JP2012216823A - ガス吐出機能付電極およびプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複数のガス穴54を有するベース材52と、ベース材52の複数のガス穴54のそれぞれに対して1対1で対応するガス穴53を複数有し、ベース材52に固定されて被処理体をプラズマ処理する処理空間に面して配置される電極カバー部材51と、を含み、電極カバー部材51のガス穴径を、ベース材52のガス穴径よりも大きくする。
【選択図】図3
Description
図3は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第1の実施形態の一例を示している。
図4は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第2の実施形態の一例を示している。
図5は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第3の実施形態の一例を示している。
<第1例>
図6は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第4の実施形態の第1例を示している。
図7は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第4の実施形態の第2例を示している。
図8は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第4の実施形態の第3例を示している。
図9は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第4の実施形態の第4例を示している。
<第1例>
図10Aは図2中の破線枠III内を処理空間側から見た拡大平面図、図10Bは図10A中の10B−10B線に沿う断面図であり、ガス吐出機能付電極の第5の実施形態の第1例を示している。
図11は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第5の実施形態の第2例を示している。
図12Aは図2中の破線枠III内を処理空間側から見た拡大図、図12Bは図12A中の12B−12B線に沿う断面図であり、ガス吐出機能付電極の第5の実施形態の第3例を示している。
図13Aは図2中の破線枠III内を処理空間側から見た拡大平面図、図13Bは図13A中の13B−13B線に沿う断面図であり、ガス吐出機能付電極の第5の実施形態の第4例を示している。
図14は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第5の実施形態の第5例を示している。
図15は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第5の実施形態の第6例を示している。
図16は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第5の実施形態の第7例を示している。
図17は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第6の実施形態の一例を示している。
図18は、図2中の破線枠III内を拡大して示す拡大図であり、ガス吐出機能付電極の第7の実施形態の一例を示している。
クリーニングガス : N2(不活性ガス)
クリーニングガス流量: 2000〜10000sccm
クリーニング時間 : 1sec〜10min (好ましくは1sec〜3min)
クリーニング温度 : 室温〜300℃ (室温は25℃)
処理空間の状態 : ノンプラズマ状態
である。このように、NPPC処理においては、特に、クリーニングガスを2000sccm〜10000といった大流量で急激に処理室2内に一気に導入する。上記実施形態に係るガス吐出機能付電極は、プラズマ処理装置に、例えば、NPPC処理のシーケンスを適用する場合において、特に、有用である。
NF3/O2/He
NF3/O2/Ar
NF3/He
NF3/Ar
COF2/He
COF2/Ar
CF4/He
CF4/Ar
CF4/O2/He
CF4/O2/Ar
等の混合ガスを例示することができる。
その他、この発明はその要旨を逸脱しない範囲で様々に変形することができる。
Claims (26)
- プラズマ処理装置に使用され、被処理体を載置する電極に対向して配置されるガス吐出機能付電極であって、
複数のガス穴を有するベース材と、
前記ベース材の複数のガス穴のそれぞれに対して1対1で対応するガス穴を複数有し、前記ベース材に固定されて前記被処理体をプラズマ処理する処理空間に面して配置される電極カバー部材と、を含み、
前記電極カバー部材のガス穴径が、前記ベース材のガス穴径よりも大きいことを特徴とするガス吐出機能付電極。 - 前記電極カバー部材のガス穴径が、前記ベース材のガス穴径の1.5倍以上3倍以下であることを特徴とする請求項1に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記電極カバー部材のガス穴径が、1mm以上2mm以下であることを特徴とする請求項2に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記ベース材の前記電極カバー部材との接合面側、及び前記電極カバー部材の前記ベース材との接合面側の少なくともいずれか一方に、前記電極カバー部材のガス穴径よりも大きい凹状のクリアランス部が設けられていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記凹状のクリアランス部の外周側の深さが、前記凹状のクリアランス部の内側の深さよりも浅くされていることを特徴とする請求項4に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記ベース材のガス穴と、このガス穴に対応した前記電極カバー部材のガス穴とが、重なり合わないようにずらされていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のガス吐出機能付電極。
