorated by ultraviolet rays is suitably used (for example, Patent Document 1).

特表２００９−５２０１７４号公報Special table 2009-520174

フィルムミラーとしては、集光効率の高さが非常に重要であり、従って、高い反射率が求められる。反射率の向上には、銀反射層における反射率の高さとともに、アクリルフィルムの平滑性向上や表面粗さの低減により光の散乱を抑えることが要求される。 As a film mirror, high light collection efficiency is very important, and therefore high reflectance is required. In order to improve the reflectance, it is required to suppress light scattering by improving the smoothness of the acrylic film and reducing the surface roughness as well as the high reflectance of the silver reflective layer.

フィルムミラーに用いられる樹脂基材としてのアクリルフィルムは、従来、アクリル樹脂を高温で溶融して接着層上に成膜する溶融流延法を用いて形成されてきた。しかしながら、この溶融流延法を用いて形成されたアクリルフィルムは、平滑性が低いという問題がある。そして、この平滑性の低いアクリルフィルムを銀反射層と接着することにより銀反射層への入射光及び反射光を散乱して、フィルムミラーとしての反射率を銀反射層の反射率よりも更に低下させてしまうという課題があった。 An acrylic film as a resin base material used for a film mirror has been conventionally formed using a melt casting method in which an acrylic resin is melted at a high temperature to form a film on an adhesive layer. However, the acrylic film formed using this melt casting method has a problem that the smoothness is low. Then, by adhering this low smoothness acrylic film to the silver reflecting layer, the incident light and the reflected light to the silver reflecting layer are scattered, and the reflectance as a film mirror is further lowered than the reflectance of the silver reflecting layer. There was a problem of letting it go.

この発明の目的は、反射率の低減を抑制することのできるフィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置を提供することにある。 The objective of this invention is providing the film mirror which can suppress the reduction | decrease in a reflectance, and the reflective apparatus for solar power generation.

本発明は、上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、
太陽光の入射側から順番に、アクリルフィルム基材、接着層、銀反射層が積層されてなるフィルムミラーにおいて、
該アクリルフィルム基材は、溶液流延法によって形成されたものである
ことを特徴とするフィルムミラーである。 In order to achieve the above object, the present invention described in claim 1
In the film mirror in which the acrylic film base material, the adhesive layer, and the silver reflective layer are laminated in order from the sunlight incident side,
The acrylic film base material is a film mirror characterized by being formed by a solution casting method.

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のフィルムミラーにおいて、
前記アクリルフィルム基材には、フィルム重量の０．１％以上０．５％未満の残留溶剤が含有されており、且つ、表面の算術平均粗さが０．０１μｍ以下であることを特徴としている。 The invention according to claim 2 is the film mirror according to claim 1,
The acrylic film substrate contains a residual solvent of 0.1% or more and less than 0.5% of the film weight, and the arithmetic average roughness of the surface is 0.01 μm or less. .

請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載のフィルムミラーにおいて、
前記接着層の厚さは、０．０５μｍ以上３μｍ以下であることを特徴としている。 The invention according to claim 3 is the film mirror according to claim 1 or 2,
The adhesive layer has a thickness of 0.05 μm or more and 3 μm or less.

請求項４に記載の発明は、請求項１又は２に記載のフィルムミラーにおいて、
前記接着層の厚さは、０．１μｍ以上１μｍ以下であることを特徴としている。 The invention according to claim 4 is the film mirror according to claim 1 or 2,
The adhesive layer has a thickness of 0.1 μm or more and 1 μm or less.

請求項５に記載の発明は、請求項１〜４の何れか一項に記載のフィルムミラーにおいて、
前記銀反射層は、樹脂フィルム上に蒸着されて形成されていることを特徴としている。 The invention according to claim 5 is the film mirror according to any one of claims 1 to 4,
The silver reflective layer is formed by vapor deposition on a resin film.

請求項６に記載の発明は、請求項１〜４の何れか一項に記載のフィルムミラーにおいて、
前記銀反射層は、樹脂フィルム上に有機銀錯体化合物を含む塗布液が塗布された後に焼成されることにより形成されていることを特徴としている。 The invention according to claim 6 is the film mirror according to any one of claims 1 to 4,
The silver reflective layer is formed by baking after applying a coating solution containing an organic silver complex compound on a resin film.

請求項７に記載の発明は、
請求項１〜６の何れか一項に記載のフィルムミラーと、
金属支持体とを備え、
前記フィルムミラーは、前記金属支持体上に貼付されている
ことを特徴とする太陽熱発電用反射装置である。 The invention described in claim 7
The film mirror according to any one of claims 1 to 6,
A metal support,
The film mirror is a reflector for solar power generation, wherein the film mirror is stuck on the metal support.

本発明に従うと、フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置において、反射率の低減を抑えることが出来るという効果がある。 According to the present invention, in the film mirror and the solar power generation reflecting device, there is an effect that reduction in reflectance can be suppressed.

本発明の実施形態のフィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the film mirror of embodiment of this invention, and the solar power generation reflective apparatus. フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置の構成の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of a structure of a film mirror and a solar power generation reflective apparatus. 実施例の太陽熱発電用反射装置の解像度測定に用いられるパターンを示す図である。It is a figure which shows the pattern used for the resolution measurement of the solar power generation reflective apparatus of an Example.

以下、本発明に係る太陽熱発電用フィルムミラーについて、図面を用いて詳細に説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。 Hereinafter, the film mirror for solar power generation according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, although various technically preferable limitations for implementing the present invention are given to the embodiments described below, the scope of the invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.

（１）太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
本発明のフィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置の構成を図１、及び、図２に示す。
図１（ａ）に示す太陽熱発電用のフィルムミラー２０は、構成層として少なくともアクリルフィルム基材としてのアクリルフィルム２と、接着層３と、銀反射層５と、を備えている。また、接着層３と銀反射層５との間には、腐食防止層４が備えられており、銀反射層５の光反射側とは反対側には、アンカー層６と、樹脂フィルム７と、粘着層８とが備えられ、更に、最外層には剥離シート９が剥離可能に備えられている。 (1) Outline of Configuration of Film Mirror for Solar Power Generation FIG. 1 and FIG. 2 show the configuration of the film mirror of the present invention and the reflector for solar power generation.
The film mirror 20 for solar power generation shown in FIG. 1A includes at least an acrylic film 2 as an acrylic film substrate, an adhesive layer 3 and a silver reflecting layer 5 as constituent layers. Further, a corrosion prevention layer 4 is provided between the adhesive layer 3 and the silver reflection layer 5, and an anchor layer 6, a resin film 7, and the like are provided on the opposite side of the silver reflection layer 5 from the light reflection side. The pressure-sensitive adhesive layer 8 is provided, and a release sheet 9 is provided on the outermost layer so as to be peelable.

