JP2012190990A - タンデム太陽電池セル - Google Patents
タンデム太陽電池セル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012190990A JP2012190990A JP2011052918A JP2011052918A JP2012190990A JP 2012190990 A JP2012190990 A JP 2012190990A JP 2011052918 A JP2011052918 A JP 2011052918A JP 2011052918 A JP2011052918 A JP 2011052918A JP 2012190990 A JP2012190990 A JP 2012190990A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- receiving layer
- type nitride
- type
- light
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】p型のシリコン基板101およびn型シリコン受光層102を備える第1太陽電池サブセル110と、n型の窒化物半導体からなる半導体基板103の上には、n型窒化物受光層104およびp型窒化物受光層105を備える第3太陽電池サブセル120と、n型の窒化物半導体からなる接合層106とを備える。p型窒化物受光層105およびn型窒化物受光層104は、同じバンドギャップエネルギーとされ、p型窒化物受光層105およびn型窒化物受光層104は、シリコンと半導体基板103との間のバンドギャップエネルギーとされ、p型窒化物受光層105およびn型窒化物受光層104は、シリコンと接合層106との間のバンドギャップエネルギーとされている。
【選択図】 図1
Description
はじめに、本発明の実施の形態1について説明する。図1は、本発明の実施の形態1におけるタンデム太陽電池セルの構成を示す構成図である。図1では、断面を模式的に示している。このタンデム太陽電池セルは、まず、p型のシリコン基板101、およびシリコン基板101の上に形成されたn型のシリコンからなるn型シリコン受光層102から構成された第1太陽電池サブセル110を備える。
次に、本発明の実施の形態2について図3を用いて説明する。図3は、本発明の実施の形態2におけるタンデム太陽電池セルの構成を示す構成図である。図3では、断面を模式的に示している。このタンデム太陽電池セルは、まず、p型のシリコン基板301、およびシリコン基板301の上に形成されたn型のシリコンからなるn型シリコン受光層302から構成された第1太陽電池サブセル310を備える。
Claims (2)
- p型のシリコン基板、および前記シリコン基板の上に形成されたn型のシリコンからなるn型シリコン受光層を備える第1太陽電池サブセルと、
n型の窒化物半導体からなる半導体基板の上に結晶成長することで形成された、n型の窒化物半導体からなるn型窒化物受光層およびp型の窒化物半導体からなるp型窒化物受光層を備える第2太陽電池サブセルと、
前記p型窒化物受光層の上に形成されたn型の窒化物半導体からなる接合層と
を備え、
前記n型シリコン受光層および前記接合層が接合されて前記第1太陽電池サブセルおよび前記第2太陽電池サブセルが一体とされ、前記n型シリコン受光層の上に,前記接合層,p型窒化物受光層,n型窒化物受光層,および前記半導体基板が、これらの順に積層され、
前記p型窒化物受光層および前記n型窒化物受光層は、同じバンドギャップとされ、
前記p型窒化物受光層および前記n型窒化物受光層は、シリコンと前記半導体基板との間のバンドギャップとされ、
加えて、
前記p型窒化物受光層および前記n型窒化物受光層は、シリコンと前記接合層との間のバンドギャップとされている
ことを特徴とするタンデム太陽電池セル。 - 請求項1記載のタンデム太陽電池セルにおいて、
前記p形窒化物受光層と前記接合層とは、自発分極が異なることを特徴とするタンデム太陽電池セル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011052918A JP5221695B2 (ja) | 2011-03-10 | 2011-03-10 | タンデム太陽電池セル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011052918A JP5221695B2 (ja) | 2011-03-10 | 2011-03-10 | タンデム太陽電池セル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012190990A true JP2012190990A (ja) | 2012-10-04 |
JP5221695B2 JP5221695B2 (ja) | 2013-06-26 |
Family
ID=47083839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011052918A Expired - Fee Related JP5221695B2 (ja) | 2011-03-10 | 2011-03-10 | タンデム太陽電池セル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5221695B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013084784A (ja) * | 2011-10-11 | 2013-05-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | タンデム太陽電池セルおよびその製造方法 |
JP2014220350A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | 日本電信電話株式会社 | 多接合太陽電池およびその製造方法 |
JP2014220351A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | 日本電信電話株式会社 | 多接合太陽電池 |
US10886747B2 (en) | 2018-07-18 | 2021-01-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Power generation element, power generation module, power generation device, and power generation system |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04309270A (ja) * | 1991-04-08 | 1992-10-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | タンデム型太陽電池の製造方法 |
JPH11298024A (ja) * | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Ricoh Co Ltd | 光起電力装置およびその製造方法 |
JP2000277779A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Nagoya Kogyo Univ | 半導体間接着方法、この方法を使用して製造した半導体および半導体装置 |
JP2010534922A (ja) * | 2007-04-09 | 2010-11-11 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア | 高効率の縦列太陽電池用の低抵抗トンネル接合 |
-
2011
- 2011-03-10 JP JP2011052918A patent/JP5221695B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04309270A (ja) * | 1991-04-08 | 1992-10-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | タンデム型太陽電池の製造方法 |
JPH11298024A (ja) * | 1998-04-09 | 1999-10-29 | Ricoh Co Ltd | 光起電力装置およびその製造方法 |
JP2000277779A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-06 | Nagoya Kogyo Univ | 半導体間接着方法、この方法を使用して製造した半導体および半導体装置 |
JP2010534922A (ja) * | 2007-04-09 | 2010-11-11 | ザ リージェンツ オブ ザ ユニバーシティ オブ カリフォルニア | 高効率の縦列太陽電池用の低抵抗トンネル接合 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6013008802; Reichertz, L.A. et al.: Photovoltaic Specialists Conference (PVSC), 2010 35th IEEE , 2010, pp.1044-1047 * |
JPN6013008803; Shigekawa, N. et al: Low Temperature Bonding for 3D Integration (LTB-3D), 2012 3rd IEEE International Workshop on , 2012, pp.109-112 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013084784A (ja) * | 2011-10-11 | 2013-05-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | タンデム太陽電池セルおよびその製造方法 |
JP2014220350A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | 日本電信電話株式会社 | 多接合太陽電池およびその製造方法 |
JP2014220351A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | 日本電信電話株式会社 | 多接合太陽電池 |
US10886747B2 (en) | 2018-07-18 | 2021-01-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Power generation element, power generation module, power generation device, and power generation system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5221695B2 (ja) | 2013-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4064592B2 (ja) | 光電変換装置 | |
JP3952210B2 (ja) | 窒化物系半導体素子及びその製造方法 | |
US20100180936A1 (en) | Multijunction solar cell | |
JP2015073130A (ja) | 2つの変性層を備えた4接合型反転変性多接合太陽電池 | |
JP2010118666A (ja) | 反転変性多接合太陽電池の代替基板 | |
JP2010512664A (ja) | 酸化亜鉛多接合光電池及び光電子装置 | |
US20080078439A1 (en) | Polarization-induced tunnel junction | |
TW201438264A (zh) | 化合物半導體太陽能電池及其製造方法 | |
JP5481665B2 (ja) | 多接合型太陽電池 | |
JP5221695B2 (ja) | タンデム太陽電池セル | |
JP2012004283A (ja) | 半導体装置 | |
JP2011198975A (ja) | タンデム型太陽電池 | |
JP6060652B2 (ja) | 太陽電池及びその製造方法 | |
Williams et al. | Development of a high-band gap high temperature III-nitride solar cell for integration with concentrated solar power technology | |
CN106298990A (zh) | 一种利用自发极化电场的非极性太阳能电池 | |
JP2010186915A (ja) | 太陽電池 | |
JP5469145B2 (ja) | タンデム太陽電池セルおよびその製造方法 | |
TWI496314B (zh) | Compound semiconductor solar cell manufacturing laminated body, compound semiconductor solar cell and manufacturing method thereof | |
US20120073658A1 (en) | Solar Cell and Method for Fabricating the Same | |
JP5669228B2 (ja) | 多接合太陽電池およびその製造方法 | |
JP5548908B2 (ja) | 多接合太陽電池の製造方法 | |
CN108269866B (zh) | 一种混合极性InGaN太阳能电池结构 | |
US8853529B2 (en) | Flexible III-V solar cell structure | |
JP5303494B2 (ja) | タンデム型太陽電池 | |
Fu | Wide Bandgap Semiconductors Based Energy-Efficient Optoelectronics and Power Electronics |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130305 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130307 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5221695 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160315 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |