JP2012211396A - 硬質皮膜および硬質皮膜形成用ターゲット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材の表面に形成される硬質皮膜であって、(TiaCrbAlcMdBe)(CxN1−x)からなり、0≦a≦0.2、0.05≦b≦0.4、0.45≦c≦0.65、0.005≦d≦0.05、0≦e≦0.15、a+b+c+d+e=1、0≦x≦0.5、M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)であることを特徴とする硬質皮膜。
【選択図】なし
Description
(TiaCrbAlcMdBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)
を満たすところに特徴を有する。
(TiaCrbAlcMdRfBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)
を満たすところに特徴を有する。
(TiaCrbM'dSifBe)(CxN1−x)からなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。)
を満たすところに特徴を有する。
TiaCrbAlcMdBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示す。)
であるところに特徴を有する硬質皮膜形成用ターゲット;
前記第2の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットとして、
TiaCrbAlcMdRfBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示す。)
であるところに特徴を有する硬質皮膜形成用ターゲット;
前記第3の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットとして、
TiaCrbM'dSifBeからなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。)
であるところに特徴を有する硬質皮膜形成用ターゲット;を規定する。
(TiaCrbAlcMdBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。以下、第1の硬質皮膜について同じ)
を満たすことを特徴とする硬質皮膜を規定する。
(TiaCrbAlcMdRfBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。以下、第2の硬質皮膜について同じ)
を満たすことを特徴とする硬質皮膜を規定する。
(TiaCrbM'dSifBe)(CxN1−x)からなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。以下、第3の硬質皮膜について同じ)
を満たすことを特徴とする硬質皮膜を規定する。
TiaCrbAlcMdBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示す。)
を満たし、形成しようとする硬質皮膜と同成分組成のものを用いるのがよい。
TiaCrbAlcMdRfBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示す。)
を満たし、形成しようとする硬質皮膜と同成分組成のものを用いるのがよい。
TiaCrbM'dSifBeからなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。)
を満たし、形成しようとする硬質皮膜と同成分組成のものを用いるのがよい。
前記図1に示す装置を用いて、表1に示す成分組成の皮膜を形成し、耐酸化性、耐摩耗性の評価を行った。
白金基板上に成膜したサンプルを乾燥空気中で加熱し(昇温速度4℃/分)、酸化増量を測定することにより、各皮膜の酸化開始温度を決定した。
2枚刃の超硬合金製エンドミル(φ10mm)に成膜したサンプルを用いて、下記条件で切削試験を実施し、摩耗量を測定して耐摩耗性を評価した。
被削材:SKD11(HRC60)
切削速度:150m/分
刃送り:0.04mm/刃
軸切り込み:4.5mm
径方向切り込み:0.2mm
切削長:100m
その他:ダウンカット、ドライカット、エアブローのみ
本実施例では、第2の硬質皮膜の特性を評価すべく、第1の硬質皮膜である(Ti0.2Cr0.23Al0.55Sc0.02)N膜をベースにSiおよび/またはYを添加し、Siおよび/またはYの添加の効果を検証した。
本実施例では、第3の硬質皮膜の特性を評価すべく、表3に示す皮膜を実施例1と同様にして成膜し、ビッカース硬度の測定、耐酸化性および耐摩耗性の評価を実施例1と同様にして行った。これらの結果を表3に示す。
本実施例では、ターゲットの特性について、以下の通り評価を行った。即ち、ターゲットの製作に当たり、表4に示すターゲット組成となるよう各々Al、Cr、TiおよびMの粉末を不活性ガス(Ar)中でVミキサーにて混合した。使用したCr、Ti、AlおよびMの平均粒径は各々100メッシュ以下である。成形したターゲット中の酸素含有量は、原料粉末中に含まれる酸素量に依存することから、各々酸素含有量の異なる原料粉末を使用し、ターゲット成型品の酸素含有量を変化させた。
2 回転盤
3 回転テーブル
5 被処理体(基材)
6a,6b アーク蒸発源
7a,7b,7c,7d ヒータ
8a,8b アーク電源
9a,9b,9c,9d マスフローコントローラー
10 バイアス電源
11 フィラメント型イオン源
12 フィラメント加熱用交流電源
13 放電用直流電源
Claims (9)
- 基材の表面に形成される硬質皮膜であって、
(TiaCrbAlcMdBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)
であることを特徴とする硬質皮膜。 - 基材の表面に形成される硬質皮膜であって、
(TiaCrbAlcMdRfBe)(CxN1−x)からなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示し、xはCの原子比を示す。)
であることを特徴とする硬質皮膜。 - 基材の表面に形成される硬質皮膜であって、
(TiaCrbM'dSifBe)(CxN1−x)からなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
0≦x≦0.5、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示し、xはCの原子
比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。)
であることを特徴とする硬質皮膜。 - M’がYであり、かつb≧0.05である請求項3に記載の硬質皮膜。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の硬質皮膜が基材の表面に形成されたものである治工具。
- 請求項1に記載の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットであって、
TiaCrbAlcMdBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上
(a,b,c,d,eは夫々Ti,Cr,Al,M,Bの原子比を示す。)
であることを特徴とする硬質皮膜形成用ターゲット。 - 請求項2に記載の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットであって、
TiaCrbAlcMdRfBeからなり、
0≦a≦0.2、
0.05≦b≦0.4、
0.45≦c≦0.65、
0.005≦d≦0.05、
0.01≦f≦0.1、
0≦e≦0.15、
a+b+c+d+e+f=1、
M:Ce、PrおよびScよりなる群から選択される1種以上、
R:Siおよび/またはY
(a,b,c,d,f,eは夫々Ti,Cr,Al,M,R,Bの原子比を示す。)
であることを特徴とする硬質皮膜形成用ターゲット。 - 請求項3または4に記載の硬質皮膜を、アークイオンプレーティング法で形成するために用いるターゲットであって、
TiaCrbM'dSifBeからなり、
0.55≦a+b≦0.945、
0.005≦d≦0.05、
0.05≦f≦0.4、
0≦e≦0.15、
a+b+d+e+f=1、
M’:Ce、Pr、ScおよびYよりなる群から選択される1種以上
(a,b,d,f,eは夫々Ti,Cr,M',Si,Bの原子比を示す。尚、aおよびbは、一方が0であってもよい。)
であることを特徴とする硬質皮膜形成用ターゲット。 - 酸素含有量が0.3質量%以下である請求項6〜8のいずれかに記載のターゲット。
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WO2014208068A1 (ja) * | 2013-06-24 | 2014-12-31 | 兼房株式会社 | チップ付丸鋸の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
JP2004351586A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Union Tool Co | 切削工具用硬質皮膜 |
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