また、図２（ａ）に示すフィルムミラー２１のように、他の構成層として、銀反射層５の光反射側には、アクリルフィルム２の更に上面の最外層にハードコート層１を備えることとしても良い。 Moreover, like the film mirror 21 shown to Fig.2 (a), the hard coat layer 1 is provided in the outermost layer of the upper surface of the acrylic film 2 on the light reflection side of the silver reflection layer 5 as another component layer. It is also good.

なお、ここでは、フィルムミラー２０、２１から剥離シート９を剥離したものをフィルムミラー本体としている。フィルムミラー２０、２１を用いて太陽熱発電用反射装置３０、３１を製造する際には、剥離シート９を剥離したフィルムミラー本体のみが用いられる。或いは、粘着層８及び剥離シート９を含まないフィルムミラー２０、２１と金属支持体１０とが粘着剤を用いて貼付されることとしてもよい。 Here, the film mirror body is formed by peeling the release sheet 9 from the film mirrors 20 and 21. When manufacturing the solar power generation reflectors 30 and 31 using the film mirrors 20 and 21, only the film mirror body from which the release sheet 9 has been peeled is used. Alternatively, the film mirrors 20 and 21 that do not include the adhesive layer 8 and the release sheet 9 and the metal support 10 may be attached using an adhesive.

（２）銀反射層
銀反射層５は、入射した太陽光を高い反射率で反射する。銀反射層５の形成方法としては、湿式法（めっき法）、及び、乾式法（真空成膜法）の何れの方法も適用することができる。 (2) Silver reflective layer The silver reflective layer 5 reflects the incident sunlight with a high reflectance. As a method for forming the silver reflective layer 5, any of a wet method (plating method) and a dry method (vacuum film forming method) can be applied.

湿式法（めっき法）は、溶液から金属を析出させて銀膜を形成する方法である。この湿式法の具体例としては、銀鏡反応を挙げることができる。
また、湿式法の一つとして、有機銀錯体化合物を含む溶液をフィルムに塗布し、焼成することにより銀反射層を形成する方法が挙げられる。有機銀錯体化合物を焼成することにより、有機銀錯体化合物を形成する配位子が分解、脱離、気化し、金属銀が析出する。 The wet method (plating method) is a method for forming a silver film by depositing a metal from a solution. Specific examples of this wet method include silver mirror reaction.
Moreover, as one of the wet methods, there is a method of forming a silver reflective layer by applying a solution containing an organic silver complex compound to a film and baking it. By firing the organic silver complex compound, the ligand forming the organic silver complex compound is decomposed, desorbed and vaporized, and metallic silver is precipitated.

一方、乾式法（真空成膜法）の具体的な方法としては、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等が挙げられる。本発明においては、連続的に成膜するロールツーロール方式を適用することが可能な蒸着法が好ましく用いられる。 On the other hand, as a specific method of the dry method (vacuum film forming method), for example, resistance heating type vacuum deposition method, electron beam heating type vacuum deposition method, ion plating method, ion beam assisted vacuum deposition method, sputtering method, etc. Is mentioned. In the present invention, a vapor deposition method capable of applying a roll-to-roll method of continuously forming a film is preferably used.

本発明に係る銀反射層５の厚さは、反射率等の観点から１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。 The thickness of the silver reflective layer 5 according to the present invention is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectance and the like.

（３）腐食防止層
腐食防止層４は、銀反射層５の銀に対する腐食を防ぐための層であり、腐食防止剤が含有されたフィルム状の樹脂コート層である。ここで、「腐食」とは、銀（金属）がその周囲を取り囲む環境物質によって化学的又は電気化学的に浸食されるか、若しくは、材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳＺ０１０３−２００４参照）。
この腐食防止層４は、銀反射層５に隣接して設けられることが好ましい。腐食防止層４に含有される腐食防止剤の分子量は、８００以下であることが好ましい。このような低分子の腐食防止剤を添加することによって、銀反射層５との界面に腐食防止剤が移動しやすくなり、これにより、腐食防止機能が向上して銀反射層５の劣化が抑制されると考えられる。また、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量が異なるが、０．０１〜１．０ｇ／ｍ^２の範囲内であることが好ましい。 (3) Corrosion prevention layer The corrosion prevention layer 4 is a layer for preventing the silver reflection layer 5 from corroding silver, and is a film-like resin coat layer containing a corrosion inhibitor. Here, the term “corrosion” refers to a phenomenon in which silver (metal) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by an environmental material surrounding the periphery (see JIS Z0103-2004). .
The corrosion prevention layer 4 is preferably provided adjacent to the silver reflection layer 5. The molecular weight of the corrosion inhibitor contained in the corrosion prevention layer 4 is preferably 800 or less. By adding such a low molecular weight corrosion inhibitor, the corrosion inhibitor can easily move to the interface with the silver reflective layer 5, thereby improving the corrosion prevention function and suppressing the deterioration of the silver reflective layer 5. It is thought that it is done. The content of the corrosion inhibitor varies depending on the compound used, but is preferably in the range of 0.01 to 1.0 g / m ² .

（腐食防止剤）
腐食防止剤は、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。 (Corrosion inhibitor)
The corrosion inhibitor preferably has an adsorptive group for silver.
Corrosion inhibitors having an adsorptive group for silver include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, compounds having an imidazole ring, indazole Desirably, the compound is selected from a compound having a ring, copper chelate compounds, thioureas, a compound having a mercapto group, at least one naphthalene-based compound, or a mixture thereof.

アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Examples of amines and derivatives thereof include ethylamine, laurylamine, tri-n-butylamine, O-toluidine, diphenylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2N- Dimethylethanolamine, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, acetamide, acrylamide, benzamide, p-ethoxychrysidine, dicyclohexylammonium nitrite, dicyclohexylammonium salicylate, monoethanolaminebenzoate, dicyclohexylammonium benzoate, diisopropyl Ammonium benzoate, diisopropylammonium nitrite, Black hexylamine carbamate, nitronaphthalene nitrite, cyclohexylamine benzoate, dicyclohexylammonium cyclohexanecarboxylate, cyclohexylamine cyclohexane carboxylate, dicyclohexylammonium acrylate, cyclohexylamine acrylate, or mixtures thereof.

ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Examples of the compound having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, and N-phenyl-3. , 4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, or a mixture thereof.

トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3- Methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3-triazole, Benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2,4- Triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy 5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4-octoxyphenyl) benzo A triazole etc. or these mixtures are mentioned.

ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.
Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole, 2-N, N-diethylthiobenzothiazole, P-dimethylaminobenzallodanine, 2-mercaptobenzothiazole and the like. Or a mixture thereof.

イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Examples of the compound having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methyl. Imidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 4-formylimidazole, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-phenyl- -Formylimidazole, 4-methyl-5-formylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-4-formylimidazole, 2-mercaptobenzimidazole, etc. Alternatively, a mixture thereof can be mentioned.

インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.

銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Examples of the copper chelate compounds include acetylacetone copper, ethylenediamine copper, phthalocyanine copper, ethylenediaminetetraacetate copper, hydroxyquinoline copper, and a mixture thereof.

チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Examples of thioureas include thiourea, guanylthiourea, and the like, or a mixture thereof.

メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 As the compound having a mercapto group, mercaptoacetic acid, thiophenol, 1,2-ethanediol, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto can be used by adding the above-described materials. -1,2,4-triazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, glycol dimercaptoacetate, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and the like, or a mixture thereof.

ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。 Examples of the naphthalene type include thionalide.

（４）アクリルフィルム
アクリルフィルム２のフィルム材料としては、フレキシブル性、軽量化、及び、耐候性の点で、特に、少なくとも２種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体が好適である。 (4) Acrylic film As a film material of the acrylic film 2, an acrylic copolymer obtained by copolymerizing at least two kinds of acrylic monomers is particularly preferable in terms of flexibility, weight reduction, and weather resistance. is there.

好適なアクリル系共重合体としては、具体的には、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー（以下、非官能性モノマーという）から選ばれる１種または２種以上のモノマーを主成分とし、これに２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等のモノマーから選ばれる１種または２種以上のモノマーの側鎖中にＯＨやＣＯＯＨなどの官能性基を有するモノマー（以下、官能性モノマーという）の１種または２種以上を組み合せて、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の重合法により共重合させることにより得られる重量平均分子量が４万ないし１００万、好ましくは１０万ないし４０万のアクリル系共重合体が挙げられる。中でも、エチルアクリレート、メチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等の比較的ガラス転移点温度Ｔｇの低いポリマーを与える非官能性モノマーを５０〜９０質量％、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の比較的ガラス転移点温度Ｔｇの高いポリマーを与える非官能性モノマーを１０〜５０質量％、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸、イタコン酸等の官能性モノマーを０〜１０質量％含有するようなアクリル系重合体が最も好適である。 Specific examples of suitable acrylic copolymers include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, and butyl. One or more monomers selected from monomers having no functional group in the side chain such as alkyl (meth) acrylate such as methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate (hereinafter referred to as non-functional monomer) As a main component, and one or more kinds selected from monomers such as 2-hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, and itaconic acid. In combination with one or more monomers having a functional group such as OH or COOH in the side chain (hereinafter referred to as functional monomer), solution polymerization method, suspension polymerization method, emulsion polymerization method, bulk Examples include acrylic copolymers having a weight average molecular weight of 40,000 to 1,000,000, preferably 100,000 to 400,000, obtained by copolymerization by a polymerization method such as a polymerization method. Among them, 50 to 90% by mass of a non-functional monomer that gives a polymer having a relatively low glass transition temperature Tg such as ethyl acrylate, methyl acrylate, and 2-ethyl hexyl methacrylate, and relatively glass such as methyl methacrylate, isobutyl methacrylate, and cyclohexyl methacrylate. An acrylic polymer containing 10 to 50% by mass of a non-functional monomer that gives a polymer having a high transition temperature Tg and 0 to 10% by mass of a functional monomer such as 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylic acid, and itaconic acid Is most preferred.

アクリルフィルム２の厚さは、１０〜１２５μｍが好ましい。アクリルフィルム２が１０μｍより薄いと、引っ張り強度、引き裂き強度が弱くなる傾向にあり、１２５μｍよりも厚いと、波長１６００ｎｍ〜２５００ｎｍの範囲の光（赤外線）に対する平均反射率が８０％を下回る。 As for the thickness of the acrylic film 2, 10-125 micrometers is preferable. If the acrylic film 2 is thinner than 10 μm, the tensile strength and tear strength tend to be weak, and if it is thicker than 125 μm, the average reflectance for light (infrared rays) in the wavelength range of 1600 nm to 2500 nm is less than 80%.

アクリルフィルム２の表面には、ハードコート層１との密着性を向上させるために、コロナ放電処理、プラズマ処理等が施されていてもよい。
また、アクリルフィルム２は、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、シアノアクリレート系、ポリマー型の紫外線吸収剤のうちいずれかを含むことが好ましい。 The surface of the acrylic film 2 may be subjected to corona discharge treatment, plasma treatment or the like in order to improve the adhesion with the hard coat layer 1.
Moreover, it is preferable that the acrylic film 2 contains either a benzotriazole type, a benzophenone type, a triazine type, a cyanoacrylate type, or a polymer type ultraviolet absorber.

このアクリルフィルム２としては、溶液流延法（キャスティング法）を用いて製造したものを用いる。溶液流延法とは、上述のフィルム材料を溶媒に溶解させた溶液をドラムや平滑ベルト上に流し込み、溶媒を蒸発させてフィルムを成型するフィルムの製造方法である。溶媒としては、アクリル樹脂又は樹脂組成物が溶解するいずれの溶媒をも用いることができる。例えば、メチレンクロライド、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチルなどのエステル類、トルエン、キシレンなどの芳香族類、テトラヒドロフランなどのエーテル類などが挙げられる。また、これらの溶媒を複数種混合して用いても良い。これらの中では、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、メチルエチルケトン、酢酸エチル、エタノール、トルエンが特に好ましく用いられる。
この溶液流延法を用いて製造したアクリルフィルムを用いることで、従来用いられていた溶融流延法によるアクリルフィルムと比較して、厚み精度、及び、平滑性を高めることが出来る。
なお、この溶液流延法を用いたアクリルフィルム２には、フィルム重量に対して数％（例えば、１〜３％）の溶剤が残留している。 As this acrylic film 2, what was manufactured using the solution casting method (casting method) is used. The solution casting method is a film manufacturing method in which a solution in which the above film material is dissolved in a solvent is poured onto a drum or a smooth belt, and the solvent is evaporated to form a film. As the solvent, any solvent in which the acrylic resin or the resin composition is dissolved can be used. For example, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform, alcohols such as ethanol and isopropanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, and aromatics such as toluene and xylene And ethers such as tetrahydrofuran. Further, a mixture of a plurality of these solvents may be used. Of these, tetrahydrofuran, methylene chloride, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, ethanol, and toluene are particularly preferably used.
By using the acrylic film manufactured using this solution casting method, the thickness accuracy and smoothness can be improved as compared with the conventionally used acrylic film produced by the melt casting method.
In addition, in the acrylic film 2 using this solution casting method, several% (for example, 1 to 3%) of solvent remains with respect to the film weight.

（５）接着層
接着層３は、樹脂からなり、腐食防止層４と、紫外線吸収剤が含有されたアクリルフィルム２とを密着するものである。従って、接着層３には、腐食防止層４と紫外線吸収剤含有アクリルフィルム２とを密着する密着性、及び、銀反射層５が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性、透明性が要求される。 (5) Adhesive layer The adhesive layer 3 consists of resin, and adhere | attaches the corrosion prevention layer 4 and the acrylic film 2 containing the ultraviolet absorber. Therefore, the adhesive layer 3 is required to have adhesion to adhere the corrosion prevention layer 4 and the ultraviolet absorber-containing acrylic film 2 and smoothness and transparency to bring out the high reflection performance inherent in the silver reflective layer 5. Is done.

接着層３に使用される樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用できる。耐候性の点から、ポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が特に好ましく、更に、イソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂がより好ましい。 The resin used for the adhesive layer 3 is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness. Polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy resin Polyamide resins, vinyl chloride resins, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins, etc., or a mixture of these resins can be used. From the viewpoint of weather resistance, a mixed resin of a polyester resin and a melamine resin is particularly preferable, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed is more preferable.

接着層３の厚さは、０．０５〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。接着層３の厚さが０．０５μｍより薄いと、密着性が低下して接着層を形成した効果が減少すると共に、アクリルフィルム２の表面に存在する凹凸を覆い隠し切れなくなって平滑性が向上し難くなる。一方、接着層３の厚さが３μｍより厚いと、密着性の向上が望めず、却って塗りムラの発生により平滑性が向上し難くなったり、接着層３の硬化が不充分となったりする場合がある。 The thickness of the adhesive layer 3 is preferably 0.05 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When the thickness of the adhesive layer 3 is less than 0.05 μm, the adhesiveness is reduced and the effect of forming the adhesive layer is reduced, and the unevenness existing on the surface of the acrylic film 2 is not completely covered and the smoothness is improved. It becomes difficult to do. On the other hand, when the thickness of the adhesive layer 3 is greater than 3 μm, it is not possible to improve the adhesion, but on the contrary, it becomes difficult to improve the smoothness due to the occurrence of uneven coating or the curing of the adhesive layer 3 is insufficient. There is.

接着層３の形成方法としては、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。 As a method for forming the adhesive layer 3, conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.

（６）樹脂フィルム
樹脂フィルム７としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
なかでも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましく、特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。
また、この樹脂フィルム７は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
この樹脂フィルム７の厚さは、樹脂の種類に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。 (6) Resin Film As the resin film 7, various conventionally known resin films can be used. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films.
Among these, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable, and a polyester film and a cellulose ester film are particularly preferable.
The resin film 7 may be a film manufactured by melt casting film formation or a film manufactured by solution casting film formation.
The thickness of the resin film 7 is preferably set to an appropriate thickness according to the type of resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 μm. Preferably it is 20-200 micrometers, More preferably, it is 30-100 micrometers.

（７）アンカー層
銀反射層５と樹脂フィルム７とを接着するアンカー層６には、銀反射層５と樹脂フィルム７とを密着させる密着性、銀反射層５を真空蒸着法等で形成する場合の際の熱に耐え得る耐熱性、及び、銀反射層５が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要とされる。
アンカー層６の材料としては、これらの条件を満たすものであれば特に制限はないが、樹脂からなることが好ましく、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂を用いることができる。特に、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂であればより好ましい。
アンカー層６の厚さは、密着性、平滑性、銀反射層５の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
このアンカー層６の形成方法としては、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。 (7) Anchor layer The anchor layer 6 that adheres the silver reflective layer 5 and the resin film 7 is formed with the adhesiveness that makes the silver reflective layer 5 and the resin film 7 adhere to each other, and the silver reflective layer 5 is formed by a vacuum deposition method or the like. The heat resistance which can endure the heat at the time of the case, and the smoothness for extracting the high reflective performance which the silver reflective layer 5 originally has are required.
The material of the anchor layer 6 is not particularly limited as long as it satisfies these conditions, but is preferably made of a resin, for example, a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, a polyamide resin Resins, vinyl chloride resins, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resins and the like can be used alone or in combination. In particular, a mixed resin of a polyester-based resin and a melamine-based resin is preferable from the viewpoint of weather resistance, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed is more preferable.
The thickness of the anchor layer 6 is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, from the viewpoints of adhesion, smoothness, the reflectance of the silver reflection layer 5, and the like.
As a method for forming the anchor layer 6, a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, a die coating method or the like can be used.

（８）粘着層
粘着層８は、後述する太陽熱発電用反射装置（３０、３１）を造る際に、銀反射層５を備えるフィルムミラー本体を金属支持体１０に貼り付けるための層であり、樹脂フィルム７の裏側（アンカー層６とは反対側の面）に設けられる。
この粘着層８の材料としては、特に制限されないが、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを使用することができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いてもよい。
粘着層８の具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製「ＯｒｉｂａｉｎＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ」、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。 (8) Adhesive layer The adhesive layer 8 is a layer for adhering the film mirror main body provided with the silver reflective layer 5 to the metal support 10 when the solar power generation reflective device (30, 31) described later is manufactured. It is provided on the back side of the resin film 7 (surface opposite to the anchor layer 6).
The material of the adhesive layer 8 is not particularly limited, and for example, a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat seal agent, a hot melt agent, and the like can be used. Further, a polyester resin, a urethane resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a nitrile rubber, or the like may be used.
Specific materials for the adhesive layer 8 include, for example, “SK Dyne Series” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. “Oribain BPW Series, BPS Series” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., “Arcon” “Superester” “High Pale” manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd. Etc. can be suitably used.

粘着層８の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
フィルムミラーに粘着層８を設ける方法としては、特に制限されないが、例えば、ロール式で連続的に行うラミネート方法が経済性及び生産性の点から好ましい。又は、剥離シート９に積層して形成された粘着層８を、剥離シート９とともにフィルムミラー２０、フィルムミラー２１の裏面側（樹脂フィルム７の側）に貼り合わせるように設けてもよい。 The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is usually preferably in the range of about 1 to 50 μm from the viewpoints of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed, and the like.
The method of providing the adhesive layer 8 on the film mirror is not particularly limited, but for example, a laminating method that is continuously performed in a roll manner is preferable from the viewpoints of economy and productivity. Or you may provide so that the adhesion layer 8 laminated | stacked and formed on the peeling sheet 9 may be bonded together with the peeling sheet 9 on the back surface side (resin film 7 side) of the film mirror 20 and the film mirror 21.

（９）剥離シート
剥離シート９は、所定量（例えば、２０〜５０重量％）の微粒子を含有してなる樹脂フィルムであり、７５μｍ以上１２５μｍ以下の厚みを有するフィルム層である。より好ましくは、剥離シート９は、１００μｍ以上１２５μｍ以下の厚みを有する。
この剥離シート９を構成する樹脂フィルムには、従来公知の種々のフィルム材料（シート材料）として、例えば、アクリルフィルムまたはシート、ポリカーボネートフィルムまたはシート、ポリアリレートフィルムまたはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムまたはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはシート、フッ素樹脂等のプラスチックフィルムまたはシート、等を用いることができる。剥離シート９に用いることができる具体的な材料としては、例えば、三井化学東セロ社製「セパレータＳＰ−ＰＥＴ」、王子タック社製フィルムタック、リンテック社製剥離フィルム等を挙げることができる。 (9) Release Sheet The release sheet 9 is a resin film containing a predetermined amount (for example, 20 to 50% by weight) of fine particles, and is a film layer having a thickness of 75 μm or more and 125 μm or less. More preferably, the release sheet 9 has a thickness of 100 μm or more and 125 μm or less.
Examples of the resin film constituting the release sheet 9 include conventionally known various film materials (sheet materials) such as an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, a polyarylate film or sheet, a polyethylene naphthalate film or sheet, A polyethylene terephthalate film or sheet, a plastic film or sheet such as a fluororesin, or the like can be used. Specific materials that can be used for the release sheet 9 include, for example, “Separator SP-PET” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., a film tack manufactured by Oji Tac, a release film manufactured by Lintec.

（１０）ハードコート層
ハードコート層１は、フィルムミラーの表面における損傷を防止するために、フィルムミラーの最外層に設けられる。
このハードコート層１を形成する材料としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等を用いることができる。特に、硬度と耐久性の点では、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、硬化性、可撓性および生産性の点では、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂を用いることが好ましい。
ここで、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート等であり、また、メラミンやイソシアヌール酸等の剛直な骨格にアクリル基を結合したもの等も用いられ得る。
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
なお、市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズ等）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズ等）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズ等）、ＤＩＣ株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズ等）、東亞合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズ等）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズ等）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズ等）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズ等）等の製品を利用することができ、アクリル系樹脂のハードコート層１を形成できる。 (10) Hard coat layer The hard coat layer 1 is provided on the outermost layer of the film mirror in order to prevent damage on the surface of the film mirror.
As a material for forming the hard coat layer 1, acrylic resin, urethane resin, melamine resin, epoxy resin, organic silicate compound, silicone resin, and the like can be used. In particular, in terms of hardness and durability, it is preferable to use a silicone resin or an acrylic resin. In view of curability, flexibility, and productivity, it is preferable to use an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin.
Here, the active energy ray-curable acrylic resin or the thermosetting acrylic resin is a composition containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer or a reactive diluent as a polymerization curing component. In addition, you may use what contains a photoinitiator, a photosensitizer, a thermal-polymerization initiator, a modifier, etc. as needed.
Acrylic oligomers include polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyether acrylates, etc., including those in which a reactive acrylic group is bonded to an acrylic resin skeleton, and rigid materials such as melamine and isocyanuric acid. A structure in which an acrylic group is bonded to a simple skeleton can also be used.
In addition, the reactive diluent has a function of a solvent in the coating process as a medium of the coating agent, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It becomes a copolymerization component.
Commercially available polyfunctional acrylic cured paints include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam (registered trademark)” series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol (registered trademark)”). Series, etc.), Shin-Nakamura Co., Ltd .; (trade name “NK Ester” series, etc.), DIC Corporation; (trade name “UNIDIC (registered trademark) series, etc.), Toagosei Chemical Industry Co., Ltd .; (trade name“ Aronix ”) (Registered trademark) "series), Nippon Oil & Fats Co., Ltd .; (trade name" Blemmer (registered trademark) "series, etc.), Nippon Kayaku Co., Ltd .; (trade name" KAYARAD (registered trademark) "series, etc.), Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (product name “Light Ester” series, “Light Acrylate” series, etc.) It can be formed over coat layer 1.

ハードコート層１中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、上記した腐食防止層４に用いた腐食防止剤やアクリルフィルム２に用いた紫外線吸収剤の他に、酸化防止剤、光安定剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤等を用いることができる。 In the hard coat layer 1, various additives can be further blended as necessary within the range where the effects of the present invention are not impaired. For example, an antioxidant, a light stabilizer, a surfactant, a leveling agent, an antistatic agent, and the like are used in addition to the corrosion inhibitor used for the corrosion prevention layer 4 and the ultraviolet absorber used for the acrylic film 2. Can do.

（１１）太陽熱発電用反射装置
太陽熱発電用反射装置３０は、図１（ｂ）に示すように、フィルムミラー２０の剥離シート９を剥離して露出させた粘着層８を金属支持体１０に貼り付けることで製造することができる。同様に、太陽熱発電用反射装置３１は、図２（ｂ）に示すように、フィルムミラー２１の剥離シート９を剥離して露出させた粘着層８を金属支持体１０に貼り付けて製造することができる。 (11) Reflector 30 for solar thermal power generation As shown in FIG. 1B, the reflective device 30 for solar thermal power generation has an adhesive layer 8 that is peeled off and exposed from the release sheet 9 of the film mirror 20 and is attached to the metal support 10. It can be manufactured by attaching. Similarly, as shown in FIG. 2B, the solar power generation reflecting device 31 is manufactured by attaching the adhesive layer 8 which is peeled and exposed from the release sheet 9 of the film mirror 21 to the metal support 10. Can do.

太陽熱発電用反射装置の一形態としては、例えば、樋状（半円筒状）の形状のものが挙げられる。この半円筒形状の内側を反射面側とし、内部に流体を有する筒状部材が半円筒の軸位置に設けられて、筒状部材に太陽光を集光させて流体を加熱する。そして、この加熱された流体の熱エネルギーを電気エネルギーに変換することで発電を行う。
また、太陽熱発電用反射装置の他の一形態としては、平板状の太陽熱発電用反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、更に、反射鏡により反射されて得られた熱エネルギーを発電部で電気エネルギーに変換することで発電する形態が挙げられる。 As one form of the solar power generation reflecting device, for example, a bowl-shaped (semi-cylindrical) shape is cited. The inside of this semi-cylindrical shape is the reflective surface side, and a cylindrical member having fluid inside is provided at the axial position of the semi-cylindrical, and sunlight is condensed on the cylindrical member to heat the fluid. Then, power is generated by converting the heat energy of the heated fluid into electric energy.
Moreover, as another form of the solar power generation reflection device, flat plate solar power generation reflection devices are installed at a plurality of locations, and sunlight reflected by each reflection device is reflected by a single reflection mirror (central reflection mirror). ), And further, the heat energy obtained by being reflected by the reflecting mirror is converted into electric energy by the power generation unit to generate power.

（１２）金属支持体
金属支持体１０としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料、また樹脂と金属板とを組み合わせた鋼板を用いることができる。
本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などを用いることが好ましい。さらに好ましくは、樹脂と金属板とを組み合わせた鋼板を用いることが好ましい。 (12) Metal support As the metal support 10, a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum plated steel plate, an aluminum alloy plated steel plate, a copper plated steel plate, a tin plated steel plate, a chrome plated steel plate, a stainless steel plate, etc. have high thermal conductivity. A metal material or a steel plate in which a resin and a metal plate are combined can be used.
In the present invention, it is particularly preferable to use a plated steel plate, a stainless steel plate, an aluminum plate, or the like having good corrosion resistance. More preferably, it is preferable to use a steel plate in which a resin and a metal plate are combined.

以上のように、本発明に係るフィルムミラー２０、２１によれば、アクリルフィルム２として溶液流延法により作成されたものを用いているので、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラーを製造することができる。 As described above, according to the film mirrors 20 and 21 according to the present invention, since the film made by the solution casting method is used as the acrylic film 2, a film having a good regular reflectance with respect to sunlight. A mirror can be manufactured.

特に、接着層３の厚さを０．０５μｍ〜３μｍ、より好ましくは、０．１μｍ〜１μｍの間に設定することでアクリルフィルム２と銀反射層５との密着性及び平滑性を向上させることができ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラーを製造することができる。 In particular, the adhesiveness and smoothness between the acrylic film 2 and the silver reflective layer 5 are improved by setting the thickness of the adhesive layer 3 to 0.05 μm to 3 μm, more preferably 0.1 μm to 1 μm. And a film mirror having good regular reflectance with respect to sunlight can be manufactured.

また、反射率の高い銀を反射層として用いるとともに、蒸着法や有機銀錯体化合物を焼成する方法を用いることで、銀反射層を容易且つ安定的に形成することができる。 Moreover, while using silver with a high reflectance as a reflection layer, the silver reflection layer can be formed easily and stably by using a vapor deposition method or a method of baking an organic silver complex compound.

また、上述のようにして製造されたフィルムミラー２０、２１を金属支持体１０と貼り合わせて太陽熱発電用反射装置３０、３１を製造することで、正反射率の高い、即ち、集光効率の良い太陽熱発電用反射装置を得ることができる。 In addition, the film mirrors 20 and 21 manufactured as described above are bonded to the metal support 10 to manufacture the solar power generation reflecting devices 30 and 31, so that the regular reflectance is high, that is, the light collection efficiency is high. A good solar power generation reflector can be obtained.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、表面粗さを示す値としては、算術平均粗さＲａを用いる。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, arithmetic average roughness Ra is used as a value which shows surface roughness.

［太陽熱発電用反射装置の作製］
［試料１の作成］
太陽熱発電用ミラーの樹脂フィルムとして、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂としてエスペル９９４０Ａ（日立化成工業株式会社製）、メラミン樹脂、ジイソシアネート架橋剤としてトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）（三井化学ファイン株式会社製）を質量比で２０：１：１：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層を形成し、更に、銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。 [Production of reflector for solar power generation]
[Preparation of sample 1]
A biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 μm) was used as the resin film of the solar power generation mirror. On one side of the polyethylene terephthalate film, Esper 9940A (made by Hitachi Chemical Co., Ltd.) as a polyester resin, melamine resin, tolylene diisocyanate (TDI) as a diisocyanate crosslinking agent, hexamethylene diisocyanate (HMDI) (made by Mitsui Chemical Fine Co., Ltd.) ) In a mass ratio of 20: 1: 1: 2 is coated by a gravure coating method to form an anchor layer having a thickness of 0.1 μm, and further, a silver reflective layer is formed by a vacuum deposition method. An 80 nm silver reflective layer was formed.

この銀反射層上に、エスペル９９４０Ａとトリレンジイソシアネートとを樹脂固形分比率（質量比）で１０：２に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１０質量％となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの腐食防止層を形成した。 Tinuvin 234 (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) was used as a corrosion inhibitor in a resin in which Esper 9940A and tolylene diisocyanate were mixed at a resin solid content ratio (mass ratio) of 10: 2 on the silver reflective layer. An amount of 10% by mass was added to the film, and coating was performed by a gravure coating method to form a corrosion prevention layer having a thickness of 0.1 μm.

続いて、接着層としてビニロール９２Ｔ（アクリル樹脂接着剤；昭和高分子社製）を厚さ０．１μｍの厚さでコートし、接着層の上に溶液流延法により製膜した表面粗さＲａ＝０．１μｍ、膜厚５０μｍのアクリル樹脂フィルムを積層させ、太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。 Subsequently, as the adhesive layer, vinylol 92T (acrylic resin adhesive; manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) was coated with a thickness of 0.1 μm, and the surface roughness Ra was formed on the adhesive layer by a solution casting method. = Acrylic resin film having a thickness of 0.1 μm and a film thickness of 50 μm was laminated to produce a film mirror for solar power generation.

さらに、樹脂フィルムのアンカー層とは反対側の面に、ＳＥ−６０１０（アクリル樹脂接着剤；昭和高分子社製）を厚さ１μｍの厚さでコートした粘着層を形成し、厚さ０．１ｍｍで、縦４ｃｍ×横５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上にこの粘着層を介してフィルムミラーを貼り付け、太陽熱発電用反射装置である試料１を作製した。 Further, an adhesive layer coated with SE-6010 (acrylic resin adhesive; manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.) with a thickness of 1 μm is formed on the surface of the resin film opposite to the anchor layer. A film mirror was affixed via an adhesive layer on an aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) having a length of 1 mm and a length of 4 cm and a width of 5 cm to produce Sample 1 which is a solar power generation reflection device.

［試料２の作製］
試料１の作製において、接着層の厚さを０．５μｍの厚さでコートするほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料２を作製した。 [Preparation of Sample 2]
Sample 2 which is a solar thermal power generation reflection device was prepared in the same manner as Sample 1 except that the adhesive layer was coated with a thickness of 0.5 μm.

［試料３の作製］
試料１の作製において、接着層の厚さを１μｍの厚さでコートするほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料３を作製した。 [Preparation of Sample 3]
Sample 3 which is a solar power generation reflection device was prepared in the same manner as Sample 1 except that the adhesive layer was coated with a thickness of 1 μm.

［試料４の作製］
試料１の作製において、表面粗さＲａ＝０．０５μｍのアクリル樹脂フィルムを厚さ０．０３μｍの厚さでコートした接着層の上に積層するほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料４を作製した。 [Preparation of Sample 4]
Sample 4 which is also a solar power generation reflective device except that an acrylic resin film having a surface roughness Ra = 0.05 μm is laminated on an adhesive layer coated with a thickness of 0.03 μm. Was made.

［試料５の作製］
試料４の作製において、接着層の厚さを０．５μｍの厚さでコートするほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料５を作製した。 [Preparation of Sample 5]
Sample 5 which is a solar power generation reflective device was prepared in the same manner as in Sample 4, except that the adhesive layer was coated with a thickness of 0.5 μm.

［試料６の作製］
試料４の作製において、接着層の厚さを５μｍの厚さでコートするほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料６を作製した。 [Preparation of Sample 6]
Sample 6 which is a solar power generation reflector was prepared in the same manner as Sample 4 except that the adhesive layer was coated with a thickness of 5 μm.

［試料７の作製］
試料４の作製において、表面粗さＲａ＝０．００８μｍのアクリル樹脂フィルムを接着層の上に積層するほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料７を作製した。 [Preparation of Sample 7]
Sample 7 that is a solar power generation reflecting device was prepared in the same manner as Sample 4 except that an acrylic resin film having a surface roughness Ra = 0.008 μm was laminated on the adhesive layer.

［試料８の作製］
試料７の作製において、接着層の厚さを０．５μｍの厚さでコートするほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料８を作製した。 [Preparation of Sample 8]
Sample 8 which is a solar thermal power generation reflection device was prepared in the same manner as Sample 7 except that the adhesive layer was coated with a thickness of 0.5 μm.

［試料９の作製］
試料７の作製において、接着層の厚さを５μｍの厚さでコートするほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料９を作製した。 [Preparation of Sample 9]
Sample 9 which is a solar power generation reflecting device was prepared in the same manner as in the preparation of Sample 7, except that the adhesive layer was coated with a thickness of 5 μm.

［試料１０の作製］
試料２の作製において、溶融流延法により製膜した表面粗さＲａ＝０．３μｍのアクリル樹脂フィルムを厚さ０．５μｍでコートした接着層の上に積層するほかは同様に太陽熱発電用反射装置である試料１０を作製した。 [Preparation of Sample 10]
Reflection for solar power generation in the same manner as Sample 2 except that an acrylic resin film having a surface roughness Ra = 0.3 μm formed by the melt casting method is laminated on an adhesive layer coated with a thickness of 0.5 μm. A sample 10 as an apparatus was produced.

［太陽熱発電用反射装置の評価］
上記のように作製した試料１〜９（実施例１〜９）及び試料１０（比較例）に係る太陽熱発電用反射装置について、下記の方法に従って、評価した。 [Evaluation of solar thermal power reflector]
The solar power generation reflectors according to Samples 1 to 9 (Examples 1 to 9) and Sample 10 (Comparative Example) manufactured as described above were evaluated according to the following methods.