- プラズマ処理装置に使用され、被処理体を載置する電極に対向して配置されるガス吐出機能付電極であって、
複数のガス穴を有するベース材と、
前記ベース材の複数のガス穴のうちの1つのガス穴に対して1対多で対応するガス穴を複数含むガス穴群を複数有し、前記ベース材に固定されて前記被処理体をプラズマ処理する処理空間に面して配置される電極カバー部材と
を具備することを特徴とするガス吐出機能付電極。 - 前記ベース材の1つのガス穴と、この1つのガス穴に対応した前記電極カバー部材のガス穴群に含まれる複数のガス穴とが、重なり合わないようにずらされていることを特徴とする請求項7に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記電極カバー部材のガス穴径が前記ベース材のガス穴径以下であり、
前記電極カバー部材のガス穴群に含まれる複数のガス穴それぞれのコンダクタンスを合計した合成コンダクタンスが、前記ベース材の1つのガス穴のコンダクタンスよりも大きいことを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のガス吐出機能付電極。 - 前記電極カバー部材のガス穴径が、前記ベース材のガス穴径よりも大きいことを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記ベース材の前記電極カバー部材との接合面側、及び前記電極カバー部材の前記ベース材との接合面側の少なくともいずれか一方に、前記電極カバー部材のガス穴径よりも大きく、かつ、前記電極カバー部材のガス穴群を包含する凹状のクリアランス部が設けられていることを特徴とする請求項7から請求項10のいずれか一項に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記凹状のクリアランス部の外周側の深さが、前記凹状のクリアランス部の内側の深さよりも浅くされていることを特徴とする請求項11に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記凹状のクリアランス部の深さの浅い部分が、前記ガス穴群の外側にあることを特徴とする請求項12に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記凹状のクリアランス部の前記電極カバー部材との接合面側に、耐消耗被膜処理が施されていることを特徴とする請求項4、請求項5、請求項11、請求項12、及び請求項13のいずれか一項に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記耐消耗被膜処理により形成された被膜が、酸化イットリウム溶射被膜、アルミナ溶射被膜、フッ化イットリウム溶射被膜、及び陽極酸化被膜の少なくともいずれか一つを含むことを特徴とする請求項14に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記電極カバー部材のガス穴の、前記ベース材との接合面側に、この電極カバー部材のガス穴径よりも大きく、かつ、前記凹状のクリアランス部の穴径より小さい穴径を持つテーパ状の面取り部が設けられていることを特徴とする請求項4、請求項5、請求項11、請求項12、請求項13、請求項14、及び請求項15のいずれか一項に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記電極カバー部材が交換可能であることを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか一項に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記交換可能な電極カバー部材が脆性材により形成されていることを特徴とする請求項17に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記脆性材が、石英、アルミナ、イットリウム焼結体、窒化アルミ、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ケイ素及びフッ化カルシウムの少なくともいずれか一つを含むことを特徴とする請求項18に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記電極カバー部材の厚さが、3mm〜15mmであることを特徴とする請求項1から請求項19のいずれか一項に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記電極カバー部材のガス穴の向きが、前記電極カバー部材の途中で傾けられていることを特徴とする請求項1から請求項20のいずれか一項に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記電極カバー部材のガス穴の、前記処理空間側における向きが、前記処理空間に対して垂直であることを特徴とする請求項21に記載のガス吐出機能付電極。
- 前記ベース材のガス穴が、前記処理区空間側から見えないように、前記傾けられた電極カバー部材のガス穴の側面を利用して隠されていることを特徴とする請求項21又は請求項22に記載のガス吐出機能付電極。
- 被処理体に処理を施す処理室と、
前記処理室内に設けられ、前記被処理体を載置するとともに、電極として機能する載置台と、
前記処理室内に設けられ、前記載置台に対向して配置されたガス吐出機能付電極と、を有し、
前記ガス吐出機能付電極に、請求項1から請求項23のいずれか一項に記載されたガス吐出機能付電極が用いられていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記プラズマ処理装置は、処理中にパージ処理を行うことを特徴とする請求項24に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ処理装置は、前記処理室内のクリーニング時に、前記ガス吐出機能付電極からクリーニングガスを導入することにより発生するガス衝撃力を用いたクリーニングを行うことを特徴とする請求項24又は請求項25に記載のプラズマ処理装置。
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