JP2012153036A

JP2012153036A - Film mirror, and reflector for solar thermal power generation

Info

Publication number: JP2012153036A
Application number: JP2011014757A
Authority: JP
Inventors: Yayoi Eguro; 弥生江黒
Original assignee: Konica Minolta Advanced Layers Inc
Current assignee: Konica Minolta Advanced Layers Inc
Priority date: 2011-01-27
Filing date: 2011-01-27
Publication date: 2012-08-16

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film mirror which is light in weight and flexible, has good regular reflectance to solar light and can be efficiently produced while suppressing a cost and prevents both sides thereof from sticking to each other, and to provide a reflector for solar thermal power generation using the film mirror.SOLUTION: The film mirror 10 has at least a reflective layer 3 and an adhesive layer 7 between a first resin layer 5 and a release sheet 8. The first resin layer 5 is provided in the outermost layer of the reflective layer 3 on a light reflecting side, and the release sheet 8 is arranged adjacent to the adhesive layer 7 and is provided in the outermost layer of the reflective layer 3 on a side opposite the light reflecting side. At least one of the first resin layer 5 and the release sheet 8 contains a predetermined amount of fine particles, and thickness thereof is 75 to 125 μm.

Description

本発明は、フィルムミラー及びそのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。 The present invention relates to a film mirror and a solar power generation reflector using the film mirror.

近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わるエネルギーとして、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、太陽エネルギー等の利用が検討されている。なかでも、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは太陽エネルギーであると考えられる。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が問題となると考えられる。 In recent years, the use of biomass energy, nuclear energy, wind energy, solar energy and the like as energy alternatives to fossil fuel energy such as oil and natural gas has been studied. Among them, solar energy is considered to be the most stable and abundant amount of natural energy as an alternative energy to fossil fuels. However, although solar energy is a very powerful alternative energy, from the viewpoint of utilizing it, (1) the energy density of solar energy is low, (2) it is difficult to store and transfer solar energy, etc. Is considered to be a problem.

太陽エネルギーを活用する上での上記課題における、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決する方法が提案されている。反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。
ガラス製ミラーは、環境に対する耐久性が高い反面、輸送時などに破損してしまうことがあることや、その重量が重いミラーを設置する架台を強化する必要があることなどのため、プラントの建設費がかさむといった問題があった。 A method for solving the problem of low energy density of solar energy in the above problem in utilizing solar energy by collecting solar energy with a huge reflecting device has been proposed. Since the reflecting device is exposed to sunlight, ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, and the like, a glass mirror has been conventionally used.
Although glass mirrors are highly environmentally durable, they can be damaged during transportation, and it is necessary to reinforce the frame on which heavy mirrors are installed. There was a problem that it was expensive.

その一方で、軽量で柔軟性が高く、破損しにくく、輸送コストが低い鏡面ミラーとして、樹脂製の反射シートであるフィルムミラーが、特許文献１に開示されている。
太陽光を集光する目的において、高い反射率を得るという観点では、特許文献２に開示されているように、反射層を可視光領域の反射率の高い銀で構成することが好ましいが、銀は環境因子により腐食しやすいという欠点をもっている。そのため、太陽熱発電用のミラーにおいては、銀反射層の太陽光入射側に樹脂層を設け、銀を保護するような設計がなされている。 On the other hand, Patent Document 1 discloses a film mirror, which is a reflection sheet made of a resin, as a mirror mirror that is lightweight, flexible, difficult to break, and low in transportation cost.
For the purpose of collecting sunlight, from the viewpoint of obtaining a high reflectance, as disclosed in Patent Document 2, it is preferable that the reflective layer is made of silver having a high reflectance in the visible light region. Has the disadvantage of being easily corroded by environmental factors. Therefore, the solar power generation mirror is designed to protect the silver by providing a resin layer on the sunlight incident side of the silver reflection layer.

特開２００５−５９３８２号公報JP 2005-59382 A 特開平６−３８８６０号公報JP-A-6-38860

ところで、ガラス製ミラーを樹脂製のフィルムミラーに置き換えた場合、ロール状に巻くことができるフィルムミラーは、例えばロール・トゥ・ロールで搬送し、反射層などを連続製膜して製造することが可能であるため、生産効率を格段に高めることができる。しかし、樹脂製のフィルムミラーを巻き取った際に、ロール状に重なったフィルムの表裏が貼り付いてしまうことがある。重なったフィルムミラー同士が貼り付いてしまうと、フィルム表面が損傷したり、膜厚変化を引き起こしたりするという問題が生じる。 By the way, when a glass mirror is replaced with a resin film mirror, a film mirror that can be wound in a roll shape can be manufactured, for example, by transporting it in a roll-to-roll manner and continuously forming a reflective layer or the like. Because it is possible, the production efficiency can be greatly increased. However, when a resin film mirror is wound up, the front and back of the film overlapped in a roll shape may stick. If the overlapped film mirrors are attached to each other, there arises a problem that the film surface is damaged or the film thickness is changed.

このようなフィルムミラーの貼り付きを防止するために、その表面の滑り性をよくする処理を施すことがある。例えば、フィルムの両端にエンボス加工を施したり、フィルムの表層の樹脂材料に微粒子を混ぜたりすることで、フィルム表面に凹凸を形成して滑り性をよくすることで、フィルム同士の貼り付きを抑えることができる。
フィルムの両端にエンボス加工を施した場合、そのエンボス加工を施した箇所は最終製品には使えないため、生産途中に裁断して廃棄しなければならず、ロスが生じてしまう。
また、単にフィルム表層の樹脂材料に微粒子を混ぜて、フィルム表面に凹凸を形成した場合、その微粒子に起因する凹凸が反射層の反射面の平滑性を乱してしまうことがあり、その反射面で反射光が乱反射するなど正反射率が悪化する恐れがある。
このようにフィルムミラーの光学性能（正反射率）と、貼り付き難さの両立は難しかった。 In order to prevent sticking of such a film mirror, a treatment for improving the slipperiness of the surface is sometimes performed. For example, by embossing both ends of the film or mixing fine particles with the resin material on the surface layer of the film, unevenness is formed on the film surface to improve slipperiness, thereby suppressing sticking between films be able to.
When embossing is performed on both ends of the film, the embossed portion cannot be used for the final product, so it must be cut and discarded during production, resulting in loss.
Also, if the surface of the film is simply mixed with fine particles in the resin material of the film surface to form irregularities on the film surface, the irregularities caused by the fine particles may disturb the smoothness of the reflective surface of the reflective layer. Therefore, the regular reflectance may be deteriorated, for example, the reflected light is irregularly reflected.
Thus, it was difficult to achieve both the optical performance (regular reflectance) of the film mirror and the difficulty of sticking.

そこで、本発明の主な目的は、軽量で柔軟性があり、太陽光に対して良好な正反射率を有し、且つコストを抑えて効率よく製造することができ、その表裏が貼り付き難いフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することである。 Therefore, the main objects of the present invention are lightweight and flexible, have a good regular reflectance with respect to sunlight, can be efficiently manufactured at a reduced cost, and the front and back are hard to stick. It is providing the reflecting device for solar power generation using a film mirror and the film mirror.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
すなわち、本発明の一の態様は、
第１樹脂層と第２樹脂層の間に、少なくとも反射層と粘着層を備えるフィルムミラーであって、
前記第１樹脂層は、前記反射層の光反射側の最外層または２層目に設けられ、前記第２樹脂層は、前記粘着層に隣接するとともに、前記反射層の光反射側とは反対側の最外層または２層目に設けられており、
前記第１樹脂層と前記第２樹脂層の少なくとも一方は、所定量の微粒子を含有し、その厚みが７５μｍ以上１２５μｍ以下であることを特徴としている。
好ましくは、前記第１樹脂層と前記反射層は、隣接して積層されるか又はその間に多くても２層の構成層を介して積層されており、前記粘着層と前記反射層は、隣接して積層されるか又はその間に多くても２層の構成層を介して積層されている。
好ましくは、前記粘着層と前記反射層を隣接させず、前記粘着層と前記反射層の間に第３樹脂層を備えている。
好ましくは、前記第１樹脂層を、前記反射層の光反射側の２層目に設け、前記第１樹脂層の表面に、前記微粒子の粒径以下の厚みを有するハードコート層を備えている。 The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
That is, one aspect of the present invention is
A film mirror comprising at least a reflective layer and an adhesive layer between the first resin layer and the second resin layer,
The first resin layer is provided in the outermost layer or the second layer on the light reflection side of the reflection layer, and the second resin layer is adjacent to the adhesive layer and opposite to the light reflection side of the reflection layer. On the outermost layer or the second layer on the side,
At least one of the first resin layer and the second resin layer contains a predetermined amount of fine particles and has a thickness of 75 μm or more and 125 μm or less.
Preferably, the first resin layer and the reflective layer are laminated adjacent to each other, or are laminated via at least two constituent layers therebetween, and the adhesive layer and the reflective layer are adjacent to each other. Or at most two layers between them.
Preferably, the adhesive layer and the reflective layer are not adjacent to each other, and a third resin layer is provided between the adhesive layer and the reflective layer.
Preferably, the first resin layer is provided as a second layer on the light reflection side of the reflective layer, and a hard coat layer having a thickness equal to or smaller than the particle diameter of the fine particles is provided on the surface of the first resin layer. .

また、本発明の他の態様は、太陽熱発電用反射装置であって、上記フィルムミラーにおける前記第２樹脂層を剥離して露出させた前記粘着層を、支持基材に貼り付けて形成したことを特徴としている。 Another aspect of the present invention is a solar power generation reflection device, wherein the adhesive layer, which is formed by peeling and exposing the second resin layer in the film mirror, is attached to a support base material. It is characterized by.

本発明によれば、軽量で柔軟性があり、太陽光に対して良好な正反射率を有し、且つコストを抑えて効率よく製造することができ、その表裏が貼り付き難いフィルムミラーと、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。 According to the present invention, a film mirror that is lightweight and flexible, has a good regular reflectance with respect to sunlight, can be efficiently manufactured at a reduced cost, and its front and back are difficult to stick, A reflector for solar power generation using the film mirror can be provided.

本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図（ａ）と、太陽熱発電用反射装置の一例を示す概略断面図（ｂ）である。It is the schematic sectional drawing (a) which shows an example of a structure of the film mirror for solar power generation of this invention, and the schematic sectional drawing (b) which shows an example of the reflective apparatus for solar power generation. 本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図（ａ）と、太陽熱発電用反射装置の一例を示す概略断面図（ｂ）である。It is the schematic sectional drawing (a) which shows an example of a structure of the film mirror for solar power generation of this invention, and the schematic sectional drawing (b) which shows an example of the reflective apparatus for solar power generation.

以下、本発明に係る太陽熱発電用フィルムミラーについて詳細について説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。 Hereinafter, the film mirror for solar power generation according to the present invention will be described in detail. However, although various technically preferable limitations for implementing the present invention are given to the embodiments described below, the scope of the invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.

（１）太陽熱発電用フィルムミラーの構成概要
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーの構成を、図１、図２を用いて説明する。
太陽熱発電用のフィルムミラー１０は、図１（ａ）に示すように、構成層として少なくとも、第１樹脂層５と、第２樹脂層としての剥離シート８と、反射層３と、粘着層７とを備えており、第１樹脂層５と剥離シート８の間に、反射層３と粘着層７を備えている。
フィルムミラー１０において、第１樹脂層５は、反射層３の光反射側の最外層に設けられており、剥離シート８は、粘着層７に隣接するとともに、反射層３の光反射側とは反対側の最外層に設けられている。
このフィルムミラー１０は、本発明に係る太陽熱発電用フィルムミラーとして、最小限の構成層を備えたものであり、低コストタイプのフィルムミラーである。
なお、フィルムミラー１０における反射層３と粘着層７の間に、後述する第３樹脂層としてのフィルム基材（１）を設けることも好ましい態様である。 (1) Outline of Configuration of Film Mirror for Solar Power Generation The configuration of the film mirror for solar power generation according to the present invention will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 1A, the film mirror 10 for solar power generation includes at least a first resin layer 5, a release sheet 8 as a second resin layer, a reflective layer 3, and an adhesive layer 7 as constituent layers. The reflective layer 3 and the adhesive layer 7 are provided between the first resin layer 5 and the release sheet 8.
In the film mirror 10, the first resin layer 5 is provided in the outermost layer on the light reflection side of the reflection layer 3, and the release sheet 8 is adjacent to the adhesive layer 7 and what is the light reflection side of the reflection layer 3. It is provided in the outermost layer on the opposite side.
This film mirror 10 is a low-cost type film mirror provided with a minimum constituent layer as a film mirror for solar power generation according to the present invention.
In addition, it is also a preferable aspect to provide the film base material (1) as a 3rd resin layer mentioned later between the reflection layer 3 and the adhesion layer 7 in the film mirror 10. FIG.

また、図２（ａ）に示す太陽熱発電用のフィルムミラー１１のように、他の構成層として、反射層３と粘着層７の間にフィルム基材１と接着層２を備え、反射層３と第１樹脂層５の間に保護層４を備え、第１樹脂層５の表面にハードコート層６を備える構成であってもよい。
このフィルムミラー１１においては、第１樹脂層５を、反射層３の光反射側の２層目に設け、反射層３の光反射側の最外層にハードコート層６を備えたものである。
なお、本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、撓み防止、正反射率、取り扱い性等の観点から７５〜３５０μｍが好ましく、より好ましくは９０〜２３０μｍ、更に好ましくは１００〜２２０μｍである。 Moreover, like the film mirror 11 for solar power generation shown to Fig.2 (a), the film base material 1 and the contact bonding layer 2 are provided between the reflection layer 3 and the adhesion layer 7 as another structure layer, and reflection layer 3 is provided. The protective layer 4 may be provided between the first resin layer 5 and the hard coat layer 6 may be provided on the surface of the first resin layer 5.
In this film mirror 11, the first resin layer 5 is provided in the second layer on the light reflection side of the reflection layer 3, and the hard coat layer 6 is provided on the outermost layer on the light reflection side of the reflection layer 3.
The thickness of the entire film mirror according to the present invention is preferably 75 to 350 [mu] m, more preferably 90 to 230 [mu] m, still more preferably 100 to 220 [mu] m, from the viewpoints of prevention of bending, regular reflectance, and handling properties.

そして、本発明のフィルムミラー１０、フィルムミラー１１において、第１樹脂層５と剥離シート８の少なくとも一方が、所定量の微粒子を含有しており、その厚みが７５μｍ以上１２５μｍ以下であるという技術的特徴を有している。
なお、以下にフィルムミラー１１の各構成層について具体的に説明するとともに、フィルムミラー１０との相違点に関しては適宜説明する。 In the film mirror 10 and the film mirror 11 of the present invention, at least one of the first resin layer 5 and the release sheet 8 contains a predetermined amount of fine particles, and the thickness thereof is 75 μm or more and 125 μm or less. It has characteristics.
In addition, while specifically explaining each structural layer of the film mirror 11 below, the difference with the film mirror 10 is demonstrated suitably.

（２）フィルム基材
第３樹脂層であるフィルム基材１としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
なかでも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましく、特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましい。
また、フィルム基材１は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
このフィルム基材１の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。 (2) Film base material As a film base material 1 which is a 3rd resin layer, conventionally well-known various resin films can be used. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films.
Among these, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film are preferable, and a polyester film and a cellulose ester film are particularly preferable.
The film substrate 1 may be a film manufactured by melt casting or a film manufactured by solution casting.
The thickness of the film substrate 1 is preferably set to an appropriate thickness according to the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 μm. Preferably it is 20-200 micrometers, More preferably, it is 30-100 micrometers.