［アクリルフィルム中の残留溶剤］
アクリルフィルム中に残留している溶剤の分量を下記の数式（１）に基づいて測定した。
残留溶剤量［重量％］＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００ … （１）
ここで、Ｍは製膜時におけるアクリルフィルムの重量であり、この重量Ｍのアクリルフィルムを１１０℃で３時間乾燥させた後の重量がＮである。 [Residual solvent in acrylic film]
The amount of the solvent remaining in the acrylic film was measured based on the following mathematical formula (1).
Residual solvent amount [% by weight] = {(MN) / N} × 100 (1)
Here, M is the weight of the acrylic film during film formation, and the weight after drying this weight M acrylic film at 110 ° C. for 3 hours is N.

［正反射率の測定］
日立製作所社製の分光光度計「Ｕ−４１００」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを用いて、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、４００ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
５：正反射率の平均値が、９３％以上である
４：正反射率の平均値が、９０％以上９３％未満である
３：正反射率の平均値が、８７％以上９０％未満である
２：正反射率の平均値が、８４％以上８７％未満である
１：正反射率の平均値が、８１％以上８４％未満である [Measurement of regular reflectance]
Using a spectrophotometer "U-4100" manufactured by Hitachi, Ltd. with an integrating sphere reflection accessory attached, adjust the incident angle of incident light to 5 ° with respect to the normal of the reflecting surface. Then, the regular reflectance at a reflection angle of 5 ° was measured. Evaluation was measured as an average reflectance from 400 nm to 700 nm.
5: The average value of regular reflectance is 93% or more 4: The average value of regular reflectance is 90% or more and less than 93% 3: The average value of regular reflectance is 87% or more and less than 90% Yes 2: The average value of regular reflectance is 84% or more and less than 87% 1: The average value of regular reflectance is 81% or more and less than 84%

［解像度の評価］
作製した太陽熱発電用反射装置に、図３に示す市松模様パターンを映し、反射像の解像度を目視により５（最も解像度が良い）から１（最も解像度が悪い）の５段階で評価した。 [Resolution evaluation]
The checkerboard pattern shown in FIG. 3 was projected on the manufactured solar power generation reflection device, and the resolution of the reflected image was visually evaluated in five stages from 5 (best resolution) to 1 (worst resolution).

各項目についての評価結果を表１に示す。 The evaluation results for each item are shown in Table 1.

表１に示した評価結果から示されているように、アクリルフィルムの表面粗さが小さくなって平滑性が増すほど正反射率、及び、解像度が向上することが分かる。即ち、表面粗さの改善が困難な溶融流延法により作製されたアクリルフィルムを用いた太陽熱発電用反射装置と比較して、溶液流延法により作製されたアクリルフィルムを用いることで、太陽熱発電用反射装置における正反射率、及び、解像度を向上させることが出来る。 As shown from the evaluation results shown in Table 1, it can be seen that the regular reflectance and resolution improve as the surface roughness of the acrylic film decreases and the smoothness increases. That is, solar power generation is achieved by using an acrylic film produced by a solution casting method, compared to a solar power generation reflector using an acrylic film produced by a melt casting method, which is difficult to improve the surface roughness. It is possible to improve the regular reflectance and the resolution in the reflector for use.

また、アクリルフィルムの表面粗さに係わらず、接着層の厚さが０．５μｍの場合には、０．０３μｍの場合、及び、５μｍの場合と比較して、正反射率、及び、解像度が向上することが示されている。即ち、接着層の厚さは、厚過ぎても薄過ぎてもよくないということが示されている。これらは、密着性の最適性、薄過ぎるとアクリルフィルム及び銀反射層の表面の凹凸をカバーしきれないという問題、及び、厚過ぎると塗装ムラが生じやすくなるという問題を表している。従って、接着層の厚みは、０．５μｍを中心に、０．０３μｍ以上５μｍ以下、より好ましくは、０．１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましいといえる。 Regardless of the surface roughness of the acrylic film, when the thickness of the adhesive layer is 0.5 μm, the regular reflectance and the resolution are 0.03 μm and 5 μm, respectively. It has been shown to improve. That is, it is shown that the thickness of the adhesive layer may not be too thick or too thin. These represent the optimality of adhesion, the problem that the unevenness of the surface of the acrylic film and the silver reflection layer cannot be covered if it is too thin, and the problem that uneven coating tends to occur if it is too thick. Therefore, it can be said that the thickness of the adhesive layer is preferably 0.03 μm or more and 5 μm or less, more preferably 0.1 μm or more and 1 μm or less, centering on 0.5 μm.

１ハードコート層
２アクリルフィルム
３接着層
４腐食防止層
５銀反射層
６アンカー層
７樹脂フィルム
８粘着層
９剥離シート
１０金属支持体
２０、２１フィルムミラー
３０、３１太陽熱発電用反射装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hard coat layer 2 Acrylic film 3 Adhesion layer 4 Corrosion prevention layer 5 Silver reflection layer 6 Anchor layer 7 Resin film 8 Adhesion layer 9 Release sheet 10 Metal support 20, 21 Film mirror 30, 31 Reflector for solar power generation

Claims

In the film mirror in which the acrylic film base material, the adhesive layer, and the silver reflective layer are laminated in order from the sunlight incident side,
The acrylic film substrate is formed by a solution casting method.

The acrylic film substrate contains a residual solvent of 0.1% to less than 0.5% of the film weight, and the arithmetic average roughness of the surface is 0.01 μm or less. The film mirror according to claim 1.

The thickness of the said contact bonding layer is 0.05 micrometer or more and 3 micrometers or less. The film mirror of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.

The thickness of the said contact bonding layer is 0.1 micrometer or more and 1 micrometer or less. The film mirror of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.

The film reflection mirror according to any one of claims 1 to 4, wherein the silver reflection layer is formed by vapor deposition on a resin film.

The said silver reflection layer is formed by baking after apply | coating the coating liquid containing an organic silver complex compound on a resin film. The Claim 1 characterized by the above-mentioned. Film mirror.

The film mirror according to any one of claims 1 to 6,
A metal support,
The film mirror is affixed on the metal support. A solar power generation reflecting device, wherein: