JP2012208182A - 回折光学素子 - Google Patents

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Abstract

【課題】様々な回折光を生成することが可能な回折光学素子を形成する。
【解決手段】第1の方向に長さが変化する第1の部位と、第2の部位と、を含み、前記第1の部位の前記第1の方向における面は光を反射し、前記第2の部位の前記第1の方向における面は光を反射し、前記第1の部位と前記第2の部位は、前記第1の方向に垂直な面に、隣接して配置されていることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、回折現象を発生させる光学素子、例えば、回折光学素子に関する。
従来、格子状のパターンや表面に設けられた凹凸構造などにより入射光に対して回折作用を与える光学素子が知られている。これらは回折光学素子と呼ばれ、格子状のパターンを有するものは透過光に回折現象が生じ、凹凸構造を有するものは反射光に回折現象が生じる。このような回折光学素子は、例えば、レーザー加工技術に応用される。レーザー光を回折光学素子へ入射させることにより該レーザー光を複数のビームに分岐し、これら複数のビームを被加工物へ照射することにより、孔開けや切断等の種々の加工を実現することができる。
被加工物における加工の種類によって必要とされる回折光が異なる。どのような回折光になるかは回折光学素子の格子状のパターン若しくは凹凸構造により決まることから、回折光学素子はその使われる用途に応じて形成される必要がある。回折光学素子の製造については、複数の凹部が形成された成形型に未硬化状態の光硬化型樹脂を供給し、該光硬化型樹脂に光線を照射して硬化させることにより回折光学素子を成形することが特許文献1に記載されている。
特開2011−17748号公報
上述したように、回折光学素子は用途に合わせて製造する必要があり、用途毎に製造するための成形型が必要となる。このため、必要数が少ないときなどは製造原価が高くなるという問題がある。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]
本適用例にかかる回折光学素子は、第1の方向に長さが変化する第1の部位と、第2の部位と、を含み、前記第1の部位の前記第1の方向における面は光を反射し、前記第2の部位の前記第1の方向における面は光を反射し、前記第1の部位と前記第2の部位は、前記第1の方向に垂直な面に、隣接して配置されていることを特徴とする。
この構成によれば、第1の部位の長さを変更することで、第1の部位の光を反射する面と第1の部位に隣接する第2の部位の光を反射する面との高低差を変えることができ、これにより異なる回折光を生成できる反射型の回折光学素子を形成することができる。
[適用例2]
上記適用例にかかる回折光学素子において、前記第1の部位が第1の酸化還元応答化合物と前記第1の方向を規定する第1の液晶性部位と、を有し、前記第1の部位の長さの変化は、前記第1の酸化還元応答化合物の酸化還元反応により、前記第1の部位が前記第1の液晶性部位が規定する方向に伸張及び収縮することによる変化であることが好ましい。
この構成によれば、第1の部位が第1の酸化還元応答化合物と第1の方向を規定する第1の液晶性部位とを有し、第1の部位の長さの変化が第1の酸化還元応答化合物の酸化還元反応による第1の液晶性部位が規定する方向に伸張及び収縮することによる変化であることで、電位をかけることで第1の部位の長さを変えることができる。これにより、第1の部位の長さの制御が容易となる。
[適用例3]
上記適用例にかかる回折光学素子において、前記第2の部位は、第2の酸化還元応答化合物と前記第1の方向に伸張及び収縮する第2の液晶性部位とを有し、前記第2の酸化還元応答化合物の酸化還元反応により、前記第2の部位の長さが前記第1の方向に変化することが好ましい。
この構成によれば、第2の部位が、第2の酸化還元応答化合物と第1の方向に伸張及び収縮する第2の液晶性部位とを有し、第2の酸化還元応答化合物の酸化還元反応により、第2の部位の長さが第1の方向に変化することで、電位をかけることで第2の部位の長さを変えることができ、これにより、第2の部位の長さの制御が容易となる。第1の部位及び第2の部位の各々の長さを個別に制御できることで、第1の部位の光を反射する面と第1の部位に隣接する第2の部位の光を反射する面との高低差の変更を容易に行うことができる。
[適用例4]
本適用例にかかる回折光学素子は、第1の方向に長さが変化する第1の部位を複数含み、複数の前記第1の部位の各々を、隣接するふたつの前記第1の部位の間の距離が所定の距離となるように、前記第1の方向に配置したことを特徴とする。
この構成によれば、第1の方向に長さが変化する第1の部位を複数含み、隣接するふたつの第1の部位の間の距離が所定の距離となるように複数の第1の部位の各々を第1の方向に配置することで、第1の部位の長さが変わると該第1の部位の両側にあるふたつの隙間の間の距離が変わることになり、これにより異なる回折光を生成できる透過型の回折光学素子を形成することができる。
[適用例5]
上記適用例にかかる回折光学素子において、前記第1の部位が第1の酸化還元応答化合物と第1の液晶性部位を有し、前記第1の部位の長さの変化は、前記第1の酸化還元応答化合物の酸化還元反応により、前記第1の部位が前記第1の液晶性部位が規定する方向に伸張及び収縮することによる変化であることが好ましい。
この構成によれば、第1の部位が第1の酸化還元応答化合物と第1の方向を規定する第1の液晶性部位とを有し、第1の部位の長さの変化が第1の酸化還元応答化合物の酸化還元反応による第1の液晶性部位が規定する方向に伸張及び収縮することによる変化であることで、電位をかけることで第1の部位の長さを変えることができる。これにより、第1の部位の長さの制御が容易となる。
第1実施形態における回折光学素子の動作を説明するための模式図。 第1実施形態における回折光学素子の反射光のイメージ図。 実施例1における回折光学素子のイメージ図。 実施例2における回折光学素子のイメージ図。 第2実施形態における回折光学素子の動作を説明するための模式図。 第2実施形態における回折光学素子の反射光のイメージ図。 アクチュエーターの動作原理を説明するための模式図。 アクチュエーターの概略図。
以下、本発明の実施形態について図を用いて説明する。尚、記載する図は、構造上内部にあり、直接見ることができない構造物を透過させて記載している。
上述した第1の部位及び第2の部位は、いわゆるアクチュエーターと呼ばれるものである。まず、このアクチュエーターの動作について図7及び図8を用いて説明する。図7は、アクチュエーターを構成する酸化還元応答化合物と液晶性部位とが結合された分子構造の一部を示した図である。アクチュエーターは、図7−(a)及び図7−(b)で示すように、ユニットF、ユニットG及びユニットHから構成されている。ユニットFは軸回転可能な部位であり、例えばフェニル基若しくはチオフェン環などで形成される。ユニットGは酸化還元反応により結合若しくは分離が行われる部位であり、例えばベンゾジチオリル基などにより形成される。また、ユニットHはユニットGの酸化還元反応に応じて回転するユニットFの回転方向を規定するための部位であり、液晶性を有する部位が含まれる。ユニットFの回転軸方向は、ユニットHに含まれる液晶性を有する部位の配向性によって規定されるものであるが、液晶性を有する部位の配向性は、例えば、延伸法や偏向紫外線照射法などにより配向方向を決めることが可能である。
酸化還元応答化合物が酸化された状態となるのは、酸化還元応答化合物から所定の電子が剥奪された状態であり、この状態の分子構造を示したのが図7−(a)である。また、酸化還元応答化合物が還元された状態というのは、酸化還元応答化合物に所定の電子が供給された状態であり、この状態の分子構造を示したのが図7−(b)である。還元された状態においては、ユニットG同士(たとえば、S1及びS2)が供給された電子により結合する。これにより、ユニットFにおいて、ユニットHに含まれる液晶性を有する部位の配向性を維持する形で軸回転が行われる。このため、分子構造が折りたたまれた形に変化することで、酸化還元応答化合物がユニットHに含まれる液晶性を有する部位の配向の方向に収縮する。この状態から酸化還元応答化合物が酸化されるとユニットG同士における結合が解除され、ユニットFにおいて、ユニットHに含まれる液晶性を有する部位の配向性を維持する形で軸回転が行われ、図7−(b)の状態から図7−(a)の状態に変化する。このように酸化及び還元を繰り返すことで、酸化還元応答化合物は収縮及び膨張を繰り返す。
上記の原理で収縮若しくは伸張するアクチュエーターの外観は、例えば図8−(a)に示したアクチュエーター80のようになる。図8−(b)は、収縮した状態のアクチュエーター80の断面図である。また、図8−(c)は、膨張した状態のアクチュエーター80の断面図である。アクチュエーター80は、内部電極81、高分子電解質82、酸化還元応答化合物83及び外部電極84を含む。高分子電解質82にとって、酸化還元応答化合物83は電極として振舞う。アクチュエーター80の外部から内部電極81と外部電極84との間に内部電極81の方が高くなるように電位差を与えると酸化還元応答化合物83において還元反応がおきる。これによりアクチュエーター80は収縮して図8−(b)のようになる。逆に内部電極81の方が低くなるように電位差を与えると酸化還元応答化合物83において酸化反応がおきる。これによりアクチュエーター80は膨張して図8−(c)のようになる。よって、内部電極81と外部電極84との間に交流電流を与えることにより、アクチュエーター80の収縮及び膨張の実行を繰り返し起こさせることが可能となる。
(第1実施形態)
図1に、回折光学素子100と回折光学素子100を制御する制御部90示す。回折光学素子100は、第1の部位10、第2の部位20及び基板30を含む。第1の部位10は上面に光を反射する第1の面11を有する。同様に第2の部位20は上面に光を反射する第2の面21を有する。第1の部位10及び第2の部位20は基板30上に隣接して配置されている。第1の部位10は上述したアクチュエーター80と同様の構造を有し、第1の部位10の長さが変化する方向は、基板30に垂直な第1の方向40である。長さの変化は、第1の方向40で示す矢印の方向に向けて変化するものをプラス若しくはプラスの変化、第1の方向40で示す矢印の方向の反対の方向に変化するものをマイナス若しくはマイナスの変化と呼ぶ。よって、本明細書において「方向」は、特に断りのない限りプラスの方向及びマイナスの方向の両方を示すものとする。第1の方向40で示す方向が第1の部位10の液晶性部位が規定する方向である。
第1の部位10の電極は基板30に接続され、基板30は制御信号線91を介して制御部90に接続されている。制御部90から第1の部位10に与える交流電流を制御することで第1の部位10の長さを変更させることで、第1の面11と第2の面21との高低差が変化する。これにより第1の面11に反射する反射光と第2の面21に反射する反射光との間の光路長が変わり、異なる回折光を生成することができる。第1の面11と第2の面21の高低差がd1であるときの反射光50を図2−(a)に、第1の面11と第2の面21の高低差がd2であるときの反射光51を図2−(b)に示す。
第1の面11と第2の面21との高低差の設定は、第1の部位10及び第2の部位20の双方の長さを変えることでも行うことができる。第2の部位20が第1の部位10と同じ構造をとることで、第1の部位10に対する制御と同じ制御で第2の部位20の長さを制御することができる。
図3に示したのは、基板30上に複数の第1の部位10をマトリクス状に配置した回折光学素子200である。図3−(a)は回折光学素子200の平面図の一部であり、図3−(b)は回折光学素子200の図3−(a)の平面図でB1−B2で示した直線部分における断面図の一部である。図3−(a)及び図3−(b)において、伸張している第1の部位10をグレーで着色し、収縮している第1の部位10を着色せずに示している。図3においては、B1−B2の直線上にある第1の部位10のみ附番した。
回折光学素子200は、図3に図示しないが、制御部90により制御される。複数の第1の部位10の各々が制御部90により個別に制御されることにより、回折光学素子200は、様々な回折光を生成することができる。これにより、回折光学素子を形成するための成形型を用途別に作成する必要をなくすことができる。
本実施例における回折光学素子300の断面図を図4に示す。図4に示した断面図は、図3−(b)で示した断面図と同様な切断面におけるものである。第1の部位10の上面の光を反射する面が、基板30に対して平行でない第3の面31から構成されている。第1の部位10の動作及び制御については、上記と同様である。
(第2実施形態)
図5−(a)及び図5−(b)に本実施形態における回折光学素子400の平面図を示す。回折光学素子400は、第1の部位410、基板430及び第1の部位410を基板430に接続するための接続部440を有する。回折光学素子400は、制御信号線491を介して制御部490に接続されており、制御部490の制御により第1の部位410の長さを変えることができる。液晶性部位が規定する方向は図5−(a)のCの矢印で示す方向である。接続部440は、第1の部位410の長さの変化に応じて基板430における位置を変える。尚、第1実施形態で説明した構成要素と同様の構成要素に関しては、その説明を省略する。
図5−(a)は、第1の部位410が収縮した状態の回折光学素子400である。隣接する2つの第1の部位410の間にできる隙間と隙間との間の距離はd3である。このときの回折光学素子400の透過光60を図6−(a)に示す。図5−(b)は、第1の部位410が伸張した状態の回折光学素子400である。隣接する2つの第1の部位410の間にできる隙間と隙間との間の距離はd4である。このときの回折光学素子400の透過光61を図6−(b)に示す。透過光60が引き起こす回折現象と透過光61が引き起こす回折現象とは異なり、これにより様々な回折光を生成することができる。これにより、回折光学素子を形成するための成形型を用途別に作成する必要をなくすことができる。
以上、本発明の実施形態及び実施例の説明を行ったが、本発明の適用は上述した内容に限られる訳ではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において広く変形並びに適用が可能である。
10…第1の部位、11…第1の面、20…第2の部位、21…第2の面、30…基板、31…第3の面、40…第1の方向、50…反射光、51…反射光、60…透過光、61…透過光、80…アクチュエーター、81…内部電極、82…高分子電解質、83…酸化還元応答化合物、84…外部電極、90…制御部、91…制御信号線、100…回折光学素子、200…回折光学素子、300…回折光学素子、400…回折光学素子、410…第1の部位、430…基板、440…接続部、490…制御部、491…制御信号線。

Claims (5)

  1. 第1の方向に長さが変化する第1の部位と、
    第2の部位と、を含み、
    前記第1の部位の前記第1の方向における面は光を反射し、
    前記第2の部位の前記第1の方向における面は光を反射し、
    前記第1の部位と前記第2の部位は、前記第1の方向に垂直な面に、隣接して配置されていることを特徴とする回折光学素子。
  2. 前記第1の部位が第1の酸化還元応答化合物と前記第1の方向を規定する第1の液晶性部位と、を有し、
    前記第1の部位の長さの変化は、前記第1の酸化還元応答化合物の酸化還元反応により、前記第1の部位が前記第1の液晶性部位が規定する方向に伸張及び収縮することによる変化であることを特徴とする請求項1に記載の回折光学素子。
  3. 前記第2の部位は、第2の酸化還元応答化合物と前記第1の方向に伸張及び収縮する第2の液晶性部位とを有し、
    前記第2の酸化還元応答化合物の酸化還元反応により、前記第2の部位の長さが前記第1の方向に変化することを特徴とする請求項1又は2に記載の回折光学素子。
  4. 第1の方向に長さが変化する第1の部位を複数含み、
    複数の前記第1の部位の各々を、隣接するふたつの前記第1の部位の間の距離が所定の距離となるように、前記第1の方向に配置したことを特徴とする回折光学素子。
  5. 前記第1の部位が第1の酸化還元応答化合物と第1の液晶性部位を有し、
    前記第1の部位の長さの変化は、前記第1の酸化還元応答化合物の酸化還元反応により、前記第1の部位が前記第1の液晶性部位が規定する方向に伸張及び収縮することによる変化であることを特徴とする請求項4に記載の回折光学素子。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000221313A (ja) * 1999-01-29 2000-08-11 Minolta Co Ltd 動的回折素子
JP2001305440A (ja) * 2000-04-26 2001-10-31 Canon Inc 光変調素子、および該光変調素子を用いたプロジェクション光学系
JP2002214544A (ja) * 2000-11-20 2002-07-31 Sony Corp 光変調装置、光変調素子及びその製造方法、並びに投映システム
JP2007327061A (ja) * 2002-10-02 2007-12-20 Eamex Co 導電性高分子の製造方法、導電性高分子、導電性高分子成形品、積層体、アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000221313A (ja) * 1999-01-29 2000-08-11 Minolta Co Ltd 動的回折素子
JP2001305440A (ja) * 2000-04-26 2001-10-31 Canon Inc 光変調素子、および該光変調素子を用いたプロジェクション光学系
JP2002214544A (ja) * 2000-11-20 2002-07-31 Sony Corp 光変調装置、光変調素子及びその製造方法、並びに投映システム
JP2007327061A (ja) * 2002-10-02 2007-12-20 Eamex Co 導電性高分子の製造方法、導電性高分子、導電性高分子成形品、積層体、アクチュエータの製造方法及びアクチュエータ

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