JPH10170367A - Semiconductor pressure sensor - Google Patents
Semiconductor pressure sensorInfo
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- JPH10170367A JPH10170367A JP8328792A JP32879296A JPH10170367A JP H10170367 A JPH10170367 A JP H10170367A JP 8328792 A JP8328792 A JP 8328792A JP 32879296 A JP32879296 A JP 32879296A JP H10170367 A JPH10170367 A JP H10170367A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体式圧力セン
サに関し、例えば自動車用の吸気圧センサ等に用いるこ
とができる。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor pressure sensor, and can be used, for example, as an intake pressure sensor for automobiles.
【0002】[0002]
【従来の技術】この種の半導体式圧力センサは、圧力を
受けて変位するダイヤフラムが形成されたセンサチップ
と、このセンサチップを固定するガラスもしくはシリコ
ンの台座を有している。そして、圧力によって生じるダ
イヤフラムの歪みをピエゾ抵抗(歪みゲージ)によって
検出している。また、台座は、金属ステム等の基台上に
半田付けされている。2. Description of the Related Art A semiconductor type pressure sensor of this type has a sensor chip having a diaphragm which is displaced by receiving pressure, and a glass or silicon pedestal for fixing the sensor chip. Then, the strain of the diaphragm caused by the pressure is detected by a piezo resistor (strain gauge). The pedestal is soldered on a base such as a metal stem.
【0003】ここで、測定すべき圧力以外の要因によっ
てダイヤフラムに歪みが生じると、センサ特性の誤差要
因となる。例えば、基台が温度変化により歪むと、その
歪みがダイヤフラムに伝わって誤差要因になる。このた
め、基台として、熱膨張係数がシリコンあるいはガラス
台座に近いコバール、42アロイあるいはセラミック基
板を用い、基台からの熱歪みをできるだけ小さくしてい
る。Here, if distortion occurs in the diaphragm due to factors other than the pressure to be measured, it becomes an error factor in sensor characteristics. For example, when the base is distorted due to a temperature change, the distortion is transmitted to the diaphragm and causes an error. For this reason, a Kovar, 42 alloy, or ceramic substrate having a thermal expansion coefficient close to that of silicon or a glass pedestal is used as a base, and thermal distortion from the base is minimized.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の構成に
対し、コスト的な問題等から、基台を樹脂材料にて構成
し、その上に台座を接着剤にて接着することが考えられ
る。この場合、樹脂材料は、コバール、42アロイある
いはセラミックに比べて熱膨張係数が大きく、その歪み
量も大きいため、基台からの熱歪みによるセンサ特性へ
の影響も大きくなる。In contrast to the above-mentioned conventional structure, it is conceivable that the base is made of a resin material and the pedestal is adhered to the base with an adhesive from the viewpoint of cost. In this case, the resin material has a larger coefficient of thermal expansion and a larger amount of distortion than Kovar, 42 alloy, or ceramic, so that the thermal distortion from the base greatly affects the sensor characteristics.
【0005】特開昭55−19864号公報には、セン
サチップを固定する台座の高さを十分高くすることによ
って、基台からの熱歪みによるセンサ特性への影響を小
さくすることが開示されており、台座の高さを高くすれ
ば、基台を樹脂材料にて構成しても、その熱歪みによる
センサ特性への影響を低減することができる。しかしな
がら、台座の高さを高くすると、センシング部の高さが
高くなり、アッセンブリのサイズが大きくなるというデ
メリットがある。Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-19864 discloses that the influence of thermal strain from a base on sensor characteristics is reduced by sufficiently increasing the height of a pedestal for fixing a sensor chip. If the height of the pedestal is increased, even if the base is made of a resin material, the influence of the thermal strain on the sensor characteristics can be reduced. However, increasing the height of the pedestal has the disadvantage of increasing the height of the sensing section and increasing the size of the assembly.
【0006】また、上述したような温度変化に対する熱
歪みの影響は、センサ自身の持つ温度特性とともに、信
号処理回路の温度補正回路によって補正することも可能
である。しかしながら、温度変化に対応しない要因に対
しては温度補正回路によっても補正することができな
い。温度変化に対応しない要因としては、接着剤や樹脂
材料のもつクリープ特性に起因するものが上げられる。
この場合、接着剤や樹脂材料は、一旦、温度をあげて元
に戻したときに、直ぐに元の状態に戻らずに、時間をか
けて徐々に戻っていくような変化をする(これを熱ヒス
テリシスという)。このようなセンサの温度変化と対応
せずに生じる変化については信号処理回路で補正するこ
とは困難である。Further, the influence of the thermal strain on the temperature change as described above can be corrected by the temperature correction circuit of the signal processing circuit together with the temperature characteristics of the sensor itself. However, a factor that does not correspond to a temperature change cannot be corrected by the temperature correction circuit. Factors that do not correspond to the temperature change include those due to the creep characteristics of the adhesive or the resin material.
In this case, when the adhesive or the resin material is once returned to the original state by raising the temperature, the adhesive and the resin material do not return to the original state immediately, but gradually return over time (this is caused by heat). Hysteresis). It is difficult to correct such a change that does not correspond to the temperature change of the sensor by the signal processing circuit.
【0007】本発明は上記問題に鑑みたもので、台座の
高さを高くすることなく、基台からの熱歪みの影響を緩
和し、かつ熱ヒステリシスによる影響を安定して低減す
ることを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to reduce the influence of thermal strain from a base and stably reduce the influence of thermal hysteresis without increasing the height of a pedestal. And
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明においては、センサチップを
固定する台座を、樹脂材料からなる基台に樹脂接着剤に
よって接着し、樹脂接着剤の厚さを40μm以上にした
ことを特徴としている。このように、樹脂接着剤の厚さ
を40μm以上にすることによって、基台からの熱歪み
の影響を緩和し、かつ後述する図3の測定結果に示すよ
うに熱ヒステリシス量を安定して低減することができ
る。In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a pedestal for fixing a sensor chip is adhered to a base made of a resin material with a resin adhesive. It is characterized in that the thickness of the agent is 40 μm or more. As described above, by setting the thickness of the resin adhesive to 40 μm or more, the influence of thermal strain from the base is reduced, and the amount of thermal hysteresis is stably reduced as shown in the measurement results of FIG. can do.
【0009】なお、樹脂接着剤としては、請求項2に記
載の発明のように、シリコン系の接着剤を用いることが
できる。この場合、シリコン系の接着剤としては、請求
項3に記載の発明のように、弾性力が1MPa以下であ
るものであるのが好ましい。また、請求項4に記載の発
明のように、樹脂接着剤に、その厚さを確保する手段を
混入するようにすれば、樹脂接着剤の厚さを容易に40
μm以上にすることができる。この場合、その厚さを確
保する手段としては、請求項5に記載の発明のように、
ビーズを用いることができる。Incidentally, as the resin adhesive, a silicon adhesive can be used as in the second aspect of the present invention. In this case, it is preferable that the silicon-based adhesive has an elastic force of 1 MPa or less, as in the third aspect of the present invention. Further, if the means for securing the thickness is mixed with the resin adhesive as in the invention according to claim 4, the thickness of the resin adhesive can be easily reduced by 40%.
μm or more. In this case, as means for securing the thickness, as in the invention described in claim 5,
Beads can be used.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】図1に本発明の一実施形態に係る
半導体式圧力センサの構造を示す。本実施形態に係る半
導体式圧力センサは、自動車用の吸気圧センサとして用
いられる。センサチップ1は、シリコン基板にて構成さ
れ、ダイヤフラム1aが形成されるとともに、その表面
に、ダイヤフラム1aの変位を検出する拡散ゲージ(歪
みゲージ)2が形成されている。センサチップ1は、高
さ0.7mmのアルミナケイ酸系のガラス台座3と陽極
接合されている。そして、センサチップ1とガラス台座
3との間で真空室4が形成され、ダイヤラム1aは、表
面にかかる圧力と真空室4の圧力の差圧に応じて変位す
る。FIG. 1 shows the structure of a semiconductor pressure sensor according to an embodiment of the present invention. The semiconductor pressure sensor according to the present embodiment is used as an intake pressure sensor for an automobile. The sensor chip 1 is formed of a silicon substrate, has a diaphragm 1a formed thereon, and a diffusion gauge (strain gauge) 2 for detecting a displacement of the diaphragm 1a is formed on the surface thereof. The sensor chip 1 is anodically bonded to an alumina silicate glass base 3 having a height of 0.7 mm. Then, a vacuum chamber 4 is formed between the sensor chip 1 and the glass pedestal 3, and the diaphragm 1 a is displaced according to a pressure difference between the pressure applied to the surface and the pressure of the vacuum chamber 4.
【0011】ガラス台座3は、接着剤6によって基台と
してのパッケージ材5に接着されている。パッケージ材
5は、エポキシ樹脂で構成されており、その熱膨張係数
は14ppm/℃である。接着剤6としては、弾性力が
0.6MPaのシリコン系の接着剤が用いられる。ま
た、接着材6は弾性力が低く接着材6だけでは所望の厚
さにするのが困難であるため、接着剤6には、その厚さ
を確保するために、ジビニルベンゼンからなるミクロビ
ーズ7が混入されている。The glass pedestal 3 is adhered to a package material 5 as a base with an adhesive 6. The package material 5 is made of an epoxy resin, and has a coefficient of thermal expansion of 14 ppm / ° C. As the adhesive 6, a silicon-based adhesive having an elasticity of 0.6 MPa is used. Further, since the adhesive 6 has a low elasticity and it is difficult to obtain a desired thickness with the adhesive 6 alone, the adhesive 6 has micro beads 7 made of divinylbenzene in order to secure the thickness. Is mixed in.
【0012】拡散ゲージ2は、センサチップ1上に形成
された図示しないAl薄膜による配線パターンおよびボ
ンディングワイヤにより、図示しない外部の信号処理回
路に電気的に接続されている。拡散ゲージ2は、センサ
チップ1の表面に4箇所形成されており、その4つの拡
散ゲージ2にて図2に示すブリッジ回路を構成してい
る。この場合、それぞれの拡散ゲージ2は、ダイヤラム
1aへの圧力変化に対して図の矢印方向に抵抗値が増減
変化し、出力端子B、C間に、ダイヤフラム1aにかか
る圧力に応じた電位差を発生させる。このB、C端子間
の電位差を信号処理回路にて増幅し、センサ出力を得
る。The diffusion gauge 2 is electrically connected to an external signal processing circuit (not shown) by a wiring pattern and a bonding wire of an Al thin film (not shown) formed on the sensor chip 1. The diffusion gauges 2 are formed at four locations on the surface of the sensor chip 1, and the four diffusion gauges 2 form a bridge circuit shown in FIG. In this case, the resistance value of each diffusion gauge 2 increases and decreases in the direction of the arrow in response to a change in pressure applied to the diaphragm 1a, and a potential difference corresponding to the pressure applied to the diaphragm 1a is generated between the output terminals B and C. Let it. The potential difference between the B and C terminals is amplified by a signal processing circuit to obtain a sensor output.
【0013】図3に、接着剤6の厚さを変えたときの熱
ヒステリシス量の測定結果を示す。熱ヒステリシス量
は、室温(25℃)にてセンサ出力の初期値を測定し、
高温(120℃)で2時間放置したのち、2時間かけて
室温(25℃)に戻して再度センサ出力を測定したとき
の、初期値との差から求められる。この場合、図2のA
端子から0.74mAの電流を流し、B、C端子間の電
位差を信号処理回路にて約220倍に増幅することによ
って、上記したセンサ出力を得ている。また、この測定
においては、ダイヤフラム1aにかかる圧力Pを750
mmHg一定にしている。FIG. 3 shows the measurement results of the thermal hysteresis when the thickness of the adhesive 6 is changed. The amount of thermal hysteresis measures the initial value of the sensor output at room temperature (25 ° C),
It is determined from the difference from the initial value when the sensor output is left at a high temperature (120 ° C.) for 2 hours, then returned to room temperature (25 ° C.) over 2 hours and the sensor output is measured again. In this case, A in FIG.
A current of 0.74 mA flows from the terminal, and the above-mentioned sensor output is obtained by amplifying the potential difference between the B and C terminals about 220 times by a signal processing circuit. In this measurement, the pressure P applied to the diaphragm 1a is 750.
mmHg is constant.
【0014】この図3に示す結果から、接着剤6の厚さ
を40μm以上にした場合、熱ヒステリシス量を安定し
て低減することができる。なお、図中の黒丸はミクロビ
ーズ7を混入しないものを示し、白丸は種々のサイズの
ミクロビーズ7を混入したものを示す。この場合、接着
剤6の厚さを40μm以上確保するために、直径50μ
m以上のミクロビーズ7を混入している。From the results shown in FIG. 3, when the thickness of the adhesive 6 is set to 40 μm or more, the amount of thermal hysteresis can be stably reduced. The black circles in the figure indicate those without microbeads 7 mixed therein, and the white circles indicate those with microbeads 7 of various sizes mixed therein. In this case, in order to secure the thickness of the adhesive 6 to 40 μm or more, a diameter of 50 μm is used.
m or more microbeads 7 are mixed.
【0015】また、接着剤6の厚さを40μm以上にす
ることにより、パッケージ材5からの台座3への熱歪み
の影響を非常に小さくすることができる。このため、ガ
ラス台座3を高くしなくても熱歪みの影響を少なくする
ことができる。実際、台座3の高さを、0.7mmから
0.5mmに変化させた場合でも、上記と同様の結果を
得ることを確認している。By setting the thickness of the adhesive 6 to 40 μm or more, the influence of thermal distortion from the package material 5 to the pedestal 3 can be extremely reduced. For this reason, the influence of thermal distortion can be reduced without increasing the height of the glass pedestal 3. Actually, it has been confirmed that the same result as described above is obtained even when the height of the pedestal 3 is changed from 0.7 mm to 0.5 mm.
【0016】なお、接着剤6の厚さは、使用上問題ない
範囲内であればその上限は特に問題とはならない。ま
た、シリコン系の接着剤6として、その弾性力が0.6
MPaであるものを用いたが、1Mpa以下のものであ
れば、上記した効果を得ることができると考えられる。The upper limit of the thickness of the adhesive 6 does not cause any particular problem as long as the thickness is within a range where there is no problem in use. The silicone adhesive 6 has an elastic force of 0.6.
Although a material of MPa was used, it is considered that the above-described effect can be obtained if the material is 1 Mpa or less.
【0017】さらに、本発明は上記した実施形態に限定
されるものでなく、特許請求の範囲に記載した範囲内で
適宜変更が可能である。例えば、圧力センサとしては、
台座3を貫通してダイヤフラム1aに測定媒体の圧力を
導入するタイプのものでもよく、また台座3としてはガ
ラス台座に限らずシリコン台座でもよく、さらに基台5
の樹脂材料、樹脂接着剤6においても、上記実施形態以
外の材料を用いることも可能である。Furthermore, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately modified within the scope described in the claims. For example, as a pressure sensor,
The type which introduces the pressure of the measurement medium into the diaphragm 1a through the pedestal 3 may be used. The pedestal 3 is not limited to the glass pedestal, but may be a silicon pedestal.
It is also possible to use a material other than the above embodiment for the resin material and the resin adhesive 6 described above.
【図1】本発明の一実施形態に係る半導体式圧力センサ
の構造を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a structure of a semiconductor pressure sensor according to one embodiment of the present invention.
【図2】拡散ゲージ2によるブリッジ回路の構成を示す
図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a bridge circuit using a diffusion gauge 2.
【図3】接着剤6の厚さと熱ヒステリシス量の関係を示
す図である。FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the thickness of an adhesive 6 and the amount of thermal hysteresis.
1…センサチップ、1a…ダイヤフラム、2…拡散ゲー
ジ、3…ガラス台座、5…パッケージ材、6…接着剤、
7…ミクロビーズ。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Sensor chip, 1a ... Diaphragm, 2 ... Diffusion gauge, 3 ... Glass pedestal, 5 ... Package material, 6 ... Adhesive,
7 Micro beads.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 康利 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yasutoshi Suzuki 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi Prefecture Inside DENSO Corporation
Claims (5)
a)が形成され、このダイヤフラムの変位を検出する歪
みゲージ(2)を有するセンサチップ(1)と、 このセンサチップを固定する台座(3)とを備え、 前記台座が、樹脂材料からなる基台(5)に樹脂接着剤
(6)によって接着されてなる半導体式圧力センサであ
って、 前記樹脂接着剤の厚さを40μm以上にしたことを特徴
とする半導体式圧力センサ。A diaphragm (1) that is displaced under pressure.
a) formed with a sensor chip (1) having a strain gauge (2) for detecting displacement of the diaphragm; and a pedestal (3) for fixing the sensor chip, wherein the pedestal is made of a resin material. A semiconductor pressure sensor which is adhered to a base (5) with a resin adhesive (6), wherein the thickness of the resin adhesive is set to 40 μm or more.
であることを特徴とする請求項1に記載の半導体式圧力
センサ。2. The semiconductor pressure sensor according to claim 1, wherein the resin adhesive is a silicon-based adhesive.
MPa以下のものであることを特徴とする請求項2に記
載の半導体式圧力センサ。3. The silicone-based adhesive has an elastic force of 1
3. The semiconductor pressure sensor according to claim 2, wherein the pressure is equal to or less than MPa.
手段(7)が混入されていることを特徴とする請求項1
乃至3のいずれか1つに記載の半導体式圧力センサ。4. The resin adhesive according to claim 1, further comprising means for ensuring the thickness thereof.
4. The semiconductor pressure sensor according to any one of claims 1 to 3.
(7)であることを特徴とする請求項4に記載の半導体
式圧力センサ。5. The semiconductor pressure sensor according to claim 4, wherein the means for securing the thickness is a bead (7).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8328792A JPH10170367A (en) | 1996-12-09 | 1996-12-09 | Semiconductor pressure sensor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8328792A JPH10170367A (en) | 1996-12-09 | 1996-12-09 | Semiconductor pressure sensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10170367A true JPH10170367A (en) | 1998-06-26 |
Family
ID=18214168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8328792A Pending JPH10170367A (en) | 1996-12-09 | 1996-12-09 | Semiconductor pressure sensor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10170367A (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6184561B1 (en) | 1998-05-29 | 2001-02-06 | Denso Corporation | Semiconductor pressure sensor having strain gauges and stress balance film |
WO2008122467A1 (en) * | 2007-04-05 | 2008-10-16 | Robert Bosch Gmbh | Connector unit for a pressure measurement cell |
DE102011078055A1 (en) | 2010-07-02 | 2012-01-05 | Denso Corporation | Semiconductor sensor for a physical quantity |
CN103221798A (en) * | 2010-11-22 | 2013-07-24 | 伊顿公司 | Pressure-sensing hose |
US8733175B2 (en) | 2011-03-23 | 2014-05-27 | Denso Corporation | Pressure sensor |
FR3020890A1 (en) * | 2014-05-07 | 2015-11-13 | Radiotelephone Sfr | DEVICE AND METHOD FOR DETERMINING THE PENIBILITY OF A TASK |
US10955305B2 (en) * | 2017-06-23 | 2021-03-23 | Saginomiya Seisakusho, Inc. | Sensor chip junction structure and pressure sensor |
CN114136509A (en) * | 2021-11-05 | 2022-03-04 | 深圳信息职业技术学院 | Temperature and pressure integrated MEMS sensor packaging process |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06186104A (en) * | 1992-12-22 | 1994-07-08 | Fuji Electric Co Ltd | Semiconductor pressure sensor |
JPH0745642A (en) * | 1993-07-30 | 1995-02-14 | Nippondenso Co Ltd | Semiconductor device |
-
1996
- 1996-12-09 JP JP8328792A patent/JPH10170367A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06186104A (en) * | 1992-12-22 | 1994-07-08 | Fuji Electric Co Ltd | Semiconductor pressure sensor |
JPH0745642A (en) * | 1993-07-30 | 1995-02-14 | Nippondenso Co Ltd | Semiconductor device |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6184561B1 (en) | 1998-05-29 | 2001-02-06 | Denso Corporation | Semiconductor pressure sensor having strain gauges and stress balance film |
WO2008122467A1 (en) * | 2007-04-05 | 2008-10-16 | Robert Bosch Gmbh | Connector unit for a pressure measurement cell |
DE102011078055A1 (en) | 2010-07-02 | 2012-01-05 | Denso Corporation | Semiconductor sensor for a physical quantity |
US8552514B2 (en) | 2010-07-02 | 2013-10-08 | Denso Corporation | Semiconductor physical quantity sensor |
CN103221798A (en) * | 2010-11-22 | 2013-07-24 | 伊顿公司 | Pressure-sensing hose |
US8733175B2 (en) | 2011-03-23 | 2014-05-27 | Denso Corporation | Pressure sensor |
FR3020890A1 (en) * | 2014-05-07 | 2015-11-13 | Radiotelephone Sfr | DEVICE AND METHOD FOR DETERMINING THE PENIBILITY OF A TASK |
US10955305B2 (en) * | 2017-06-23 | 2021-03-23 | Saginomiya Seisakusho, Inc. | Sensor chip junction structure and pressure sensor |
CN114136509A (en) * | 2021-11-05 | 2022-03-04 | 深圳信息职业技术学院 | Temperature and pressure integrated MEMS sensor packaging process |
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