JP2012211892A - Pressure sensor - Google Patents

Pressure sensor Download PDF

Info

Publication number
JP2012211892A
JP2012211892A JP2012015640A JP2012015640A JP2012211892A JP 2012211892 A JP2012211892 A JP 2012211892A JP 2012015640 A JP2012015640 A JP 2012015640A JP 2012015640 A JP2012015640 A JP 2012015640A JP 2012211892 A JP2012211892 A JP 2012211892A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diaphragm
sensor chip
gel member
transmission path
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012015640A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5418618B2 (en
Inventor
Koji Oya
晃示 大矢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Corp filed Critical Denso Corp
Priority to JP2012015640A priority Critical patent/JP5418618B2/en
Priority to DE102012204414.0A priority patent/DE102012204414B4/en
Priority to US13/424,622 priority patent/US8733175B2/en
Priority to CN201210080764.7A priority patent/CN102692295B/en
Publication of JP2012211892A publication Critical patent/JP2012211892A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5418618B2 publication Critical patent/JP5418618B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/04Means for compensating for effects of changes of temperature, i.e. other than electric compensation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/14Housings
    • G01L19/147Details about the mounting of the sensor to support or covering means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/06Means for preventing overload or deleterious influence of the measured medium on the measuring device or vice versa
    • G01L19/0681Protection against excessive heat
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/14Housings
    • G01L19/145Housings with stress relieving means

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pressure sensor capable of suppressing reduction of bond strength caused by a spark, and effectively preventing a stress by deformation of a gel member from applying to a diaphragm.SOLUTION: An opening area of a contact part with a gel member in pressure transfer paths (33, 43) is a minimum at an end part on the side of a sensor chip mounting surface (31), and larger than the opening area of the end part and a maximum at the part farthest from a diaphragm (23), and the opening area of an optional position is larger than an opening area at a position closer to the diaphragm (23) than the optional position. A support member (12) includes a first pressure transfer path (33), and has a first support member (30) for fixing a sensor chip (11) to the sensor chip mounting surface (31) through an adhesive (50). The opening area of the contact part with the gel member in the first pressure transfer path (33) is larger at the part farthest from the diaphragm (23) than at the end part on the side of the sensor chip mounting surface (31).

Description

本発明は、凹部とゲージ抵抗が形成されたダイアフラムとを有するセンサチップ、凹部に連通する圧力伝達路を有する支持部材、凹部及び圧力伝達路に一体的に充填されるゲル部材を備え、ゲル部材を介して伝達される圧力に応じてダイアフラムが変形する圧力センサに関する。   The present invention includes a sensor chip having a recess and a diaphragm in which gauge resistance is formed, a support member having a pressure transmission path communicating with the recess, a gel member that is integrally filled in the recess and the pressure transmission path, and a gel member The present invention relates to a pressure sensor in which a diaphragm is deformed in accordance with a pressure transmitted through the.

従来、例えば特許文献1に記載のように、凹部とゲージ抵抗が形成されたダイアフラムとを有するセンサチップ、凹部に連通する圧力伝達路を有する支持部材、凹部及び圧力伝達路に一体的に充填されるゲル部材を備え、ゲル部材を介して伝達される圧力に応じてダイアフラムが変形する圧力センサが知られている。   Conventionally, as described in Patent Document 1, for example, a sensor chip having a recess and a diaphragm in which a gauge resistance is formed, a support member having a pressure transmission path communicating with the recess, the recess and the pressure transmission path are integrally filled. There is known a pressure sensor that includes a gel member that deforms a diaphragm according to pressure transmitted through the gel member.

この種の圧力センサは、ディーゼルエンジン車両の排気管内に設けられた排気清浄フィルタ(DPF)の前後の差圧を測定したり、EGR雰囲気中の圧力などの測定に用いられる。このため、腐食性を有する液体やガスなどの圧力媒体からセンサチップを保護するために、上記したゲル部材を備えている。また、センサチップの凹部に水分が侵入すると、低温時に凍結して体積膨張し、ダイアフラムがダメージを受ける虞がある。このため、ゲル部材は、支持部材の圧力伝達路を介して凹部へ水分が侵入するのを防ぐ役割も果たす。   This type of pressure sensor is used to measure a differential pressure before and after an exhaust purification filter (DPF) provided in an exhaust pipe of a diesel engine vehicle, or to measure a pressure in an EGR atmosphere. For this reason, in order to protect a sensor chip from pressure media, such as a corrosive liquid and gas, the above-mentioned gel member is provided. Further, if moisture enters the recess of the sensor chip, it freezes at a low temperature and expands in volume, which may damage the diaphragm. For this reason, a gel member also plays the role which prevents a water | moisture content invading into a recessed part via the pressure transmission path of a supporting member.

特開2007−3449号公報JP 2007-3449 A

ガラスからなる支持部材(ステム)にセンサチップが陽極接合されてなる圧力センサでは、一般にステム側をグランド(低電位)、センサチップ側を高電位として陽極接合を行う。センサチップの凹部における支持部材側の開口部の径が、支持部材の圧力伝達路におけるセンサチップ側の開口部の径よりも小さく、センサチップに、圧力伝達路の内側に張り出す肩部が存在すると、陽極接合時に該肩部が避雷針のような役割を果たし、該肩部から電流が漏れる。すなわち、スパークが生じる。このため、接合強度が低下するなど、安定した陽極接合を行うことができない。   In a pressure sensor in which a sensor chip is anodically bonded to a support member (stem) made of glass, anodic bonding is generally performed with the stem side as ground (low potential) and the sensor chip side as high potential. The diameter of the opening on the support member side in the recess of the sensor chip is smaller than the diameter of the opening on the sensor chip side in the pressure transmission path of the support member, and there is a shoulder portion that protrudes inside the pressure transmission path on the sensor chip Then, at the time of anodic bonding, the shoulder acts as a lightning rod, and current leaks from the shoulder. That is, a spark occurs. For this reason, stable anodic bonding cannot be performed, for example, the bonding strength decreases.

これに対し、特許文献1には、ステムに形成された圧力伝達路におけるセンサチップ側の開口部の径が、センサチップにおける凹部の径よりも小さく、ステムに凹部の内側に張り出す肩部が存在する圧力センサが示されている。このようにステム側に肩部を設けることで、上記スパークが生じるのを防ぐことができる。   On the other hand, in Patent Document 1, the diameter of the opening on the sensor chip side in the pressure transmission path formed in the stem is smaller than the diameter of the concave portion in the sensor chip, and the shoulder portion that protrudes inside the concave portion on the stem. An existing pressure sensor is shown. Thus, by providing a shoulder on the stem side, the occurrence of the spark can be prevented.

ところで、上記圧力センサに用いられるゲル部材は、低温、例えば−30℃以下において硬くなり、その応力を緩和すべくゲル部材が移動(流動)することで、ダイアフラムに設けたゲージ抵抗の抵抗値が変化する、すなわちセンサ出力特性が変動してしまうことが知られている。また、高温環境下でゲル部材が膨張することで、センサ出力特性が変動してしまうことも考えられる。特に上記のように排気ガス環境に配置される場合、排気ガスに含まれる硝酸などの酸成分に長時間晒されると、ゲル部材の表層が硬くなる。このようにゲル部材の表層が硬くなると、表面が硬くなる前と較べて、センサ出力が特に高温で大きく変動してしまう。   By the way, the gel member used for the pressure sensor becomes hard at a low temperature, for example, −30 ° C. or less, and the gel member moves (flows) so as to relieve the stress, whereby the resistance value of the gauge resistance provided on the diaphragm is reduced. It is known that the sensor output characteristic changes. It is also conceivable that the sensor output characteristics fluctuate due to expansion of the gel member in a high temperature environment. In particular, when placed in an exhaust gas environment as described above, the surface layer of the gel member becomes hard when exposed to an acid component such as nitric acid contained in the exhaust gas for a long time. When the surface layer of the gel member becomes hard in this way, the sensor output will fluctuate greatly at a particularly high temperature compared to before the surface becomes hard.

上記したように、ステム側に肩部を有すると、凹部からステム側へゲル部材が移動する際に、ステムに対するゲル部材の粘性抵抗が大きく、これによりゲル部材の移動が阻害される。一方、センサチップ側に肩部を有する構成に較べて、ステム側から凹部へゲル部材が移動しやすくなる。したがって、ゲル部材はダイアフラム側に比較的移動しやすく、応力がダイアフラムに作用してしまう。また、特許文献1に記載の圧力センサでは、ステムに形成された貫通穴の径が、貫通方向で一定となっている。   As described above, when the shoulder portion is provided on the stem side, when the gel member moves from the concave portion to the stem side, the viscous resistance of the gel member with respect to the stem is large, thereby inhibiting the movement of the gel member. On the other hand, the gel member can easily move from the stem side to the recess as compared with the configuration having the shoulder on the sensor chip side. Therefore, the gel member is relatively easy to move to the diaphragm side, and stress acts on the diaphragm. In the pressure sensor described in Patent Document 1, the diameter of the through hole formed in the stem is constant in the through direction.

本発明は上記問題点に鑑み、スパークによる接合強度の低下を抑制するとともに、ゲル部材の変形による応力がダイアフラムに作用するのを効果的に抑制することのできる圧力センサを提供することを目的とする。   In view of the above problems, the present invention has an object to provide a pressure sensor capable of suppressing a decrease in bonding strength due to sparks and effectively suppressing stress due to deformation of a gel member from acting on a diaphragm. To do.

上記目的を達成するために請求項1に記載の圧力センサは、
一面(21)に開口する凹部(22)と、該凹部(22)の底をなすダイアフラム(23)と、該ダイアフラム(23)に形成されたゲージ抵抗(24)と、を有するセンサチップ(11)と、
センサチップ(11)の一面と対向し、センサチップ(11)が固定される搭載面(31)と、該搭載面(31)開口し、凹部(22)に連通する圧力伝達路(33,43)と、を有する支持部材(12)と、
凹部(22)から連続して圧力伝達路(33,43)における少なくとも一部まで充填され、ダイアフラム(23)を保護するゲル部材(13)と、を備え、
検出対象の圧力媒体の圧力が、ゲル部材(13)を介してダイアフラム(23)に伝達され、ダイアフラム(23)が変形することでゲージ抵抗(24)の抵抗値が変化する圧力センサであって、
支持部材(12)のセンサチップ搭載面(31)における圧力伝達路(33,43)の縁部(34)は、センサチップ(11)の一面(21)における凹部(22)を取り囲む領域(21a)と対向しており、
圧力伝達路(33,43)におけるゲル部材との接触部分の開口面積は、センサチップ搭載面(31)側の端部で最小、ダイアフラム(23)から最も離れた部分で端部の開口面積よりも大きく且つ最大とされるとともに、任意位置の開口面積が、該任意位置よりもダイアフラム(23)に近い位置の開口面積以上とされており、
支持部材(12)は、センサチップ搭載面(31)からその裏面(32)にわたって貫通するとともに、圧力伝達路(33,43)の少なくとも一部をなす第1圧力伝達路(33)を備え、接着材(50)を介してセンサチップ搭載面(31)にセンサチップ(11)が固定された第1支持部材(30)を有し、
第1圧力伝達路(33)におけるゲル部材との接触部分の開口面積は、ダイアフラム(23)から最も離れた部分のほうが、センサチップ搭載面(31)側の端部よりも大きくされており、
第1支持部材は、接着材(50)のみを介してセンサチップ(11)に固定された部品(30)で構成されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the pressure sensor according to claim 1 comprises:
A sensor chip (11) having a recess (22) that opens to one surface (21), a diaphragm (23) that forms the bottom of the recess (22), and a gauge resistor (24) formed in the diaphragm (23). )When,
A mounting surface (31) that faces one surface of the sensor chip (11) and to which the sensor chip (11) is fixed, and a pressure transmission path (33, 43) that opens to the mounting surface (31) and communicates with the recess (22). And a support member (12) having
A gel member (13) that is continuously filled from the recess (22) to at least part of the pressure transmission path (33, 43) and protects the diaphragm (23),
A pressure sensor in which the pressure of the pressure medium to be detected is transmitted to the diaphragm (23) via the gel member (13), and the resistance value of the gauge resistance (24) is changed by the deformation of the diaphragm (23). ,
The edge (34) of the pressure transmission path (33, 43) on the sensor chip mounting surface (31) of the support member (12) is a region (21a) surrounding the recess (22) on one surface (21) of the sensor chip (11). )
The opening area of the contact portion with the gel member in the pressure transmission path (33, 43) is the smallest at the end on the sensor chip mounting surface (31) side, and the opening area at the end farthest from the diaphragm (23). The opening area at an arbitrary position is equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm (23) than the arbitrary position,
The support member (12) includes a first pressure transmission path (33) that penetrates from the sensor chip mounting surface (31) to the back surface (32) and forms at least a part of the pressure transmission path (33, 43). A first support member (30) having a sensor chip (11) fixed to the sensor chip mounting surface (31) via an adhesive (50);
The opening area of the contact portion with the gel member in the first pressure transmission path (33) is larger in the portion farthest from the diaphragm (23) than the end on the sensor chip mounting surface (31) side,
The first support member is composed of a component (30) fixed to the sensor chip (11) only through the adhesive (50).

ここで、粘性抵抗は、粘性部材と接触する物体の形状にも依存する。具体的には、平面に較べて、凸部や凹部を有する構成のほうが、粘性部材との接触面積が大きくなり、粘性抵抗が大きくなる。   Here, the viscous resistance also depends on the shape of the object in contact with the viscous member. Specifically, compared with a flat surface, a configuration having a convex portion or a concave portion has a larger contact area with the viscous member and a higher viscous resistance.

本発明では、支持部材(12)のセンサチップ搭載面(31)における圧力伝達路(33,43)の縁部(34)が、センサチップ(11)の凹部(22)と対向するのではなく、センサチップ(11)の一面(21)における凹部(22)を取り囲む領域(21a)と対向している。すなわち、センサチップ搭載面(31)に平行な方向において、支持部材(12)が、凹部(22)の内側に張り出す肩部を有していない。このため、粘性部材であるゲル部材(13)が低温で硬く変形し、その変形による応力を緩和すべく移動(流動)する際に、凹部(22)から支持部材(12)の方向、すなわちダイアフラム(23)と反対の方向へ移動しやすい。また、高温環境下でゲル部材が膨張する際に、ゲル部材(13)がダイアフラム(23)と反対の方向へ移動しやすい。   In the present invention, the edge (34) of the pressure transmission path (33, 43) on the sensor chip mounting surface (31) of the support member (12) does not face the recess (22) of the sensor chip (11). This is opposed to a region (21a) surrounding the recess (22) on one surface (21) of the sensor chip (11). That is, in the direction parallel to the sensor chip mounting surface (31), the support member (12) does not have a shoulder portion that protrudes inside the recess (22). Therefore, when the gel member (13), which is a viscous member, is deformed hard at a low temperature and moves (flows) to relieve stress due to the deformation, the direction from the recess (22) to the support member (12), that is, the diaphragm. It is easy to move in the opposite direction to (23). Moreover, when a gel member expand | swells in a high temperature environment, a gel member (13) tends to move to the direction opposite to a diaphragm (23).

また、圧力伝達路(33,43)におけるゲル部材(13)との接触部分の開口面積は、センサチップ搭載面(31)側の端部で最小、ダイアフラム(23)から最も離れた部分で端部の開口面積よりも大きく且つ最大となっている。さらには、任意位置の開口面積が、該任意位置よりもダイアフラム(23)に近い位置の開口面積以上となっている。このため、ゲル部材(13)は、支持部材(12)の圧力伝達路(33,43)内を、ダイアフラム(23)と反対の方向へ移動しやすい。   Moreover, the opening area of the contact portion with the gel member (13) in the pressure transmission path (33, 43) is the minimum at the end on the sensor chip mounting surface (31) side, and the end at the portion farthest from the diaphragm (23). The opening area is larger and the maximum. Furthermore, the opening area at an arbitrary position is equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm (23) than the arbitrary position. For this reason, the gel member (13) easily moves in the direction opposite to the diaphragm (23) in the pressure transmission path (33, 43) of the support member (12).

さらに、支持部材(12)は少なくとも第1支持部材(30)を有している。この第1支持部材(30)は、接着材(50)のみを介してセンサチップ(11)に固定された部品、すなわち単一部品で構成されている。そして、第1圧力伝達路(33)におけるゲル部材(13)との接触部分の開口面積は、ダイアフラム(23)から最も離れた部分のほうが、センサチップ搭載面(31)側の端部よりも大きくなっている。このため、第1圧力伝達路(33)の開口面積が、貫通方向で一定の構成に較べて、ゲル部材(13)がダイアフラム(23)と反対の方向へ移動しやすい。   Further, the support member (12) has at least a first support member (30). This 1st support member (30) is comprised by the component fixed to the sensor chip (11) only through the adhesive material (50), ie, a single component. The opening area of the contact portion with the gel member (13) in the first pressure transmission path (33) is such that the portion farthest from the diaphragm (23) is more than the end on the sensor chip mounting surface (31) side. It is getting bigger. For this reason, the gel member (13) is likely to move in the direction opposite to the diaphragm (23) as compared with a configuration in which the opening area of the first pressure transmission path (33) is constant in the penetration direction.

本発明によれば上記相乗効果により、ゲル部材(13)の変形による応力が、ダイアフラム(23)、ひいてはゲージ抵抗(24)に作用するのを効果的に抑制することができる。   According to the present invention, due to the synergistic effect, it is possible to effectively suppress the stress due to the deformation of the gel member (13) from acting on the diaphragm (23) and thus the gauge resistance (24).

また、本発明では、センサチップ(11)が第1支持部材(30)に陽極接合されるのではなく、接着材(50)を介して固定されるため、圧力伝達路(33,43)の縁部(34)をセンサチップ(11)の一面(21)と対向させることができる。なお、このような配置を取りながら、陽極接合ではなく、接着固定としているので、スパークによる接合強度の低下を抑制することもできる。   In the present invention, the sensor chip (11) is not anodically bonded to the first support member (30), but is fixed through the adhesive (50), so that the pressure transmission path (33, 43) The edge (34) can be made to face one surface (21) of the sensor chip (11). In addition, since it is not adhesive bonding but anodic bonding while taking such arrangement | positioning, the fall of the joining strength by a spark can also be suppressed.

なお、上記した圧力伝達路(33,43)の縁部(34)とセンサチップ(11)の一面(21)における領域(21a)との位置関係は、換言すれば、圧力伝達路(33,43)の縁部(34)と、センサチップ(11)の一面(21)における凹部(22)の縁部(25)とが、センサチップ搭載面(31)に平行な方向において互いに一致する、又は、縁部(34)が縁部(25)の外側に位置するということである。   The positional relationship between the edge (34) of the pressure transmission path (33, 43) and the region (21a) on the one surface (21) of the sensor chip (11) is, in other words, the pressure transmission path (33, 43). 43) and the edge (25) of the recess (22) on one surface (21) of the sensor chip (11) coincide with each other in a direction parallel to the sensor chip mounting surface (31). Or the edge (34) is located outside the edge (25).

請求項2に記載のように、圧力伝達路(33,43)におけるゲル部材(13)との接触部分のうち、少なくとも第1圧力伝達路(33)は、ダイアフラム(23)から遠ざかるほど開口面積が大きくされた構成とすると良い。   As described in claim 2, among the contact portions with the gel member (13) in the pressure transmission path (33, 43), at least the first pressure transmission path (33) has an opening area as the distance from the diaphragm (23) increases. It is preferable to have a configuration in which is increased.

これによれば、少なくとも第1圧力伝達路(33)の開口面積が、ダイアフラム(23)から離れるほど大きいため、ダイアフラム(23)に作用する応力をより効果的に抑制することができる。   According to this, since the opening area of at least the first pressure transmission path (33) is larger as the distance from the diaphragm (23) is larger, the stress acting on the diaphragm (23) can be more effectively suppressed.

請求項3に記載のように、センサチップ(11)の内壁面(22a)はセンサチップ搭載面(31)に直交する直交方向において、ダイアフラム(23)から離れるほど凹部(22)の開口面積が大きいテーパ形状を有しており、
圧力伝達路(33,43)の内壁面(33a,43a)におけるゲル部材(13)との接触部分の直交方向に対するテーパ角度(θ2)と、凹部(22)の内壁面(22a)の直交方向に対するテーパ角度(θ1)が一致しており、
センサチップ(11)の凹部(22)の内壁面(22a)と、圧力伝達路(33,43)の内壁面(33a,43a)におけるゲル部材(13)との接触部分が、面一とされた構成とすると良い。
As described in claim 3, the inner wall surface (22 a) of the sensor chip (11) has an opening area of the recess (22) as the distance from the diaphragm (23) increases in the orthogonal direction perpendicular to the sensor chip mounting surface (31). Has a large taper shape,
The taper angle (θ2) of the inner wall surface (33a, 43a) of the pressure transmission path (33, 43) with respect to the orthogonal direction of the contact portion with the gel member (13) and the orthogonal direction of the inner wall surface (22a) of the recess (22) The taper angle (θ1) with respect to
The contact portion between the inner wall surface (22a) of the recess (22) of the sensor chip (11) and the gel member (13) on the inner wall surface (33a, 43a) of the pressure transmission path (33, 43) is made flush. It is good to have a configuration.

これによれば、凹部(22)の内壁面(22a)と圧力伝達路(33,43)の内壁面(33a,43a)におけるゲル部材(13)との接触部分とは、フラットな状態(段差のない状態)になっている。したがって、ダイアフラム(23)から離れる方向にゲル部材(13)が移動しやすい。これにより、ダイアフラム(23)に作用する応力をさらに効果的に抑制することができる。   According to this, the contact portion between the inner wall surface (22a) of the concave portion (22) and the gel member (13) on the inner wall surface (33a, 43a) of the pressure transmission path (33, 43) is in a flat state (step difference). It is a state without). Therefore, the gel member (13) easily moves in the direction away from the diaphragm (23). Thereby, the stress which acts on a diaphragm (23) can be suppressed more effectively.

請求項4に記載のように、第1圧力伝達路(33)の内壁面(33a)におけるゲル部材(13)との接触部分が、階段状とされた構成を採用しても良い。   According to a fourth aspect of the present invention, a configuration may be adopted in which the contact portion of the inner wall surface (33a) of the first pressure transmission path (33) with the gel member (13) is stepped.

このような第1支持部材(30)では、開口面積が一定の区間を、互いに開口面積が異なるように複数区間有する構成となっている。このため、ゲル部材(13)の接触部分全域が開口面積一定の第1支持部材(30)に較べて、ダイアフラム(23)から離れる方向にゲル部材(13)が移動しやすい。   Such a 1st support member (30) becomes a structure which has several area so that an opening area may mutually differ in the area where opening area is constant. For this reason, compared with the 1st support member (30) with which the contact part whole region of a gel member (13) has constant opening area, a gel member (13) moves easily in the direction away from a diaphragm (23).

請求項5に記載のように、第1支持部材(30)として、セラミック多層基板を採用するとことができる。このように、セラミック多層基板を採用すると、例えばセラミック単体に較べて、上記開口形状の第1圧力伝達路(33)を形成しやすい。   As described in claim 5, a ceramic multilayer substrate can be employed as the first support member (30). As described above, when the ceramic multilayer substrate is employed, the first pressure transmission path (33) having the opening shape can be easily formed as compared with, for example, a ceramic alone.

請求項6に記載のように、ゲル部材(13)の表面(13a)が、室温において、ダイアフラム(23)と反対に凸のメニスカス形状をなすようにすると良い。   As described in claim 6, it is preferable that the surface (13a) of the gel member (13) has a convex meniscus shape opposite to the diaphragm (23) at room temperature.

これによれば、例えば排気ガス中の酸成分により、ゲル部材(13)の表層が硬くなっても、ダイアフラム(23)と反対に凹のメニスカス形状や表面(13a)が平坦な形状のものに較べて、ダイアフラム(23)に作用する応力をより効果的に抑制することができる。   According to this, even if the surface layer of the gel member (13) becomes hard due to, for example, an acid component in the exhaust gas, the concave meniscus shape and the surface (13a) have a flat shape opposite to the diaphragm (23). In comparison, the stress acting on the diaphragm (23) can be more effectively suppressed.

請求項7に記載のように、支持部材(12)は、第1圧力伝達路(33)に連通して第1圧力伝達路(33)とともに圧力伝達路(33,43)をなす第2圧力伝達路(43)を備え、第1支持部材(30)を支持する第2支持部材(40)を有しても良い。   As described in claim 7, the support member (12) communicates with the first pressure transmission path (33) and forms a pressure transmission path (33, 43) together with the first pressure transmission path (33). You may have a 2nd support member (40) provided with a transmission path (43) and supporting a 1st support member (30).

第2支持部材(40)を有する場合、例えば請求項8に記載のように、ゲル部材(13)は、凹部(22)から連続して第1圧力伝達路(33)の少なくとも一部まで充填され、第2圧力伝達路(43)には充填されていないようにすると良い。   When the second support member (40) is provided, the gel member (13) is continuously filled from the recess (22) to at least a part of the first pressure transmission path (33), for example, as in claim 8. It is preferable that the second pressure transmission path (43) is not filled.

これによれば、例えば排気ガス中の酸成分によりゲル部材(13)の表層が硬くなっても、第2圧力伝達路(43)までゲル部材(13)が充填される構成に較べて、ダイアフラム(23)に作用する応力を抑制することができる。   According to this, even if the surface layer of the gel member (13) is hardened by, for example, an acid component in the exhaust gas, the diaphragm is compared with the configuration in which the gel member (13) is filled up to the second pressure transmission path (43). The stress acting on (23) can be suppressed.

請求項9に記載のように、ゲル部材(13)の厚さよりも、圧力伝達路(33,43)におけるゲル部材との接触部分であってダイアフラム(23)から最も離れた部分の開口径のほうが長くされた構成としても良い。   As described in claim 9, the opening diameter of the portion of the pressure transmission path (33, 43) that is in contact with the gel member and farthest from the diaphragm (23) is larger than the thickness of the gel member (13). A configuration in which the length is longer may be used.

これによれば、例えば排気ガス中の酸成分によりゲル部材(13)の表層が硬くなっても、ゲル部材(13)の厚さが開口径以上とされた構成に較べて、ダイアフラム(23)に作用する応力を抑制することができる。   According to this, even if the surface layer of the gel member (13) is hardened by an acid component in the exhaust gas, for example, the diaphragm (23) is compared with the configuration in which the thickness of the gel member (13) is equal to or larger than the opening diameter. It is possible to suppress the stress acting on.

第1実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the pressure sensor which concerns on 1st Embodiment. 比較例として、ステム側に肩部を有し、且つ、ステムの開口面積が一定の圧力センサにおいて、ゲル部材の変形状態を示す断面図である。As a comparative example, in a pressure sensor having a shoulder on the stem side and a constant opening area of the stem, it is a cross-sectional view showing a deformed state of the gel member. 図1に示す圧力センサにおいてゲル部材の変形状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the deformation | transformation state of a gel member in the pressure sensor shown in FIG. 応力解析に用いた圧力センサの概略構成を示す図であり、(a)は図1同様、センサチップ側に肩部を有するサンプル1、(b)は比較例として図2同様ステム側に肩部を有するサンプル2を示す。It is a figure which shows schematic structure of the pressure sensor used for stress analysis, (a) is the sample 1 which has a shoulder part on the sensor chip side like FIG. 1, (b) is a shoulder part on the stem side like FIG. 2 as a comparative example. Sample 2 is shown. 図4に示すサンプル1,2の応力解析結果を示す図である。It is a figure which shows the stress analysis result of the samples 1 and 2 shown in FIG. ゲル部材の厚さとダイアフラムに作用する応力の変動量との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the thickness of a gel member, and the variation | change_quantity of the stress which acts on a diaphragm. ゲル部材の表面積とダイアフラムに作用する応力の変動量との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the surface area of a gel member, and the variation | change_quantity of the stress which acts on a diaphragm. 変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a modification. 変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a modification. 変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a modification. 第2実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the pressure sensor which concerns on 2nd Embodiment. 変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a modification. 第3実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematic structure of the pressure sensor which concerns on 3rd Embodiment. 図13に示す圧力センサの製造工程のうち、ゲル部材を硬化させる工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of hardening a gel member among the manufacturing processes of the pressure sensor shown in FIG.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。なお、以下の各図相互において互いに同一もしくは均等である部分に、同一符号を付与する。また、比較例についても、本発明の実施形態と同一もしくは均等である部分に、同一符号を付与する。なお、図4では、便宜上、ステムとケースを接着する接着層を省略している。また、ゲル部材のハッチングを省略している。また、図2,図3,図8〜図10では、便宜上、ケースの図示を省略している。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is provided to the part which is mutually the same or equivalent in each figure below. Moreover, also about a comparative example, the same code | symbol is provided to the part which is the same as that of embodiment of this invention, or is equivalent. In FIG. 4, for convenience, an adhesive layer that bonds the stem and the case is omitted. Further, the hatching of the gel member is omitted. 2, 3, and 8 to 10, the case is not shown for convenience.

(第1実施形態)
本実施形態に係る圧力センサは、例えば腐食性を有する圧力媒体(液体、ガスなど)の圧力測定に用いられる。具体的には、ディーゼルエンジン車両の排気管内の排気ガスの圧力、該排気管内に設けられた排気清浄フィルタ(DPF)の前後の差圧、EGR雰囲気中の圧力などの測定に用いられる。
(First embodiment)
The pressure sensor according to the present embodiment is used, for example, for pressure measurement of a corrosive pressure medium (liquid, gas, etc.). Specifically, it is used for measuring the pressure of exhaust gas in the exhaust pipe of a diesel engine vehicle, the differential pressure before and after the exhaust purification filter (DPF) provided in the exhaust pipe, the pressure in the EGR atmosphere, and the like.

図1に一例を示すように、圧力センサ10は、要部として、凹部22を有するセンサチップ11と、このセンサチップ11を支持するとともに、圧力伝達路としての貫通孔33,43を有する支持部材12と、凹部22と貫通孔33,43の少なくとも一部に一体的に充填されたゲル部材13と、接着層50と、を備える。また、支持部材12は、第1支持部材としてのステム30を少なくとも備える。本実施形態では、支持部材12として、上記ステム30だけでなく、ステム30を搭載する第2支持部材としてのケース40も備える。なお、接着層50が、特許請求の範囲に記載の接着材に相当する。   As shown in FIG. 1, the pressure sensor 10 includes a sensor chip 11 having a recess 22 as a main part, and a support member that supports the sensor chip 11 and has through holes 33 and 43 as pressure transmission paths. 12, a gel member 13 that is integrally filled in at least part of the recess 22 and the through holes 33 and 43, and an adhesive layer 50. The support member 12 includes at least a stem 30 as a first support member. In the present embodiment, the support member 12 includes not only the stem 30 but also a case 40 as a second support member on which the stem 30 is mounted. The adhesive layer 50 corresponds to the adhesive described in the claims.

センサチップ11は、半導体基板などからなるものであり、表面20及び裏面21のうち、裏面21に開口する凹部22を有している。なお、裏面21が、特許請求の範囲に記載の一面に相当する。この凹部22は、半導体基板を裏面21側からエッチングすることで形成されている。そして、凹部22の底をなす部分、すなわち凹部22に対応する表面20側の薄肉部分がダイアフラム23となっている。   The sensor chip 11 is made of a semiconductor substrate or the like, and has a recess 22 that opens to the back surface 21 of the front surface 20 and the back surface 21. The back surface 21 corresponds to one surface described in the claims. The recess 22 is formed by etching the semiconductor substrate from the back surface 21 side. And the part which makes the bottom of the recessed part 22, ie, the thin part by the side of the surface 20 corresponding to the recessed part 22, becomes the diaphragm 23. FIG.

本実施形態では、半導体基板としてシリコン基板を採用しており、結晶面によるエッチング速度の差を利用して、凹部22が形成されている。具体的には、裏面21を(100)面とし、KOH系などのエッチング液を用いて異方性ウェットエッチングを行うことで、内壁面22aの側面を(111)面、底面を(100)面とする凹部22が形成されている。このような内壁面22aは、裏面21、すなわち(100)面に対して54.7°の角度を有している。すなわち、内壁面22aは、裏面21に垂直な方向、すなわち凹部22の深さ方向において、ダイアフラム23から離れるほど凹部22の開口面積が大きくなっている。詳しくは、上記深さ方向に対する開口面積の変化量が一定のテーパ形状を有している。   In the present embodiment, a silicon substrate is used as the semiconductor substrate, and the recess 22 is formed by utilizing the difference in etching rate depending on the crystal plane. Specifically, the back surface 21 is the (100) surface, and anisotropic wet etching is performed using an etching solution such as KOH, so that the side surface of the inner wall surface 22a is the (111) surface and the bottom surface is the (100) surface. A recess 22 is formed. Such an inner wall surface 22a has an angle of 54.7 ° with respect to the back surface 21, that is, the (100) surface. In other words, the inner wall surface 22 a has a larger opening area of the recess 22 as it moves away from the diaphragm 23 in the direction perpendicular to the back surface 21, that is, in the depth direction of the recess 22. Specifically, it has a tapered shape in which the amount of change in the opening area with respect to the depth direction is constant.

なお、図1に示す符号25は、センサチップ11の裏面21において凹部22を取り囲む領域21aのうち、凹部22の縁部(内周側縁部)としての第2内縁部である。なお、裏面21において、凹部22を取り囲む領域21aとは、センサチップ11の表面20と反対の面において、凹部22の内壁面22aを除く領域を指す。凹部22とは、センサチップ11の裏面21に開口してなるものであるため、本実施形態に示す裏面21は、凹部22の内壁面22aを含まない。このため、裏面21と裏面21における領域21aとは、実質的に等価である。   In addition, the code | symbol 25 shown in FIG. 1 is a 2nd inner edge part as an edge part (inner peripheral side edge part) of the recessed part 22 among the area | regions 21a surrounding the recessed part 22 in the back surface 21 of the sensor chip 11. FIG. In the back surface 21, the region 21 a surrounding the recess 22 refers to a region excluding the inner wall surface 22 a of the recess 22 on the surface opposite to the front surface 20 of the sensor chip 11. Since the recess 22 is formed by opening the back surface 21 of the sensor chip 11, the back surface 21 shown in the present embodiment does not include the inner wall surface 22 a of the recess 22. For this reason, the back surface 21 and the region 21a on the back surface 21 are substantially equivalent.

また、センサチップ11の表面20において、ダイアフラム23の部分には、例えば不純物を拡散してなるゲージ抵抗24が形成されている。本実施形態では、感度を大きくするために、ダイアフラム23における歪みの大きい部分、例えばダイアフラム23の周辺部に、ゲージ抵抗24が形成されている。このゲージ抵抗24は、少なくとも4個設けられており、図示しないブリッジ回路を構成している。   Further, on the surface 20 of the sensor chip 11, a gauge resistor 24 formed by diffusing impurities, for example, is formed in the diaphragm 23. In the present embodiment, in order to increase the sensitivity, the gauge resistor 24 is formed in a portion of the diaphragm 23 where the distortion is large, for example, the peripheral portion of the diaphragm 23. At least four gauge resistors 24 are provided and constitute a bridge circuit (not shown).

このように、本実施形態のセンサチップ11は、半導体式のセンサチップとして構成され、ゲージ抵抗効果によって、印加された圧力に応じた信号が出力されるようになっている。具体的には、圧力媒体の圧力が、貫通孔33,43を通じてゲル部材13に伝達され、このゲル部材13を介してダイアフラム23に伝達される。すると、ダイアフラム23は、その圧力によって歪み(変形し)、ピエゾ抵抗効果によりゲージ抵抗24の抵抗値が変化する。そして、ゲージ抵抗24からなるブリッジ回路によって、ダイアフラム23の歪に応じた信号、すなわち、印加された圧力値に応じたレベルの信号が出力されるようになっている。   As described above, the sensor chip 11 of the present embodiment is configured as a semiconductor sensor chip, and a signal corresponding to the applied pressure is output by the gauge resistance effect. Specifically, the pressure of the pressure medium is transmitted to the gel member 13 through the through holes 33 and 43, and is transmitted to the diaphragm 23 through the gel member 13. Then, the diaphragm 23 is distorted (deformed) by the pressure, and the resistance value of the gauge resistor 24 changes due to the piezoresistance effect. A bridge circuit composed of the gauge resistor 24 outputs a signal corresponding to the strain of the diaphragm 23, that is, a signal having a level corresponding to the applied pressure value.

このセンサチップ11は、裏面21の少なくとも一部を固定部位として、ステム30のセンサチップ搭載面31上に載置されている。そして、凹部22を取り囲んで配置された接着層50により、ステム30に固定されている。本実施形態では、接着層50として、接着フィルムを採用している。このように、予めフィルム化された接着層50を採用すると、液状の接着材を、熱や光などにより硬化させて接着層50とする例のように、凹部22内へ接着材が垂れ込み、ダイアフラム23に付着するなどの不具合が生じるのを抑制することができる。また、接着層50として所定厚さを確保することができる。   The sensor chip 11 is placed on the sensor chip mounting surface 31 of the stem 30 with at least a part of the back surface 21 as a fixed part. And it is being fixed to the stem 30 by the contact bonding layer 50 arrange | positioned surrounding the recessed part 22. FIG. In the present embodiment, an adhesive film is employed as the adhesive layer 50. As described above, when the adhesive layer 50 formed in advance is employed, the adhesive sags into the recess 22 as in the example in which the liquid adhesive is cured by heat or light to form the adhesive layer 50. Generation | occurrence | production of malfunctions, such as adhering to the diaphragm 23, can be suppressed. In addition, a predetermined thickness can be secured as the adhesive layer 50.

ステム30は、台座とも言われるものであり、センサチップ11の裏面21と対向するセンサチップ搭載面31と、該センサチップ搭載面31に開口する第1圧力伝達路としての貫通孔33と、を有する。この貫通孔33は、センサチップ搭載面31からその裏面32にわたって貫通しており、ステム30に接着固定されたセンサチップ11の凹部22と連通している。   The stem 30 is also referred to as a pedestal, and includes a sensor chip mounting surface 31 that faces the back surface 21 of the sensor chip 11 and a through hole 33 as a first pressure transmission path that opens in the sensor chip mounting surface 31. Have. The through-hole 33 penetrates from the sensor chip mounting surface 31 to the back surface 32 thereof, and communicates with the recess 22 of the sensor chip 11 that is bonded and fixed to the stem 30.

ステム30の構成材料としては、線膨張係数がセンサチップ11を構成する基板と近く、さらに用途によっては耐熱性を有するものが好ましい。例えばアルミナ(Al)などのセラミックス、42アロイやCuなどの金属、PPSやPBTなどの樹脂、ガラスを採用することができる。本実施形態では、ステム30として、セラミック基板を4層積層してなるセラミック多層基板を採用している。 The constituent material of the stem 30 is preferably a material having a linear expansion coefficient close to that of the substrate constituting the sensor chip 11 and having heat resistance depending on the application. For example, ceramics such as alumina (Al 2 O 3 ), metals such as 42 alloy and Cu, resins such as PPS and PBT, and glass can be employed. In the present embodiment, a ceramic multilayer substrate formed by laminating four layers of ceramic substrates is employed as the stem 30.

また、ステム30のセンサチップ搭載面31のうち、貫通孔33を取り囲む第1内縁部34は、センサチップ11の裏面21(領域21a)に対向している。ここで、第1内縁部34とは、特許請求の範囲に記載の圧力伝達路の縁部に相当する。なお、第1内縁部34とセンサチップ11の裏面21との位置関係は、換言すれば、第1内縁部34と、センサチップ11の第2内縁部25とが、センサチップ搭載面31に平行な方向において互いに一致する、又は、第1内縁部34が第2内縁部25の外側に位置するということである。又は、センサチップ搭載面31に開口する貫通孔33の開口形状は、裏面21に開口する凹部22の開口形状を取り囲むように同等以上に形成されているということである。   In addition, of the sensor chip mounting surface 31 of the stem 30, the first inner edge portion 34 that surrounds the through hole 33 faces the back surface 21 (region 21 a) of the sensor chip 11. Here, the 1st inner edge part 34 is corresponded to the edge part of the pressure transmission path as described in a claim. The positional relationship between the first inner edge portion 34 and the back surface 21 of the sensor chip 11 is, in other words, the first inner edge portion 34 and the second inner edge portion 25 of the sensor chip 11 being parallel to the sensor chip mounting surface 31. Or the first inner edge 34 is located outside the second inner edge 25. Alternatively, the opening shape of the through hole 33 that opens in the sensor chip mounting surface 31 is equal to or greater than the opening shape of the recess 22 that opens in the back surface 21.

また、貫通孔33におけるゲル部材13との接触部分の開口面積は、センサチップ搭載面31側の端部、すなわち第1内縁部34で最小となっている。また、貫通孔33におけるゲル部材13との接触部分の開口面積は、ダイアフラム23から最も離れた部分のほうが、第1内縁部34よりも大きくなっている。さらには、任意位置の開口面積が、該任意位置よりもダイアフラム23に近い位置の開口面積以上となっている。   Further, the opening area of the contact portion with the gel member 13 in the through hole 33 is the smallest at the end on the sensor chip mounting surface 31 side, that is, the first inner edge 34. Further, the opening area of the contact portion with the gel member 13 in the through hole 33 is larger than the first inner edge portion 34 in the portion farthest from the diaphragm 23. Furthermore, the opening area at an arbitrary position is equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm 23 than the arbitrary position.

本実施形態では、第1内縁部34がその全周で第2内縁部25の外側に位置している。そして、貫通孔33の内壁面33aにおけるゲル部材13との接触部分が階段状とされ、これにより貫通孔33の開口面積は、多段に設定されている。本実施形態では、上記したようにステム30としてセラミック多層基板を採用しており、ステム30を構成する各セラミック基板に貫通孔が形成されている。そして、各セラミック基板の貫通孔の開口面積を、ケース40側ほど大きくように互いに異ならせることで、内壁面33aが階段状となっている。   In the present embodiment, the first inner edge portion 34 is located outside the second inner edge portion 25 on the entire circumference. And the contact part with the gel member 13 in the inner wall surface 33a of the through-hole 33 is made into step shape, and, thereby, the opening area of the through-hole 33 is set in multiple steps. In the present embodiment, as described above, the ceramic multilayer substrate is adopted as the stem 30, and through holes are formed in each ceramic substrate constituting the stem 30. And the inner wall surface 33a is made into step shape by making the opening area of the through-hole of each ceramic board | substrate different from each other so that it may become large toward the case 40 side.

なお、接着層50における内周面は、ステム30構成するセラミック多層基板のうち、センサチップ11側のセラミック基板の端面と面一となっており、接着層50は、センサチップ11の裏面21のうち、第2内縁部25から一部の範囲を除く部分と接触している。このため、内壁面33a及び接着層50の内周面よりも、センサチップ11の第2内縁部25のほうが内側に位置しており、センサチップ11の裏面21(領域21a)の一部が、ステム30及び接着層50に対して露出している。   The inner peripheral surface of the adhesive layer 50 is flush with the end surface of the ceramic substrate on the sensor chip 11 side of the ceramic multilayer substrate constituting the stem 30, and the adhesive layer 50 is on the back surface 21 of the sensor chip 11. Of these, the second inner edge portion 25 is in contact with a portion excluding a part of the range. For this reason, the second inner edge 25 of the sensor chip 11 is located on the inner side than the inner peripheral surface of the inner wall surface 33a and the adhesive layer 50, and a part of the back surface 21 (region 21a) of the sensor chip 11 is The stem 30 and the adhesive layer 50 are exposed.

このステム30は、裏面32側がケース40に向き合うように、ケース40のステム搭載面41上に載置されるとともに、接着層51によりケース40に固定されている。すなわち、ケース40とセンサチップ11の間には、接着層50、ステム30、及び接着層51が介在されている。   The stem 30 is placed on the stem mounting surface 41 of the case 40 so that the back surface 32 faces the case 40 and is fixed to the case 40 by an adhesive layer 51. That is, the adhesive layer 50, the stem 30, and the adhesive layer 51 are interposed between the case 40 and the sensor chip 11.

ケース40は、圧力センサ10を車両の排気系の適所に取り付けるための取付部としての機能を果たすものであり、ステム搭載面41とその裏面42とにわたって貫通する、第2圧力伝達路としての貫通孔43を有する。この貫通孔43は、ケース40に接着固定されたステム30の貫通孔33と連通している。また、このケース40は、図示しない外部接続用の端子を有している。   The case 40 functions as an attachment portion for attaching the pressure sensor 10 to an appropriate position in the exhaust system of the vehicle, and penetrates through the stem mounting surface 41 and its back surface 42 as a second pressure transmission path. A hole 43 is provided. The through hole 43 communicates with the through hole 33 of the stem 30 that is bonded and fixed to the case 40. The case 40 has an external connection terminal (not shown).

また、ステム搭載面41において貫通孔43の縁部である第3内縁部44が、センサチップ搭載面31に平行な方向において、ステム30の裏面32において貫通孔33の縁部である第4内縁部35の外側に位置している。そして、貫通孔43は、その開口面積がセンサチップ搭載面31(ステム搭載面41)に垂直な方向において一定のストレート形状となっている。このように、貫通孔43の開口面積のほうが、貫通孔33の開口面積よりも大きくなっている。   In addition, the third inner edge 44 that is the edge of the through hole 43 on the stem mounting surface 41 is the fourth inner edge that is the edge of the through hole 33 on the back surface 32 of the stem 30 in the direction parallel to the sensor chip mounting surface 31. It is located outside the portion 35. The through hole 43 has a constant straight shape in the direction perpendicular to the sensor chip mounting surface 31 (stem mounting surface 41). Thus, the opening area of the through hole 43 is larger than the opening area of the through hole 33.

ケース40の構成材料としては、PPSやPBTなどの樹脂にて成形されたものからなり、さらに、ターミナルなどの端子がインサート成形されたものを採用することができる。また、ケース40の端子とセンサチップ11とは、図示しないボンディングワイヤなどにより電気的に接続されている。   As a constituent material of the case 40, a material formed of a resin such as PPS or PBT, and a material in which a terminal such as a terminal is insert-molded can be employed. Further, the terminal of the case 40 and the sensor chip 11 are electrically connected by a bonding wire (not shown) or the like.

このように、圧力センサ10では、ステム30及びケース40が接着層51を介して一体化され、支持部材12が構成されている。この支持部材12において、ステム30のセンサチップ搭載面31にセンサチップ11が接着固定されている。また、ステム30の貫通孔33とケース40の貫通孔43は互いに連通し、これにより支持部材12の圧力伝達路が構成されている。本実施形態では、凹部22を満たしつつ凹部22から連続して貫通孔33にゲル部材13が充填されている。すなわち、ケース40を有しつつも、貫通孔43の内壁面43aにはゲル部材13が接触しておらず、凹部22と貫通孔33、すなわち圧力伝達路33,43の一部に、ゲル部材13が一体的に充填されている。   As described above, in the pressure sensor 10, the stem 30 and the case 40 are integrated via the adhesive layer 51, and the support member 12 is configured. In the support member 12, the sensor chip 11 is bonded and fixed to the sensor chip mounting surface 31 of the stem 30. Further, the through hole 33 of the stem 30 and the through hole 43 of the case 40 communicate with each other, thereby forming a pressure transmission path of the support member 12. In this embodiment, the gel member 13 is filled in the through-hole 33 continuously from the recess 22 while filling the recess 22. That is, the gel member 13 is not in contact with the inner wall surface 43 a of the through hole 43 while having the case 40, and the gel member is formed in the recess 22 and the through hole 33, that is, in part of the pressure transmission paths 33 and 43. 13 is integrally filled.

そして、圧力伝達路33,43におけるゲル部材13との接触部分において、その開口面積は、ステム30の第1内縁部34で最小となっている。また、ダイアフラム23から最も離れた部分、具体的には、図1に示すように、センサチップ11側から3層目のセラミック基板の端面で最大となっている。さらには、任意位置の開口面積が、該任意位置よりもダイアフラム23に近い位置の開口面積以上となっている。   In the contact portions of the pressure transmission paths 33 and 43 with the gel member 13, the opening area is minimized at the first inner edge 34 of the stem 30. Further, it is the largest at the end face of the third layer ceramic substrate from the sensor chip 11 side, as shown in FIG. Furthermore, the opening area at an arbitrary position is equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm 23 than the arbitrary position.

また、本実施形態では、圧力伝達路33,43の開口面積が、ステム30の第1内縁部34で最小、貫通孔43の内壁面43aで最大となっている。詳しくは、開口面積の関係が、第2内縁部25<第1内縁部34<第4内縁部35<第3内縁部44となっている。さらには、任意位置の開口面積が、該任意位置よりもダイアフラム23に近い位置の開口面積以上となっている。   In the present embodiment, the opening area of the pressure transmission paths 33 and 43 is the smallest at the first inner edge 34 of the stem 30 and the largest at the inner wall surface 43 a of the through hole 43. Specifically, the relationship between the opening areas is such that the second inner edge 25 <the first inner edge 34 <the fourth inner edge 35 <the third inner edge 44. Furthermore, the opening area at an arbitrary position is equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm 23 than the arbitrary position.

ゲル部材13は、センサチップ11の特にダイアフラム23と、接着層50を保護するためのものである。このゲル部材13により、ダイアフラム23における凹部22の底面部分が被覆されている。本実施形態の圧力センサ10は、ディーゼルエンジンの排気ガス圧など、腐食性を有する圧力媒体の圧力の測定に用いられるものであるが、このゲル部材13により、腐食性の圧力媒体から、センサチップの特にダイアフラム23(凹部22の底面部分)や、接着層50が保護される。   The gel member 13 is for protecting the diaphragm 23 and the adhesive layer 50 of the sensor chip 11 in particular. The gel member 13 covers the bottom surface portion of the recess 22 in the diaphragm 23. The pressure sensor 10 of the present embodiment is used for measuring the pressure of a corrosive pressure medium such as an exhaust gas pressure of a diesel engine. In particular, the diaphragm 23 (the bottom portion of the recess 22) and the adhesive layer 50 are protected.

ゲル部材13の構成材料としては、例えばシリコーン系ゲル、フッ素系ゲル、フルオロシリコーン系ゲルなどのゲル材料を用いることができる。そして、このようなゲル材料を凹部22及び貫通孔33に注入し、硬化させることで、ゲル部材13の充填がなされている。   As a constituent material of the gel member 13, for example, a gel material such as silicone gel, fluorine gel, or fluorosilicone gel can be used. The gel member 13 is filled by injecting such a gel material into the recess 22 and the through-hole 33 and curing it.

このゲル部材13は、センサチップ11における凹部22全域と、支持部材12の圧力伝達路をなす貫通孔33,43のうち、凹部22側から少なくとも一部に一体的に充填される。本実施形態では、上記したように、凹部22から貫通孔33の途中まで連続的に充填されている。   The gel member 13 is integrally filled at least partially from the recess 22 side among the entire recess 22 in the sensor chip 11 and the through holes 33 and 43 forming the pressure transmission path of the support member 12. In the present embodiment, as described above, it is continuously filled from the recess 22 to the middle of the through hole 33.

このため、圧力センサ10において、ケース40の貫通孔43を介して、貫通孔43側に露出するゲル部材13の表面13a(受圧面)に、検出対象である圧力媒体の圧力P1が作用すると、貫通孔33及び凹部22に配置されたゲル部材13を通じてセンサチップ11のダイアフラム23に圧力が伝達される。   Therefore, in the pressure sensor 10, when the pressure P1 of the pressure medium to be detected acts on the surface 13a (pressure receiving surface) of the gel member 13 exposed to the through hole 43 side through the through hole 43 of the case 40, Pressure is transmitted to the diaphragm 23 of the sensor chip 11 through the gel member 13 disposed in the through hole 33 and the recess 22.

また、本実施形態では、ゲル部材13の表面13aが、室温で、ダイアフラム23側に凸、すなわちダイアフラム23と反対側に凹の屈曲形状、所謂メニスカス形状となっている。   Moreover, in this embodiment, the surface 13a of the gel member 13 is convex at the diaphragm 23 side at room temperature, that is, has a concave bent shape on the opposite side to the diaphragm 23, that is, a so-called meniscus shape.

次に、本実施形態に係る圧力センサ10の特徴部分の効果について説明する。   Next, the effect of the characteristic part of the pressure sensor 10 according to the present embodiment will be described.

先ず、本実施形態では、ステム30のセンサチップ搭載面31における第1内縁部34が、センサチップ11の凹部22と対向するのではなく、センサチップ11の裏面21、すなわち領域21aと対向している点を特徴とする。換言すれば、センサチップ搭載面31に平行な方向において、ステム30が、凹部22の内側に張り出す肩部を有さない構成となっている。   First, in the present embodiment, the first inner edge 34 of the sensor chip mounting surface 31 of the stem 30 does not face the recess 22 of the sensor chip 11 but faces the back surface 21 of the sensor chip 11, that is, the region 21a. It is characterized by that. In other words, in the direction parallel to the sensor chip mounting surface 31, the stem 30 does not have a shoulder portion that protrudes inside the recess 22.

このように、肩部を有さない構成とできるのは、センサチップ11をステム30に陽極接合するのではなく、接着層50を介して固定するからである。なお、陽極接合の場合、センサチップ11において、圧力伝達路をなす貫通孔33の内側に張り出す肩部が存在すると、該肩部が避雷針のような役割を果たし、該肩部から電流が漏れる。すなわちスパークが生じる。このため、支持部材12が凹部22の内側に張り出す肩部を有する構成としなければならない。   In this way, the reason why the sensor chip 11 does not have a shoulder portion is that the sensor chip 11 is not anodically bonded to the stem 30 but is fixed through the adhesive layer 50. In the case of anodic bonding, if there is a shoulder portion that protrudes inside the through hole 33 forming the pressure transmission path in the sensor chip 11, the shoulder portion functions as a lightning rod, and current leaks from the shoulder portion. . That is, a spark occurs. For this reason, the support member 12 must have a shoulder portion that protrudes inside the recess 22.

ここで、粘性抵抗は、材料固有の粘性係数(粘性率とも言う)に比例するとともに、粘性部材と接触する物体の形状にも依存する。具体的には、平面に較べて、凸部や凹部を有する構成のほうが、粘性部材との接触面積が大きくなり、粘性抵抗が大きくなる。   Here, the viscous resistance is proportional to the inherent viscosity coefficient (also referred to as the viscosity), and also depends on the shape of the object in contact with the viscous member. Specifically, compared with a flat surface, a configuration having a convex portion or a concave portion has a larger contact area with the viscous member and a higher viscous resistance.

粘性部材であるゲル部材13は、例えば低温(例えば−30℃以下)で硬く変形する。そして、この変形による応力を緩和すべく移動(流動)する。図2に比較例として示す圧力センサ10では、ステム30が、凹部22の内側に張り出す肩部を有する。換言すれば、ステム30のセンサチップ搭載面31における第1内縁部34が、センサチップ11の裏面21における第2内縁部25よりも内側に位置して、センサチップ11の凹部22と対向している。このように、ステム30に肩部を有するため、凹部22からダイアフラム23と反対の方向へのゲル部材13が移動する際に、ステム30に対するゲル部材13の粘性抵抗が大きい。このため、ダイアフラム23と反対方向へのゲル部材13の移動が阻害される。一方、貫通孔33から凹部22へのゲル部材13の移動に対しては、ステム30側に肩部を有するため、凹部22からダイアフラム23と反対の方向への移動に較べて粘性抵抗は小さい。このため、ゲル部材13はダイアフラム23を圧迫し、図2に白抜き矢印で示すように応力がダイアフラム23に作用してダイアフラム23がステム30と反対方向に撓んでしまう(歪んでしまう)。なお、高温環境下でゲル部材13が膨張する場合も同様である。   The gel member 13 that is a viscous member deforms hard at a low temperature (for example, −30 ° C. or lower). And it moves (flows) so as to relieve the stress caused by this deformation. In the pressure sensor 10 shown as a comparative example in FIG. 2, the stem 30 has a shoulder portion that protrudes inside the recess 22. In other words, the first inner edge 34 on the sensor chip mounting surface 31 of the stem 30 is positioned on the inner side of the second inner edge 25 on the back surface 21 of the sensor chip 11 and faces the recess 22 of the sensor chip 11. Yes. Thus, since the stem 30 has the shoulder portion, the viscous resistance of the gel member 13 with respect to the stem 30 is large when the gel member 13 moves from the concave portion 22 in the direction opposite to the diaphragm 23. For this reason, the movement of the gel member 13 in the opposite direction to the diaphragm 23 is hindered. On the other hand, with respect to the movement of the gel member 13 from the through hole 33 to the recess 22, since the shoulder portion is provided on the stem 30 side, the viscous resistance is smaller than the movement in the direction opposite to the diaphragm 23 from the recess 22. For this reason, the gel member 13 presses against the diaphragm 23, and stress acts on the diaphragm 23 as shown by the white arrow in FIG. 2, so that the diaphragm 23 is bent (distorted) in the opposite direction to the stem 30. The same applies when the gel member 13 expands in a high temperature environment.

これに対し、本実施形態では、図3に示すように、ステム30が凹部22の内側に出っ張る肩部を有していない。このため、肩部による粘性抵抗の増加が抑制され、凹部22からステム30の方向、すなわちダイアフラム23と反対の方向へゲル部材13が移動しやすい。一方、貫通孔33から凹部22側へのゲル部材13の移動に対しては、センサチップ11側に肩部を有するため、凹部22からダイアフラム23と反対の方向への移動に較べて、粘性抵抗は大きくなる。このように図2に示す構成に較べてダイアフラム23と反対の方向へゲル部材13が移動しやすい。このため、ダイアフラム23と反対の方向へのゲル部材13の移動により、ゲル部材13の応力が緩和される。そして、ゲル部材13の変形による応力が、ダイアフラム23、ひいてはゲージ抵抗24に作用するのを効果的に抑制することができる。   On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 3, the stem 30 does not have a shoulder that protrudes inside the recess 22. For this reason, an increase in the viscous resistance due to the shoulder is suppressed, and the gel member 13 easily moves from the recess 22 toward the stem 30, that is, in the direction opposite to the diaphragm 23. On the other hand, for the movement of the gel member 13 from the through hole 33 to the concave portion 22 side, since the shoulder portion is provided on the sensor chip 11 side, the viscous resistance is compared with the movement from the concave portion 22 to the direction opposite to the diaphragm 23. Becomes bigger. In this way, the gel member 13 can easily move in the direction opposite to the diaphragm 23 as compared with the configuration shown in FIG. For this reason, the stress of the gel member 13 is relieved by the movement of the gel member 13 in the direction opposite to the diaphragm 23. And it can suppress effectively that the stress by the deformation | transformation of the gel member 13 acts on the diaphragm 23 and by extension, the gauge resistance 24. FIG.

なお、本発明者は、有限要素法を用いた解析(FEM解析)により、上記実施形態に示す構成の効果について確認した。図4は、解析に用いた圧力センサの概略構成を示しており、(a)は本実施形態に係る圧力センサ10同様、センサチップ11側に肩部を有するサンプル1、(b)は比較例としてステム30側に肩部を有するサンプル2を示している。図4(a)に示すサンプル1では、センサチップ11をシリコン基板、接着層50をフルオロシリコーン、ステム30をアルミナ、ケース40をPBT、ゲル部材13をヤング率0.1MPa程度のフッ素系ゲルとした。また、ステム30の開口面積を一定とし、第1内縁部34から第2内縁部25までのセンサチップ搭載面31に沿う方向の距離を0.375mmとした。また、ステム30の内壁面33aと接着層50の内周面を面一とした。   In addition, this inventor confirmed about the effect of the structure shown in the said embodiment by the analysis (FEM analysis) using the finite element method. FIG. 4 shows a schematic configuration of the pressure sensor used for the analysis. (A) is a sample 1 having a shoulder on the sensor chip 11 side, and (b) is a comparative example, like the pressure sensor 10 according to the present embodiment. The sample 2 which has a shoulder part in the stem 30 side as is shown. In sample 1 shown in FIG. 4A, the sensor chip 11 is a silicon substrate, the adhesive layer 50 is fluorosilicone, the stem 30 is alumina, the case 40 is PBT, and the gel member 13 is a fluorine-based gel having a Young's modulus of about 0.1 MPa. did. Moreover, the opening area of the stem 30 was made constant, and the distance along the sensor chip mounting surface 31 from the first inner edge portion 34 to the second inner edge portion 25 was 0.375 mm. Further, the inner wall surface 33a of the stem 30 and the inner peripheral surface of the adhesive layer 50 were flush with each other.

一方、図4(b)に示すサンプル2では、センサチップ11をシリコン基板、ステム30をガラス、ケース40をPBT、ゲル部材13をヤング率0.1MPa程度のフッ素系ゲルとした。また、第1内縁部34から第2内縁部25までのセンサチップ搭載面31に沿う方向の距離を0.7mmとし、ステム30の開口面積は一定とした。   On the other hand, in the sample 2 shown in FIG. 4B, the sensor chip 11 is a silicon substrate, the stem 30 is glass, the case 40 is PBT, and the gel member 13 is a fluorine-based gel having a Young's modulus of about 0.1 MPa. Further, the distance along the sensor chip mounting surface 31 from the first inner edge portion 34 to the second inner edge portion 25 was 0.7 mm, and the opening area of the stem 30 was constant.

また、センサチップ11の構成(ダイアフラム23の大きさ、厚さ、センサチップ11の厚さ、凹部22の大きさ及び形状)、ケース40の構成(貫通孔43の開口面積、長さ)については、各サンプルで同じとした。そして、150℃の高温から−40℃の低温に温度を変化させたときに、ダイアフラム23に発生する応力を構造解析した。この解析では、ダイアフラム23における端部23a(図4の二点鎖線)からダイアフラム23の中心CLまでを等距離で区分して、端部23aをポイント1とする1〜15の応力測定ポイントとした。   Further, regarding the configuration of the sensor chip 11 (the size and thickness of the diaphragm 23, the thickness of the sensor chip 11, the size and shape of the recess 22), and the configuration of the case 40 (opening area and length of the through-hole 43) The same for each sample. A structural analysis was performed on the stress generated in the diaphragm 23 when the temperature was changed from a high temperature of 150 ° C. to a low temperature of −40 ° C. In this analysis, the end portion 23a (two-dot chain line in FIG. 4) of the diaphragm 23 and the center CL of the diaphragm 23 are divided at equal distances, and the stress measurement points 1 to 15 having the end portion 23a as the point 1 are obtained. .

その結果を図5に示す。図5に示すように、サンプル1のほうがサンプル2に較べてダイアフラム23に発生する応力が小さいことが明らかである。なお、測定ポイント1〜15において最大発生応力は、サンプル1で−0.5MPa、サンプル2で−4.8MPaであった。このように、サンプル2の最大発生応力に対し、サンプル1の最大発生応力は約90%低減されている。この結果からも、本実施形態に示す構成によれば、ゲル部材13の変形による応力が、ダイアフラム23、ひいてはゲージ抵抗24に作用するのを効果的に抑制できることが明らかである。   The result is shown in FIG. As shown in FIG. 5, it is clear that the stress generated in the diaphragm 23 is smaller in the sample 1 than in the sample 2. The maximum stress generated at measurement points 1 to 15 was −0.5 MPa for sample 1 and −4.8 MPa for sample 2. Thus, the maximum generated stress of sample 1 is reduced by about 90% with respect to the maximum generated stress of sample 2. Also from this result, according to the configuration shown in the present embodiment, it is clear that the stress due to the deformation of the gel member 13 can be effectively suppressed from acting on the diaphragm 23 and, consequently, the gauge resistance 24.

また、本実施形態では、圧力伝達路33,43におけるゲル部材13との接触部分の開口面積が、ステム30の第1内縁部34で最小となっている。このため、センサチップ搭載面31側の端部よりもダイアフラム23と反対の方向に、センサチップ搭載面31側の端部よりも狭い部分が存在しない。また、接触部分の開口面積は、ダイアフラム23から最も離れた部分で第1内縁部34の開口面積よりも大きく且つ最大となっている。さらには、任意位置の開口面積が、該任意位置よりもダイアフラム23に近い位置の開口面積以上となっている。このため、ゲル部材13が例えば低温で硬く変形し、この変形による応力を緩和する際に、ゲル部材13が、ステム30の貫通孔33内を、ダイアフラム23と反対の方向へ移動しやすい。これにより、ダイアフラム23に作用する応力をより効果的に抑制することができる。なお、高温環境下でゲル部材13が膨張する場合も同様である。また、ゲル部材13との接触部分とは、製造時におけるゲル部材13の充填範囲ではなく、使用する温度域においてゲル部材13が取り得る範囲の最大である。実質的に高温側の使用温度上限において、膨張したゲル部材13が接触する部分である。   In the present embodiment, the opening area of the contact portion with the gel member 13 in the pressure transmission paths 33 and 43 is minimized at the first inner edge 34 of the stem 30. For this reason, there is no portion narrower than the end on the sensor chip mounting surface 31 side in the direction opposite to the diaphragm 23 than the end on the sensor chip mounting surface 31 side. Further, the opening area of the contact portion is larger than the opening area of the first inner edge 34 at the portion farthest from the diaphragm 23 and is the largest. Furthermore, the opening area at an arbitrary position is equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm 23 than the arbitrary position. For this reason, for example, when the gel member 13 is deformed hard at a low temperature and the stress due to this deformation is relieved, the gel member 13 easily moves in the through hole 33 of the stem 30 in the direction opposite to the diaphragm 23. Thereby, the stress which acts on the diaphragm 23 can be suppressed more effectively. The same applies when the gel member 13 expands in a high temperature environment. Moreover, the contact part with the gel member 13 is not the filling range of the gel member 13 at the time of manufacture, but the maximum of the range that the gel member 13 can take in the temperature range to be used. This is the portion where the expanded gel member 13 contacts at the upper limit of the use temperature at the substantially high temperature side.

また、本実施形態では、センサチップ11は、接着層50を介して、第1支持部材としてのステム30に固定されている。換言すると、第1支持部材は、接着層50のみを介してセンサチップ11が固定された部品であるステム30のみによって構成されている。そして、ステム30の貫通孔33におけるゲル部材13との接触部分の開口面積は、ダイアフラム23から最も離れた部分のほうが、第1内縁部34よりも大きくなっている。なお、上記したように、任意位置の開口面積は、該任意位置よりもダイアフラム23に近い位置の開口面積以上となっている。このため、図3に示すように、ステム30内においては、ダイアフラム23の方向よりも、ダイアフラム23と反対の方向へ、ゲル部材13が移動しやすい。換言すれば、貫通孔33の開口面積が一定のステム30に較べて、ゲル部材13がダイアフラム23と反対の方向へ移動しやすい。これにより、ダイアフラム23に作用する応力をより効果的に抑制することができる。   In the present embodiment, the sensor chip 11 is fixed to the stem 30 as the first support member via the adhesive layer 50. In other words, the first support member is configured only by the stem 30 that is a component to which the sensor chip 11 is fixed only through the adhesive layer 50. The opening area of the contact portion with the gel member 13 in the through hole 33 of the stem 30 is larger than the first inner edge 34 in the portion farthest from the diaphragm 23. As described above, the opening area at an arbitrary position is equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm 23 than the arbitrary position. For this reason, as shown in FIG. 3, in the stem 30, the gel member 13 easily moves in the direction opposite to the diaphragm 23 rather than the direction of the diaphragm 23. In other words, the gel member 13 can easily move in the direction opposite to the diaphragm 23 as compared with the stem 30 having a constant opening area of the through hole 33. Thereby, the stress which acts on the diaphragm 23 can be suppressed more effectively.

このように本実施形態に係る圧力センサ10によれば、上記相乗効果により、ゲル部材13の変形による応力が、ダイアフラム23、ひいてはゲージ抵抗24に作用するのを効果的に抑制することができる。   As described above, according to the pressure sensor 10 according to the present embodiment, it is possible to effectively suppress the stress due to the deformation of the gel member 13 from acting on the diaphragm 23 and thus the gauge resistance 24 by the above synergistic effect.

特に、本実施形態に係る圧力センサ10のように、排気ガス環境に配置される場合、排気ガスに含まれる硝酸などの酸成分に長時間晒されると、ゲル部材13の表層が硬くなる。このようにゲル部材13の表層が硬くなると、表層が硬くない状態と較べて、ダイアフラム23と反対の方向にゲル部材13が移動しにくくなり、その反面ダイアフラム23を押し上げようとする力が強くなる。しかしながら、本実施形態に係る圧力センサ10は、ゲル部材13がダイアフラム23と反対の方向へ移動しやすい構成となっている。したがって、ゲル部材13の表層が酸成分によって硬くなっても、従来の圧力センサに較べれば、硬くなったゲル部材13の表層に対して、ダイアフラム23と反対方向に変形させようとする力が強く作用する。これにより、硬くなったゲル部材13の表層部分の変形量が大きくなり、従来の圧力センサよりも、ゲル部材13の変形による応力が、ダイアフラム23、ひいてはゲージ抵抗24に作用するのを抑制することができる。   In particular, when placed in an exhaust gas environment like the pressure sensor 10 according to the present embodiment, the surface layer of the gel member 13 becomes hard when exposed to an acid component such as nitric acid contained in the exhaust gas for a long time. When the surface layer of the gel member 13 becomes hard as described above, the gel member 13 is less likely to move in the direction opposite to the diaphragm 23 as compared with a state in which the surface layer is not hard, and the force to push up the diaphragm 23 becomes stronger. . However, the pressure sensor 10 according to the present embodiment has a configuration in which the gel member 13 easily moves in the direction opposite to the diaphragm 23. Therefore, even if the surface layer of the gel member 13 is hardened by the acid component, the force to deform the surface layer of the gel member 13 hardened in the direction opposite to the diaphragm 23 is stronger than that of the conventional pressure sensor. Works. Thereby, the deformation amount of the surface layer portion of the hardened gel member 13 is increased, and the stress due to the deformation of the gel member 13 is prevented from acting on the diaphragm 23 and, consequently, the gauge resistance 24, as compared with the conventional pressure sensor. Can do.

なお、本発明者は、ダイアフラム23に生じる応力の酸成分の影響有無での変動量について、ゲル部材13の厚さ、表面積の影響を、試験により確認した。その結果を図6,図7に示す。この試験では、同一構成の圧力センサ10を一組準備し、一方を140℃で加熱し、160時間、ゲル部材13の表面13aにpH1.5の排気凝縮水を20〜30分に1回滴下した。これにより、ゲル部材13の表層が硬くなったサンプルを得た。そして、このサンプルと、排気凝縮水を滴下しなかったサンプルを一組として、150℃の高温(HT)、20℃の室温(RT)、−40℃の低温(LT)の3水準で、ダイアフラム20の最大発生応力をそれぞれ測定し、その差分を変動量とした。なお、図6,図7では、高温を白抜きの三角、室温を白抜きの四角、低温を白抜きの丸で示している。   In addition, this inventor confirmed the influence of the thickness of the gel member 13, and the surface area about the fluctuation | variation amount by the presence or absence of the influence of the acid component of the stress which arises in the diaphragm 23 by the test. The results are shown in FIGS. In this test, a set of pressure sensors 10 having the same configuration is prepared, one of them is heated at 140 ° C., and pH 1.5 exhaust condensate is dropped on the surface 13a of the gel member 13 once every 20 to 30 minutes for 160 hours. did. Thereby, the sample with which the surface layer of the gel member 13 became hard was obtained. Then, this sample and a sample in which exhaust condensate is not dropped are taken as a set, and the diaphragm is divided into three levels: high temperature (HT) of 150 ° C., room temperature (RT) of 20 ° C., and low temperature (LT) of −40 ° C. Each of the 20 maximum stresses was measured and the difference was taken as the amount of variation. 6 and 7, the high temperature is indicated by a white triangle, the room temperature is indicated by a white square, and the low temperature is indicated by a white circle.

また、ゲル部材13の厚さについては、約2.5mm、2.8mm、3.2mmの3水準を準備した。なお、センサチップ11をシリコン基板、接着層50をフルオロシリコーン、ステム30をアルミナ、ケース40をPBT、ゲル部材13をヤング率0.1MPa程度のフッ素系ゲルとした。そして、ゲル部材13の厚さ以外のパラメータは同じ条件とした。図6に示すように、高温時の変動量が大きく、特にゲル部材13の厚さが厚いほど、変動量が大きいことが明らかとなった。このように、ゲル部材13が厚いほど、高温時の変動量が大きいのは、厚いほどゲル部材13の膨張力が大きく、これにより、ダイアフラム23を押し上げようとする力が強くなるためと考えられる。   Moreover, about the thickness of the gel member 13, the three levels of about 2.5 mm, 2.8 mm, and 3.2 mm were prepared. The sensor chip 11 was a silicon substrate, the adhesive layer 50 was fluorosilicone, the stem 30 was alumina, the case 40 was PBT, and the gel member 13 was a fluorine-based gel having a Young's modulus of about 0.1 MPa. The parameters other than the thickness of the gel member 13 were the same. As shown in FIG. 6, it was found that the amount of variation at a high temperature is large, and that the amount of variation is large as the thickness of the gel member 13 is particularly thick. As described above, the thicker the gel member 13 is, the larger the amount of fluctuation at high temperature is. The thicker the gel member 13 is, the larger the expansion force of the gel member 13 is, and this is considered to be because the force to push up the diaphragm 23 is increased. .

一方、ゲル部材13の表面積については、9mm、20mmの2水準を準備した。なお、なお、センサチップ11をシリコン基板、接着層50をフルオロシリコーン、ステム30をアルミナ、ケース40をPBT、ゲル部材13をヤング率0.1MPa程度のフッ素系ゲルとした。そして、ゲル部材13の表面積以外のパラメータは同じ条件とした。図7に示すように、高温時の変動量が大きく、特にゲル部材13の表面積が小さいほど、変動量が大きいことが明らかとなった。このように、ゲル部材13の表面積が小さいほど、高温時の変動量が大きいのは、表面積が小さいほど、換言すると開口径が短いほど、ゲル部材13表層の硬くなった部分のばねが強くなり、変形しにくくなる。このため、ダイアフラム23を押し上げようとする力が強くなると考えられる。 On the other hand, regarding the surface area of the gel member 13, two levels of 9 mm 2 and 20 mm 2 were prepared. The sensor chip 11 is a silicon substrate, the adhesive layer 50 is fluorosilicone, the stem 30 is alumina, the case 40 is PBT, and the gel member 13 is a fluorine-based gel having a Young's modulus of about 0.1 MPa. The parameters other than the surface area of the gel member 13 were the same. As shown in FIG. 7, it has been clarified that the amount of fluctuation is large as the amount of fluctuation at high temperatures is large, and in particular, the smaller the surface area of the gel member 13 is. As described above, the smaller the surface area of the gel member 13 is, the larger the amount of fluctuation at high temperature is. The smaller the surface area, in other words, the shorter the opening diameter, the stronger the spring of the hardened portion of the surface of the gel member 13 becomes. It becomes difficult to deform. For this reason, it is thought that the force which pushes up the diaphragm 23 becomes strong.

以上の結果から、酸成分によりゲル部材13の表層が硬くなった状態で、ゲル部材13の膨張によりダイアフラム23に作用する応力を抑制するには、ゲル部材13の表面積を大きく、厚さを薄くすることが好ましい。厚さについては、ダイアフラム23とともに接着層50も保護する必要があるため、第1内縁部34からの最低厚さとして、接着層50を保護できる厚さ、実質的には1mm程度必要である。   From the above results, in order to suppress the stress acting on the diaphragm 23 due to the expansion of the gel member 13 while the surface layer of the gel member 13 is hardened by the acid component, the surface area of the gel member 13 is increased and the thickness is decreased. It is preferable to do. Regarding the thickness, since it is necessary to protect the adhesive layer 50 together with the diaphragm 23, the minimum thickness from the first inner edge 34 is required to be a thickness capable of protecting the adhesive layer 50, substantially about 1 mm.

本実施形態では上記結果を踏まえ、支持部材12として、ケース40を有しながらも、ゲル部材13をステム30の貫通孔33までの充填に止め、これによりゲル部材13の厚さが薄くなるようにしている。このため、ケース40までのゲル部材13が充填される構成に較べて、ダイアフラム23に作用する応力、特に酸成分によりゲル部材13の表層が硬くなったときの応力、を抑制することができる。また、ゲル部材13の厚さよりも、圧力伝達路33,43におけるゲル部材13との接触部分であってダイアフラム23から最も離れた部分の開口径のほうが長くなっている。なお、ゲル部材13の厚さとは、上記直交方向に沿う最大長さである。これによれば、ゲル部材13の厚さが、開口径以上とされた構成に較べて、ダイアフラム23に作用する応力、特に酸成分によりゲル部材13の表層が硬くなったときの応力、を抑制することができる。また、本実施形態では、ステム30としてセラミック多層基板を採用している。このように、セラミック多層基板を採用すると、例えばセラミック単体によるステム30に較べて、上記した開口形状の貫通孔33を形成しやすい。   In the present embodiment, based on the above results, the gel member 13 is stopped from being filled up to the through hole 33 of the stem 30 while having the case 40 as the support member 12, so that the thickness of the gel member 13 is reduced. I have to. For this reason, compared with the structure with which the gel member 13 to the case 40 is filled, the stress which acts on the diaphragm 23, especially the stress when the surface layer of the gel member 13 becomes hard by an acid component can be suppressed. In addition, the opening diameter of the portion of the pressure transmission path 33, 43 that is in contact with the gel member 13 and farthest from the diaphragm 23 is longer than the thickness of the gel member 13. The thickness of the gel member 13 is the maximum length along the orthogonal direction. According to this, compared with the configuration in which the thickness of the gel member 13 is equal to or larger than the opening diameter, the stress acting on the diaphragm 23, particularly the stress when the surface layer of the gel member 13 becomes hard due to the acid component, is suppressed. can do. In this embodiment, a ceramic multilayer substrate is employed as the stem 30. As described above, when the ceramic multilayer substrate is employed, the through-hole 33 having the above-described opening shape can be easily formed as compared with the stem 30 made of a single ceramic.

(変形例)
上記例では、ステム30の貫通孔33におけるゲル部材13との接触部分が階段状とされる例を示した。しかしながら、例えば図8に示すように、貫通孔33におけるゲル部材13との接触部分は、ダイアフラム23から遠ざかるほど開口面積が大きくされた構成としても良い。図8に示す例では、センサチップ搭載面31に直交する直交方向(以下、単に直交方向と示す)において、貫通孔33全域で、貫通孔33の開口面積の変化量が一定のテーパ形状となっている。このように、貫通孔33のゲル部材13との接触部分において、ダイアフラム23から遠ざかるほど開口面積が大きいと、ステム30において、ダイアフラム23と反対の方向にゲル部材13が移動しやすくなる。これにより、ダイアフラム23に作用する応力をさらに効果的に抑制することができる。また、ゲル部材13の表層が酸成分により硬くなった場合でも、上記構成により、例えば開口面積が一定のステム30に較べて、センサチップ11の体格増大を抑制しつつダイアフラム23に作用する応力を抑制することができる。なお、図8に示すステム30は、セラミック、樹脂、金属などの単体であるが、セラミック多層基板を構成する各セラミック基板の端面をテーパ加工することで、セラミック多層基板でも実現することができる。
(Modification)
In the above example, an example in which the contact portion with the gel member 13 in the through hole 33 of the stem 30 is stepped is shown. However, for example, as shown in FIG. 8, the contact area of the through-hole 33 with the gel member 13 may be configured such that the opening area is increased as the distance from the diaphragm 23 increases. In the example shown in FIG. 8, in the orthogonal direction orthogonal to the sensor chip mounting surface 31 (hereinafter simply referred to as the orthogonal direction), the amount of change in the opening area of the through hole 33 is a constant taper shape throughout the through hole 33. ing. As described above, when the opening area is large in the contact portion with the gel member 13 of the through-hole 33 as the distance from the diaphragm 23 increases, the gel member 13 easily moves in the direction opposite to the diaphragm 23 in the stem 30. Thereby, the stress which acts on the diaphragm 23 can be suppressed more effectively. Further, even when the surface layer of the gel member 13 is hardened by the acid component, due to the above configuration, for example, the stress acting on the diaphragm 23 is suppressed while suppressing an increase in the physique of the sensor chip 11 as compared with the stem 30 having a constant opening area. Can be suppressed. The stem 30 shown in FIG. 8 is a single piece of ceramic, resin, metal, or the like, but can also be realized with a ceramic multilayer substrate by tapering the end surfaces of the ceramic substrates constituting the ceramic multilayer substrate.

また、図8に示す例では、凹部22の内壁面22aと貫通孔33の内壁面33aの、直交する方向に対する傾きが異なる例を示した。すなわち、凹部22の内壁面22aの直交方向に対するテーパ角度θ1と、貫通孔33の内壁面33aの直交方向に対するテーパ角度θ2とが異なる例(θ2>θ1)を示した。しかしながら、図9に示すように、テーパ角度θ1,θ2が一致し、センサチップ11の凹部22の内壁面22aと、貫通孔33の内壁面33aにおけるゲル部材13との接触部分が、面一とされた構成としても良い。換言すれば、段差(凹凸)のないフラットな状態で、センサチップ11とステム30が接着された構成としても良い。このように、凹部22の内壁面22aと貫通孔33の内壁面33aのうちゲル部材13との接触部分とをフラットな状態とすると、ダイアフラム23と反対の方向にゲル部材13が移動しやすい。このため、ダイアフラム23に作用する応力をさらに効果的に抑制することができる。図9では、接着層50も含めて面一となっており、接着層50の内周面がテーパ形状を有している。なお、テーパ角度θ1,θ2が互いに等しいながらも、内壁面22a,33a同士が面一でない構成を採用することもできる。   Moreover, in the example shown in FIG. 8, the example with which the inclination with respect to the orthogonal direction of the inner wall face 22a of the recessed part 22 and the inner wall face 33a of the through-hole 33 differs was shown. That is, an example (θ2> θ1) is shown in which the taper angle θ1 with respect to the orthogonal direction of the inner wall surface 22a of the recess 22 and the taper angle θ2 with respect to the orthogonal direction of the inner wall surface 33a of the through hole 33 are different. However, as shown in FIG. 9, the taper angles θ <b> 1 and θ <b> 2 match, and the contact portion between the inner wall surface 22 a of the recess 22 of the sensor chip 11 and the gel member 13 on the inner wall surface 33 a of the through hole 33 is flush. It is good also as the structure made. In other words, the sensor chip 11 and the stem 30 may be bonded in a flat state without a step (unevenness). As described above, when the inner wall surface 22 a of the recess 22 and the contact portion of the inner wall surface 33 a of the through hole 33 with the gel member 13 are in a flat state, the gel member 13 easily moves in the direction opposite to the diaphragm 23. For this reason, the stress which acts on the diaphragm 23 can be suppressed further effectively. In FIG. 9, the surface including the adhesive layer 50 is flush, and the inner peripheral surface of the adhesive layer 50 has a tapered shape. It is also possible to adopt a configuration in which the inner wall surfaces 22a and 33a are not flush with each other even though the taper angles θ1 and θ2 are equal to each other.

上記例では、ステム30の第1内縁部34が、センサチップ11の第2内縁部25よりも外側に位置する例を示した。しかしながら、例えば図10に示すように、センサチップ搭載面31に平行な方向において、第1内縁部34と第2内縁部25が全周で一致する構成としても良い。例えば図10に示す例では、ステム30の貫通孔33のうち、センサチップ搭載面31側の端部から深さ方向真ん中までを開口面積一定とし、それよりも裏面32側の部分を、ダイアフラム23から離れるほど開口面積が大きくなるようにしている。このようにすると、センサチップ11とステム30の接着部分に、裏面21の第2内縁部25から一部範囲が露出してなる段差(凹凸)が無いため、ゲル部材13が移動する際に凹部22からダイアフラム23と反対の方向へ移動しやすい。したがって、ダイアフラム23に作用する応力を、より効果的に抑制することができる。   In the above example, the example in which the first inner edge portion 34 of the stem 30 is located outside the second inner edge portion 25 of the sensor chip 11 is shown. However, for example, as shown in FIG. 10, the first inner edge 34 and the second inner edge 25 may be configured to coincide with each other in the direction parallel to the sensor chip mounting surface 31. For example, in the example shown in FIG. 10, the opening area is constant from the end on the sensor chip mounting surface 31 side to the middle in the depth direction in the through-hole 33 of the stem 30, and the portion on the back surface 32 side from that is the diaphragm 23. The opening area increases as the distance from the center increases. In this case, since there is no level difference (unevenness) that is partly exposed from the second inner edge 25 of the back surface 21 in the bonding portion between the sensor chip 11 and the stem 30, the concave portion is formed when the gel member 13 moves. It is easy to move from 22 to the opposite direction of the diaphragm 23. Therefore, the stress acting on the diaphragm 23 can be more effectively suppressed.

なお、図9に示すように、凹部22の内壁面22a、接着層50の内周面、及び貫通孔33の内壁面33aが面一とされた構成において、接着層50の厚さを薄くすると、第1内縁部34が第2内縁部25近づき、両者25,34がほぼ一致する状態となる。また、図8〜図10では、ゲル部材13の変形状態を示しており、ゲル部材13中の矢印は、ゲル部材13が凹部22から貫通孔33側へ移動しやすいことを示している。また、図8〜図10においても、ゲル部材13の厚さより、圧力伝達路33,43におけるゲル部材13との接触部分であってダイアフラム23から最も離れた部分の開口径のほうが長くなっている。   As shown in FIG. 9, in the configuration in which the inner wall surface 22 a of the recess 22, the inner peripheral surface of the adhesive layer 50, and the inner wall surface 33 a of the through hole 33 are flush with each other, the thickness of the adhesive layer 50 is reduced. The first inner edge portion 34 approaches the second inner edge portion 25, so that the two portions 25 and 34 substantially coincide with each other. 8-10 has shown the deformation | transformation state of the gel member 13, and the arrow in the gel member 13 has shown that the gel member 13 is easy to move to the through-hole 33 side from the recessed part 22. FIG. Also in FIGS. 8 to 10, the opening diameter of the portion of the pressure transmission path 33, 43 that is in contact with the gel member 13 and farthest from the diaphragm 23 is longer than the thickness of the gel member 13. .

(第2実施形態)
本実施形態において、上記実施形態に示した圧力センサ10と共通する部分についての説明は割愛する。第1実施形態では、凹部22から連続してステム30の貫通孔33までゲル部材13が充填される例を示した。
(Second Embodiment)
In the present embodiment, description of portions common to the pressure sensor 10 shown in the above embodiment is omitted. In the first embodiment, an example in which the gel member 13 is filled continuously from the recess 22 to the through hole 33 of the stem 30 has been described.

これに対し、本実施形態では、図11に示すように、凹部22から連続してケース40の貫通孔43までゲル部材13が充填されている点を第1の特徴とする。そして、ケース40のステム搭載面41において、貫通孔43を取り囲む第3内縁部44が、ステム30の裏面32と対向している点を第2の特徴とする。なお、図11に示す圧力センサ10は、ゲル部材13の充填範囲を除いて、第1実施形態の図1に示す圧力センサ10と同じ構成となっている。すなわち、第3内縁部44が、ステム30の裏面32において貫通孔33を取り囲む第4内縁部35よりも外側に位置している。なお、図11では、ゲル部材13の変形状態を示しており、ゲル部材13中の矢印は、ゲル部材13が凹部22から貫通孔33側、ひいては貫通孔43側へ移動しやすいことを示している。   On the other hand, in this embodiment, as shown in FIG. 11, the first feature is that the gel member 13 is continuously filled from the recess 22 to the through hole 43 of the case 40. The second feature is that the third inner edge portion 44 surrounding the through hole 43 on the stem mounting surface 41 of the case 40 faces the back surface 32 of the stem 30. The pressure sensor 10 shown in FIG. 11 has the same configuration as the pressure sensor 10 shown in FIG. 1 of the first embodiment except for the filling range of the gel member 13. That is, the third inner edge portion 44 is positioned outside the fourth inner edge portion 35 that surrounds the through hole 33 on the back surface 32 of the stem 30. In addition, in FIG. 11, the deformation | transformation state of the gel member 13 is shown, The arrow in the gel member 13 shows that the gel member 13 is easy to move from the recessed part 22 to the through-hole 33 side and by extension, the through-hole 43 side. Yes.

このように、本実施形態では、センサチップ11に対するステム30同様、ケース40が、ステム30の貫通孔33の内側に張り出す肩部を有していない。このため、ゲル部材13がステム30からケース40に向けて移動しやすい。したがって、ダイアフラム23と反対の方向へのゲル部材13の移動によりゲル部材13の応力が緩和される。そして、ゲル部材13の変形による応力が、ダイアフラム23、ひいてはゲージ抵抗24に作用するのを効果的に抑制することができる。   Thus, in this embodiment, like the stem 30 for the sensor chip 11, the case 40 does not have a shoulder portion that protrudes inside the through hole 33 of the stem 30. For this reason, the gel member 13 easily moves from the stem 30 toward the case 40. Therefore, the stress of the gel member 13 is relieved by the movement of the gel member 13 in the direction opposite to the diaphragm 23. And it can suppress effectively that the stress by the deformation | transformation of the gel member 13 acts on the diaphragm 23 and by extension, the gauge resistance 24. FIG.

また、本実施形態においては、ケース40の貫通孔43が、ステム30の貫通孔33よりも開口面積が大きく、且つ、開口面積一定のストレート形状となっている。これにより、第1実施形態同様、圧力伝達路33,43におけるゲル部材13との接触部分の開口面積が、ステム30の第1内縁部34で最小となっている。また、接触部分の開口面積は、ダイアフラム23から最も離れた部分で第1内縁部34の開口面積よりも大きく且つ最大となっている。さらには、接触部分において、任意位置の開口面積が、該任意位置よりもダイアフラム23に近い位置の開口面積以上となっている。このため、第1実施形態と同様の効果を奏することができる。   In the present embodiment, the through hole 43 of the case 40 has a straight shape with a larger opening area than the through hole 33 of the stem 30 and a constant opening area. Accordingly, as in the first embodiment, the opening area of the contact portion with the gel member 13 in the pressure transmission paths 33 and 43 is minimized at the first inner edge portion 34 of the stem 30. Further, the opening area of the contact portion is larger than the opening area of the first inner edge 34 at the portion farthest from the diaphragm 23 and is the largest. Furthermore, in the contact portion, the opening area at an arbitrary position is equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm 23 than the arbitrary position. For this reason, there can exist the same effect as a 1st embodiment.

また、第1実施形態同様、ゲル部材13の厚さよりも、圧力伝達路33,43におけるゲル部材13との接触部分であってダイアフラム23から最も離れた部分の開口径のほうが長くなっている。これにより、ダイアフラム23に作用する応力、特に酸成分によりゲル部材13の表層が硬くなったときの応力、を抑制することができる。   As in the first embodiment, the opening diameter of the portion of the pressure transmission path 33, 43 that is in contact with the gel member 13 and farthest from the diaphragm 23 is longer than the thickness of the gel member 13. Thereby, the stress which acts on the diaphragm 23, especially the stress when the surface layer of the gel member 13 is hardened by the acid component can be suppressed.

(変形例)
上記例では、貫通孔43の開口面積が一定のケース40を示した。しかしながら、ケース40の貫通孔43は、ゲル部材13の接触部分において、任意位置の開口面積が、該任意位置よりもダイアフラム23に近い位置の開口面積以上となっていれば良い。例えば図12に示す例では、貫通孔43の内壁面43aにおけるゲル部材13との接触部分は、ダイアフラム23から離れるほど貫通孔43の開口面積が大きくなっている。詳しくは、ゲル部材13との接触部分で、貫通孔43の開口面積の変化量が一定のテーパ形状となっている。また、貫通孔43の内壁面43aにおけるゲル部材13との接触部分の直交方向に対するテーパ角度θ3が、上記したテーパ角度θ1,θ2と一致している。換言すれば、支持部材12において、ゲル部材13との接触部分のテーパ角度がθ2(=θ3)であり、このテーパ角度θ2が、センサチップ11のテーパ角度θ1と一致している。そして、センサチップ11の凹部22の内壁面22a、接着層50の内周面、支持部材12を構成するステム30の貫通孔33の内壁面33aが面一とされるとともに、貫通孔33の内壁面33a、接着層51、ケース40の貫通孔43の内壁面43aにおけるゲル部材13との接触部分が面一となっている。このような構成とすると、第1実施形態の変形例(図9参照)同様、テーパ形状の効果と、面一の効果とにより、ダイアフラム23に作用する応力をより効果的に抑制することができる。また、開口面積が一定の貫通孔43に較べて、ゲル部材13の表面積が大きくなるので、酸成分によりゲル部材13の表層が硬くなった状態で、ダイアフラム23に作用する応力を抑制することができる。なお、図12では、ゲル部材13の変形状態を示しており、ゲル部材13中の矢印は、ゲル部材13が凹部22から貫通孔33側、ひいては貫通孔43側へ移動しやすいことを示している。また、図12でも、ゲル部材13の厚さより、圧力伝達路33,43におけるゲル部材13との接触部分であってダイアフラム23から最も離れた部分の開口径のほうが長くなっている。
(Modification)
In the above example, the case 40 in which the opening area of the through hole 43 is constant is shown. However, the through hole 43 of the case 40 only needs to have an opening area at an arbitrary position equal to or larger than an opening area at a position closer to the diaphragm 23 than the arbitrary position in the contact portion of the gel member 13. For example, in the example shown in FIG. 12, the contact area of the inner wall surface 43 a of the through hole 43 with the gel member 13 increases the opening area of the through hole 43 as the distance from the diaphragm 23 increases. Specifically, the amount of change in the opening area of the through hole 43 is a tapered shape at the contact portion with the gel member 13. Further, the taper angle θ3 with respect to the orthogonal direction of the contact portion with the gel member 13 on the inner wall surface 43a of the through hole 43 coincides with the taper angles θ1 and θ2. In other words, in the support member 12, the taper angle of the contact portion with the gel member 13 is θ 2 (= θ 3), and this taper angle θ 2 matches the taper angle θ 1 of the sensor chip 11. The inner wall surface 22 a of the recess 22 of the sensor chip 11, the inner peripheral surface of the adhesive layer 50, and the inner wall surface 33 a of the through hole 33 of the stem 30 constituting the support member 12 are flush with each other. The contact portions of the wall surface 33a, the adhesive layer 51, and the inner wall surface 43a of the through hole 43 of the case 40 with the gel member 13 are flush with each other. With such a configuration, similarly to the modification of the first embodiment (see FIG. 9), the stress acting on the diaphragm 23 can be more effectively suppressed due to the taper shape effect and the flush effect. . In addition, since the surface area of the gel member 13 is larger than that of the through-hole 43 having a constant opening area, the stress acting on the diaphragm 23 can be suppressed while the surface layer of the gel member 13 is hardened by the acid component. it can. In FIG. 12, the deformed state of the gel member 13 is shown, and the arrow in the gel member 13 indicates that the gel member 13 can easily move from the concave portion 22 to the through hole 33 side and thus to the through hole 43 side. Yes. Also in FIG. 12, the opening diameter of the portion of the pressure transmission path 33, 43 that is in contact with the gel member 13 and farthest from the diaphragm 23 is longer than the thickness of the gel member 13.

図12では、貫通孔43の内壁面43aが貫通孔43の途中までテーパ形状をなし、残りの部分が開口面積一定のストレート形状をなす例を示した。しかしながら、貫通孔43の途中までゲル部材13が充填される構成において、貫通孔43の内壁面43a全体を、ダイアフラム23から離れるほど貫通孔43の開口面積が大きくなる形状としても良い。   FIG. 12 shows an example in which the inner wall surface 43a of the through hole 43 has a taper shape partway through the through hole 43, and the remaining part has a straight shape with a constant opening area. However, in the configuration in which the gel member 13 is filled partway through the through hole 43, the entire inner wall surface 43a of the through hole 43 may have a shape in which the opening area of the through hole 43 increases as the distance from the diaphragm 23 increases.

また、図12では、テーパ角度θ1,θ2,θ3が互いに等しい例を示したが、互いに異なる角度とされた構成としても良い。さらには、3つのテーパ角度θ1,θ2,θ3のうち、2つが等しく、残りの1つが異なる構成としても良い。また、テーパ角度θ1,θ2,θ3が互いに等しいものの、内壁面22a,33a,43a同士が面一でない構成を採用することもできる。さらには、テーパ角度θ1,θ2,θ3が互いに等しいものの、内壁面22a,33a同士が面一で、内壁面33a,43a同士が面一でない構成を採用することもできる。   FIG. 12 illustrates an example in which the taper angles θ1, θ2, and θ3 are equal to each other, but a configuration in which the angles are different from each other may be employed. Furthermore, it is possible that two of the three taper angles θ1, θ2, and θ3 are equal and the remaining one is different. Further, it is possible to adopt a configuration in which the inner wall surfaces 22a, 33a, 43a are not flush with each other, although the taper angles θ1, θ2, θ3 are equal to each other. Furthermore, although the taper angles θ1, θ2, θ3 are equal to each other, it is possible to adopt a configuration in which the inner wall surfaces 22a, 33a are flush with each other and the inner wall surfaces 33a, 43a are not flush with each other.

また、第3内縁部44が、第4内縁部35よりも外側に位置する例を示したが、第3内縁部44と第4内縁部35が全周で一致する構成としても良い。   Moreover, although the 3rd inner edge part 44 showed the example located in the outer side rather than the 4th inner edge part 35, it is good also as a structure which the 3rd inner edge part 44 and the 4th inner edge part 35 correspond in a perimeter.

(第3実施形態)
本実施形態において、上記実施形態に示した圧力センサ10と共通する部分についての説明は割愛する。上記実施形態では、室温状態で、ゲル部材13の表面が、ダイアフラム23と反対側に凹のメニスカス形状となっている例(図1参照)を示した。
(Third embodiment)
In the present embodiment, description of portions common to the pressure sensor 10 shown in the above embodiment is omitted. In the said embodiment, the example (refer FIG. 1) by which the surface of the gel member 13 became concave meniscus shape on the opposite side to the diaphragm 23 was shown at room temperature.

これに対し、本実施形態では、図13に示すように、室温状態で、ゲル部材13の表面が、ダイアフラム23と反対側に凸の屈曲形状、所謂メニスカス形状となっている点を特徴とする。なお、図13に示す圧力センサ10は、ゲル部材13の表面形状が異なる点を除けば、第1実施形態(図1参照)に示した構成と同じである。   In contrast, the present embodiment is characterized in that the surface of the gel member 13 has a convex bent shape on the opposite side to the diaphragm 23, that is, a so-called meniscus shape, as shown in FIG. . The pressure sensor 10 shown in FIG. 13 is the same as the configuration shown in the first embodiment (see FIG. 1) except that the surface shape of the gel member 13 is different.

このように、ゲル部材13の表面を、ダイアフラム23と反対側に凸のメニスカス形状としておくと、ダイアフラム23と反対に凹のメニスカス形状、表面が平坦な形状に較べて、ゲル部材13がダイアフラム23と反対側に移動しやすい。例えば排気ガス中の酸成分により、ゲル部材13の表層が硬くなり、ゲル部材13の膨張により、表層の硬い部分がダイアフラム23と反対の方向に変形する場合を考える。この場合、表層の硬い部分は、ダイアフラム23と反対側に凸のメニスカス形状のほうが、凹のメニスカス形状、平坦形状よりも、ダイアフラム23と反対側に変形しやすい。したがって、ダイアフラム23に作用する応力をより効果的に抑制することができる。   As described above, when the surface of the gel member 13 has a convex meniscus shape on the opposite side to the diaphragm 23, the gel member 13 has the diaphragm 23 as compared to the concave meniscus shape and the flat surface opposite to the diaphragm 23. Easy to move to the opposite side. For example, consider a case where the surface layer of the gel member 13 becomes hard due to the acid component in the exhaust gas, and the hard portion of the surface layer is deformed in the direction opposite to the diaphragm 23 due to the expansion of the gel member 13. In this case, the hard part of the surface layer is more easily deformed to the side opposite to the diaphragm 23 than the concave meniscus shape or flat shape in the convex meniscus shape on the opposite side to the diaphragm 23. Therefore, the stress acting on the diaphragm 23 can be more effectively suppressed.

なお、図13に示すようなゲル部材13を形成するには、例えば以下の方法が考えられる。図14に示すように、ゲル部材13を、ケース40の貫通孔43を通じて、センサチップ11の凹部22からステム30の貫通孔33の途中まで注入する。次いで、ゲル部材13を表面13a側から加圧した状態、具体的には外部雰囲気の圧力を大気圧よりも高めた状態で、例えば加熱によりゲル部材13を硬化させる。この硬化処理後、圧力を開放して、ゲル部材13の表面13aに大気圧がかかるようにすると、図13に示すように、ダイアフラム23と反対側に凸のメニスカス形状を有するゲル部材13を得ることができる。   For example, the following method can be considered to form the gel member 13 as shown in FIG. As shown in FIG. 14, the gel member 13 is injected from the recess 22 of the sensor chip 11 to the middle of the through hole 33 of the stem 30 through the through hole 43 of the case 40. Next, the gel member 13 is cured by heating, for example, in a state where the gel member 13 is pressurized from the surface 13a side, specifically, in a state where the pressure of the external atmosphere is higher than the atmospheric pressure. When the pressure is released after this curing treatment so that the atmospheric pressure is applied to the surface 13a of the gel member 13, the gel member 13 having a convex meniscus shape on the opposite side to the diaphragm 23 is obtained as shown in FIG. be able to.

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記した実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

本実施形態では、支持部材12が、第1支持部材としてのステム30と、第2支持部材としてのケース40の2つの部材からなる例を示した。しかしながら、支持部材12の構成は上記例に限定されるものではない。少なくとも第1支持部材を備えればよい。例えば第1支持部材としてケース40を有し、ステム30を有さない構成、所謂台座レスの構成を採用することもできる。また、3つ以上の部材により支持部材12が構成されても良い。   In this embodiment, the example which the support member 12 consists of two members, the stem 30 as a 1st support member, and the case 40 as a 2nd support member was shown. However, the configuration of the support member 12 is not limited to the above example. What is necessary is just to provide a 1st support member at least. For example, a configuration having the case 40 as the first support member and not including the stem 30, that is, a so-called pedestal-less configuration may be employed. Further, the support member 12 may be configured by three or more members.

10・・・圧力センサ
11・・・センサチップ
12・・・支持部材
13・・・ゲル部材
21・・・裏面(一面)
22・・・凹部
23・・・ダイアフラム
24・・・ゲージ抵抗
25・・・第1内周部
30・・・ステム(第1支持部材)
31・・・センサチップ搭載面(搭載面)
33・・・貫通孔(第1圧力伝達路)
40・・・ケース(第2支持部材)
43・・・貫通孔(第2圧力伝達路)
50・・・接着層(接着材)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Pressure sensor 11 ... Sensor chip 12 ... Support member 13 ... Gel member 21 ... Back surface (one side)
22 ... concave portion 23 ... diaphragm 24 ... gauge resistance 25 ... first inner peripheral portion 30 ... stem (first support member)
31 ... Sensor chip mounting surface (mounting surface)
33 ... Through hole (first pressure transmission path)
40 ... Case (second support member)
43 ... Through hole (second pressure transmission path)
50 ... Adhesive layer (adhesive)

Claims (9)

一面(21)に開口する凹部(22)と、該凹部(22)の底をなすダイアフラム(23)と、該ダイアフラム(23)に形成されたゲージ抵抗(24)と、を有するセンサチップ(11)と、
前記センサチップ(11)の一面と対向し、前記センサチップが固定される搭載面(31)と、該搭載面に開口し、前記凹部(22)に連通する圧力伝達路(33,43)と、を有する支持部材(12)と、
前記凹部(22)から連続して前記圧力伝達路(33,43)における少なくとも一部まで充填され、前記ダイアフラム(23)を保護するゲル部材(13)と、を備え、
検出対象の圧力媒体の圧力が、前記ゲル部材(13)を介して前記ダイアフラム(23)に伝達され、前記ダイアフラムが変形することで前記ゲージ抵抗(24)の抵抗値が変化する圧力センサであって、
前記支持部材(12)のセンサチップ搭載面(31)における前記圧力伝達路(33,43)の縁部(34)は、前記センサチップ(11)の一面(21)における凹部(22)を取り囲む領域(21a)と対向しており、
前記圧力伝達路(33,43)におけるゲル部材との接触部分の開口面積は、前記センサチップ搭載面(31)側の端部で最小、前記ダイアフラム(23)から最も離れた部分で前記端部の開口面積よりも大きく且つ最大とされるとともに、任意位置の開口面積が、該任意位置よりも前記ダイアフラム(23)に近い位置の開口面積以上とされており、
前記支持部材(12)は、前記センサチップ搭載面(31)からその裏面(32)にわたって貫通するとともに、前記圧力伝達路(33,43)の少なくとも一部をなす第1圧力伝達路(33)を備え、接着材(50)を介して前記センサチップ搭載面(31)に前記センサチップ(11)が固定された第1支持部材(30)を有し、
前記第1圧力伝達路(33)におけるゲル部材との接触部分の開口面積は、前記ダイアフラム(23)から最も離れた部分のほうが、前記センサチップ搭載面(31)側の端部よりも大きくされており、
前記第1支持部材は、前記接着材(50)のみを介して前記センサチップ(11)が固定された部品(30)で構成されていることを特徴とする圧力センサ。
A sensor chip (11) having a recess (22) that opens to one surface (21), a diaphragm (23) that forms the bottom of the recess (22), and a gauge resistor (24) formed in the diaphragm (23). )When,
A mounting surface (31) that faces one surface of the sensor chip (11) and to which the sensor chip is fixed, and a pressure transmission path (33, 43) that opens to the mounting surface and communicates with the recess (22). A support member (12) having
A gel member (13) that fills at least part of the pressure transmission path (33, 43) continuously from the recess (22) and protects the diaphragm (23),
The pressure sensor is a pressure sensor that transmits the pressure of the pressure medium to be detected to the diaphragm (23) via the gel member (13) and changes the resistance value of the gauge resistance (24) by the deformation of the diaphragm. And
An edge (34) of the pressure transmission path (33, 43) on the sensor chip mounting surface (31) of the support member (12) surrounds a recess (22) on one surface (21) of the sensor chip (11). Facing the region (21a),
The opening area of the contact portion with the gel member in the pressure transmission path (33, 43) is the smallest at the end on the sensor chip mounting surface (31) side, and the end at the portion farthest from the diaphragm (23). And the opening area at an arbitrary position is set to be equal to or larger than the opening area at a position closer to the diaphragm (23) than the arbitrary position,
The support member (12) penetrates from the sensor chip mounting surface (31) to the back surface (32), and forms at least a part of the pressure transmission path (33, 43). A first support member (30) having the sensor chip (11) fixed to the sensor chip mounting surface (31) via an adhesive (50),
The opening area of the contact portion with the gel member in the first pressure transmission path (33) is made larger in the portion farthest from the diaphragm (23) than the end on the sensor chip mounting surface (31) side. And
The pressure sensor according to claim 1, wherein the first support member is composed of a component (30) to which the sensor chip (11) is fixed only through the adhesive (50).
前記圧力伝達路(33,43)におけるゲル部材との接触部分のうち、少なくとも前記第1圧力伝達路(33)は、前記ダイアフラム(23)から遠ざかるほど開口面積が大きくされていることを特徴とする請求項1に記載の圧力センサ。   Among the contact parts with the gel member in the pressure transmission path (33, 43), at least the first pressure transmission path (33) has an opening area that is increased as the distance from the diaphragm (23) increases. The pressure sensor according to claim 1. 前記センサチップ(11)の内壁面(22a)は、前記センサチップ搭載面(31)に直交する直交方向において、前記ダイアフラム(23)から離れるほど前記凹部(22)の開口面積が大きいテーパ形状を有しており、
前記圧力伝達路(33,43)の内壁面(33a,43a)におけるゲル部材との接触部分の前記直交方向に対するテーパ角度(θ2)と、前記凹部(22)の内壁面(22a)の前記直交方向に対するテーパ角度(θ1)が一致しており、
前記センサチップ(11)の凹部(22)の内壁面(22a)と、前記圧力伝達路(33,43)の内壁面(33a,43a)におけるゲル部材との接触部分が、面一となっていることを特徴とする請求項2に記載の圧力センサ。
The inner wall surface (22a) of the sensor chip (11) has a tapered shape in which the opening area of the recess (22) increases in the orthogonal direction perpendicular to the sensor chip mounting surface (31) as the distance from the diaphragm (23) increases. Have
The taper angle (θ2) of the contact portion with the gel member on the inner wall surface (33a, 43a) of the pressure transmission path (33, 43) with respect to the orthogonal direction, and the orthogonality of the inner wall surface (22a) of the recess (22). The taper angle (θ1) with respect to the direction matches,
The contact portion between the inner wall surface (22a) of the recess (22) of the sensor chip (11) and the gel member on the inner wall surface (33a, 43a) of the pressure transmission path (33, 43) is flush. The pressure sensor according to claim 2, wherein:
前記第1圧力伝達路(33)の内壁面(33a)におけるゲル部材との接触部分は、階段状となっていることを特徴とする請求項1に記載の圧力センサ。   2. The pressure sensor according to claim 1, wherein a contact portion of the inner wall surface (33 a) of the first pressure transmission path (33) with the gel member has a step shape. 前記第1支持部材(30)は、セラミック多層基板であることを特徴とする請求項2〜4いずれか1項に記載の圧力センサ。   The pressure sensor according to any one of claims 2 to 4, wherein the first support member (30) is a ceramic multilayer substrate. 前記ゲル部材(13)の表面(13a)は、室温において、前記ダイアフラム(23)と反対に凸のメニスカス形状をなしていることを特徴とする請求項1〜5いずれか1項に記載の圧力センサ。   The pressure (1) according to any one of claims 1 to 5, wherein the surface (13a) of the gel member (13) has a convex meniscus shape opposite to the diaphragm (23) at room temperature. Sensor. 前記支持部材(12)は、前記第1圧力伝達路(33)に連通して前記第1圧力伝達路(33)とともに前記圧力伝達路(33,43)をなす第2圧力伝達路(43)を備え、前記第1支持部材(30)を支持する第2支持部材(40)を有することを特徴とする請求項1〜6いずれか1項に記載の圧力センサ。   The support member (12) communicates with the first pressure transmission path (33) to form the second pressure transmission path (43) together with the first pressure transmission path (33). The pressure sensor according to any one of claims 1 to 6, further comprising a second support member (40) that supports the first support member (30). 前記ゲル部材(13)は、前記凹部(22)から連続して前記第1圧力伝達路(33)の少なくとも一部まで充填され、前記第2圧力伝達路(43)には充填されていないことを特徴とする請求項7に記載の圧力センサ。   The gel member (13) is continuously filled from the recess (22) to at least a part of the first pressure transmission path (33), and is not filled in the second pressure transmission path (43). The pressure sensor according to claim 7. 前記ゲル部材(13)の厚さよりも、前記圧力伝達路(33,43)におけるゲル部材との接触部分であって前記ダイアフラム(23)から最も離れた部分の開口径のほうが長いことを特徴とする請求項1〜9いずれか1項に記載の圧力センサ。   The opening diameter of the portion of the pressure transmission path (33, 43) in contact with the gel member and farthest from the diaphragm (23) is longer than the thickness of the gel member (13). The pressure sensor according to any one of claims 1 to 9.
JP2012015640A 2011-03-23 2012-01-27 Pressure sensor Active JP5418618B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012015640A JP5418618B2 (en) 2011-03-23 2012-01-27 Pressure sensor
DE102012204414.0A DE102012204414B4 (en) 2011-03-23 2012-03-20 PRESSURE SENSOR
US13/424,622 US8733175B2 (en) 2011-03-23 2012-03-20 Pressure sensor
CN201210080764.7A CN102692295B (en) 2011-03-23 2012-03-23 Pressure sensor

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011064736 2011-03-23
JP2011064736 2011-03-23
JP2012015640A JP5418618B2 (en) 2011-03-23 2012-01-27 Pressure sensor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012211892A true JP2012211892A (en) 2012-11-01
JP5418618B2 JP5418618B2 (en) 2014-02-19

Family

ID=46831850

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012015640A Active JP5418618B2 (en) 2011-03-23 2012-01-27 Pressure sensor

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8733175B2 (en)
JP (1) JP5418618B2 (en)
CN (1) CN102692295B (en)
DE (1) DE102012204414B4 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016535846A (en) * 2013-10-25 2016-11-17 オキシトロル エス.アー. Pressure sensor including a structure for controlling an adhesive layer that is resistant to temperature changes
JP2019190906A (en) * 2018-04-20 2019-10-31 株式会社デンソー Physical quantity sensor and method for manufacturing the same
JP2021502553A (en) * 2017-11-08 2021-01-28 ティーディーケイ・エレクトロニクス・アクチェンゲゼルシャフトTdk Electronics Ag Pressure sensor system with protection against frozen media

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6275431B2 (en) * 2013-09-18 2018-02-07 アルプス電気株式会社 Pressure detecting device and intake pressure measuring device using the same
DE102014119396A1 (en) * 2014-12-22 2016-06-23 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Pressure measuring device
CN104688307A (en) * 2015-03-13 2015-06-10 王国栋 Compulsive shaping device of bone joint
EP3324168A4 (en) * 2015-07-14 2019-03-20 NGK Spark Plug Co., Ltd. Pressure sensor
DE102015117736A1 (en) * 2015-10-19 2017-04-20 Endress+Hauser Gmbh+Co. Kg Pressure measuring device
CN105181189B (en) * 2015-10-23 2018-05-29 南京信息工程大学 Silicon nanowire pressure sensor and its encapsulating structure based on huge piezoresistive characteristic
US10353503B2 (en) * 2015-10-29 2019-07-16 Texas Instruments Incorporated Integrated force sensing element
JP6581900B2 (en) * 2015-12-28 2019-09-25 アズビル株式会社 Pressure sensor
CN107024304B (en) * 2017-03-31 2019-05-07 西安交通大学 A kind of hyperpressure sensor of stress decay structure
DE102018123023A1 (en) * 2018-09-19 2020-03-19 Tdk Electronics Ag Membrane, pressure sensor system and method for manufacturing the pressure sensor system
US11118990B2 (en) 2019-06-21 2021-09-14 Honeywell International Inc. Micro-molded fluid pressure sensor housing
AU2022338091A1 (en) * 2021-08-31 2024-02-22 Huba Control Ag Pressure measuring cell
CA3228971A1 (en) * 2021-08-31 2023-03-09 Huba Control Ag Metal pressure measuring cell

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57194327A (en) * 1981-05-26 1982-11-29 Nippon Denso Co Ltd Semiconductor pressure transducer for car
JPS59159084A (en) * 1983-03-01 1984-09-08 Citizen Watch Co Ltd Pressure detecting section construction for electronic time piece with water depth-meter
JPH05133827A (en) * 1991-11-12 1993-05-28 Fujikura Ltd Semiconductor pressure sensor
JPH11248571A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Matsushita Electric Works Ltd Pedestal for semiconductor pressure sensor
JP2000346736A (en) * 1999-06-02 2000-12-15 Saginomiya Seisakusho Inc Semiconductor-type pressure sensor
JP2001059789A (en) * 1999-08-24 2001-03-06 Matsushita Electric Works Ltd Semiconductor pressure detector
JP2006220592A (en) * 2005-02-14 2006-08-24 Denso Corp Pressure sensor
JP2006220456A (en) * 2005-02-08 2006-08-24 Denso Corp Pressure sensor and its manufacturing method

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59123276A (en) 1982-12-28 1984-07-17 Sony Corp Manufacture of pressure converter
JPS6357540A (en) 1986-08-29 1988-03-12 Daicel Chem Ind Ltd Production of triphenylchloromethane
JPH0688762A (en) * 1992-09-07 1994-03-29 Toshiba Corp Semiconductor pressure sensor
JP2639308B2 (en) * 1992-11-19 1997-08-13 富士電機株式会社 Force sensor, temperature sensor and temperature / force sensor device
JPH10170367A (en) 1996-12-09 1998-06-26 Denso Corp Semiconductor pressure sensor
JP4075776B2 (en) * 2003-11-13 2008-04-16 株式会社デンソー Physical quantity sensor and pressure sensor
JP2005221453A (en) * 2004-02-09 2005-08-18 Denso Corp Pressure sensor
US7077008B2 (en) 2004-07-02 2006-07-18 Honeywell International Inc. Differential pressure measurement using backside sensing and a single ASIC
US6945120B1 (en) 2004-07-02 2005-09-20 Honeywell International Inc. Exhaust gas recirculation system using absolute micromachined pressure sense die
US7073375B2 (en) 2004-07-02 2006-07-11 Honeywell International Inc. Exhaust back pressure sensor using absolute micromachined pressure sense die
DE102005029841B4 (en) * 2004-07-28 2013-09-05 Robert Bosch Gmbh Micromechanical pressure sensor with heated passivating agent and method for its control
JP4556784B2 (en) 2005-06-27 2010-10-06 株式会社デンソー Pressure sensor
JP2007040772A (en) * 2005-08-02 2007-02-15 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor pressure sensor
KR20080005854A (en) 2006-07-10 2008-01-15 야마하 가부시키가이샤 Pressure sensor and manufacturing method therefor
JP4215076B2 (en) * 2006-07-10 2009-01-28 ヤマハ株式会社 Condenser microphone and manufacturing method thereof
JP5142742B2 (en) * 2007-02-16 2013-02-13 株式会社デンソー Pressure sensor and manufacturing method thereof
DE102008042489B4 (en) 2008-09-30 2018-07-26 Robert Bosch Gmbh Workpiece assembly and use of the workpiece assembly
JP5126014B2 (en) 2008-11-19 2013-01-23 株式会社デンソー Pressure sensor
JP5343677B2 (en) 2009-04-10 2013-11-13 株式会社デンソー Pressure sensor
JP5595145B2 (en) 2010-07-02 2014-09-24 株式会社デンソー Semiconductor dynamic quantity sensor

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57194327A (en) * 1981-05-26 1982-11-29 Nippon Denso Co Ltd Semiconductor pressure transducer for car
JPS59159084A (en) * 1983-03-01 1984-09-08 Citizen Watch Co Ltd Pressure detecting section construction for electronic time piece with water depth-meter
JPH05133827A (en) * 1991-11-12 1993-05-28 Fujikura Ltd Semiconductor pressure sensor
JPH11248571A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Matsushita Electric Works Ltd Pedestal for semiconductor pressure sensor
JP2000346736A (en) * 1999-06-02 2000-12-15 Saginomiya Seisakusho Inc Semiconductor-type pressure sensor
JP2001059789A (en) * 1999-08-24 2001-03-06 Matsushita Electric Works Ltd Semiconductor pressure detector
JP2006220456A (en) * 2005-02-08 2006-08-24 Denso Corp Pressure sensor and its manufacturing method
JP2006220592A (en) * 2005-02-14 2006-08-24 Denso Corp Pressure sensor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016535846A (en) * 2013-10-25 2016-11-17 オキシトロル エス.アー. Pressure sensor including a structure for controlling an adhesive layer that is resistant to temperature changes
JP2021502553A (en) * 2017-11-08 2021-01-28 ティーディーケイ・エレクトロニクス・アクチェンゲゼルシャフトTdk Electronics Ag Pressure sensor system with protection against frozen media
JP2019190906A (en) * 2018-04-20 2019-10-31 株式会社デンソー Physical quantity sensor and method for manufacturing the same
JP7073881B2 (en) 2018-04-20 2022-05-24 株式会社デンソー Physical quantity sensor and its manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
DE102012204414A1 (en) 2012-09-27
DE102012204414B4 (en) 2024-04-25
CN102692295B (en) 2014-09-24
US8733175B2 (en) 2014-05-27
CN102692295A (en) 2012-09-26
US20120240683A1 (en) 2012-09-27
JP5418618B2 (en) 2014-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5418618B2 (en) Pressure sensor
JP5998379B2 (en) Sensor device package and method
JP4556784B2 (en) Pressure sensor
KR20150083029A (en) Sensor for detecting a temperature and a pressure of a fluid medium
US20080277747A1 (en) MEMS device support structure for sensor packaging
KR101213895B1 (en) Semiconductor strain sensor for vehicle engine intake air pressure measurement
JP6154488B2 (en) Pressure measuring device
CN105444943B (en) Sensor for detecting the pressure of a fluid medium
US9513181B2 (en) Flat covered leadless pressure sensor assemblies suitable for operation in extreme environments
JP2009186209A (en) Pressure sensor
JP5292687B2 (en) Pressure sensor
US20110073969A1 (en) Sensor system and method for manufacturing same
US6951136B2 (en) Semiconductor pressure sensor device to detect micro pressure
US11169039B2 (en) Pressure sensor device and method of sensing pressure
JP2009031067A (en) Sensor device
JP5699843B2 (en) Pressure sensor
JP4507890B2 (en) Manufacturing method of pressure sensor
JP2008241327A (en) Pressure sensor
JP2015114278A (en) Pressure sensor
JP2017146163A (en) Pressure sensor and manufacturing method thereof
JP7178780B2 (en) pressure sensor
JP5067360B2 (en) Pressure sensor
JP2006058223A (en) Pressure sensor and its design method
JP5648562B2 (en) Combustion pressure sensor
JP6728980B2 (en) Method of manufacturing pressure sensor

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121009

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130321

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130416

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130820

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131002

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131022

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131104

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5418618

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250