（３）接着層
接着層２は、フィルム基材１と反射層３との接着性を高める機能を有するものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。そして、接着層２は、フィルム基材１と反射層３とを密着させる密着性、反射層３を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、反射層３が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
この接着層２を形成する材料に使用できる樹脂としては、上記の密着性、耐熱性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等を単独またはこれらの混合樹脂を用いることができる。特に、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂であればより好ましい。
接着層２の厚さは、密着性、平滑性、反射層３の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
この接着層２の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。 (3) Adhesive layer Although the adhesive layer 2 will not be specifically limited if it has a function which improves the adhesiveness of the film base material 1 and the reflective layer 3, It is preferable to consist of resin. The adhesive layer 2 has an adhesive property that allows the film substrate 1 and the reflective layer 3 to be in close contact, heat resistance that can withstand heat when the reflective layer 3 is formed by a vacuum deposition method, and the like, which the reflective layer 3 originally has. Smoothness is required to bring out the reflection performance.
The resin that can be used as the material for forming the adhesive layer 2 is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness. A polyester resin, an acrylic resin, and a melamine resin. An epoxy resin, a polyamide resin, a vinyl chloride resin, a vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin, or the like can be used alone or in combination. In particular, a mixed resin of a polyester-based resin and a melamine-based resin is preferable from the viewpoint of weather resistance, and a thermosetting resin in which a curing agent such as isocyanate is further mixed is more preferable.
The thickness of the adhesive layer 2 is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, from the viewpoints of adhesion, smoothness, the reflectance of the reflective layer 3, and the like.
As a method for forming the adhesive layer 2, a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, or a die coating method can be used.

（４）反射層
反射層３は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
反射層３の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。この反射層３は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする銀反射層であることが好ましい。
また、反射層３上にＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２等の金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
本発明における反射層３（例えば銀反射層）の形成法としては、例えば、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
湿式法とは、めっき法または金属錯体溶液塗布法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応や、銀錯体インクの焼成による銀層形成等がある。
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーの製造方法においては、反射層３を銀の蒸着により形成することが好ましい。
反射層３の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。 (4) Reflective layer The reflective layer 3 is a layer made of a metal or the like having a function of reflecting sunlight.
The surface reflectance of the reflective layer 3 is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. The reflective layer 3 is preferably formed of a material containing any element selected from the element group consisting of Al, Ag, Cr, Cu, Ni, Ti, Mg, Rh, Pt, and Au. Among these, it is preferable that Al or Ag is a main component from the viewpoint of reflectance and corrosion resistance, and two or more such metal thin films may be formed. In the present invention, a silver reflecting layer mainly containing silver is particularly preferable.
Further, a layer made of a metal oxide such as SiO ₂ or TiO ₂ may be provided on the reflective layer 3 to further improve the reflectance.
As a method for forming the reflective layer 3 (for example, a silver reflective layer) in the present invention, for example, either a wet method or a dry method can be used.
The wet method is a general term for a plating method or a metal complex solution coating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction and silver layer formation by firing of silver complex ink.
On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specifically includes a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam assisted vacuum deposition method, and a sputtering method. Etc. In particular, a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. That is, in the film mirror manufacturing method of the present invention, it is preferable to form the reflective layer 3 by vapor deposition of silver.
The thickness of the reflective layer 3 is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectance and the like.

なお、フィルムミラー１１における反射層３は、接着層２を介してフィルム基材１上に形成される。一方、フィルムミラー１０における反射層３は、第１樹脂層５の下面に形成される。 The reflective layer 3 in the film mirror 11 is formed on the film substrate 1 with the adhesive layer 2 interposed. On the other hand, the reflective layer 3 in the film mirror 10 is formed on the lower surface of the first resin layer 5.

（５）保護層
保護層４は、反射層３の光反射面を覆い、反射層３の傷防止に寄与するものである。また、保護層４の外側に構成層を形成する場合にその構成層との接着力向上に寄与するものである。
この保護層４を形成する材料に使用できる樹脂としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等を単独またはこれらの混合樹脂を用いることができる。特に、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂であればより好ましい。
硬化剤としてのイソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来公知の各種イソシアネートを使用可能であるが、耐候性の点からＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用することが好ましい。
保護層４の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
この保護層４の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。 (5) Protective layer The protective layer 4 covers the light reflecting surface of the reflective layer 3 and contributes to preventing scratches on the reflective layer 3. Moreover, when forming a structure layer on the outer side of the protective layer 4, it contributes to the improvement of the adhesive force with the structure layer.
As a resin that can be used as a material for forming the protective layer 4, a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, or the like can be used alone or a mixed resin thereof. In particular, polyester resins and acrylic resins are preferable from the viewpoint of weather resistance, and more preferable are thermosetting resins mixed with a curing agent such as isocyanate.
As the curing agent, conventionally known various isocyanates such as TDI (tolylene diisocyanate), XDI (xylene diisocyanate), MDI (methylene diisocyanate), and HMDI (hexamethylene diisocyanate) can be used. From the viewpoint of weather resistance, it is preferable to use an XDI, MDI or HMDI isocyanate.
The thickness of the protective layer 4 is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.1 to 1 μm, from the viewpoints of adhesion, weather resistance, and the like.
As a method for forming the protective layer 4, a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, a die coating method or the like can be used.

また、保護層４に、反射層３の腐食や劣化を防止する腐食防止剤や酸化防止剤を添加することが好ましい。
なお、腐食防止剤や酸化防止剤を、保護層４に添加することに限らず、ハードコート層６などの他の構成層に添加するようにしてもよい。 Moreover, it is preferable to add to the protective layer 4 a corrosion inhibitor or an antioxidant that prevents corrosion or deterioration of the reflective layer 3.
In addition, you may make it add a corrosion inhibitor and antioxidant not only to the protective layer 4 but to other structural layers, such as the hard-coat layer 6. FIG.

（５−１）腐食防止剤
腐食防止剤としては、銀に対して吸着性を有する複素環式化合物であり、かつ融点が２５℃以上である化合物を用いることが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳＺ０１０３−２００４参照）。
腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０／ｍ^２の範囲内であることが好ましい。
銀に対して吸着性を有する複素環式化合物であり、その融点が２５℃以上である化合物としては、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物等の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。 (5-1) Corrosion inhibitor As a corrosion inhibitor, it is preferable to use the compound which is a heterocyclic compound which has an adsorptivity with respect to silver, and whose melting | fusing point is 25 degreeC or more. Here, “corrosion” refers to a phenomenon in which a metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by an environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).
The optimum amount of the corrosion inhibitor varies depending on the compound to be used, but generally it is preferably within the range of 0.1 to 1.0 / m ² .
A compound having an adsorptivity to silver and having a melting point of 25 ° C. or higher includes a compound having a pyrrole ring, a compound having a triazole ring, a compound having a pyrazole ring, and a compound having a thiazole ring It is desirable to be selected from at least one of a compound having an imidazole ring, a compound having an indazole ring, a thiourea, a compound having a mercapto group, or a mixture thereof.

本発明において用いられる腐食防止剤の具体例としては、以下の化合物を挙げることができる。
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。 Specific examples of the corrosion inhibitor used in the present invention include the following compounds.
Examples of the compound having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3, 4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, etc., or a mixture thereof.
Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3- Methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3-triazole, Benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2,4- Triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5 ′) -Tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy3'5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-4-octoxyphenyl) benzotriazole, or the like, or These mixtures are mentioned.
Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.
Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole, 2-N, N-diethylthiobenzothiazole, P-dimethylaminobenzallodanine, 2-mercaptobenzothiazole and the like. Or a mixture thereof.
Examples of the compound having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methyl. Imidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydromethylimidazole, 2-phenyl-4,5 dihydroxymethylimidazole, 4-formylimidazole, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-phenyl-4-phenyl Rumyl imidazole, 4-methyl-5-formyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl-5-formyl imidazole, 2-phenyl-4-methyl-4-formyl imidazole, 2-mercaptobenzimidazole, etc., or these Of the mixture.
Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.
Examples of thioureas include thiourea, guanylthiourea, and the like, or a mixture thereof.
Examples of the compound having a mercapto group include 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 2-mercaptobenzo, and the above-described materials. Examples include thiazole, 2-mercaptobenzimidazole, and the like, or a mixture thereof.

（５−２）酸化防止剤
酸化防止能を有する腐食防止剤である酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等が挙げられる。
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。 (5-2) Antioxidant It is preferable to use a phenol-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, or a phosphite-based antioxidant as the antioxidant that is a corrosion inhibitor having antioxidant ability.
Examples of phenolic antioxidants include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t-). Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate ,bird Tylene glycol bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 3,9-bis [1,1-di-methyl-2- [β- (3-t-butyl) -4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl] -2,4,8,10-tetraoxoxaspiro [5,5] undecane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and the like. In particular, the phenolic antioxidant preferably has a molecular weight of 550 or more.
Examples of the thiol antioxidant include distearyl-3,3′-thiodipropionate and pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thiopropionate).
Examples of the phosphite antioxidant include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol. Diphosphite, bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4′-biphenylene-diphosphonite 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite and the like.

なお、本発明においては、上記した酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
その他、ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（ＩＩ）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
特に、ヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。 In the present invention, the above antioxidant and the following light stabilizer can be used in combination.
Examples of hindered amine light stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl- 8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl ] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6, 6-tetramethyl Piperidine, tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butane-tetracarboxylate, triethylenediamine, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9 , 9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro [4,5] decane-2,4-dione.
In addition, [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel complex-3,5-di-t-butyl-4 as a nickel-based UV stabilizer -Hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyl dithiocarbamate, etc. can also be used.
In particular, the hindered amine light stabilizer is preferably a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine, specifically, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl). ) -Sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, Alternatively, a condensate of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is preferable.

なお、この保護層４上に、前述した接着層２と同様の接着層を設けてもよい。この接着層は、保護層４と第１樹脂層５の接着性を高めるために設けられる。 Note that an adhesive layer similar to the adhesive layer 2 described above may be provided on the protective layer 4. This adhesive layer is provided in order to improve the adhesiveness between the protective layer 4 and the first resin layer 5.

（６）第１樹脂層
第１樹脂層５は、所定量（例えば、２０〜５０ｗｔ％）の微粒子を含有してなる樹脂フィルムであり、７５μｍ以上１２５μｍ以下の厚みを有するフィルム層である。より好ましくは、第１樹脂層５は１００μｍ以上１２５μｍ以下の厚みを有する。
第１樹脂層５の表面（光入射側の面）には、微粒子に起因する微小な凹凸が形成されている。なお、第１樹脂層５は、フィルムミラーにおける光入射側の最外層または２層目に設けられることが好ましい。
この第１樹脂層５を構成する樹脂フィルムには、従来公知の種々のフィルム材料を用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。
なかでも、アクリルフィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、特に、アクリルフィルムを用いることが好ましい。 (6) First resin layer The first resin layer 5 is a resin film containing a predetermined amount (for example, 20 to 50 wt%) of fine particles, and is a film layer having a thickness of 75 μm or more and 125 μm or less. More preferably, the first resin layer 5 has a thickness of 100 μm to 125 μm.
On the surface of the first resin layer 5 (surface on the light incident side), fine irregularities due to fine particles are formed. The first resin layer 5 is preferably provided in the outermost layer or the second layer on the light incident side of the film mirror.
Various conventionally known film materials can be used for the resin film constituting the first resin layer 5. For example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate polyester film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, Cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, norbornene resin film , Polymethylpentenef Can Lum, polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and acrylic films.
Among them, it is preferable to use an acrylic film, a polycarbonate film, a polyester film, a norbornene resin film, and a cellulose ester film, and it is particularly preferable to use an acrylic film.

第１樹脂層５は、上記したフィルム材料に所定の微粒子を練り込み、溶融流延製膜で製造した樹脂フィルムであっても、溶液流延製膜で製造した樹脂フィルムであってもよい。
また、第１樹脂層５は、上記したフィルム材料の原料であるバインダーに所定の微粒子を練り込んだ樹脂液を基材上（フィルム基材１に設けられた保護層４上）に塗布・コーティングして形成したフィルム層であってもよい。
なお、フィルムミラー１１における第１樹脂層５は、フィルム基材１に設けられた保護層４上に、微粒子を含有させて製造した樹脂フィルムを貼付して形成してもよく、また、フィルム基材１に設けられた保護層４上に、微粒子を練り込んだ樹脂液を塗布・コーティングして形成してもよい。一方、フィルムミラー１０における第１樹脂層５は、微粒子を含有させて製造した樹脂フィルムであり、この樹脂フィルム（第１樹脂層５）に反射層３が成膜されて形成される。
但し、後述する剥離シート８が、所定量の微粒子を含有してなる樹脂フィルムであり、７５μｍ以上１２５μｍ以下の厚みを有するフィルム層である場合、第１樹脂層５は微粒子を含有しない樹脂フィルムであってもよく、その厚みも任意であってよい。 The first resin layer 5 may be a resin film manufactured by melt casting film formation by kneading predetermined fine particles into the film material described above, or may be a resin film manufactured by solution casting film formation.
The first resin layer 5 is coated and coated on a substrate (on the protective layer 4 provided on the film substrate 1) with a resin liquid in which predetermined fine particles are kneaded into a binder as a raw material of the film material described above. It may be a film layer formed.
The first resin layer 5 in the film mirror 11 may be formed by attaching a resin film produced by containing fine particles on the protective layer 4 provided on the film substrate 1. On the protective layer 4 provided on the material 1, a resin liquid kneaded with fine particles may be applied and coated. On the other hand, the first resin layer 5 in the film mirror 10 is a resin film manufactured by containing fine particles, and the reflection layer 3 is formed on the resin film (first resin layer 5).
However, when the release sheet 8 described later is a resin film containing a predetermined amount of fine particles and is a film layer having a thickness of 75 μm or more and 125 μm or less, the first resin layer 5 is a resin film containing no fine particles. The thickness may be arbitrary.

（６−１）微粒子
第１樹脂層５に含有させる微粒子としては、平均粒径が１〜３０μｍ、好ましくは４〜１０μｍであるゴム粒子やフィラーを用いることができる。このゴム粒子やフィラーは、第１樹脂層５の表面に微小な凹凸を形成するための微粒子である。
ゴム粒子としては、例えば、アクリル系、ブタジエン系、スチレン−ブタジエン系などのものを用いることができ、なかでも耐候性の点からアクリルゴム粒子が好ましく用いられる。アクリルゴム粒子は、ゴム成分としてアクリル酸エステルを主体とする弾性重合体を含有する粒子であり、この弾性重合体のみからなる単層構造の粒子であってもよいし、この弾性重合体の層を有する多層構造の粒子であってもよいが、フィルムの表面硬度の点から、多層構造の粒子であることが好ましい。また、この弾性重合体は、アクリル酸エステルの単独重合体であってもよいし、アクリル酸エステル５０重量％以上とこれ以外の単量体５０重量％以下との共重合体であってもよい。ここで、アクリル酸エステルとしては、通常、アクリル酸のアルキルエステルが用いられる。
フィラーは、無機フィラーと有機フィラーに大別される。無機フィラーの具体的な材料としては、例えば、シリカ、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、硫化バリウム、マグネシウムシリケート、又はこれらの混合物を用いることができる。有機フィラーの具体的な材料としては、アクリル樹脂、アクリルニトリル樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド等を用いることができる。なかでも、透明性が高いアクリル樹脂が好ましく、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が特に好ましい。また、フィラーの形状は、特に限定されるものではなく、例えば球状、立方状、針状、棒状、紡錘形状、板状、鱗片状、繊維状などが挙げられ、中でも凹凸形状の均一性が得やすい球状が好ましい。 (6-1) Fine Particles As the fine particles to be contained in the first resin layer 5, rubber particles or fillers having an average particle diameter of 1 to 30 μm, preferably 4 to 10 μm can be used. These rubber particles and fillers are fine particles for forming minute irregularities on the surface of the first resin layer 5.
As the rubber particles, for example, acrylic type, butadiene type, styrene-butadiene type and the like can be used, and among them, acrylic rubber particles are preferably used from the viewpoint of weather resistance. The acrylic rubber particle is a particle containing an elastic polymer mainly composed of an acrylate ester as a rubber component, and may be a particle having a single layer structure made of only this elastic polymer, or a layer of this elastic polymer. The particles may have a multilayer structure, but are preferably multilayer structure particles from the viewpoint of the surface hardness of the film. The elastic polymer may be a homopolymer of an acrylate ester or a copolymer of 50% by weight or more of an acrylate ester and 50% by weight or less of other monomers. . Here, as the acrylic ester, an alkyl ester of acrylic acid is usually used.
Fillers are roughly classified into inorganic fillers and organic fillers. As a specific material of the inorganic filler, for example, silica, aluminum hydroxide, aluminum oxide, zinc oxide, barium sulfide, magnesium silicate, or a mixture thereof can be used. Specific examples of the organic filler include acrylic resin, acrylonitrile resin, polyurethane, polyvinyl chloride, polystyrene, polyacrylonitrile, polyamide, and the like. Among them, an acrylic resin having high transparency is preferable, and polymethyl methacrylate (PMMA) is particularly preferable. Further, the shape of the filler is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a cubic shape, a needle shape, a rod shape, a spindle shape, a plate shape, a scale shape, and a fiber shape. Easy spheres are preferred.

このように所定量の微粒子を含有している第１樹脂層５の表面（光入射側の面）には、微粒子に起因する微小な凹凸が形成されており、フィルムミラーの表面の滑り性を向上させることができるので、フィルムミラーを重ねたりロール状に巻いたりした際に、フィルムミラーの表裏が貼り付きにくくなる。
特に、この第１樹脂層５の厚みを７５μｍ以上１２５μｍ以下としたことにより、第１樹脂層５に適度な剛性・強度を付与することができ、第１樹脂層５を他の構成層に圧着するなど圧力を掛けた際に、他の構成層との密着面（第１樹脂層５における光入射側の反対面）に微粒子が押し出されて突出してしまうようなことがない。つまり、第１樹脂層５を反射層３が形成された基材に対して貼付する際など、第１樹脂層５と反射層３を密着させる際に、反射層３の反射面の平滑性を乱すことがないので、反射層３の反射率を悪化させてしまうことなく第１樹脂層５を設けることができる。但し、第１樹脂層５の厚みを１２５μｍより厚くしてしまうと、その剛性が高くなり過ぎ、フィルムミラーのコシが強くなり過ぎて巻き取り難くなってしまうので、厚みは１２５μｍ以下であることが好ましい。 In this way, the surface of the first resin layer 5 containing a predetermined amount of fine particles (light incident side surface) is formed with minute irregularities due to the fine particles, and the slipperiness of the surface of the film mirror is improved. Since it can improve, when the film mirror is piled up or rolled up, it becomes difficult to stick the front and back of the film mirror.
In particular, by setting the thickness of the first resin layer 5 to 75 μm or more and 125 μm or less, the first resin layer 5 can be provided with appropriate rigidity and strength, and the first resin layer 5 is pressure-bonded to other constituent layers. When pressure is applied, for example, the fine particles are not pushed out and protruded to the contact surface with the other constituent layers (the surface opposite to the light incident side in the first resin layer 5). That is, when the first resin layer 5 and the reflective layer 3 are brought into close contact, such as when the first resin layer 5 is attached to the base material on which the reflective layer 3 is formed, the smoothness of the reflective surface of the reflective layer 3 is improved. Since there is no disturbance, the first resin layer 5 can be provided without deteriorating the reflectance of the reflective layer 3. However, if the thickness of the first resin layer 5 is made thicker than 125 μm, the rigidity becomes too high and the stiffness of the film mirror becomes too strong and difficult to wind, so the thickness may be 125 μm or less. preferable.

（７）ハードコート層
ハードコート層６は、フィルムミラーの表面の損傷を防止するために、フィルムミラーの最外層に設けられる。
特に、ハードコート層６は、第１樹脂層５に含まれる微粒子の粒径以下の厚みを有している。ハードコート層６が、第１樹脂層５に含まれる微粒子の粒径以下の厚みを有することで、第１樹脂層５の表面の微小な凹凸に起因して、ハードコート層６の表面にも微小な凹凸が形成されるようになる。
このハードコート層６を形成する材料としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等を用いることができる。特に、硬度と耐久性の点では、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、硬化性、可撓性および生産性の点では、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂を用いることが好ましい。
ここで、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート等であり、また、メラミンやイソシアヌール酸等の剛直な骨格にアクリル基を結合したもの等も用いられうる。
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
なお、市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズ等）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズ等）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズ等）、ＤＩＣ株式会社；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズ等）、東亞合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズ等）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズ等）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズ等）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズ等）等の製品を利用することができ、アクリル系樹脂のハードコート層６を形成できる。
また、ハードコート層６中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、上記した保護層に用いた腐食防止剤と酸化防止剤の他に、光安定剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤等を用いることができる。レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤である、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）を好適に用いることができる。 (7) Hard coat layer The hard coat layer 6 is provided on the outermost layer of the film mirror in order to prevent damage to the surface of the film mirror.
In particular, the hard coat layer 6 has a thickness equal to or smaller than the particle size of the fine particles contained in the first resin layer 5. Since the hard coat layer 6 has a thickness equal to or smaller than the particle diameter of the fine particles contained in the first resin layer 5, the surface of the hard coat layer 6 is also caused by minute irregularities on the surface of the first resin layer 5. Minute irregularities are formed.
As a material for forming the hard coat layer 6, acrylic resin, urethane resin, melamine resin, epoxy resin, organic silicate compound, silicone resin, and the like can be used. In particular, in terms of hardness and durability, it is preferable to use a silicone resin or an acrylic resin. In view of curability, flexibility, and productivity, it is preferable to use an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin.
Here, the active energy ray-curable acrylic resin or the thermosetting acrylic resin is a composition containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer or a reactive diluent as a polymerization curing component. In addition, you may use what contains a photoinitiator, a photosensitizer, a thermal-polymerization initiator, a modifier, etc. as needed.
Acrylic oligomers include polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyether acrylates, etc., including those in which a reactive acrylic group is bonded to an acrylic resin skeleton, and rigid materials such as melamine and isocyanuric acid. A structure in which an acrylic group is bonded to a simple skeleton can also be used.
In addition, the reactive diluent has a function of a solvent in the coating process as a medium of the coating agent, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It becomes a copolymerization component.
Commercially available polyfunctional acrylic cured paints include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam (registered trademark)” series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol (registered trademark)”). Series, etc.), Shin-Nakamura Co., Ltd .; (trade name “NK Ester” series, etc.), DIC Corporation; (trade name “UNIDIC (registered trademark) series, etc.), Toagosei Chemical Industry Co., Ltd .; (trade name“ Aronix ”) (Registered trademark) "series), Nippon Oil & Fats Co., Ltd .; (trade name" Blemmer (registered trademark) "series, etc.), Nippon Kayaku Co., Ltd .; (trade name" KAYARAD (registered trademark) "series, etc.), Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (product name “Light Ester” series, “Light Acrylate” series, etc.) It can be formed over coat layer 6.
Moreover, in the hard-coat layer 6, various additives can be further mix | blended as needed in the range which does not impair the effect of this invention. For example, in addition to the corrosion inhibitor and antioxidant used for the protective layer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a surfactant, a leveling agent, an antistatic agent, and the like can be used. The leveling agent is effective in reducing surface irregularities, particularly when the functional layer is applied. As the leveling agent, for example, a dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer (for example, SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), which is a silicone leveling agent, can be suitably used.

（８）粘着層
粘着層７は、後述する太陽熱発電用反射装置（２０、２１）を造る際に、反射層３を備える基材（フィルムミラー本体）を金属基材９に貼り付けるため層である。
この粘着層７に用いる材料としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを使用することができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いてもよい。
粘着層７に用いる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製「ＯｒｉｂａｉｎＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ」、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。
粘着層７の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
フィルムミラーに粘着層７を設ける方法としては、特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うラミネート方法が経済性及び生産性の点から好ましい。
なお、フィルムミラー１１における粘着層７は、フィルム基材１の裏面に設けられる。一方、フィルムミラー１０における粘着層７は、反射層３の裏面（光反射面の反対側の面）に設けられる。
また、剥離シート８に積層して形成した粘着層７を、剥離シート８とともにフィルムミラー１１、フィルムミラー１０の裏面側に貼り合わせるように設けてもよい。 (8) Adhesive layer The adhesive layer 7 is a layer for attaching a base material (film mirror main body) provided with the reflective layer 3 to the metal base material 9 when a solar power generation reflective device (20, 21) described later is manufactured. is there.
The material used for the adhesive layer 7 is not particularly limited, and for example, a dry laminating agent, a wet laminating agent, an adhesive, a heat sealing agent, a hot melt agent, and the like can be used. Further, a polyester resin, a urethane resin, a polyvinyl acetate resin, an acrylic resin, a nitrile rubber, or the like may be used.
Specific materials used for the adhesive layer 7 include, for example, “SK Dyne Series” manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. “Oribain BPW Series, BPS Series” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., “Arcon” “Superester” “Hyper” And the like can be suitably used.
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 7 is preferably in the range of usually about 1 to 50 μm from the viewpoints of the pressure-sensitive adhesive effect, the drying speed and the like.
The method of providing the adhesive layer 7 on the film mirror is not particularly limited, and for example, a laminating method that is continuously performed in a roll manner is preferable from the viewpoint of economy and productivity.
The adhesive layer 7 in the film mirror 11 is provided on the back surface of the film substrate 1. On the other hand, the adhesive layer 7 in the film mirror 10 is provided on the back surface of the reflective layer 3 (the surface on the opposite side of the light reflecting surface).
Moreover, you may provide the adhesion layer 7 formed by laminating | stacking on the peeling sheet 8 so that it may affix on the back surface side of the film mirror 11 and the film mirror 10 with the peeling sheet 8. FIG.

（９）剥離シート
第２樹脂層である剥離シート８は、所定量（例えば、２０〜５０ｗｔ％）の微粒子を含有してなる樹脂フィルムであり、７５μｍ以上１２５μｍ以下の厚みを有するフィルム層である。より好ましくは、剥離シート８は１００μｍ以上１２５μｍ以下の厚みを有する。
剥離シート８の表面（粘着層７とは反対面）には、微粒子に起因する微小な凹凸が形成されている。
この剥離シート８を構成する樹脂フィルムには、従来公知の種々のフィルム材料（シート材料）として、例えば、アクリルフィルムまたはシート、ポリカーボネートフィルムまたはシート、ポリアリレートフィルムまたはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムまたはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはシート、フッ素樹脂等のプラスチックフィルムまたはシート、等を用いることができる。剥離シート８に用いることができる具体的な材料としては、例えば、三井化学東セロ社製「セパレータＳＰ−ＰＥＴ」、王子タック社製フィルムタック、リンテック社製剥離フィルム等を挙げることができる。
剥離シート８は、これらフィルム材料（シート材料）に、前述した微粒子を練り込んで製造した樹脂フィルムである。
但し、前述した第１樹脂層５が、所定量の微粒子を含有してなる樹脂フィルムであり、７５μｍ以上１２５μｍ以下の厚みを有するフィルム層である場合、剥離シート８は微粒子を含有しない樹脂フィルムであってもよく、その厚みも任意であってよい。 (9) Release Sheet The release sheet 8 that is the second resin layer is a resin film containing a predetermined amount (for example, 20 to 50 wt%) of fine particles, and is a film layer having a thickness of 75 μm or more and 125 μm or less. . More preferably, the release sheet 8 has a thickness of 100 μm or more and 125 μm or less.
On the surface of the release sheet 8 (the surface opposite to the adhesive layer 7), fine irregularities due to the fine particles are formed.
Examples of the resin film constituting the release sheet 8 include conventionally known various film materials (sheet materials) such as an acrylic film or sheet, a polycarbonate film or sheet, a polyarylate film or sheet, a polyethylene naphthalate film or sheet, A polyethylene terephthalate film or sheet, a plastic film or sheet such as a fluororesin, or the like can be used. Specific materials that can be used for the release sheet 8 include, for example, “Separator SP-PET” manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., a film tack manufactured by Oji Tac, a release film manufactured by Lintec, and the like.
The release sheet 8 is a resin film produced by kneading the aforementioned fine particles into these film materials (sheet materials).
However, when the first resin layer 5 is a resin film containing a predetermined amount of fine particles and is a film layer having a thickness of 75 μm or more and 125 μm or less, the release sheet 8 is a resin film containing no fine particles. The thickness may be arbitrary.

このように所定量の微粒子を含有している剥離シート８の表面（図中の下面）には、微粒子に起因する微小な凹凸が形成されており、フィルムミラーの表面の滑り性を向上させることができるので、フィルムミラーを重ねたりロール状に巻いたりした際に、フィルムミラーの表裏が貼り付きにくくなる。
特に、この剥離シート８の厚みを７５μｍ以上１２５μｍ以下としたことにより、剥離シート８に適度な剛性・強度を付与することができ、剥離シート８を他の構成層に圧着するなど圧力を掛けた際に、他の構成層との密着面（剥離シート８における粘着層７側の面）に微粒子が押し出されて突出してしまうようなことがない。つまり、剥離シート８を反射層３が形成された基材に対して貼付する際など、剥離シート８と反射層３を密着させる際に、反射層３の反射面の平滑性が乱されることがないので、反射層３の反射率を悪化させることなく剥離シート８を設けることができる。但し、剥離シート８の厚みを１２５μｍより厚くしてしまうと、その剛性が高くなり過ぎ、フィルムミラーのコシが強くなり過ぎて巻き取り難くなってしまうので、厚みは１２５μｍ以下であることが好ましい。
なお、この剥離シート８を粘着層７から良好に剥離できるように、剥離シート８はシリコンコート等の表面加工が施されたものであることが好ましい。 In this way, the surface of the release sheet 8 containing a predetermined amount of fine particles (the lower surface in the figure) is formed with minute irregularities due to the fine particles, thereby improving the slipperiness of the surface of the film mirror. Therefore, when the film mirrors are stacked or rolled up, the front and back of the film mirrors are difficult to stick.
In particular, by setting the thickness of the release sheet 8 to 75 μm or more and 125 μm or less, appropriate rigidity and strength can be imparted to the release sheet 8, and pressure is applied such as pressure bonding the release sheet 8 to other constituent layers. At this time, the fine particles are not pushed out and protruded onto the contact surface with the other constituent layers (the surface on the side of the adhesive layer 7 in the release sheet 8). That is, when the release sheet 8 and the reflective layer 3 are adhered to each other, such as when the release sheet 8 is attached to the base material on which the reflective layer 3 is formed, the smoothness of the reflective surface of the reflective layer 3 is disturbed. Therefore, the release sheet 8 can be provided without deteriorating the reflectance of the reflective layer 3. However, if the thickness of the release sheet 8 is made thicker than 125 μm, the rigidity becomes too high and the stiffness of the film mirror becomes so strong that it becomes difficult to wind up. Therefore, the thickness is preferably 125 μm or less.
In addition, it is preferable that the release sheet 8 has been subjected to a surface treatment such as a silicon coat so that the release sheet 8 can be satisfactorily released from the adhesive layer 7.

（１０）太陽熱発電用反射装置
太陽熱発電用反射装置２０は、図１（ｂ）に示すように、フィルムミラー１０の剥離シート８を剥離して露出させた粘着層７を支持基材としての金属基材９に貼り付けて製造することができる。同様に、太陽熱発電用反射装置２１は、図２（ｂ）に示すように、フィルムミラー１１の剥離シート８を剥離して露出させた粘着層７を支持基材としての金属基材９に貼り付けて製造することができる。
ここで、フィルムミラー１０、１１から剥離シート８を剥離したものがフィルムミラー本体であり、このフィルムミラー本体において露出されている粘着層７を金属基材９に貼り付けることで、太陽熱発電用反射装置２０、２１が製造される。
例えば、太陽熱発電用反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、反射面側となる半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、その筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。
また、平板状の太陽熱発電用反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、その反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。 (10) Reflector for Solar Power Generation As shown in FIG. 1B, the reflector for solar power generation 20 is a metal having a support substrate made of an adhesive layer 7 that is peeled and exposed from the release sheet 8 of the film mirror 10. It can be manufactured by being attached to the substrate 9. Similarly, as shown in FIG. 2B, the solar power generation reflecting device 21 attaches the adhesive layer 7 which is peeled and exposed from the release sheet 8 of the film mirror 11 to a metal substrate 9 as a support substrate. It can be manufactured by attaching.
Here, the film mirror main body is obtained by peeling the release sheet 8 from the film mirrors 10 and 11, and the adhesive layer 7 exposed in the film mirror main body is attached to the metal base material 9, thereby reflecting for solar power generation. Devices 20, 21 are manufactured.
For example, the shape of the solar power generation reflecting device is a bowl shape (semi-cylindrical shape), and a cylindrical member having a fluid inside is provided in the central portion of the semicircle on the reflecting surface side, and sunlight is collected on the cylindrical member. One mode is a mode in which the internal fluid is heated by light and the heat energy is converted to generate electricity.
In addition, flat-plate solar power generation reflectors are installed at a plurality of locations, and the sunlight reflected by each reflector is condensed on one reflector (central reflector) and reflected by the reflector. A form of generating electric power by converting the thermal energy obtained by the power generation unit is also mentioned as one form.

（１０−１）金属基材
金属基材９としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料、また樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることができる。
本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。さらに好ましくは、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることが好ましい。 (10-1) Metal base material As the metal base material 9, thermal conductivity, such as a steel plate, a copper plate, an aluminum plate, an aluminum plating steel plate, an aluminum alloy plating steel plate, a copper plating steel plate, a tin plating steel plate, a chromium plating steel plate, and a stainless steel plate. A high metal material or a steel plate combining a resin and a metal plate can be used.
In the present invention, it is particularly preferable to use a plated steel plate, a stainless steel plate, an aluminum plate, or the like having good corrosion resistance. More preferably, a steel plate in which a resin and a metal plate are combined is used.

以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例や比較例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。 Hereinafter, the present invention will be specifically described using examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to these. In the following examples and comparative examples, “part” or “%” is used, and “part by mass” or “% by mass” is expressed unless otherwise specified.

［フィルムミラーの作製］
フィルム基材１として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。
このフィルム基材１の上面に、ポリエステル樹脂（ポリエスターＳＰ−１８１、日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０、ＤＩＣ（株）製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率２０：１：１：２で、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層２を形成した。
さらに、この接着層２上に真空蒸着法により銀を厚さ８０ｎｍに成膜して、反射層３を形成した。
この反射層３上に、アクリル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率１０：２に混合し、平均粒径５μｍのゴム粒子を２０ｗｔ％含有した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、第１樹脂層５を形成した。また、この第１樹脂層５中に、腐食防止剤としてメルカプトアセテート（Ｇｌｙｃｏｌｄｉｍｅｒｃａｐｔｏａｃｅｔａｔｅ）を０．３ｇ／ｍ^２となるように添加した。
この第１樹脂層５を、厚さ４０μｍに形成したものを比較例１のフィルムミラー、厚さ７５μｍに形成したものを実施例１のフィルムミラー、厚さ１００μｍに形成したものを実施例２のフィルムミラー、厚さ１２５μｍに形成したものを実施例３のフィルムミラー、厚さ１７５μｍに形成したものを比較例２のフィルムミラー、厚さ２５０μｍに形成したものを比較例３のフィルムミラーとした。
そして、フィルム基材１の下面にラミネート剤を用いた粘着層７と、アクリルフィルムを用いた剥離シート８を積層して、フィルムミラーを作製した。 [Production of film mirror]
As the film substrate 1, a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 μm) was used.
Polyester resin (Polyester SP-181, manufactured by Nippon Synthetic Chemical), melamine resin (Super Becamine J-820, manufactured by DIC Corporation), TDI isocyanate (2,4-tri Range isocyanate) and HDMI isocyanate (1,6-hexamethylene diisocyanate) in a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 and a solid content concentration of 10%. To form an adhesive layer 2 having a thickness of 0.1 μm.
Further, the reflective layer 3 was formed by depositing silver on the adhesive layer 2 to a thickness of 80 nm by vacuum deposition.
On this reflective layer 3, an acrylic resin and a TDI (tolylene diisocyanate) isocyanate are mixed at a resin solid content ratio of 10: 2, and a resin containing 20 wt% of rubber particles having an average particle diameter of 5 μm is obtained by a gravure coating method. The first resin layer 5 was formed by coating. Further, mercaptoacetate (Glycol dimercaptoacetate) was added to the first resin layer 5 as a corrosion inhibitor so as to be 0.3 g / m ² .
The first resin layer 5 formed to a thickness of 40 μm is the film mirror of Comparative Example 1, the one formed to a thickness of 75 μm is the film mirror of Example 1, and the one formed to a thickness of 100 μm is that of Example 2. A film mirror having a thickness of 125 μm was used as the film mirror in Example 3, a film mirror having a thickness of 175 μm was used as a film mirror in Comparative Example 2, and a film mirror having a thickness of 250 μm was used as a film mirror in Comparative Example 3.
And the adhesive layer 7 which used the laminating agent and the peeling sheet 8 which used the acrylic film were laminated | stacked on the lower surface of the film base material 1, and the film mirror was produced.

［太陽熱発電用フィルムミラーの評価］
上記のように作製した太陽熱発電用のフィルムミラー（比較例１〜３、実施例１〜３）について、下記の方法に従って、正反射率と扱い易さについて評価した。 [Evaluation of film mirrors for solar power generation]
About the film mirror (Comparative Examples 1-3, Examples 1-3) for solar power generation produced as mentioned above, according to the following method, the regular reflectance and the ease of handling were evaluated.

［正反射率の測定］
日立製作所社製の分光光度計「Ｕ−４１００」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを用いて、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
◎：正反射率の平均値が、９５％以上である
○：正反射率の平均値が、９３％以上、９５％未満である
×：正反射率の平均値が、９３％未満である [Measurement of regular reflectance]
Using a spectrophotometer "U-4100" manufactured by Hitachi, Ltd. with an integrating sphere reflection accessory attached, adjust the incident angle of incident light to 5 ° with respect to the normal of the reflecting surface. Then, the regular reflectance at a reflection angle of 5 ° was measured. Evaluation was measured as an average reflectance from 350 nm to 700 nm.
A: The average value of regular reflectance is 95% or more. B: The average value of regular reflectance is 93% or more and less than 95%. X: The average value of regular reflectance is less than 93%.

［扱い易さ］
長さ１ｍのフィルムミラーを直径１０ｃｍの円筒形状に巻き取る際の巻き取り易さについて検証した。
○：緩むことなく容易に巻き取れ、巻き取った後ロール状のフィルムミラーの間に隙間がない。
×：剛性があり、巻き取り難く、巻き取った後ロール状のフィルムミラーの間に隙間がある。 [Ease of handling]
It verified about the ease of winding up when winding a 1-m-long film mirror in the cylindrical shape of diameter 10cm.
○: It can be easily wound up without loosening, and there is no gap between the roll-shaped film mirrors after winding.
X: Rigid, difficult to wind, and there is a gap between the roll-shaped film mirrors after winding.

各項目についての評価結果を表１に示す。 The evaluation results for each item are shown in Table 1.

表１に示した評価結果から明らかなように、本発明に係るフィルムミラーを具体的に例示した実施例１〜３の各種特性は、比較例１〜３に対して優れていることが分かる。
例えば、反射率の測定結果によれば、ゴム粒子を２０ｗｔ％含有している第１樹脂層５の厚みが、７５μｍ以上１７５μｍ以下であるフィルムミラーの反射率が良好であることがわかる。これは第１樹脂層５の厚みが７５μｍ以上であれば、第１樹脂層５と反射層３を密着させた際に、反射層３の反射面の平滑性を乱さずに反射層３の反射率を悪化させることなく、第１樹脂層５を設けることができたことによる。また、第１樹脂層５の厚みが１７５μｍを超えて２５０μｍと厚すぎると、層内での光吸収や散乱の影響が大きくなり、反射率は低下してしまう。
また、扱い易さの評価結果によれば、第１樹脂層５の厚みが１２５μｍを超えてしまうと、第１樹脂層５の剛性が高くなり過ぎ、フィルムミラーのコシが強くなり過ぎて巻き取り難くなってしまい、巻き取ったフィルムミラーのロールに隙間が見られた。
したがって、第１樹脂層５の厚みは、７５μｍ以上１２５μｍ以下であることが好ましいことがわかる。 As is apparent from the evaluation results shown in Table 1, it can be seen that the various characteristics of Examples 1 to 3 specifically illustrating the film mirror according to the present invention are superior to those of Comparative Examples 1 to 3.
For example, according to the reflectance measurement result, it can be seen that the reflectance of a film mirror in which the thickness of the first resin layer 5 containing 20 wt% of rubber particles is 75 μm or more and 175 μm or less is good. If the thickness of the 1st resin layer 5 is 75 micrometers or more, when the 1st resin layer 5 and the reflection layer 3 are closely_contact | adhered, reflection of the reflection layer 3 will not be disturbed, without disturbing the smoothness of the reflective surface of the reflection layer 3. This is because the first resin layer 5 could be provided without deteriorating the rate. Moreover, when the thickness of the 1st resin layer 5 exceeds 175 micrometers and is too thick with 250 micrometers, the influence of the light absorption and scattering in a layer will become large, and a reflectance will fall.
Further, according to the evaluation result of ease of handling, when the thickness of the first resin layer 5 exceeds 125 μm, the rigidity of the first resin layer 5 becomes too high, and the stiffness of the film mirror becomes too strong to wind up. It became difficult, and a gap was seen in the roll of the film mirror that was wound up.
Therefore, it can be seen that the thickness of the first resin layer 5 is preferably 75 μm or more and 125 μm or less.

以上のように、本発明に係るフィルムミラー１０、１１であれば、軽量で柔軟性があり、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラーとして使用でき、且つコストを抑えて効率よく製造することができる。
特に、第１樹脂層５と剥離シート８の少なくとも一方が、所定量の微粒子を含有し、その厚みが７５μｍ以上１２５μｍ以下であることにより、好適な反射率を有するとともに、フィルムミラーの表裏が貼り付き難い構成になっているので、例えば、ロール・トゥ・ロール式でフィルムミラーを製造することが可能であるため、生産効率よくフィルムミラーを製造することができ、そのフィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を作製することができる。 As described above, the film mirrors 10 and 11 according to the present invention can be used as a film mirror that is lightweight and flexible, and has a good regular reflectance with respect to sunlight, and can efficiently reduce the cost. Can be manufactured.
In particular, at least one of the first resin layer 5 and the release sheet 8 contains a predetermined amount of fine particles and has a thickness of 75 μm or more and 125 μm or less. Since it is difficult to attach, for example, it is possible to manufacture a film mirror with a roll-to-roll method, so it is possible to manufacture a film mirror with high production efficiency, and solar power generation using the film mirror A reflective apparatus can be produced.

なお、微粒子を含有する第１樹脂層５や剥離シート８が反射層３に隣接するフィルムミラーや、微粒子を含有する第１樹脂層５や剥離シート８が１層介して反射層３に積層されているフィルムミラーほど、その微粒子に起因する構成層の凹凸が反射層３の反射面の平滑性に影響を及ぼし易いので、所定量の微粒子を含有する第１樹脂層５や剥離シート８の厚みを７５μｍ以上１２５μｍ以下にすることによる本発明の効果は、フィルムミラー１０のような構成層が最低限の４層構成であるものほど、顕著に表れるといえる。
つまり、第１樹脂層５、反射層３、粘着層７、剥離シート８の４層以外の他の構成層が少ないフィルムミラーほど、本発明を適用することでの効果が顕著に表れるといえる。
また、第１樹脂層５と反射層３の間に他の構成層が設けられる場合や、反射層３と粘着層７の間に他の構成層が設けられる場合でも、その間の構成層の厚みが薄いものであるほど、本発明を適用することでの効果が顕著に表れるといえる。 The first resin layer 5 containing fine particles and the release sheet 8 are laminated on the reflective layer 3 through a film mirror adjacent to the reflective layer 3 and the first resin layer 5 containing fine particles and the release sheet 8 are laminated through one layer. The thickness of the first resin layer 5 and the release sheet 8 containing a predetermined amount of fine particles is more prone to affect the smoothness of the reflective surface of the reflective layer 3 due to the unevenness of the constituent layer caused by the fine particles. It can be said that the effect of the present invention by setting the thickness to 75 μm or more and 125 μm or less becomes more prominent as the configuration layer such as the film mirror 10 has a minimum four-layer configuration.
That is, it can be said that the effect of applying the present invention becomes more prominent as the film mirror has fewer constituent layers other than the first resin layer 5, the reflective layer 3, the adhesive layer 7, and the release sheet 8.
Even when another constituent layer is provided between the first resin layer 5 and the reflective layer 3 or when another constituent layer is provided between the reflective layer 3 and the adhesive layer 7, the thickness of the constituent layer therebetween It can be said that the thinner the film is, the more remarkable the effect of applying the present invention.

１フィルム基材（第３樹脂層）
２接着層
３反射層
４保護層
５第１樹脂層
６ハードコート層
７粘着層
８剥離シート（第２樹脂層）
９金属基材（支持基材）
１０、１１フィルムミラー
２０、２１太陽熱発電用反射装置 1 Film base (third resin layer)
2 Adhesive layer 3 Reflective layer 4 Protective layer 5 First resin layer 6 Hard coat layer 7 Adhesive layer 8 Release sheet (second resin layer)
9 Metal substrate (support substrate)
10, 11 Film mirror 20, 21 Reflector for solar power generation

Claims

A film mirror comprising at least a reflective layer and an adhesive layer between the first resin layer and the second resin layer,
The first resin layer is provided in the outermost layer or the second layer on the light reflection side of the reflection layer, and the second resin layer is adjacent to the adhesive layer and opposite to the light reflection side of the reflection layer. On the outermost layer or the second layer on the side,
At least one of the first resin layer and the second resin layer contains a predetermined amount of fine particles and has a thickness of 75 μm or more and 125 μm or less.

The first resin layer and the reflective layer are laminated adjacent to each other, or are laminated through at least two constituent layers therebetween,
2. The film mirror according to claim 1, wherein the adhesive layer and the reflective layer are laminated adjacent to each other, or are laminated through at least two constituent layers therebetween.

3. The film mirror according to claim 1, wherein a third resin layer is provided between the adhesive layer and the reflective layer without adhering the adhesive layer and the reflective layer.

The first resin layer is provided as a second layer on the light reflection side of the reflection layer,
The film mirror according to any one of claims 1 to 3, wherein a hard coat layer having a thickness equal to or smaller than a particle size of the fine particles is provided on a surface of the first resin layer.

5. The solar power generation, wherein the adhesive layer formed by peeling and exposing the second resin layer in the film mirror according to claim 1 is attached to a support base material. Reflector.