JPH05133827A - Semiconductor pressure sensor - Google Patents

Semiconductor pressure sensor

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Publication number
JPH05133827A
JPH05133827A JP32368291A JP32368291A JPH05133827A JP H05133827 A JPH05133827 A JP H05133827A JP 32368291 A JP32368291 A JP 32368291A JP 32368291 A JP32368291 A JP 32368291A JP H05133827 A JPH05133827 A JP H05133827A
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JP
Japan
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pressure
pedestal
base
sensitive chip
gel
Prior art date
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Pending
Application number
JP32368291A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Ito
達也 伊藤
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05133827A publication Critical patent/JPH05133827A/en
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L19/00Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
    • G01L19/06Means for preventing overload or deleterious influence of the measured medium on the measuring device or vice versa
    • G01L19/0627Protection against aggressive medium in general

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a semiconductor pressure sensor with a high reliability by using for pressure measurement when a pressure is given from a rear surface of a pressure-sensing chip through a pressure medium which consists of a gelshaped substance. CONSTITUTION:A pressure-sensing chip 3 is provided on a base 1 through a pedestal 2, and an external connection terminal 5 is connected to the pressure- sensing chip 3 through a lead wire 4. A pressure-introducing hole which is connected to a pressure-guiding pipe 6 is formed at the base 1 and the pedestal 2 and an introduction path for guiding a measurement medium is formed. A diaphragm part which is deformed according to a pressure is formed at the pressure-sensing chip 3 and a piezo resistance gauge is formed on the surface. A gel-shaped fluorosilicone, namely a fluoro silicone gel 8 is provided at a penetration hole part which forms the introduction path of the measurement medium which is provided mainly at the base 1 and the pedestal 2. A dimension of a pressure introduction hole which is provided at the base 1 and the pedestal 2 is formed to be equal to or larger than that of a recessed part of a rear surface of the pressure-sensing chip 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、自動車のガソリンタン
ク内のガソリン蒸気圧力、油圧機械の油圧力、各種の水
圧等の測定に用いられる半導体圧力センサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor pressure sensor used for measuring a gasoline vapor pressure in a gasoline tank of an automobile, an oil pressure of a hydraulic machine, various water pressures and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体圧力センサは、裏面に凹
部を設けることにより肉厚を薄くして圧力に応じて変形
するダイヤフラム部を形成した感圧チップの表面にIC
(集積回路)の製造と同様の方法でピエゾ抵抗ゲージを
形成したものを用い、この感圧チップに例えば測定媒体
による圧力を印加して、圧力測定を行う。
2. Description of the Related Art Generally, a semiconductor pressure sensor has an IC on the front surface of a pressure-sensitive chip having a diaphragm portion which is thinned by forming a recess on the back surface and is deformed in response to pressure.
Using a piezoresistive gauge formed by the same method as in the manufacturing of (integrated circuit), pressure is measured by applying a pressure from a measuring medium to the pressure sensitive chip.

【0003】この半導体圧力センサの前記感圧チップの
ピエゾ抵抗ゲージ部分は、汚染に弱く、汚損により性能
が劣化する可能性がある。このため、汚染された液体、
それ自体がピエゾ抵抗ゲージを汚染する可能性がある液
体等のように、前記感圧チップのピエゾ抵抗ゲージを汚
染し易い媒体の圧力を測定するための半導体圧力センサ
として、従来は図2に示すような構成を有するものが用
いられていた。
The piezoresistive gauge portion of the pressure-sensitive chip of this semiconductor pressure sensor is vulnerable to contamination, and its performance may be deteriorated due to contamination. For this reason, contaminated liquids,
As a semiconductor pressure sensor for measuring the pressure of a medium which easily contaminates the piezoresistive gauge of the pressure-sensitive chip, such as a liquid which itself may contaminate the piezoresistive gauge, it is conventionally shown in FIG. Those having such a configuration have been used.

【0004】図2に示す半導体圧力センサは、ゲージ圧
型の逆圧型と称されるタイプの半導体圧力センサであ
り、ベース21上に台座22を介して感圧チップ23が
設けられ、この感圧チップ23にリードワイヤ24を介
して外部接続端子25が接続されている。台座22は、
シリコン、ガラス等を材料として形成される。ベース2
1および台座22には、ベース21の下部に設けられた
導圧パイプ26に連通する貫通孔が形成されており、測
定媒体を導入する導入路を形成している。ベース21の
上面、台座22、感圧チップ23、およびリードワイヤ
24は、キャン27によって覆われており、外部接続端
子25はベース21を貫通して外部に導出されている。
キャン27の上部中央には大気解放孔が形成されてい
る。感圧チップ23は、先に述べたように裏面側に凹部
が設けられて圧力に応じて変形するダイヤフラム部を形
成しており、その表面にピエゾ抵抗ゲージ(図示してい
ない)が形成されている。なお、ゲージ圧型としない場
合、つまり、絶対圧型とする場合には、キャン27には
大気解放孔を設けずにキャン27の内部を真空とする。
The semiconductor pressure sensor shown in FIG. 2 is a semiconductor pressure sensor of a type called a gauge pressure type reverse pressure type, and a pressure sensitive chip 23 is provided on a base 21 via a pedestal 22, and this pressure sensitive chip is provided. An external connection terminal 25 is connected to 23 via a lead wire 24. The pedestal 22 is
It is formed using silicon, glass, or the like as a material. Base 2
1 and the pedestal 22 are formed with a through hole communicating with a pressure guiding pipe 26 provided in the lower portion of the base 21 and forming an introduction path for introducing the measurement medium. The upper surface of the base 21, the pedestal 22, the pressure-sensitive chip 23, and the lead wire 24 are covered with a can 27, and the external connection terminal 25 penetrates the base 21 and is led to the outside.
An air release hole is formed in the center of the upper portion of the can 27. As described above, the pressure-sensitive chip 23 is provided with the concave portion on the back surface side to form the diaphragm portion which is deformed according to the pressure, and the surface thereof is provided with the piezo resistance gauge (not shown). There is. When the gauge pressure type is not used, that is, when the absolute pressure type is used, the inside of the can 27 is evacuated without providing the atmosphere opening hole in the can 27.

【0005】このタイプの半導体圧力センサは、感圧チ
ップ23のダイヤフラム部の裏面側(ピエゾ抵抗ゲージ
が設けられる側でなく、凹部が形成される側)に測定媒
体が導入されて、この部分にて被測定圧力を受圧する。
そこで、ベース21および台座22に設けられた貫通
孔、およびベース21の下部に設けられた導圧パイプ2
6により感圧チップ23の裏面に連通して形成される測
定媒体の導入路の主としてベース21および台座22に
設けられた貫通孔部分には、ゲル状の保護材層として例
えばゲル状のフルオロシリコーンすなわちフルオロシリ
コーンゲル28が設けられている。すなわち、感圧チッ
プ23の裏面である凹部側は、フルオロシリコーンゲル
28で覆われており、測定媒体の圧力はフルオロシリコ
ーンゲル28を介して感圧チップ23に伝達される。
In this type of semiconductor pressure sensor, the measurement medium is introduced into the rear surface side of the diaphragm portion of the pressure-sensitive chip 23 (the side where the concave portion is formed, not the side where the piezoresistive gauge is provided), and this portion is introduced into this portion. To receive the measured pressure.
Therefore, the through holes provided in the base 21 and the pedestal 22, and the pressure guiding pipe 2 provided in the lower portion of the base 21.
6, a gel-like protective material layer, for example, a gel-like fluorosilicone, is provided mainly in the through-hole portion provided in the base 21 and the pedestal 22 in the introduction path of the measurement medium formed in communication with the back surface of the pressure-sensitive chip 23. That is, the fluorosilicone gel 28 is provided. That is, the concave side, which is the back surface of the pressure-sensitive chip 23, is covered with the fluorosilicone gel 28, and the pressure of the measurement medium is transmitted to the pressure-sensitive chip 23 via the fluorosilicone gel 28.

【0006】フルオロシリコーンは、耐溶剤性および耐
水性が良好であり、且つゲル状のフルオロシリコーンは
感圧チップ23の感圧特性に影響を及ぼすことはない。
したがって、図2の半導体圧力センサは、感圧チップ2
3の裏面側から、直接圧力を加える基本構造を用いて、
しかも感圧チップ23に直接測定媒体を触れさせないよ
うに、フルオロシリコーンゲル28が設けられている。
図2に示した半導体圧力センサは、感圧ダイヤフラムに
直接汚染物等が付着することがないので、汚染による特
性の変化が生じることがない。しかも、感圧ダイヤフラ
ムへの粘着成分の付着による特性の変化等が生じること
もなく、信頼性も高い。
Fluorosilicone has good solvent resistance and water resistance, and gelled fluorosilicone does not affect the pressure-sensitive characteristics of pressure-sensitive chip 23.
Therefore, the semiconductor pressure sensor of FIG.
Using the basic structure to apply pressure directly from the back side of 3,
Moreover, a fluorosilicone gel 28 is provided so as not to directly contact the pressure-sensitive chip 23 with the measuring medium.
In the semiconductor pressure sensor shown in FIG. 2, since contaminants and the like do not directly adhere to the pressure-sensitive diaphragm, the characteristics will not change due to contamination. In addition, the characteristics are not changed due to the adhesion of the adhesive component to the pressure-sensitive diaphragm, and the reliability is high.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2に
示した構造には次のような問題点があった。図2の構造
では、上記保護材層を形成するフルオロシリコーンゲル
28が、感圧チップ23の下部に設けられて感圧チップ
23を支持するための台座22部分と、感圧ダイヤフラ
ム部との間の狭い部分(この部分は、感圧チップ23に
ダイヤフラム部を形成するために設けられた凹部とフル
オロシリコーンゲル28を介して圧力を導入するための
圧力導入路との寸法関係に起因して形成され、通常、
0.2〜0.3mm程度の厚さを有する)に、部分的に
閉じこめられる形になる。この狭い部分は、フルオロシ
リコーンゲル28を注入する工程での充填性に問題を生
じ、しかも、フルオロシリコーンゲル28の温度膨張率
は、台座22、感圧ダイヤフラム等に比べて、ほぼ10
0倍程度も大きいので、完成後の圧力センサの温度特性
に影響する。これらのフルオロシリコーンゲル28の充
填性およびセンサの温度特性は圧力センサの基本性能に
影響し、信頼性を損なう原因となる。
However, the structure shown in FIG. 2 has the following problems. In the structure of FIG. 2, the fluorosilicone gel 28 forming the protective material layer is provided between the pedestal 22 portion for supporting the pressure-sensitive chip 23 provided below the pressure-sensitive chip 23 and the pressure-sensitive diaphragm portion. Narrow portion (this portion is formed due to the dimensional relationship between the concave portion provided for forming the diaphragm portion in the pressure-sensitive chip 23 and the pressure introduction path for introducing pressure through the fluorosilicone gel 28). Is usually
It has a thickness of about 0.2 to 0.3 mm) and is partially confined. This narrow portion causes a problem in the filling property in the step of injecting the fluorosilicone gel 28, and the coefficient of thermal expansion of the fluorosilicone gel 28 is about 10 as compared with the pedestal 22, the pressure-sensitive diaphragm, and the like.
Since it is about 0 times as large, it affects the temperature characteristics of the pressure sensor after completion. The filling properties of these fluorosilicone gels 28 and the temperature characteristics of the sensor affect the basic performance of the pressure sensor, which causes the reliability to be impaired.

【0008】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、ゲル状の物質からなる圧力媒体を介して感圧
チップの裏面から圧力が与えられる場合の圧力測定に用
いて、高い信頼性を得ることが可能な半導体圧力センサ
を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is used for pressure measurement when pressure is applied from the back surface of a pressure-sensitive chip through a pressure medium made of a gel-like substance, and is highly reliable. It is an object of the present invention to provide a semiconductor pressure sensor capable of achieving high performance.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体圧力
センサは、半導体チップの一方の面に凹部を形成して所
定部分の肉厚を薄くすることにより圧力に応じて変形し
得るダイヤフラム部が形成され且つ前記ダイヤフラム部
の他方の面に歪みゲージが形成されてなる感圧チップの
前記ダイヤフラム部の前記一方の面に測定媒体の圧力が
印加される構造の半導体圧力センサにおいて、前記感圧
チップを支持する部分の圧力導入孔の孔寸法を、前記ダ
イヤフラム部を形成する凹部の寸法以上に形成したこと
を特徴としている。
A semiconductor pressure sensor according to the present invention has a diaphragm portion which can be deformed in response to pressure by forming a recess on one surface of a semiconductor chip to reduce the thickness of a predetermined portion. A semiconductor pressure sensor having a structure in which a pressure of a measuring medium is applied to the one surface of the diaphragm portion of the pressure sensitive chip formed on the other surface of the diaphragm portion and a strain gauge is formed on the other surface of the diaphragm portion. It is characterized in that the hole size of the pressure introducing hole of the portion supporting the is formed to be equal to or larger than the size of the concave portion forming the diaphragm part.

【0010】[0010]

【作用】本発明の半導体圧力センサにおいては、半導体
チップの一方の面に凹部を形成して所定部分の肉厚を薄
くすることにより圧力に応じて変形し得るダイヤフラム
部が形成され且つ前記ダイヤフラム部の他方の面に歪み
ゲージが形成されてなる感圧チップの前記ダイヤフラム
部の前記一方の面に測定媒体の圧力が印加される構造の
半導体圧力センサにおいて、前記感圧チップを支持する
部分の圧力導入孔の孔寸法を、前記ダイヤフラム部を形
成する凹部の寸法以上に形成するので、上述の狭い部分
が形成されることがなく、ゲル状の物質を圧力媒体とす
る場合に、高い信頼性を得ることが可能となる。
In the semiconductor pressure sensor of the present invention, the diaphragm portion is formed on one surface of the semiconductor chip to reduce the thickness of the predetermined portion, thereby forming the diaphragm portion which can be deformed in response to the pressure. In the semiconductor pressure sensor having a structure in which the pressure of the measurement medium is applied to the one surface of the diaphragm portion of the pressure-sensitive chip in which the strain gauge is formed on the other surface, the pressure of the portion supporting the pressure-sensitive chip Since the hole size of the introduction hole is formed to be equal to or larger than the size of the recess forming the diaphragm part, the above-mentioned narrow part is not formed, and high reliability is obtained when a gel-like substance is used as the pressure medium. It becomes possible to obtain.

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例を説
明する。図1は、本発明の一実施例に係る半導体圧力セ
ンサの構造を示している。図1に示す半導体圧力センサ
は、ベース1、台座2、感圧チップ3、リードワイヤ
4、外部接続端子5、導圧パイプ6、キャン7および保
護材としてのフルオを有しており、これらは、図2に示
したベース21、台座22、感圧チップ23、リードワ
イヤ24、外部接続端子25、導圧パイプ26、キャン
27およびフルオロシリコーンゲル28と基本的に同様
である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the structure of a semiconductor pressure sensor according to an embodiment of the present invention. The semiconductor pressure sensor shown in FIG. 1 has a base 1, a pedestal 2, a pressure sensitive chip 3, a lead wire 4, an external connection terminal 5, a pressure guiding pipe 6, a can 7 and a fluorine as a protective material. It is basically the same as the base 21, the pedestal 22, the pressure-sensitive chip 23, the lead wire 24, the external connection terminal 25, the pressure guiding pipe 26, the can 27, and the fluorosilicone gel 28 shown in FIG.

【0012】すなわち、ベース1上に台座2を介して感
圧チップ3が設けられ、この感圧チップ3にリードワイ
ヤ4を介して外部接続端子5が接続されている。ベース
1および台座2には、ベース1の図示下部に設けられた
導圧パイプ6に連通する貫通孔が形成されており、測定
媒体を導入する導入路を形成している。ベース1の図示
上面、台座2、感圧チップ3、およびリードワイヤ4
は、キャン7によって覆われており、外部接続端子5は
ベース1を貫通して外部に導出されている。キャン7の
上部中央には大気解放孔が形成されている。感圧チップ
3は、圧力に応じて変形するダイヤフラム部を形成して
おり、その表面にピエゾ抵抗ゲージが形成されている。
なお、ゲージ圧型としない場合、つまり、絶対圧型とす
る場合には、キャン7には大気解放孔を設けずにキャン
7の内部を真空とする。
That is, the pressure sensitive chip 3 is provided on the base 1 via the pedestal 2, and the external connection terminal 5 is connected to the pressure sensitive chip 3 via the lead wire 4. Through holes are formed in the base 1 and the pedestal 2 so as to communicate with the pressure guiding pipe 6 provided in the lower portion of the base 1 in the drawing, and form an introduction path for introducing the measurement medium. Upper surface of base 1 shown in the figure, pedestal 2, pressure-sensitive chip 3, and lead wire
Is covered with a can 7, and the external connection terminal 5 extends through the base 1 to the outside. An atmosphere opening hole is formed in the center of the upper portion of the can 7. The pressure-sensitive chip 3 forms a diaphragm portion that deforms in response to pressure, and a piezoresistive gauge is formed on the surface thereof.
When the gauge pressure type is not used, that is, when the absolute pressure type is used, the inside of the can 7 is evacuated without providing the atmosphere opening hole in the can 7.

【0013】そして、ベース1および台座2に設けられ
た貫通孔、およびベース1の下部に設けられた導圧パイ
プ6により感圧チップ23の裏面に連通して形成される
測定媒体の導入路の主としてベース1および台座2に設
けられた貫通孔部分には、保護材層であるゲル状のフル
オロシリコーンすなわちフルオロシリコーンゲル8が設
けられている。すなわち、感圧チップ3の裏面は、フル
オロシリコーンゲル8で覆われており、測定媒体の圧力
はフルオロシリコーンゲル8を介して感圧チップ3に伝
達される。フルオロシリコーンは、耐溶剤性および耐水
性が良好であり、且つゲル状のフルオロシリコーンは感
圧チップ3の感圧特性に影響を及ぼすことはない。
A through hole provided in the base 1 and the pedestal 2 and a pressure guiding pipe 6 provided in the lower portion of the base 1 are connected to the back surface of the pressure-sensitive chip 23 to form an introduction path for the measurement medium. A gel-like fluorosilicone, that is, a fluorosilicone gel 8 as a protective material layer is provided mainly in the through-hole portions provided in the base 1 and the pedestal 2. That is, the back surface of the pressure sensitive chip 3 is covered with the fluorosilicone gel 8, and the pressure of the measurement medium is transmitted to the pressure sensitive chip 3 via the fluorosilicone gel 8. The fluorosilicone has good solvent resistance and water resistance, and the gelled fluorosilicone does not affect the pressure-sensitive characteristics of the pressure-sensitive chip 3.

【0014】この図1に示す構成が図2に示した構成と
大きく相違する点は、図1に示されているように、ベー
ス1および台座2に設けられた測定媒体の導入路を形成
する貫通孔(フルオロシリコーンゲル8が主として充填
される部分)すなわち圧力導入孔の寸法を、感圧チップ
3の裏面の(ダイヤフラム部を形成するための)凹部の
寸法と等しいかそれよりも大きく形成したことである。
例えば、貫通孔の横断面形状および凹部の開口形状が共
に円形ならば貫通孔の横断面を凹部の開口部よりも大径
とする。もちろん、両者の形状にかかわらず貫通孔の横
断面形状内に凹部の開口形状が一致するかあるいは収ま
るような寸法関係であればよい。
The structure shown in FIG. 1 differs greatly from the structure shown in FIG. 2 in that it forms an introduction path for the measurement medium provided in the base 1 and the pedestal 2 as shown in FIG. The size of the through hole (portion mainly filled with the fluorosilicone gel 8), that is, the pressure introducing hole is equal to or larger than the size of the recess (for forming the diaphragm part) on the back surface of the pressure sensitive chip 3. That is.
For example, if the cross-sectional shape of the through hole and the opening shape of the recess are both circular, the cross-section of the through hole has a larger diameter than the opening of the recess. Of course, the dimensional relationship may be such that the opening shape of the concave portion matches or fits within the cross-sectional shape of the through hole regardless of the shapes of both.

【0015】このようにすることにより、台座2と感圧
ダイヤフラムとの間に狭い部分が形成されることがなく
なるので、フルオロシリコーンゲル8が閉じこめられる
ことがなくなる。このため、フルオロシリコーンゲル8
の注入工程での充填性が改善されるとともに、圧力セン
サ完成後の温度特性にフルオロシリコーンゲル8の熱膨
張による影響が生じることもなくなる。
By doing so, a narrow portion is not formed between the pedestal 2 and the pressure-sensitive diaphragm, so that the fluorosilicone gel 8 is not confined. Therefore, fluorosilicone gel 8
The filling property in the injection step is improved, and the thermal characteristics of the fluorosilicone gel 8 are not affected by the temperature characteristics after the pressure sensor is completed.

【0016】なお、保護材層として、フルオロシリコー
ンゲルに代えて他のシリコーン系ゲル状物質を用いた
り、他のゲル状物質を用いたりしてもよく、感圧チップ
のダイヤフラム部の裏面側を測定媒体から保護し且つ前
記ダイヤフラム部の動作を妨げないものであれば、どの
ような材料を用いてもよい。また、上述では、圧力導入
路に保護材層としてフルオロシリコーンゲル8を充填し
た場合について説明したが、圧力媒体としてゲル状の媒
体を介して圧力を受ける場合ならば、どのような場合に
も上述の構成は効果的である。また、通常ベース1およ
び台座2に設けられる測定媒体の導入用の貫通孔は、同
一の形状寸法に形成されるが、少なくとも台座2部分の
貫通孔を上述のような寸法とすれば、極端に狭い部分が
形成されることがなくなるので、本発明の効果は得られ
る。
As the protective material layer, another silicone-based gel-like substance may be used instead of the fluorosilicone gel, or another gel-like substance may be used, and the back side of the diaphragm portion of the pressure-sensitive chip may be covered. Any material may be used as long as it protects from the measurement medium and does not hinder the operation of the diaphragm portion. Further, in the above description, the case where the pressure introduction path is filled with the fluorosilicone gel 8 as the protective material layer has been described, but in any case, if the pressure is received via the gel medium as the pressure medium, the above description is applied. The composition of is effective. Further, the through holes for introducing the measurement medium, which are usually provided in the base 1 and the pedestal 2, are formed to have the same shape and size, but if at least the through holes of the pedestal 2 are set to the above-mentioned size, it is extremely difficult. Since the narrow portion is not formed, the effect of the present invention can be obtained.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、半
導体チップの一方の面に凹部を形成して所定部分の肉厚
を薄くすることにより圧力に応じて変形し得るダイヤフ
ラム部が形成され且つ前記ダイヤフラム部の他方の面に
歪みゲージが形成されてなる感圧チップの前記ダイヤフ
ラム部の前記一方の面に測定媒体の圧力が印加される構
造の半導体圧力センサにおいて、前記感圧チップを支持
する部分の圧力導入孔の孔寸法を、前記ダイヤフラム部
を形成する凹部の寸法以上に形成するようにして、ゲル
状の物質からなる圧力媒体を介して圧力が与えられる圧
力測定に用いて、高い信頼性を得ることが可能な半導体
圧力センサを提供することができる。
As described above, according to the present invention, a diaphragm portion which can be deformed in response to pressure is formed by forming a recess on one surface of a semiconductor chip to reduce the thickness of a predetermined portion. In the semiconductor pressure sensor having a structure in which the pressure of the measurement medium is applied to the one surface of the diaphragm portion of the pressure sensitive chip in which the strain gauge is formed on the other surface of the diaphragm portion, the pressure sensitive chip is The hole size of the pressure introducing hole of the supporting portion is formed to be equal to or larger than the size of the recess forming the diaphragm portion, and is used for pressure measurement in which pressure is applied through a pressure medium made of a gel-like substance, A semiconductor pressure sensor that can obtain high reliability can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例に係る半導体圧力センサの
構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a semiconductor pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

【図2】 従来の半導体圧力センサの一例の構成を示す
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of an example of a conventional semiconductor pressure sensor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ベース、2…台座、3…感圧チップ、4…リードワ
イヤ、5…外部接続端子、6…導圧パイプ、7…キャ
ン、8…フルオロシリコーンゲル。
1 ... Base, 2 ... Pedestal, 3 ... Pressure sensitive tip, 4 ... Lead wire, 5 ... External connection terminal, 6 ... Pressure guiding pipe, 7 ... Can, 8 ... Fluorosilicone gel.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップの一方の面に凹部を形成し
て所定部分の肉厚を薄くすることにより圧力に応じて変
形し得るダイヤフラム部が形成され且つ前記ダイヤフラ
ム部の他方の面に歪みゲージが形成されてなる感圧チッ
プの前記ダイヤフラム部の前記一方の面に測定媒体の圧
力が印加される構造の半導体圧力センサにおいて、前記
感圧チップを支持する部分の圧力導入孔の孔寸法を、前
記ダイヤフラム部を形成する凹部の寸法以上に形成した
ことを特徴とする半導体圧力センサ。
1. A diaphragm portion is formed on one surface of a semiconductor chip to reduce the thickness of a predetermined portion to form a diaphragm portion that can be deformed in response to pressure, and a strain gauge is formed on the other surface of the diaphragm portion. In the semiconductor pressure sensor of the structure in which the pressure of the measurement medium is applied to the one surface of the diaphragm portion of the pressure-sensitive chip formed, the hole size of the pressure introduction hole of the portion supporting the pressure-sensitive chip, A semiconductor pressure sensor is formed to have a size equal to or larger than a size of a recess forming the diaphragm part.
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