JP2012186222A - Molding electromagnetic wave shield sheet and electromagnetic wave shield molded body - Google Patents

Molding electromagnetic wave shield sheet and electromagnetic wave shield molded body Download PDF

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JP2012186222A JP2011046755A JP2011046755A JP2012186222A JP 2012186222 A JP2012186222 A JP 2012186222A JP 2011046755 A JP2011046755 A JP 2011046755A JP 2011046755 A JP2011046755 A JP 2011046755A JP 2012186222 A JP2012186222 A JP 2012186222A
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Takashi Fujita
貴史 藤田
Tetsuya Hosomi
細見  哲也
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molding electromagnetic wave shield sheet which is light-weight and superior in processability and which can maintain the electromagnetic wave shielding performance superior even after processing.SOLUTION: The molding electromagnetic wave shield sheet comprises at least a resin layer (A), a metal layer (B) and a conductive polymer layer (C) containing a conductive polymer having conductivity of 0.05 S/cm or more, includes the metal layer (B) on at least one surface of the resin layer (A) and also includes the conductive polymer layer (C) on at least one surface of a laminate having the resin layer (A) and the metal layer (B).

Description

本発明は、成型用電磁波シールドシート及び電磁波シールド成型体に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet for molding and an electromagnetic wave shield molding.

近年、電子機器等から発せられる電磁波が、他の電子機器へ影響を及ぼし誤作動の原因となる等、電磁波による種々の障害が問題視されている。そのため、電子機器等が発する電磁波をシールドすることへの要望が高まっている。 In recent years, various troubles due to electromagnetic waves have been regarded as problems, such as electromagnetic waves emitted from electronic devices and the like affecting other electronic devices and causing malfunctions. Therefore, there is an increasing demand for shielding electromagnetic waves emitted from electronic devices and the like.

従来より、金属が電磁波シールド性能を有することは良く知られており、金属板を電磁波シールド部材として使用することが行われている。金属板からなる電磁波シールド部材は電磁波シールド性能に優れる電磁波シールド部材である。
しかしながら、金属板からなる電磁波シールド部材は、重量が重いため取り扱い性に劣り、加えて、近年の電子機器の軽量化に対応することが困難であった。また、金属板は樹脂フィルムに比べて加工性(成型性)に劣るため、電磁波シールド部材としての設計の自由度が低いとの問題もあった。
Conventionally, it is well known that metal has electromagnetic wave shielding performance, and a metal plate is used as an electromagnetic wave shielding member. An electromagnetic wave shielding member made of a metal plate is an electromagnetic wave shielding member excellent in electromagnetic wave shielding performance.
However, the electromagnetic wave shielding member made of a metal plate is inferior in handleability because of its heavy weight, and in addition, it has been difficult to cope with the recent weight reduction of electronic devices. Moreover, since the metal plate is inferior in workability (moldability) as compared with the resin film, there is a problem that the degree of freedom in design as an electromagnetic wave shielding member is low.

また、熱可塑性高分子フィルム中に電解酸化重合した導電性ポリマーを分散させた電磁波シールド部材や、気液界面重合した導電性高分子膜の少なくとも片面に高分子フィルムを積層した複合フィルムと、熱可塑性高分子あるいは熱硬化性高分子を一体成形してなる電磁波シールド成形品も提案されている(例えば、特許文献1、2参照)。
これらの電磁波シールド部材は、ポリマーからなるものであるため、軽量でかつ加工性(成型性)に優れるものである。しかしながら、導電性ポリマーの電磁波シールド性能は、金属に比べて低く、このような電磁波シールド部材では、充分な電磁波シールド性能を得ることができなかった。
In addition, an electromagnetic wave shielding member in which a conductive polymer electrolytically polymerized by polymerization in a thermoplastic polymer film is dispersed, a composite film in which a polymer film is laminated on at least one surface of a gas-liquid interface polymerized conductive polymer film, An electromagnetic wave shield molded product formed by integrally molding a plastic polymer or a thermosetting polymer has also been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
Since these electromagnetic wave shielding members are made of a polymer, they are lightweight and have excellent workability (moldability). However, the electromagnetic wave shielding performance of the conductive polymer is lower than that of metal, and with such an electromagnetic wave shielding member, sufficient electromagnetic wave shielding performance could not be obtained.

特許文献3には、透明な基材フィルムと、該基材の表面上に導電性高分子微粒子とバインダーを含むパターン状に形成された塗膜層と、該塗膜層上に無電解めっき法により形成された金属めっき膜とを有し、上記バインダーが上記導電性高分子微粒子1質量部に対して0.1〜10質量部で存在し、上記塗膜層の厚さが20〜500nmであり、金属めっき膜の厚さが100〜3000nmである透明性電磁波シールドフィルムが開示されている。
この電磁波シールドフィルムは、金属めっき膜を備えているため、導電性ポリマーが電磁波シールド性能を担う場合に比べて、優れた電磁波シールド性能を有するものの、0.01S/cm以下の導電性高分子微粒子を用いて塗膜層を形成していることから導電性高分子微粒子を含む塗膜層自身には電磁波シールド能はなく、また、この電磁波シールドフィルムを加工した場合、金属めっき膜が断線したり、クラックが発生したりすることがあり、この場合、成型品の電磁波シールド性能が著しく低下するとの問題があった。
Patent Document 3 discloses a transparent substrate film, a coating layer formed in a pattern containing conductive polymer fine particles and a binder on the surface of the substrate, and an electroless plating method on the coating layer. The binder is present in an amount of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 1 part by mass of the conductive polymer fine particles, and the thickness of the coating layer is 20 to 500 nm. A transparent electromagnetic wave shielding film having a metal plating film thickness of 100 to 3000 nm is disclosed.
Since this electromagnetic wave shielding film includes a metal plating film, the conductive polymer fine particles of 0.01 S / cm or less have excellent electromagnetic wave shielding performance compared to the case where the conductive polymer bears the electromagnetic wave shielding performance. The coating layer containing conductive polymer fine particles itself does not have electromagnetic wave shielding ability because the coating layer is formed using, and when this electromagnetic shielding film is processed, the metal plating film may be disconnected. In some cases, cracks may occur. In this case, there is a problem that the electromagnetic wave shielding performance of the molded product is remarkably deteriorated.

特開昭60−228544号公報JP-A-60-228544 特開平11−97886号公報JP-A-11-97886 特開2009−16496号公報JP 2009-16696 A

本発明の目的は、軽量で、加工性に優れ、かつ、加工後も優れた電磁波シールド性能を維持することができる成型用電磁波シールドシートを提供すること、及び、軽量で、取り扱い性に優れ、優れた電磁波シールド性能を維持しつつ任意の形状をとり得る電磁波シールド成型体を提供することを目的とする。 The object of the present invention is to provide an electromagnetic shielding sheet for molding that is lightweight, excellent in workability, and capable of maintaining excellent electromagnetic shielding performance even after processing, and is lightweight and excellent in handleability. An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding molded product that can take any shape while maintaining excellent electromagnetic wave shielding performance.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、樹脂層の少なくとも片面に金属層を備える積層体の少なくとも片面に導電性ポリマー層を形成した電磁波シールドシートは、軽量で、加工性に優れ、かつ、加工後も優れた電磁波シールド性能を維持することができることを見出し、本発明の成型用電磁波シールドシートを完成した。
また、樹脂層の少なくとも片面に金属層を備える積層体の少なくとも片面に導電性ポリマー層を備えた部材からなる電磁波シールド成型体は、軽量で、取り扱い性に優れ、さらに複雑な形状を有する場合であっても優れた電磁波シールド性能を有することを見出し、本発明の電磁波シールド成型体を完成した。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that an electromagnetic wave shielding sheet in which a conductive polymer layer is formed on at least one surface of a laminate including a metal layer on at least one surface of a resin layer is lightweight and processed. The electromagnetic wave shielding sheet for molding according to the present invention was completed by finding that the electromagnetic wave shielding performance was excellent even after processing.
In addition, an electromagnetic wave shield molded body made of a member having a conductive polymer layer on at least one side of a laminate having a metal layer on at least one side of the resin layer is lightweight, excellent in handleability, and having a more complicated shape. Even if it exists, it discovered that it had the outstanding electromagnetic wave shielding performance, and completed the electromagnetic wave shielding molded object of this invention.

即ち、本発明の成型用電磁波シールドシートは、少なくとも樹脂層(A)、金属層(B)、及び、0.05S/cm以上の導電性を有する導電性ポリマーを含有する導電性ポリマー層(C)からなり、
上記樹脂層(A)の少なくとも片面に金属層(B)を備え、かつ、
上記樹脂層(A)と上記金属層(B)とを有する積層体の少なくとも片面に上記導電性ポリマー層(C)を備えたことを特徴とする。
That is, the electromagnetic wave shielding sheet for molding of the present invention comprises at least a resin layer (A), a metal layer (B), and a conductive polymer layer (C) containing a conductive polymer having a conductivity of 0.05 S / cm or more. )
A metal layer (B) is provided on at least one side of the resin layer (A), and
The conductive polymer layer (C) is provided on at least one surface of a laminate having the resin layer (A) and the metal layer (B).

上記成型用電磁波シールドシートにおいて、上記金属層(B)は、導電性を有する金属若しくは金属酸化物、又は、磁性体からなることが好ましい。
また、上記金属層(B)は、蒸着により形成された層であり、かつ、厚さが0.01〜10.0μmであることが好ましい。
In the electromagnetic wave shielding sheet for molding, the metal layer (B) is preferably made of a conductive metal or metal oxide, or a magnetic material.
Moreover, it is preferable that the said metal layer (B) is a layer formed by vapor deposition, and thickness is 0.01-10.0 micrometers.

上記成型用電磁波シールドシートにおいて、上記導電性ポリマーは、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体からなるものが好ましい。 In the electromagnetic wave shielding sheet for molding, the conductive polymer is preferably composed of a composite of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion.

上記成型用電磁波シールドシートにおいて、上記導電性ポリマー層(C)は、バインダーを含有し、かつ、上記バインダーの少なくとも1種がアクリル系樹脂であることが好ましい。
また、上記導電性ポリマー層(C)は、導電性ポリマーと導電性向上剤とを含有し、上記導電性向上剤の配合量が、上記導電性ポリマーの固形分100重量部に対して10〜1500重量部である導電性ポリマー組成物を用いて成形された層であることが好ましい。
In the electromagnetic wave shielding sheet for molding, the conductive polymer layer (C) preferably contains a binder, and at least one of the binders is an acrylic resin.
Moreover, the said conductive polymer layer (C) contains a conductive polymer and a conductive improvement agent, and the compounding quantity of the said conductive improvement agent is 10 to 10 weight part of solid content of the said conductive polymer. A layer formed using a conductive polymer composition of 1500 parts by weight is preferable.

本発明の電磁波シールド成型体は、少なくとも樹脂層(A)、金属層(B)、及び、0.05S/cm以上の導電性を有する導電性ポリマーを含有する導電性ポリマー層(C)からなり、
上記樹脂層(A)の少なくとも片面に金属層(B)を備え、かつ、
上記樹脂層(A)と上記金属層(B)とを有する積層体の少なくとも片面に上記導電性ポリマー層(C)を備えたことを特徴とする。
The electromagnetic wave shield molding of the present invention comprises at least a resin layer (A), a metal layer (B), and a conductive polymer layer (C) containing a conductive polymer having a conductivity of 0.05 S / cm or more. ,
A metal layer (B) is provided on at least one side of the resin layer (A), and
The conductive polymer layer (C) is provided on at least one surface of a laminate having the resin layer (A) and the metal layer (B).

上記電磁波シールド成型体は、本発明の成型用電磁波シールドシートを成型してなるものが好ましく、また、少なくとも樹脂層(A)、金属層(B)からなる積層シートを成型して得られた成型体の表面に、導電性ポリマー層(C)が形成されてなるものも好ましい。
また、上記電磁波シールド成型体は、電子機器の電磁波シールドとして用いられるものが好ましい。
The electromagnetic shielding molded body is preferably formed by molding the electromagnetic shielding sheet for molding according to the present invention, and is a molding obtained by molding a laminated sheet comprising at least a resin layer (A) and a metal layer (B). It is also preferable that the conductive polymer layer (C) is formed on the surface of the body.
Moreover, the said electromagnetic wave shield molded object has a preferable thing used as an electromagnetic wave shield of an electronic device.

本発明の成型用電磁波シールドシートは、上述した構成を備えるため、軽量で、加工性に優れ、かつ、加工後も優れた電磁波シールド性能を維持することができるため、成型用の電磁波シールドシートとして極めて優れている。
ここで、加工後も優れた電磁波シールド性能を維持することができる点についてもう少し詳しく説明する。
樹脂フィルムの片面又は両面に金属層を形成した積層体を電磁波シールドシートとして使用する場合、金属層を備えていることに起因して、充分な電磁波シールド性能を確保することは可能である。
しかしながら、この電磁波シールドシートを成型(加工)して使用することを試みると成型時(加工時)に、電磁波シールドシートの金属層が断線(クラックが発生)し、その結果、断線部分では電磁波をシールドすることができず、電磁波シールド性能が著しく低下することがある。
これに対して、本発明の成型用電磁波シールドシートは、上記積層体の片面又は両面にさらに導電性ポリマー層を備えており、この導電性ポリマー層は金属層に比べて加工性に優れるため、金属層が断線するような条件で加工しても導電性ポリマー層は破損せず、そのため、金属層が断線してもその部分の電磁波シールド性能を上記導電性ポリマー層により補完することができ、その結果、本発明の成型用電磁波シールドシートは、加工後も優れた電磁波シールド性能を維持することができるのである。
Since the electromagnetic wave shielding sheet for molding of the present invention has the above-described configuration, it is lightweight, excellent in workability, and can maintain excellent electromagnetic wave shielding performance even after processing, so as an electromagnetic wave shielding sheet for molding Very good.
Here, the point which can maintain the excellent electromagnetic wave shielding performance after processing will be described in a little more detail.
When using the laminated body which formed the metal layer on the single side | surface or both surfaces of the resin film as an electromagnetic wave shield sheet, it is possible to ensure sufficient electromagnetic wave shielding performance resulting from having the metal layer.
However, if this electromagnetic shielding sheet is molded (processed) and attempted to be used, the metal layer of the electromagnetic shielding sheet is broken (cracked) at the time of molding (processing). Shielding may not be possible, and electromagnetic wave shielding performance may be significantly reduced.
On the other hand, the electromagnetic wave shielding sheet for molding of the present invention further comprises a conductive polymer layer on one side or both sides of the laminate, and this conductive polymer layer is superior in workability compared to a metal layer, Even if the metal layer is processed under conditions such as disconnection, the conductive polymer layer is not damaged, so even if the metal layer is disconnected, the electromagnetic wave shielding performance of the portion can be supplemented by the conductive polymer layer, As a result, the electromagnetic wave shielding sheet for molding of the present invention can maintain excellent electromagnetic wave shielding performance even after processing.

また、本発明の電磁波シールド成型体は、上述した構成を備えるため、軽量で、取り扱い性に優れ、優れた電磁波シールド性能を維持しつつ任意の形状をとり得ることができる。 Moreover, since the electromagnetic wave shielding molded body of the present invention has the above-described configuration, it is lightweight, excellent in handleability, and can take any shape while maintaining excellent electromagnetic wave shielding performance.

本発明のシールドシートの一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the shield sheet of this invention typically. 本発明のシールドシートの別の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another example of the shield sheet of this invention. (a)は、本発明の電磁波シールド成型体の一例を模式的に示す斜視図であり、(b)は、(a)のA−A線断面を模式的に示す断面図である。(A) is a perspective view which shows typically an example of the electromagnetic wave shield molding of this invention, (b) is sectional drawing which shows typically the AA line cross section of (a). 本発明の電磁波シールド成型体の別の一例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically another example of the electromagnetic wave shield molding of this invention. 本発明の電磁波シールド成型体の別の一例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically another example of the electromagnetic wave shield molding of this invention.

まず、本発明の成型用電磁波シールドシートについて、図面を参照しながら説明する。
本発明の成型用電磁波シールドシート(以下、単にシールドシートともいう)は、少なくとも樹脂層(A)、金属層(B)、及び、0.05S/cm以上の導電性を有する導電性ポリマーを含有する導電性ポリマー層(C)からなり、
上記樹脂層(A)の少なくとも片面に金属層(B)を備え、かつ、
上記樹脂層(A)と上記金属層(B)とを有する積層体の少なくとも片面に上記導電性ポリマー層(C)を備えたことを特徴とする。
First, the electromagnetic wave shielding sheet for molding of the present invention will be described with reference to the drawings.
The electromagnetic wave shielding sheet for molding of the present invention (hereinafter also simply referred to as a shielding sheet) contains at least a resin layer (A), a metal layer (B), and a conductive polymer having a conductivity of 0.05 S / cm or more. A conductive polymer layer (C)
A metal layer (B) is provided on at least one side of the resin layer (A), and
The conductive polymer layer (C) is provided on at least one surface of a laminate having the resin layer (A) and the metal layer (B).

図1、2は、それぞれ本発明のシールドシートの一例を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、シールドシート10は、樹脂層11の片面に金属層12が形成されて積層体13をなし、樹脂層11の金属層12が形成された側と反対側の面に導電性ポリマー層14が形成されたものである。
1 and 2 are cross-sectional views schematically showing examples of the shield sheet of the present invention.
As shown in FIG. 1, the shield sheet 10 has a laminated body 13 in which a metal layer 12 is formed on one surface of a resin layer 11, and is electrically conductive on the surface of the resin layer 11 opposite to the side where the metal layer 12 is formed. The conductive polymer layer 14 is formed.

また、上記シールドシートの層構成は必ずしも図1に示した層構成を備える必要はなく、例えば、図2に示すシールドシート20のような層構成を備えていてもよい。
シールドシート20は、樹脂層21の片面に金属層22が形成されて積層体23をなし、樹脂層21の金属層22が形成された側の面に更に導電性ポリマー層24が形成されたものである。
Further, the layer configuration of the shield sheet is not necessarily provided with the layer configuration shown in FIG. 1, and may have a layer configuration like the shield sheet 20 shown in FIG. 2, for example.
The shield sheet 20 is a laminate 23 in which a metal layer 22 is formed on one surface of a resin layer 21, and a conductive polymer layer 24 is further formed on the surface of the resin layer 21 on which the metal layer 22 is formed. It is.

また、上記シールドシートの層構成は、図示しないものの、例えば、以下のような構成を備えていてもよい。
即ち、上記樹脂層の両面に上記金属層が形成されて積層体をなし、この積層体の両面又は片面に上記導電性ポリマー層が形成されていてもよい。
上記樹脂層の両面に上記金属層が形成されている場合(シールドシートが2層の金属層を備えている場合)、シールドシートの電磁波シールド性能がより向上することとなる。
Moreover, although the layer structure of the said shield sheet is not shown in figure, you may provide the following structures, for example.
That is, the metal layer may be formed on both sides of the resin layer to form a laminate, and the conductive polymer layer may be formed on both sides or one side of the laminate.
When the metal layers are formed on both surfaces of the resin layer (when the shield sheet includes two metal layers), the electromagnetic shielding performance of the shield sheet is further improved.

また、上記樹脂層、上記金属層及び上記導電性ポリマー層の各層の間や、上記シールドシートの最外層には、更に別の層が形成されていてもよい。
具体的には、例えば、各層の密着性を向上させるためのプライマー層、シールドシートにロット番号や図柄を付与するための印刷層等が形成されていてもよい。
Further, another layer may be formed between the resin layer, the metal layer, and the conductive polymer layer, or on the outermost layer of the shield sheet.
Specifically, for example, a primer layer for improving the adhesion of each layer, a printed layer for imparting a lot number or a pattern to the shield sheet, and the like may be formed.

また、上記金属層は、上記樹脂層の一面全体に形成されたベタ層であってもよいし、上記樹脂層の一面の所望の一部にのみ形成されたパターン層であってもよい。
また、上記導電性ポリマー層も同様に、上記樹脂層又は上記金属層の一面全体に形成されたベタ層であってもよいし、上記樹脂層又は上記金属層の一面の所望の一部にのみ形成されたパターン層であってもよい。
Further, the metal layer may be a solid layer formed on the entire surface of the resin layer, or may be a pattern layer formed only on a desired part of the one surface of the resin layer.
Similarly, the conductive polymer layer may be a solid layer formed on the entire surface of the resin layer or the metal layer, or only on a desired part of the surface of the resin layer or the metal layer. It may be a formed pattern layer.

次に、本発明のシールドシートの構成部材について説明する。
(樹脂層(A))
上記樹脂層は、上記シールドシートのベース層となる層である。
上記樹脂層の材質は特に限定されず、例えば、非晶質ポリエチレンテレフタレート(A−PET)、結晶性ポリエチレンテレフタレート(C−PET)等のポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、アクリルアミド、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂、アクリロニトリルスチレン共重合樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、環状ポリオレフィン、ポリフェニレンスルフィド、ポリテトラフルロエチレン、ポリスルホン、非晶ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミドイミド、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、アイオノマー共重合体、その他アクリル樹脂、アクリルニトリルブタジエンスチレン等が挙げられる。
これらのなかでは、成型加工性に優れる点で、A−PET、C−PET、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、非晶ポリアリレート等の熱可塑樹脂が好ましく、A−PETがより好ましい。
Next, the structural member of the shield sheet of this invention is demonstrated.
(Resin layer (A))
The resin layer is a layer that becomes a base layer of the shield sheet.
The material of the resin layer is not particularly limited. For example, polyethylene terephthalate such as amorphous polyethylene terephthalate (A-PET), crystalline polyethylene terephthalate (C-PET), polyimide, polyethersulfone, polyetheretherketone, Polycarbonate, polyethylene, polypropylene, polyamide, acrylamide, cellulose propionate, polyvinyl chloride, polystyrene, polyvinyl acetate, polytetrafluoroethylene, acrylonitrile butadiene styrene resin, acrylonitrile styrene copolymer resin, acrylic resin, polyamide, polyacetal, modified polyphenylene Ether, polybutylene terephthalate, cyclic polyolefin, polyphenylene sulfide, polytetrafluoroethylene, polysulfone Acrylate polymer, polyimide, polyamide-imide, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylate copolymer, ionomer copolymers, other acrylic resins, acrylonitrile butadiene styrene.
Among these, thermoplastic resins such as A-PET, C-PET, polypropylene, polystyrene, polyvinyl acetate, polycarbonate, modified polyphenylene ether, and amorphous polyarylate are preferable because of excellent molding processability. A-PET Is more preferable.

(金属層(B))
上記金属層は、上記シールドシートにおいて、電磁波をシールドする機能を主に担う層である。
上記金属層の材質としては、例えば、導電性を有する金属や金属酸化物、更には磁性体等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種以上併用してもよい。なお、本発明において、磁性体とは強磁性体を意味する
(Metal layer (B))
The metal layer is a layer mainly responsible for the function of shielding electromagnetic waves in the shield sheet.
Examples of the material of the metal layer include conductive metals and metal oxides, and magnetic materials. These may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the magnetic substance means a ferromagnetic substance.

上記金属としては、例えば、アルミニウム、銅、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、銀、カドミウム、金等の導電性の金属が挙げられる。
これらのなかでは、アルミニウム、銅、銀、金が好ましい。その理由は、比較的導電性が高いため、高い電磁波シールド効果を有するためである。
Examples of the metal include conductive metals such as aluminum, copper, magnesium, calcium, zinc, silver, cadmium, and gold.
Of these, aluminum, copper, silver, and gold are preferable. The reason is that it has a high electromagnetic shielding effect because of its relatively high conductivity.

上記金属酸化物としては、例えば、TiO、ZnO、StTiO、ITO、FTO、ATO、GZO等が挙げられる。
これらのなかでは、ITOが好ましい。その理由は、比較的導電性が高いため、高い電磁波シールド効果を有するためである。
The metal oxide, e.g., TiO 2, ZnO, StTiO 3 , ITO, FTO, ATO, GZO , and the like.
Of these, ITO is preferred. The reason is that it has a high electromagnetic shielding effect because of its relatively high conductivity.

上記磁性体としては、例えば、酸化鉄、酸化クロム、コバルト、フェライト等が挙げられる。 Examples of the magnetic material include iron oxide, chromium oxide, cobalt, and ferrite.

上記金属層の厚さは特に限定されないが、0.01〜10μmが好ましい。
0.01μm未満では、十分な電磁波シールドを発現する事が難しくなり、10μmを超えると、成型加工性が低下する、軽量化という点で不利になるといった問題が生じる場合がある。
Although the thickness of the said metal layer is not specifically limited, 0.01-10 micrometers is preferable.
If it is less than 0.01 μm, it is difficult to develop a sufficient electromagnetic wave shield, and if it exceeds 10 μm, there may be a problem that molding processability is deteriorated and disadvantageous in terms of weight reduction.

上記金属層は、例えば、PVD、CVD等の蒸着、スパッタリング、無電解めっき、イオンプレーティング等を用いて形成することができる。また、例えば、上記金属層の厚さによっては、上述した方法で金属の薄層を形成した後、電解めっき行うこと等により、比較的厚さの厚い金属層を形成してもよい。 The metal layer can be formed using, for example, vapor deposition such as PVD or CVD, sputtering, electroless plating, ion plating, or the like. For example, depending on the thickness of the metal layer, a relatively thick metal layer may be formed by performing electroplating after forming a thin metal layer by the above-described method.

(導電性ポリマー層(C))
上記導電性ポリマー層は、上記シールドシートにおいて、上記金属層による電磁波のシールド性を補完する機能を担う層であり、導電性ポリマーを含有する層である。
上記導電性ポリマーとしては、ポリフェニルアセチレン、ポリ(p−フェニレン)、ポリ(m−フェニレン)、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアゾベンゼン、ポリアセチレン、ポリアセン、ポリフェナントレン、ポリフェニレンビニレン、ポリナフタレン、ポリ(ビニレンスルフィド)、これらの誘導体、および、これらとポリ陰イオン等のドーパントとの複合体等が挙げられる。
これらのなかでは、ポリチオフェン(誘導体)が好ましく、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体がより好ましい。導電性や透明性に加えて化学的安定性に極めて優れているからである。さらに、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体を含有する導電性ポリマー組成物を用いて導電性ポリマー層を形成する場合、低温短時間で薄膜形成が可能であることから、極めて生産性にも優れることとなる。
(Conductive polymer layer (C))
The said conductive polymer layer is a layer which bears the function which supplements the shielding property of the electromagnetic waves by the said metal layer in the said shield sheet, and is a layer containing a conductive polymer.
Examples of the conductive polymer include polyphenylacetylene, poly (p-phenylene), poly (m-phenylene), polythiophene, polypyrrole, polyaniline, polyazobenzene, polyacetylene, polyacene, polyphenanthrene, polyphenylene vinylene, polynaphthalene, poly (vinylene). Sulfide), derivatives thereof, and complexes of these with dopants such as polyanions.
Among these, polythiophene (derivative) is preferable, and a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and polyanion is more preferable. This is because it is extremely excellent in chemical stability in addition to conductivity and transparency. Furthermore, when a conductive polymer layer is formed using a conductive polymer composition containing a complex of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a polyanion, a thin film can be formed at a low temperature in a short time. Therefore, it will be extremely excellent in productivity.

上記ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体としては、ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体が特に好ましい。
上記ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)としては、以下の式(I):
The complex of the poly (3,4-disubstituted thiophene) and the polyanion includes poly (3,4-dialkoxythiophene) or poly (3,4-alkylenedioxythiophene) and the polyanion. A composite is particularly preferred.
As the poly (3,4-dialkoxythiophene) or poly (3,4-alkylenedioxythiophene), the following formula (I):

Figure 2012186222
Figure 2012186222

で示される反復構造単位からなる陽イオン形態のポリチオフェンが好ましい。ここで、RおよびRは相互に独立して水素原子又はC1−4のアルキル基を表すか、あるいは一緒になって置換されていてもよいC1−4のアルキレン基を表す。
上記C1−4のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。
また、RおよびRが一緒になって形成される、置換されていてもよいC1−4のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1−メチル−1,2−エチレン基、1−エチル−1,2−エチレン基、1−メチル−1,3−プロピレン基、2−メチル−1,3−プロピレン基等が挙げられる。好適には、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基であり、1,2−エチレン基が特に好適である。上記アルキレン基を持つポリチオフェンとして、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。
A polythiophene in a cationic form consisting of repeating structural units represented by Here, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a C 1-4 alkyl group, or a C 1-4 alkylene group which may be substituted together.
Examples of the C 1-4 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a t-butyl group.
Examples of the optionally substituted C 1-4 alkylene group formed by combining R 1 and R 2 include a methylene group, a 1,2-ethylene group, and a 1,3-propylene group. 1,4-butylene group, 1-methyl-1,2-ethylene group, 1-ethyl-1,2-ethylene group, 1-methyl-1,3-propylene group, 2-methyl-1,3-propylene Groups and the like. Preferred are a methylene group, 1,2-ethylene group, and 1,3-propylene group, and a 1,2-ethylene group is particularly preferred. As the polythiophene having an alkylene group, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) is particularly preferable.

上記ポリ陰イオンは、ポリチオフェン(誘導体)とイオン対をなすことにより複合体を形成し、ポリチオフェン(誘導体)を水中に安定に分散させることができる。
上記ポリ陰イオンとしては、カルボン酸ポリマー類(例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸等)、スルホン酸ポリマー類(例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等)等が挙げられる。これらのカルボン酸ポリマー類およびスルホン酸ポリマー類はまた、ビニルカルボン酸類およびビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類、例えば、アクリレート類、スチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物との共重合体であっても良い。中でも、ポリスチレンスルホン酸が特に好ましい。
The poly anion forms a complex by forming an ion pair with the polythiophene (derivative), and the polythiophene (derivative) can be stably dispersed in water.
Examples of the poly anion include carboxylic acid polymers (for example, polyacrylic acid, polymaleic acid, polymethacrylic acid, etc.), sulfonic acid polymers (for example, polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, etc.), and the like. Can be mentioned. These carboxylic acid polymers and sulfonic acid polymers are also copolymers of vinyl carboxylic acids and vinyl sulfonic acids with other polymerizable monomers such as aromatic vinyl compounds such as acrylates, styrene, vinyl naphthalene, etc. It may be. Among these, polystyrene sulfonic acid is particularly preferable.

上記ポリスチレンスルホン酸は、重量平均分子量が20000より大きく、500000以下であることが好ましい。より好ましくは40000〜200000である。分子量がこの範囲外のポリスチレンスルホン酸を使用すると、ポリチオフェン系導電性ポリマーの水に対する分散安定性が低下する場合がある。尚、上記ポリマーの重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー(GPC)にて測定した値である。測定にはウォーターズ社製ultrahydrogel500カラムを使用した。 The polystyrene sulfonic acid preferably has a weight average molecular weight of more than 20000 and 500,000 or less. More preferably, it is 40000-200000. If polystyrene sulfonic acid having a molecular weight outside this range is used, the dispersion stability of the polythiophene-based conductive polymer in water may decrease. The weight average molecular weight of the polymer is a value measured by gel permeation chromatography (GPC). For the measurement, an ultrahydrogel 500 column manufactured by Waters was used.

上記導電性ポリマーの導電率は、0.05S/cm以上である。上記を導電率が0.05S/cm未満では、実用的な電磁波シールド性能を確保することができないからである。
上記導電率の好ましい下限は、0.10S/cmである。上記導電率が0.10S/cm未満では、塗膜にした時に十分な電磁波シールド性能が維持されない場合がある。より好ましい下限は、0.20S/cmである。
The conductivity of the conductive polymer is 0.05 S / cm or more. This is because practical electromagnetic shielding performance cannot be ensured when the conductivity is less than 0.05 S / cm.
A preferable lower limit of the conductivity is 0.10 S / cm. When the conductivity is less than 0.10 S / cm, sufficient electromagnetic wave shielding performance may not be maintained when formed into a coating film. A more preferred lower limit is 0.20 S / cm.

導電率が0.10(S/cm)以上の導電性ポリマーは、重合条件や分子量を適宜選択することで容易に作製することができ、例えば、分子量を増大させることで上記のように高い導電性を示す導電性ポリマーを得ることができる。また、上記導電性ポリマーがポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンからなる複合体の場合、製造時の重合系が示すpHを最適化することで、高い導電性を示す導電性ポリマーを得ることができる。また、このような高い導電性を示す導電性ポリマーは、市販品を使用してもよい。
なお、本発明でいう導電性ポリマーの導電率は、基材上に当該導電性ポリマーからなる導電層を形成した後、その導電層が示す膜厚と表面抵抗率を測定して、下記式に基づき算出する。
導電率(S/cm)=1/{表面抵抗率(Ω/□)×膜厚(cm)}
A conductive polymer having a conductivity of 0.10 (S / cm) or more can be easily produced by appropriately selecting the polymerization conditions and molecular weight. For example, by increasing the molecular weight, the conductive polymer has a high conductivity as described above. A conductive polymer exhibiting properties can be obtained. In addition, when the conductive polymer is a complex composed of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a polyanion, the conductive polymer exhibits high conductivity by optimizing the pH exhibited by the polymerization system during production. A polymer can be obtained. Moreover, you may use a commercial item for the conductive polymer which shows such high electroconductivity.
In addition, after forming the conductive layer which consists of the said conductive polymer on a base material, the electrical conductivity of the conductive polymer said by this invention measures the film thickness and surface resistivity which the conductive layer shows, and shows to a following formula Calculate based on
Conductivity (S / cm) = 1 / {Surface resistivity (Ω / □) × film thickness (cm)}

上記導電性ポリマー層における上記導電性ポリマーの含有量は、5.0〜0.001mg/mであることが好ましく、1.0〜0.01mg/mであることがより好ましい。0.001mg/m未満では、電磁波のシールド性が不充分となることがあり、一方、5.0mg/mを超えると、電磁波シールドシートを成型した時に、導電性ポリマー層にクラックが生じやすくなり、電磁波シールド成型体のシールド効果が低くなる不都合が生じる場合がある。 The content of the conductive polymer in the conductive polymer layer is preferably 5.0~0.001mg / m 2, and more preferably 1.0~0.01mg / m 2. If it is less than 0.001 mg / m 2 , the shielding property of the electromagnetic wave may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 5.0 mg / m 2 , a crack occurs in the conductive polymer layer when the electromagnetic wave shielding sheet is molded. It becomes easy and the problem that the shielding effect of an electromagnetic wave shield molding becomes low may arise.

上記導電性ポリマー層は、上記導電性ポリマー以外に、他の成分を含有していてもよい。即ち、上記導電性ポリマー層は、上記導電性ポリマーを含有する導電性ポリマー組成物を用いて形成された層である。
上記導電性ポリマー組成物は、上記導電性ポリマー以外に、水溶性酸化防止剤、バインダー、架橋剤、界面活性剤、レベリング剤、導電性向上剤、溶媒等を含有してもよい。
The conductive polymer layer may contain other components in addition to the conductive polymer. That is, the conductive polymer layer is a layer formed using a conductive polymer composition containing the conductive polymer.
In addition to the conductive polymer, the conductive polymer composition may contain a water-soluble antioxidant, a binder, a crosslinking agent, a surfactant, a leveling agent, a conductivity improver, a solvent, and the like.

(水溶性酸化防止剤)
上記水溶性酸化防止剤は、導電性ポリマー層の耐熱性及び耐湿熱性を向上させたり、空気暴露による抵抗上昇を抑制したりするための配合物である。
また、水溶性酸化防止剤を配合した場合、導電性ポリマー層中において、水溶性酸化防止剤が均一に存在し得るため、空気暴露による抵抗上昇を効果的に抑制することも可能となる。なお、脂溶性酸化防止剤は、薄膜中に均一に存在し得えないため、空気暴露による抵抗上昇を抑制することができない。
更に、水溶性酸化防止剤を配合した場合、使用量が比較的多くても(過剰量を添加しなければ)、導電性ポリマー層に曇りは発生せず、高い透明性を確保することができる。これに対し、脂溶性酸化防止剤を用いた場合には、導電性ポリマー層に曇りが生じ、透明性が低下する原因となる。
(Water-soluble antioxidant)
The said water-soluble antioxidant is a compound for improving the heat resistance and heat-and-moisture resistance of an electroconductive polymer layer, or suppressing the resistance increase by air exposure.
In addition, when a water-soluble antioxidant is blended, the water-soluble antioxidant can be uniformly present in the conductive polymer layer, so that an increase in resistance due to air exposure can be effectively suppressed. In addition, since a fat-soluble antioxidant cannot exist uniformly in a thin film, it cannot suppress the resistance increase by air exposure.
Furthermore, when a water-soluble antioxidant is blended, even if the amount used is relatively large (unless an excessive amount is added), the conductive polymer layer does not fog and can ensure high transparency. . On the other hand, when a fat-soluble antioxidant is used, the conductive polymer layer is clouded, which causes a decrease in transparency.

上記水溶性酸化防止剤として特に限定されず、還元性又は非還元性の水溶性酸化防止剤が挙げられる。還元性を有する水溶性酸化防止剤としては、例えば、L−アスコルビン酸、L−アスコルビン酸ナトリウム、L−アスコルビン酸カリウム、D(−)−イソアスコルビン酸(エリソルビン酸)、エリソルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸カリウム等の2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物;マルトース、ラクトース、セロビオース、キシロース、アラビノース、グルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノース等の単糖類又は二糖類(但し、スクロースを除く);カテキン、ルチン、ミリセチン、クエルセチン、ケンフェロール、サンメリン(登録商標)Y−AF等のフラボノイド;クルクミン、ロズマリン酸、クロロゲン酸、ヒドロキノン、3,4,5−トリヒドロキシ安息香酸等のフェノール性水酸基を2個以上有する化合物;システイン、グルタチオン、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)等のチオール基を有する化合物等が挙げられる。非還元性の水溶性酸化防止剤としては、例えば、フェニルイミダゾールスルホン酸、フェニルトリアゾールスルホン酸、2−ヒドロキシピリミジン、サリチル酸フェニル、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸ナトリウム等の酸化劣化の原因となる紫外線を吸収する化合物が挙げられる。これらは、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 It does not specifically limit as said water-soluble antioxidant, A reducing or non-reducing water-soluble antioxidant is mentioned. Examples of the water-soluble antioxidant having reducibility include L-ascorbic acid, sodium L-ascorbate, potassium L-ascorbate, D (-)-isoascorbic acid (erythorbic acid), sodium erythorbate, erythorbic acid Compounds having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups such as potassium; monosaccharides or disaccharides (excluding sucrose) such as maltose, lactose, cellobiose, xylose, arabinose, glucose, fructose, galactose, mannose; , Flavonoids such as rutin, myricetin, quercetin, kaempferol, sanmerin (registered trademark) Y-AF; two phenolic hydroxyl groups such as curcumin, rosmarinic acid, chlorogenic acid, hydroquinone, 3,4,5-trihydroxybenzoic acid more than Compounds; cysteine, glutathione, a compound having a pentaerythritol tetrakis (3-mercapto butyrate) thiol groups, such as and the like. Non-reducing water-soluble antioxidants include, for example, oxidative degradation such as phenylimidazolesulfonic acid, phenyltriazolesulfonic acid, 2-hydroxypyrimidine, phenyl salicylate, sodium 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonate. The compound which absorbs the ultraviolet-ray which causes this is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

これらのなかでは、2個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物、及び、フェノール性水酸基を2個以上有する化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物が好ましく、特に、D(−)−イソアスコルビン酸、又は、サンメリンY−AFがより好ましい。 Among these, at least one compound selected from the group consisting of a compound having a lactone ring substituted with two hydroxyl groups and a compound having two or more phenolic hydroxyl groups is preferable. ) -Isoascorbic acid or Sanmerin Y-AF is more preferred.

上記水溶性酸化防止剤の含有量は、上記導電性ポリマーの固形分100重量部に対して0.01〜5000重量部が好ましく、0.05〜2500重量部がより好ましく、0.1〜100重量部が特に好ましい。
上記含有量が0.01重量部未満では、導電性ポリマー層の耐熱性及び耐湿熱性を向上させたり、空気暴露による抵抗上昇を十分に抑制する事ができない場合があり、一方、5000重量部を超えると、導電性ポリマー層の導電性、電磁波シールド性能の低下の原因となる場合がある。
The content of the water-soluble antioxidant is preferably 0.01 to 5000 parts by weight, more preferably 0.05 to 2500 parts by weight, more preferably 0.1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the conductive polymer. Part by weight is particularly preferred.
If the content is less than 0.01 parts by weight, the heat resistance and heat-and-moisture resistance of the conductive polymer layer may not be improved, or the increase in resistance due to air exposure may not be sufficiently suppressed. When it exceeds, it may become the cause of the fall of the electroconductivity of an electroconductive polymer layer, and electromagnetic wave shielding performance.

(バインダー)
上記バインダーは、導電性ポリマー層と上記樹脂層や上記金属層との密着性、及び導電性ポリマー層自身の強度を向上させる目的で用いられる。
上記バインダーとしては、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル、アクリル系樹脂(ポリアクリレート、ポリメタクリレート)、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド等のホモポリマー;スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート等のモノマーを共重合して得られるコポリマー;3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物等が挙げられる。これらのバインダーは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(binder)
The binder is used for the purpose of improving the adhesion between the conductive polymer layer and the resin layer or the metal layer, and the strength of the conductive polymer layer itself.
Examples of the binder include homopolymers such as epoxy resin, polyester, acrylic resin (polyacrylate, polymethacrylate), polyurethane, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyamide, polyimide; styrene, vinylidene chloride, vinyl chloride, alkyl Copolymers obtained by copolymerizing monomers such as acrylate and alkyl methacrylate; 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane And the like, and the like. These binders may be used independently and may use 2 or more types together.

上記バインダーとしては、少なくともアクリル系樹脂を含有することが好ましい。
この理由は、アクリル系樹脂は高いじん性を有することから、導電性ポリマー層に配合すると、導電性ポリマー層に伸び性を付与出来るからである。伸び性が付与された導電性ポリマー層は、150%程度導電性ポリマー層を延伸しても電磁波シールド効果が低下しない。そのため、上記電磁波シールドシートを用いて電磁波シールド成型体を成型した場合、折り曲げた部分が伸びて、金属層が断線しても、導電性ポリマー層が伸びて金属層を補償し、電磁波シールド成型体の電磁波シールド効果の低下を防ぐ事ができる。
The binder preferably contains at least an acrylic resin.
This is because the acrylic resin has high toughness, and therefore, when blended in the conductive polymer layer, it can impart extensibility to the conductive polymer layer. The conductive polymer layer to which extensibility is imparted does not lower the electromagnetic shielding effect even when the conductive polymer layer is stretched by about 150%. Therefore, when an electromagnetic shielding molded body is molded using the above electromagnetic shielding sheet, even if the bent portion is stretched and the metal layer is disconnected, the conductive polymer layer is stretched to compensate the metallic layer, and the electromagnetic shielding molded body It is possible to prevent the electromagnetic wave shielding effect from decreasing.

上記アクリル系の樹脂としては、(メタ)アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂等が例示できる。これらのアクリル系の樹脂としては、例えば、カルボキシル基、酸無水物基、スルホン酸基、燐酸基などの酸性基を有する重合性単量体を構成モノマーとして含む重合体であればよく、例えば、前記酸基を有する重合性単量体の単独又は共重合体、前記酸基を有する重合性単量体と共重合性単量体との共重合体等が挙げられる。 Examples of the acrylic resin include (meth) acrylic resins and vinyl ester resins. As these acrylic resins, for example, a polymer containing a polymerizable monomer having an acidic group such as a carboxyl group, an acid anhydride group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group as a constituent monomer may be used. Examples thereof include a single or copolymer of a polymerizable monomer having an acid group, a copolymer of a polymerizable monomer having a acid group and a copolymerizable monomer, and the like.

上記(メタ)アクリル系樹脂としては、(メタ)アクリル系単量体を主たる構成モノマー(例えば、50モル%以上)として含んでいればよく、(メタ)アクリル系単量体及び共重合性単量体のうち、少なくとも一方が酸基を有していればよい。(メタ)アクリル系樹脂としては、例えば、前記酸基を有する(メタ)アクリル系単量体[(メタ)アクリル酸、スルホアルキル(メタ)アクリレート、スルホン酸基含有(メタ)アクリルアミド等]の単独又は共重合体、前記酸基を有していてもよい(メタ)アクリル系単量体と酸基を有する他の重合性単量体[他の重合性カルボン酸、重合性多価カルボン酸又は無水物、ビニル芳香族スルホン酸等]及び/又は前記共重合性単量体[例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、芳香族ビニル単量体等]との共重合体、前記酸基を有する他の重合体単量体と(メタ)アクリル系共重合性単量体[例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等]との共重合体などが挙げられる。 The (meth) acrylic resin may contain a (meth) acrylic monomer as a main constituent monomer (for example, 50 mol% or more). It is sufficient that at least one of the monomers has an acid group. As the (meth) acrylic resin, for example, a (meth) acrylic monomer having an acid group [(meth) acrylic acid, sulfoalkyl (meth) acrylate, sulfonic acid group-containing (meth) acrylamide, etc.) alone Or a copolymer, the (meth) acrylic monomer optionally having an acid group and another polymerizable monomer having an acid group [other polymerizable carboxylic acid, polymerizable polyvalent carboxylic acid or Anhydride, vinyl aromatic sulfonic acid and the like] and / or the copolymerizable monomer [for example, (meth) acrylic acid alkyl ester, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, aromatic vinyl monomer, etc.] Copolymer, other polymer monomer having an acid group and (meth) acrylic copolymerizable monomer [for example, (meth) acrylic acid alkyl ester, hydroxyalkyl (meta Acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and copolymers of (meth) acrylonitrile, etc.].

これらの(メタ)アクリル系樹脂のうち、少なくとも(メタ)アクリル酸を含む重合体、例えば、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル重合体(アクリル酸−メタクリル酸メチル共重合体等)、(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル−スチレン共重合体(アクリル酸−メタクリル酸メチル−スチレン共重合体等)等が好ましい。 Among these (meth) acrylic resins, polymers containing at least (meth) acrylic acid, for example, (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester polymers (acrylic acid-methyl methacrylate copolymer, etc.) , (Meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester-styrene copolymers (acrylic acid-methyl methacrylate-styrene copolymers, etc.) are preferred.

上記ビニルエステル系樹脂としては、前記酸基を有する重合性単量体(例えば、(メタ)アクリル酸、ビニルスルホン酸等)と、前記ビニルエステル系単量体と、必要により他の共重合性単量体(α−オレフィン類など)との共重合体等が挙げられる。 Examples of the vinyl ester resin include a polymerizable monomer having the acid group (for example, (meth) acrylic acid, vinyl sulfonic acid, etc.), the vinyl ester monomer, and other copolymerization as necessary. And copolymers with monomers (such as α-olefins).

バインダーの含有量は特に限定されないが、固形分換算で、導電性ポリマーの固形分100重量部に対して、1〜170000重量部が好ましく、5〜5000重量部がより好ましい。
上記含有量が1重量部未満では、電磁波シールドシートの導電性ポリマー層の膜厚を均一に形成する事が難しくなる場合があり、一方、170000重量部を超えると、導電性ポリマー層の電磁波シールド効果を低下させる原因になる場合がある。
Although content of a binder is not specifically limited, 1-170 weight part is preferable with respect to 100 weight part of solid content of an electroconductive polymer in conversion of solid content, and 5-5000 weight part is more preferable.
If the content is less than 1 part by weight, it may be difficult to uniformly form the film thickness of the conductive polymer layer of the electromagnetic wave shielding sheet. On the other hand, if the content exceeds 170000 parts by weight, the electromagnetic wave shield of the conductive polymer layer may be difficult. It may cause a decrease in the effect.

(架橋剤)
上記架橋剤は、導電性薄膜の強度をさらに向上させる目的で用いられる。
上記架橋剤は、バインダーと併用して、バインダーを架橋する目的で使用してもよく、バインダーを併用せずに架橋剤の自己架橋膜を形成させてもよい。架橋させるための触媒として、ドーパントが有する酸性基を利用してもよく、新たに、有機酸または無機酸を添加してもよい。また、感熱性酸発生剤、感放射線性酸発生剤、感電磁波性酸発生剤等を添加してもよい。
(Crosslinking agent)
The crosslinking agent is used for the purpose of further improving the strength of the conductive thin film.
The crosslinking agent may be used in combination with a binder for the purpose of crosslinking the binder, or a self-crosslinking film of the crosslinking agent may be formed without using the binder. As a catalyst for crosslinking, an acidic group of a dopant may be used, or an organic acid or an inorganic acid may be newly added. Moreover, you may add a heat sensitive acid generator, a radiation sensitive acid generator, an electromagnetic wave sensitive acid generator, etc.

上記架橋剤としては、例えば、メラミン系、ポリカルボジイミド系、ポリオキサゾリン系、ポリエポキシ系、ポリイソシアネート系等の架橋剤が挙げられる。これらの架橋剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Examples of the crosslinking agent include melamine-based, polycarbodiimide-based, polyoxazoline-based, polyepoxy-based, and polyisocyanate-based crosslinking agents. These crosslinking agents may be used independently and may use 2 or more types together.

上記架橋剤の含有量は特に限定されないが、固形分換算で、導電性ポリマーの固形分100重量部に対して、1〜100000重量部が好ましく、10〜1000重量部がより好ましい。
上記含有量が1重量部未満では、導電性ポリマー層の強度が不十分である場合があり、一方、100000重量部を超えると、導電性ポリマー層の電磁波シールド効果を低下させる原因になる場合がある。
Although content of the said crosslinking agent is not specifically limited, 1-100,000 weight part is preferable with respect to 100 weight part of solid content of a conductive polymer in conversion of solid content, and 10-1000 weight part is more preferable.
If the content is less than 1 part by weight, the strength of the conductive polymer layer may be insufficient. On the other hand, if it exceeds 100,000 parts by weight, the electromagnetic wave shielding effect of the conductive polymer layer may be reduced. is there.

(界面活性剤)
前記界面活性剤は、レベリング性を向上し、均一な塗布膜を得ることができるものなら特に限定されない。
上記界面活性剤としては、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性シロキサン、ポリエーテルエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエステル変性ポリジメチルシロキサン等のシロキサン化合物;パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノール等のフッ素含有有機化合物;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、プロピレンオキシド重合体、エチレンオキシド重合体などのポリエーテル系化合物;ヤシ油脂肪酸アミン塩、ガムロジン等のカルボン酸;ヒマシ油硫酸エステル類、リン酸エステル、アルキルエーテル硫酸塩、ソルビタン脂肪酸エステル、スルホン酸エステル、リン酸エステル、コハク酸エステル等のエステル系化合物;アルキルアリールスルホン酸アミン塩、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム等のスルホン酸塩化合物;ラウリルリン酸ナトリウム等のリン酸塩化合物;ヤシ油脂肪酸エタノールアマイド等のアミド化合物;さらにはアクリル系の共重合物等が挙げられる。これらの中でも、レベリング性の点からはシロキサン系化合物およびフッ素含有化合物が好ましく、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンが特に好ましい。
(Surfactant)
The surfactant is not particularly limited as long as it can improve leveling properties and obtain a uniform coating film.
Examples of the surfactant include polyether-modified polydimethylsiloxane, polyether-modified siloxane, polyetherester-modified hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane, polyether-modified acrylic group-containing polydimethylsiloxane, polyester-modified acrylic group-containing polydimethylsiloxane, Siloxane compounds such as perfluoropolydimethylsiloxane, perfluoropolyether-modified polydimethylsiloxane, and perfluoropolyester-modified polydimethylsiloxane; fluorine-containing organic compounds such as perfluoroalkylcarboxylic acid and perfluoroalkylpolyoxyethyleneethanol; polyoxyethylene Polyether compounds such as alkyl phenyl ethers, propylene oxide polymers, ethylene oxide polymers; coconut oil fatty acid polymers Carboxylic acids such as citrate salts and gum rosins; Castor oil sulfates, phosphate esters, alkyl ether sulfates, sorbitan fatty acid esters, sulfonate esters, phosphate esters, succinate esters, and other ester compounds; alkyl aryl sulfonate amines Examples thereof include salts, sulfonate compounds such as dioctyl sodium sulfosuccinate; phosphate compounds such as sodium lauryl phosphate; amide compounds such as coconut oil fatty acid ethanolamide; and acrylic copolymers. Among these, siloxane compounds and fluorine-containing compounds are preferable from the viewpoint of leveling properties, and polyether-modified polydimethylsiloxane is particularly preferable.

上記界面活性剤の含有量は特に限定されないが、固形分換算で、導電性ポリマーの固形分100重量部に対して、0.01〜23000重量部が好ましく、0.1〜5000重量部がより好ましい。
上記含有量が0.01重量部未満では、電磁波シールドシートの導電性ポリマー層の膜厚を均一に形成する事が難しくなる場合があり、一方、23000重量部を超えると、導電性ポリマー層の電磁波シールド効果を低下させる原因になる場合がある。
Although content of the said surfactant is not specifically limited, 0.01-23000 weight part is preferable with respect to 100 weight part of solid content of a conductive polymer in conversion of solid content, and 0.1-5000 weight part is more. preferable.
If the content is less than 0.01 parts by weight, it may be difficult to form a uniform film thickness of the conductive polymer layer of the electromagnetic wave shielding sheet. On the other hand, if the content exceeds 23000 parts by weight, the conductive polymer layer It may cause a decrease in the electromagnetic shielding effect.

(レベリング剤)
上記レベリング剤としては、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性シロキサン、ポリエーテルエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエステル変性ポリジメチルシロキサン等のシロキサン化合物;パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノール等のフッ素含有有機化合物;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、プロピレンオキシド重合体、エチレンオキシド重合体等のポリエーテル系化合物;ヤシ油脂肪酸アミン塩、ガムロジン等のカルボン酸;ヒマシ油硫酸エステル類、リン酸エステル、アルキルエーテル硫酸塩、ソルビタン脂肪酸エステル、スルホン酸エステル、リン酸エステル、コハク酸エステル等のエステル系化合物;アルキルアリールスルホン酸アミン塩、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム等のスルホン酸塩化合物;ラウリルリン酸ナトリウム等のリン酸塩化合物;ヤシ油脂肪酸エタノールアマイド等のアミド化合物;さらにはアクリル系の共重合物等が挙げられる。これらのレベリング剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Leveling agent)
Examples of the leveling agent include polyether-modified polydimethylsiloxane, polyether-modified siloxane, polyetherester-modified hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane, polyether-modified acrylic group-containing polydimethylsiloxane, polyester-modified acrylic group-containing polydimethylsiloxane, Siloxane compounds such as fluoropolydimethylsiloxane, perfluoropolyether-modified polydimethylsiloxane, and perfluoropolyester-modified polydimethylsiloxane; fluorine-containing organic compounds such as perfluoroalkylcarboxylic acid and perfluoroalkylpolyoxyethyleneethanol; polyoxyethylenealkyl Polyether compounds such as phenyl ether, propylene oxide polymer, ethylene oxide polymer; coconut oil fatty acid polymer Carboxylic acids such as citrate salts and gum rosins; Castor oil sulfates, phosphate esters, alkyl ether sulfates, sorbitan fatty acid esters, sulfonate esters, phosphate esters, succinate esters, and other ester compounds; alkyl aryl sulfonate amines Examples thereof include salts, sulfonate compounds such as dioctyl sodium sulfosuccinate; phosphate compounds such as sodium lauryl phosphate; amide compounds such as coconut oil fatty acid ethanolamide; and acrylic copolymers. These leveling agents may be used independently and may use 2 or more types together.

上記レベリング剤の含有量は特に限定されないが、固形分換算で、導電性ポリマーの固形分100重量部に対して、0.01〜23000重量部が好ましく、0.1〜5000重量部がより好ましい。
上記含有量が0.01重量部未満では、電磁波シールドシートの導電性ポリマー層の膜厚を均一に形成する事が難しくなる場合があり、一方、230000重量部を超えると、導電性ポリマー層の電磁波シールド効果を低下させる原因になる場合がある。
Although content of the said leveling agent is not specifically limited, 0.01-23000 weight part is preferable with respect to 100 weight part of solid content of a conductive polymer in conversion of solid content, and 0.1-5000 weight part is more preferable. .
If the content is less than 0.01 parts by weight, it may be difficult to form a uniform film thickness of the conductive polymer layer of the electromagnetic wave shielding sheet. On the other hand, if the content exceeds 230000 parts by weight, the conductive polymer layer It may cause a decrease in the electromagnetic shielding effect.

(導電性向上剤)
上記導電性向上剤は、上記導電性ポリマー組成物に配合して使用する。また、上記導電性向上剤を配合することにより、導電性ポリマー層の電磁波シールド性能を向上させることができる。
上記導電性向上剤としては、例えば、(a)沸点が60℃以上で分子内に少なくとも1つのケトン基を有する化合物、(b)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのエーテル基を有する化合物、(c)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのスルフィニル基を有する化合物、(d)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのアミド基を有する化合物、(e)沸点が50℃以上で分子内に少なくとも1つのカルボキシル基を有する化合物、(f)沸点が100℃以上で分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物、(g)沸点が100℃以上で分子内に1つのラクタム基を有する化合物等が挙げられる。
(Conductivity improver)
The conductivity improver is used by blending with the conductive polymer composition. Moreover, the electromagnetic wave shielding performance of a conductive polymer layer can be improved by mix | blending the said electroconductivity improver.
Examples of the conductivity improver include (a) a compound having a boiling point of 60 ° C. or higher and having at least one ketone group in the molecule, and (b) a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one ether group in the molecule. Compound, (c) a compound having a boiling point of 100 ° C. or more and having at least one sulfinyl group in the molecule, (d) a compound having a boiling point of 100 ° C. or more and having at least one amide group in the molecule, (e) a boiling point of 50 A compound having at least one carboxyl group in the molecule at or above ° C, (f) a compound having a boiling point of 100 ° C or more and having two or more hydroxyl groups in the molecule, and (g) 1 in the molecule having a boiling point of 100 ° C or more. And compounds having two lactam groups.

上記沸点が60℃以上で分子内に少なくとも1つのケトン基を有する化合物(a)としては、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、β−ブチルラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等が挙げられる。
上記沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのエーテル基を有する化合物(b)としては、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、2−フェノキシエタノール、ジオキサン、モルホリン、4−アクリロイルモルホリン、N−メチルモルホリンN−オキシド、4−エチルモルホリン、オキセタン、THF、THP等が挙げられる。
上記沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのスルフィニル基を有する化合物(c)としては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
上記沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのアミド基を有する化合物(d)としては、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−エチルアセトアミド、N−フェニル−N−プロピルアセトアミド、ベンズアミド等が挙げられる。
上記沸点が50℃以上で分子内に少なくとも1つのカルボキシル基を有する化合物(e)としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、メタン酸、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、安息香酸、p−トルイル酸、p−トルイル酸、p−クロロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸、フタル酸、イソフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマール酸等が挙げられる。
上記沸点が100℃以上で分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物(f)としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、β−チオジグリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、カテコール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、エリトリトール、グリセッリン、インマトール、ラクチトール、マルチトール、マンニトール、ソルビトール、キシリトール、スクロース等が挙げられる。
上記沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのラクタム基を有する化合物(g)としては、例えば、N−メチルピロリドン、β−ラクタム、γ−ラクタム、δ−ラクタム、ε−カプロラクタム、ラウロラクタム等が挙げられる。
上記導電性向上剤の沸点が特定温度以上であると、導電層形成時の加熱によって当該導電性向上剤が徐々に揮発していくことになるが、その過程で、導電性ポリマーの配向を電磁波シールド性能にとって有利な配向に制御することになり、その結果、電磁波シールド性能が向上するものと考えられる。一方、導電性向上剤の沸点が特定温度に満たないものであると、急激に導電性向上剤が蒸発してしまうため、導電性ポリマーの配向が十分に制御されず電磁波シールド性能の向上につながらないものと考えられる。
上記導電性向上剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Examples of the compound (a) having a boiling point of 60 ° C. or more and having at least one ketone group in the molecule include isophorone, propylene carbonate, γ-butyrolactone, β-butyllactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolide. Non etc. are mentioned.
Examples of the compound (b) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one ether group in the molecule include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 2-phenoxyethanol, dioxane, morpholine, and 4-acryloylmorpholine. , N-methylmorpholine N-oxide, 4-ethylmorpholine, oxetane, THF, THP and the like.
Examples of the compound (c) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one sulfinyl group in the molecule include dimethyl sulfoxide.
Examples of the compound (d) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one amide group in the molecule include N, N-dimethylacetamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, and N-ethyl. Examples include acetamide, N-phenyl-N-propylacetamide, and benzamide.
Examples of the compound (e) having a boiling point of 50 ° C. or higher and having at least one carboxyl group in the molecule include acrylic acid, methacrylic acid, methanoic acid, ethanoic acid, propanoic acid, butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, Octanoic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, benzoic acid, p-toluic acid, p-toluic acid, p-chlorobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, Examples include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, maleic acid, fumaric acid and the like.
Examples of the compound (f) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having two or more hydroxyl groups in the molecule include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, β-thiodiglycol, triethylene glycol, triethylene glycol, Propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,3-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, catechol, cyclohexanediol, cyclohexanedimethanol, glycerin, erythritol, glycerin, Examples include inmitol, lactitol, maltitol, mannitol, sorbitol, xylitol, and sucrose.
Examples of the compound (g) having a boiling point of 100 ° C. or higher and having at least one lactam group in the molecule include N-methylpyrrolidone, β-lactam, γ-lactam, δ-lactam, ε-caprolactam, laurolactam and the like. Is mentioned.
When the boiling point of the conductivity improver is equal to or higher than a specific temperature, the conductivity improver gradually volatilizes by heating during formation of the conductive layer. In the process, the orientation of the conductive polymer is changed to electromagnetic waves. It is considered that the orientation is controlled to be advantageous for the shielding performance, and as a result, the electromagnetic shielding performance is improved. On the other hand, if the boiling point of the conductivity improver is less than a specific temperature, the conductivity improver rapidly evaporates, so the orientation of the conductive polymer is not sufficiently controlled and the electromagnetic shielding performance is not improved. It is considered a thing.
The said electrical conductivity improver may be used independently and may use 2 or more types together.

上記導電性向上剤の含有量は特に限定されないが、導電性ポリマー組成物中において、導電性ポリマーの固形分100重量部に対して、5〜2000重量部が好ましく、10〜1500重量部がより好ましい。
上記導電性向上剤の含有量が5重量部未満では、電磁波シールド性能を十分に向上させることが出来ないの場合があり、一方、2000重量部を超えると、導電性ポリマー層を形成するための導電性ポリマー組成物の導電成分が希薄となり、導電性ポリマー層を形成した時に十分な電磁波シールド性能を付与できなくなる場合がある。
Although content of the said electroconductivity improver is not specifically limited, In a conductive polymer composition, 5-2000 weight part is preferable with respect to 100 weight part of solid content of a conductive polymer, and 10-1500 weight part is more. preferable.
When the content of the conductivity improver is less than 5 parts by weight, the electromagnetic shielding performance may not be sufficiently improved. On the other hand, when the content exceeds 2000 parts by weight, the conductive polymer layer is formed. There are cases where the conductive component of the conductive polymer composition becomes dilute and sufficient electromagnetic wave shielding performance cannot be imparted when the conductive polymer layer is formed.

上記導電性ポリマー層を形成するための導電性ポリマー組成物は、溶媒を含有していてもよい。上記溶媒は、上記導電性ポリマー層中には残留しないことが好ましい。
なお、導電性コーティング用組成物の全ての成分を完全に溶解させるものを「溶媒」、不溶成分を分散させるものを「分散媒」と称するが、本明細書では、特に区別せずに、いずれも「溶媒」と記載する。
(溶媒)
上記溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール等のアルコール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエチレングリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルアセテート類;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のプロピレングリコール類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のプロピレングリコールエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールエーテルアセテート類;テトラヒドロフラン;アセトン;アセトニトリル等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種類以上を併用してもよい。
The conductive polymer composition for forming the conductive polymer layer may contain a solvent. It is preferable that the solvent does not remain in the conductive polymer layer.
In addition, although what completely dissolves all the components of the composition for conductive coating is referred to as “solvent”, and what disperses insoluble components is referred to as “dispersion medium”. Is also described as “solvent”.
(solvent)
Examples of the solvent include alcohols such as water, methanol, ethanol, 2-propanol, and 1-propanol; ethylene glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol; ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monomethyl. Glycol ethers such as ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether; Glycol ether acetates such as ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate; Propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, etc. Propylene rubber Coles: propylene glycol such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether Ethers: propylene glycol ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate; tetrahydrofuran; acetone; acetonitrile and the like It is. These may be used alone or in combination of two or more.

これらのなかでは、水、又は、水と有機溶媒との混合物が好ましい。
上記溶媒として水を用いる場合、水の含有量は、導電性ポリマーの固形分100重量部に対して、20〜500000重量部が好ましく、200〜10000重量部がより好ましい。
上記水の含有量が500000重量部を超えると導電性ポリマー層を形成するための導電性ポリマー組成物中の導電成分が希薄となり、導電性ポリマー層を形成した時に十分な電磁波シールド性能を付与できなくなる場合があるからである。
Among these, water or a mixture of water and an organic solvent is preferable.
When using water as said solvent, 20-500000 weight part is preferable with respect to 100 weight part of solid content of a conductive polymer, and, as for content of water, 200-10000 weight part is more preferable.
When the water content exceeds 500,000 parts by weight, the conductive component in the conductive polymer composition for forming the conductive polymer layer becomes diluted, and sufficient electromagnetic wave shielding performance can be imparted when the conductive polymer layer is formed. This is because it may disappear.

また、水と有機溶媒との混合物を用いる場合、有機溶媒としては、メタノール、エタノール、又は、2−プロパノールが好ましい。
この場合、有機溶媒の含有量は特に限定されず、導電性ポリマーの固形分100重量部に対して、20〜770000重量部が好ましく、200〜20000重量部がより好ましい。また、水と有機溶媒とを併用する場合、両者の比率(水と有機溶媒との比率)は、100:0〜5:95が好ましく、100:0〜30:70がより好ましい。
Moreover, when using the mixture of water and an organic solvent, as an organic solvent, methanol, ethanol, or 2-propanol is preferable.
In this case, the content of the organic solvent is not particularly limited, and is preferably 20 to 770000 parts by weight and more preferably 200 to 20000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the conductive polymer. Moreover, when using water and an organic solvent together, the ratio of both (ratio of water and organic solvent) is preferably 100: 0 to 5:95, and more preferably 100: 0 to 30:70.

上記シールドシートは、上述したように、プライマー層、印刷層を備えていてもよい。
上記プライマー層としては、例えば、ポリエステル、アクリル系樹脂(ポリアクリレート、ポリメタクリレート)、ポリウレタン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド等のホモポリマー;スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート等のモノマーを共重合して得られるコポリマー;3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物等からなるものが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種類以上を併用しても良い。
上記印刷層は、従来公知の印刷インキを用いて形成すればよい。
As described above, the shield sheet may include a primer layer and a printing layer.
Examples of the primer layer include homopolymers such as polyester, acrylic resin (polyacrylate, polymethacrylate), polyurethane, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyamide, polyimide; styrene, vinylidene chloride, vinyl chloride, alkyl acrylate, A copolymer obtained by copolymerizing monomers such as alkyl methacrylate; 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc. The thing which consists of an alkoxysilane compound etc. is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
The printing layer may be formed using a conventionally known printing ink.

このような構成からなる上記シールドシートの厚さは、特に限定されないが、0.01〜10mmが好ましい。
その理由は、シールドシートの厚みが0.01mm未満では、シールドシートを成型後の成型体の強度が不十分であることから成型体の形状を維持することが困難となる場合があり、シートの厚みが10mmを超えると、様々な形状へ成型する事が困難になる場合があるからである。
Although the thickness of the said shield sheet which consists of such a structure is not specifically limited, 0.01-10 mm is preferable.
The reason is that when the thickness of the shield sheet is less than 0.01 mm, it is difficult to maintain the shape of the molded body because the strength of the molded body after molding the shield sheet is insufficient. This is because if the thickness exceeds 10 mm, it may be difficult to mold into various shapes.

また、上記シールドシートのKEC法により測定した、電磁波シールド性能は、1〜100MHzの周波数領域において、20dB以上であることが好ましく、30dB以上であることがより好ましい。
この範囲にあれば、上記シールドシートを成型した電磁波シールド成型体が、各種電子機器から発せられる電磁波を十分にシールドする事が可能になるからである。
Moreover, the electromagnetic wave shielding performance measured by the KEC method of the shield sheet is preferably 20 dB or more, and more preferably 30 dB or more in the frequency range of 1 to 100 MHz.
If it is within this range, the electromagnetic wave shield molded body obtained by molding the shield sheet can sufficiently shield electromagnetic waves emitted from various electronic devices.

次に、上記シールドシートの製造方法について説明する。
(1)上記樹脂層として、上述した材質からなる樹脂フィルムを出発材料とする。
なお、樹脂フィルムの入手方法としては、押出成型やカレンダー成型等、従来公知のフィルム状物の成型方法を使用して製造してもよいし、市販品を使用することもできる。
Next, the manufacturing method of the said shield sheet is demonstrated.
(1) As the resin layer, a resin film made of the above-described material is used as a starting material.
In addition, as a method for obtaining the resin film, the resin film may be produced by using a conventionally known film-like molding method such as extrusion molding or calendar molding, or a commercially available product may be used.

(2)上記樹脂フィルムの片面又は両面に金属層を形成する。上記金属層を形成する方法については、既に説明した通りである。
なお、上記金属層として、パターン状の金属層を形成する場合は、例えば、マスクを介して金属層を形成すればよい。
(2) A metal layer is formed on one side or both sides of the resin film. The method for forming the metal layer is as described above.
In addition, what is necessary is just to form a metal layer through a mask, for example, when forming a patterned metal layer as said metal layer.

(3)次に、上記金属層を形成した上記樹脂フィルム(積層体)の片面又は両面に、上記導電性ポリマー層を形成する。
上記導電性ポリマー層は、例えば、上記導電性ポリマー組成物を塗布し、その後、必要に応じて乾燥処理を行うことにより形成することができる。
(3) Next, the conductive polymer layer is formed on one side or both sides of the resin film (laminate) on which the metal layer is formed.
The said conductive polymer layer can be formed by apply | coating the said conductive polymer composition, and performing a drying process as needed after that, for example.

ここで、上記導電性コーティング用組成物を塗布する方法としては、公知の塗布方法を使用することができる。上記塗布方法としては、例えば、スピンコーティング、グラビアコーティング、バーコーティング、ディップコーティング、カーテンコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング等が挙げられる。さらに、スクリーン印刷、スプレー印刷、インクジェット印刷、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷等の印刷法も適用できる。これらの方法の中から、目的に応じて適宜選択すれば良い。 Here, as a method of applying the conductive coating composition, a known application method can be used. Examples of the application method include spin coating, gravure coating, bar coating, dip coating, curtain coating, die coating, and spray coating. Furthermore, printing methods such as screen printing, spray printing, ink jet printing, relief printing, intaglio printing, and lithographic printing can also be applied. What is necessary is just to select suitably from these methods according to the objective.

また、塗布した導電性コーティング用組成物を乾燥させる場合、その方法は特に限定されないが、例えば、通風乾燥機、熱風乾燥機、赤外線乾燥機等の乾燥機等を用いて行えばよい。また、加熱手段を有する乾燥機(熱風乾燥機、赤外線乾燥機等)を用いると、乾燥および加熱を同時に行うことが可能である。さらに、これらの乾燥機以外に、加熱・加圧機能を具備する加熱・加圧ロール、プレス機等を用いてもよい。
また、乾燥条件も特に限定されないが、25〜200℃で10秒〜2時間程度の条件が好ましく、50〜150℃で20秒〜15分程度の条件がより好ましい。
Moreover, when drying the apply | coated composition for electroconductive coating, the method is not specifically limited, For example, what is necessary is just to perform using drying machines, such as a ventilation dryer, a hot air dryer, an infrared dryer. Further, when a dryer having a heating means (hot air dryer, infrared dryer, etc.) is used, drying and heating can be performed simultaneously. Further, in addition to these dryers, a heating / pressurizing roll having a heating / pressurizing function, a press machine, or the like may be used.
Also, the drying conditions are not particularly limited, but conditions of 25 to 200 ° C. for about 10 seconds to 2 hours are preferable, and conditions of 50 to 150 ° C. for about 20 seconds to 15 minutes are more preferable.

このような工程を経ることにより、上記シールドシートを製造することができる。
また、プライマー層や接着剤層、印刷層を備えるシールドシートを製造する場合、各層は、適切な工程で適宜形成すればよい。
The shield sheet can be manufactured through such steps.
Moreover, what is necessary is just to form each layer suitably in a suitable process, when manufacturing a shield sheet provided with a primer layer, an adhesive bond layer, and a printing layer.

次に、本発明の電磁波シールド成型体について、図面を参照しながら説明する。
本発明の電磁波シールド成型体は、少なくとも樹脂層(A)、金属層(B)、及び、0.05S/cm以上の導電性を有する導電性ポリマーを含有する導電性ポリマー層(C)からなり、
上記樹脂層(A)の少なくとも片面に金属層(B)を備え、かつ、
上記樹脂層(A)と上記金属層(B)とを有する積層体の少なくとも片面に上記導電性ポリマー層(C)を備えたことを特徴とする。
Next, the electromagnetic wave shielding molded product of the present invention will be described with reference to the drawings.
The electromagnetic wave shield molding of the present invention comprises at least a resin layer (A), a metal layer (B), and a conductive polymer layer (C) containing a conductive polymer having a conductivity of 0.05 S / cm or more. ,
A metal layer (B) is provided on at least one side of the resin layer (A), and
The conductive polymer layer (C) is provided on at least one surface of a laminate having the resin layer (A) and the metal layer (B).

図3(a)は、本発明の電磁波シールド成型体の一例を模式的に示す斜視図であり、(b)は、(a)のA−A線断面を模式的に示す断面図である。
図3(a)、(b)に示すように、電磁波シールド成型体100は、シート状物110が中央部に四角柱状の凸部110aを備えるように成型された形状を有しており、この凸部110aが、ハードディスク等の被電磁波シールドデバイス(電磁波を放出するデバイス)を収納できるように構成されている。
そして、シート状物110は、樹脂層111の片面に金属層112が形成されて積層体113をなし、樹脂層111の金属層112が形成された側と反対側の面に導電性ポリマー層114が形成された層構成を有している。
即ち、シート状物110は、図1に示したシールドシート10と同様の層構成を有している。
Fig.3 (a) is a perspective view which shows typically an example of the electromagnetic wave shield molding of this invention, (b) is sectional drawing which shows typically the AA line cross section of (a).
As shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), the electromagnetic wave shield molded body 100 has a shape that is formed so that the sheet-like object 110 includes a quadrangular prism-like convex portion 110a at the center portion. The convex part 110a is configured to accommodate an electromagnetic wave shielding device (device that emits electromagnetic waves) such as a hard disk.
And the sheet-like object 110 forms the laminated body 113 by forming the metal layer 112 on one surface of the resin layer 111, and the conductive polymer layer 114 on the surface of the resin layer 111 opposite to the side on which the metal layer 112 is formed. Has a layer structure.
That is, the sheet-like object 110 has the same layer configuration as the shield sheet 10 shown in FIG.

なお、本発明の電磁波シールド成型体の層構成は、図3に示した層構成に限定されるわけではなく、上述した本発明のシールドシート同様、樹脂層の片面に金属層が形成されて積層体をなし、樹脂層の金属層が形成された側の面に更に導電性ポリマー層が形成された層構成(図2参照)や、樹脂層の両面に金属層が形成されて積層体をなし、この積層体の両面又は片面に導電性ポリマー層が形成された層構成であってもよい。
更には、本発明のシールドシートと同様、接着剤層やプライマー層、印刷層を備える層構成であってもよい。
The layer configuration of the electromagnetic wave shield molded body of the present invention is not limited to the layer configuration shown in FIG. 3, and a metal layer is formed on one side of the resin layer as in the above-described shield sheet of the present invention. Layer structure in which a conductive polymer layer is further formed on the surface of the resin layer on which the metal layer is formed (see FIG. 2), and a metal layer is formed on both surfaces of the resin layer to form a laminate. The layer structure in which a conductive polymer layer is formed on both surfaces or one surface of the laminate may be used.
Furthermore, similarly to the shield sheet of the present invention, a layer configuration including an adhesive layer, a primer layer, and a printing layer may be used.

また、上記電磁波シールド成型体を構成する各層の具体例は、既に説明した本発明のシールドシートを構成する各層の具体例と同様であるため、ここでは、その説明を省略する。 Moreover, since the specific example of each layer which comprises the said electromagnetic wave shield molded object is the same as the specific example of each layer which comprises the shield sheet of this invention already demonstrated, the description is abbreviate | omitted here.

上記電磁波シールド成型体の形状は、図3に示した形状に限定されるわけではなく、例えば、図4、5に示したような形状であってもよい。
図4、5は、それぞれ本発明の電磁波シールド成型体の別の一例を模式的に示す斜視図である。
図4に示すように、電磁波シールド成型体200は、シール状物210の中央部に球面の一部を切り取った形状の凸部210aを備えている。
また、図5に示すように、電磁波シールド成型体300は、シール状物310の中央部に円柱状の凸部310aを備えている。
このような形状の電磁波シールド成型体においても、それぞれ、その凸部に被電磁波シールドデバイスが収納されることとなる。
The shape of the electromagnetic wave shield molded body is not limited to the shape shown in FIG. 3 and may be, for example, the shape shown in FIGS.
4 and 5 are perspective views schematically showing another example of the electromagnetic wave shield molded body of the present invention.
As shown in FIG. 4, the electromagnetic wave shield molded body 200 includes a convex portion 210 a having a shape obtained by cutting off a part of a spherical surface at the central portion of the seal-like object 210.
As shown in FIG. 5, the electromagnetic wave shield molded body 300 includes a columnar convex portion 310 a at the center of the seal-like object 310.
Also in the electromagnetic shielding molded body having such a shape, the electromagnetic wave shielding device is accommodated in the convex portion.

即ち、上記電磁波シールド成型体の形状は、被電磁波シールドデバイスが収納、被覆されるような形状であれば、その形状はいかなる形状であってもよい。 That is, the shape of the electromagnetic wave shielding molded body may be any shape as long as the electromagnetic wave shielding device is accommodated and covered.

次に、本発明の電磁波シールド成型体の製造方法について説明する。
上記電磁波シールド成型体は、例えば、本発明のシールドシートを成型することで製造することができる。
本発明のシールドシートを成型して製造する場合、電磁波シールド成型体の製造方法としてロール・トゥー・ロールの工程が適用できることから、生産性に優れることとなる。
上記シールドシートの成型方法としては、例えば、真空成型、プレス成型、圧空成型、吹き込み成型等が挙げれる。
Next, the manufacturing method of the electromagnetic wave shield molding of this invention is demonstrated.
The electromagnetic wave shield molded body can be manufactured, for example, by molding the shield sheet of the present invention.
When the shield sheet of the present invention is molded and manufactured, a roll-to-roll process can be applied as a method for manufacturing an electromagnetic wave shield molded body, and thus the productivity is excellent.
Examples of the method for molding the shield sheet include vacuum molding, press molding, compressed air molding, blow molding, and the like.

また、上記電磁波シールド成型体は、例えば、樹脂フィルムの片面又は両面に金属層を形成した積層体(上記シールドシートの積層体に相当)を上述した真空成型等で成型した後、その成型体に導電性ポリマー層を形成して製造してもよい。
上記導電性ポリマー層を形成する方法としては、例えば、上述した本発明のシールドシートの製造方法における導電性ポリマー層を形成する方法と同様の方法等を用いることができる。
In addition, the electromagnetic wave shield molded body is formed, for example, by molding a laminated body (corresponding to the laminated body of the shield sheet) in which a metal layer is formed on one side or both sides of a resin film by the above-described vacuum molding or the like. You may manufacture by forming a conductive polymer layer.
As a method for forming the conductive polymer layer, for example, a method similar to the method for forming the conductive polymer layer in the above-described method for producing a shield sheet of the present invention can be used.

本発明の電磁波シールド成型体の優れた効果の1つに、既に説明したように、従来の樹脂層と金属層とのみからなるシールドシートを成型した場合に生じる不都合、即ち、成型工程において金属層の一部が断線(クラックが発生)し、電磁波シールド性能が低下するとの不都合を回避できることにある。
そのため、成型した積層体に後から導電性ポリマー層を形成する場合、金属層の断線した部分のみに導電性ポリマー層を形成すればよいとの利点を有する。
なお、金属層の断線箇所は、例えば、顕微鏡で金属表面を観察することで特定することができる。
As already described, one of the excellent effects of the electromagnetic wave shield molded body of the present invention is the inconvenience caused when a conventional shield sheet consisting only of a resin layer and a metal layer is molded, that is, the metal layer in the molding process. It is possible to avoid the inconvenience that a part of the wire breaks (cracks occur) and the electromagnetic wave shielding performance deteriorates.
Therefore, when a conductive polymer layer is formed later on the molded laminate, there is an advantage that the conductive polymer layer only needs to be formed only at the disconnected portion of the metal layer.
In addition, the disconnection location of a metal layer can be specified by observing the metal surface with a microscope, for example.

また、上記電磁波シールド成型体は、例えば、樹脂フィルムのみを真空成型等で成型した後、上述した本発明のシールドシートの製造方法における金属層を形成する方法及び導電性ポリマー層を形成する方法と同様の方法等で、金属層及び導電性ポリマー層を形成してもよい。 Further, the electromagnetic wave shield molded body is, for example, a method of forming a metal layer and a method of forming a conductive polymer layer in the above-described method for producing a shield sheet of the present invention after molding only a resin film by vacuum molding or the like. The metal layer and the conductive polymer layer may be formed by the same method or the like.

また、上記電磁波シールド成型体は、KEC法により測定した電磁波シールド性能が、1〜100MHzの周波数領域において、20dB以上であることが好ましく、30dB以上であることがより好ましい。 Further, the electromagnetic wave shielding molded body preferably has an electromagnetic wave shielding performance measured by the KEC method of 20 dB or more, and more preferably 30 dB or more in a frequency range of 1 to 100 MHz.

また、本発明のシールドシートを用いて上記電磁波シールド成型体を製造した場合、KEC法により測定した電磁波シールド性能が、1〜100MHzの周波数領域において、成型前のシールドシートの80%以上維持されていることが好ましい。
80%以上維持されていると、様々な形状の電磁波シールド成型体に対応することができ、電磁波シールド成型体の設計が容易になるからである。
In addition, when the electromagnetic shielding molded body is manufactured using the shielding sheet of the present invention, the electromagnetic shielding performance measured by the KEC method is maintained at 80% or more of the shielding sheet before molding in the frequency range of 1 to 100 MHz. Preferably it is.
If 80% or more is maintained, it is possible to deal with various shapes of electromagnetic shielding molded bodies, and the electromagnetic shielding molded bodies can be easily designed.

このような本発明の電磁波シールド成型体は、パソコン、携帯電話、デジタルカメラ、ゲーム機、医療機器、電気自動車(ハイブリット車を含む)、自動車、その他LSIなどの半導体が搭載される精密機器等の電子機器に搭載される電子部品の電磁波をシールドする部材として特に好適に使用することができる。 Such an electromagnetic wave shield molded body of the present invention includes a personal computer, a mobile phone, a digital camera, a game machine, a medical device, an electric vehicle (including a hybrid vehicle), an automobile, and other precision devices on which a semiconductor such as an LSI is mounted. It can be particularly suitably used as a member for shielding electromagnetic waves of electronic components mounted on electronic devices.

以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。以下、「部」又は「%」は特記ない限り、それぞれ「重量部」又は「重量%」を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated, this invention is not limited to a following example. Hereinafter, “part” or “%” means “part by weight” or “% by weight”, respectively, unless otherwise specified.

(導電性ポリマー組成物Aの調製)
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体(H.C.スタルク社製:CleviosPH500、固形分1.0%、導電率=0.23S/cm)100部に、バインダーとして20部のアクリル樹脂水分散体(日本純薬株式会社製:ジュリマーAT−613、固形分23.5%)、導電性向上剤として4.6部のジメチルスルホキシド(関東化学社製)、2.0部の界面活性剤(固形分100%)、2.0部のレベリング剤(固形分100%)、10部の水、及び、10部のエタノールを加え、1時間攪拌した。これを400メッシュのSUS製の篩にてろ過し、導電性ポリマー組成物Aを得た。
(Preparation of conductive polymer composition A)
An aqueous dispersion of a composite of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid (HC Starck Co., Ltd .: CleviosPH500, solid content 1.0%, conductivity = 0.23 S / cm) 100 parts, 20 parts acrylic resin aqueous dispersion (Nippon Pure Chemicals Co., Ltd .: Jurimer AT-613, solid content 23.5%) as binder, 4.6 parts dimethyl sulfoxide (Kanto Chemical Co., Ltd.) as conductivity improver ), 2.0 parts surfactant (100% solids), 2.0 parts leveling agent (100% solids), 10 parts water, and 10 parts ethanol and stirred for 1 hour did. This was filtered through a 400 mesh SUS sieve to obtain a conductive polymer composition A.

(導電性ポリマー組成物Bの調製)
ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体の水分散体(H.C.スタルク社製:CleviosPH500、固形分1.0%、導電率=0.23S/cm)100部に、バインダーとして10部のアクリル樹脂水分散体(日本純薬株式会社製:ジュリマーAT−613、固形分23.5%)及び3.3部のエポキシ樹脂(ナガセケムテックス社製:デナコールEX−861、固形分100%)、導電性向上剤として4.6部のジメチルスルホキシド(関東化学社製)、2.0部の界面活性剤(固形分100%)、2.0部のレベリング剤(固形分100%)、10部の水、並びに、10部のエタノールを加え、1時間攪拌した。これを400メッシュのSUS製の篩にてろ過し、導電性ポリマー組成物Bを得た。
(Preparation of conductive polymer composition B)
An aqueous dispersion of a composite of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid (HC Starck Co., Ltd .: CleviosPH500, solid content 1.0%, conductivity = 0.23 S / cm) In 100 parts, 10 parts of an acrylic resin water dispersion (manufactured by Nippon Pure Chemicals Co., Ltd .: Jurimer AT-613, solid content 23.5%) and 3.3 parts of an epoxy resin (manufactured by Nagase ChemteX Corporation: Denacol) EX-861, solid content 100%), 4.6 parts dimethyl sulfoxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) as a conductivity improver, 2.0 parts surfactant (solid content 100%), 2.0 parts leveling Agent (100% solids), 10 parts water, and 10 parts ethanol were added and stirred for 1 hour. This was filtered through a 400 mesh SUS sieve to obtain a conductive polymer composition B.

(導電性ポリマー組成物Cの調製)
3.3部のエポキシ樹脂(ナガセケムテックス社製:デナコールEX−861、固形分100%)に代えて、10部のポリエステル樹脂水分散体(ナガセケムテックス社製:ガブセンES−210、固形分25.0%)を用いた以外は導電性ポリマー組成物Bと同様にして、導電性ポリマー組成物Cを得た。
(Preparation of conductive polymer composition C)
Instead of 3.3 parts of epoxy resin (manufactured by Nagase ChemteX Corporation: Denacol EX-861, solid content 100%), 10 parts of polyester resin aqueous dispersion (manufactured by Nagase ChemteX Corporation: Gabsen ES-210, solid content) A conductive polymer composition C was obtained in the same manner as the conductive polymer composition B except that 25.0%) was used.

(実施例1)
下記の方法で図1に示した層構成のシールドシートを作製した。
A−PET(非晶質ポリエチレンテレフタレート)フィルム(三菱化学社製:ノバクリアー SH046、厚さ:0.40mm、図1の11に相当)の片面に真空蒸着機(サンユー電子株式会社社製 SVC−700−2 TURBO−TM)を用いてAlを蒸着させた(図1の金属層12に相当、厚さは、0.2μm)、Al蒸着フィルムとした。次に、Al蒸着面と反対側の面に、導電性ポリマー組成物AをワイヤーバーNo.22(ウエット膜厚50μm)を用いてバーコート法により塗布し、70℃で15分乾燥させることにより導電性ポリマー層を形成し、図1に示した層構成のシールドシートを作製した。
Example 1
A shield sheet having the layer structure shown in FIG. 1 was produced by the following method.
Vacuum deposition machine (SVC-700, manufactured by Sanyu Electronics Co., Ltd.) on one side of an A-PET (amorphous polyethylene terephthalate) film (Mitsubishi Chemical Corporation: Novaclear SH046, thickness: 0.40 mm, corresponding to 11 in FIG. 1) -2 TURBO-TM) was used to deposit Al (equivalent to the metal layer 12 in FIG. 1, the thickness was 0.2 μm), and an Al deposited film was obtained. Next, the conductive polymer composition A was placed on the surface opposite to the Al deposition surface with the wire bar No. 22 (wet film thickness 50 μm) was applied by a bar coating method and dried at 70 ° C. for 15 minutes to form a conductive polymer layer, thereby producing a shield sheet having the layer structure shown in FIG.

(実施例2)
下記の方法で図1に示した層構成のシールドシートを作製した。
A−PETフィルム(厚さ:0.40mm、三菱化学社製:ノバクリアー SH046、厚さ:0.40mm)の片面に真空蒸着機(サンユー電子株式会社社製 SVC−700−2 TURBO−TM)を用いてCuを蒸着させた(図1の金属層12に相当、厚さは、0.2μm)、Cu蒸着フィルムとした。次に、Cu蒸着面と反対側の面に、導電性ポリマー組成物AをワイヤーバーNo.22(ウエット膜厚50μm)を用いてバーコート法により塗布し、70℃で15分乾燥させることにより導電性ポリマー層を形成し、図1の層構成のシールドシートを作製した。
(Example 2)
A shield sheet having the layer structure shown in FIG. 1 was produced by the following method.
On one side of A-PET film (thickness: 0.40 mm, manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd .: Novaclear SH046, thickness: 0.40 mm), a vacuum vapor deposition machine (SVC-700-2 TURBO-TM, manufactured by Sanyu Electronics Co., Ltd.) Cu was vapor-deposited (corresponding to the metal layer 12 in FIG. 1 and the thickness was 0.2 μm) to obtain a Cu vapor-deposited film. Next, the conductive polymer composition A was placed on the surface opposite to the Cu deposition surface with the wire bar No. 22 (wet film thickness 50 μm) was applied by a bar coating method and dried at 70 ° C. for 15 minutes to form a conductive polymer layer, thereby producing a shield sheet having the layer structure of FIG.

(実施例3)
導電性ポリマー組成物Aに代えて、導電性ポリマー組成物Bを使用した以外は、実施例1と同様にしてシールドシートを作製した。
(Example 3)
A shield sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive polymer composition B was used in place of the conductive polymer composition A.

(実施例4)
導電性ポリマー組成物Aに代えて、導電性ポリマー組成物Cを使用した以外は、実施例1と同様にしてシールドシートを作製した。
Example 4
A shield sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive polymer composition C was used in place of the conductive polymer composition A.

(実施例5)
下記の方法で図2に示した層構成のシールドシートを作製した。
Al蒸着面と反対側の面には導電性ポリマー組成物Aを塗布せず、Al蒸着面上に導電性ポリマー組成物Aを塗布した以外は実施例1と同様にしてシールドシートを作製した。
(Example 5)
A shield sheet having the layer structure shown in FIG. 2 was produced by the following method.
A shield sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the conductive polymer composition A was not applied to the surface opposite to the Al deposited surface, and the conductive polymer composition A was applied to the Al deposited surface.

(比較例1)
実施例1で作製したAl蒸着フィルムをシールドシートとした。
(Comparative Example 1)
The Al vapor deposition film produced in Example 1 was used as a shield sheet.

(比較例2)
実施例2で作製したCu蒸着フィルムをシールドシートとした。
(Comparative Example 2)
The Cu vapor deposition film produced in Example 2 was used as a shield sheet.

(比較例3)
厚さ0.5mmのCu板をシールドシートとした。
(Comparative Example 3)
A Cu plate having a thickness of 0.5 mm was used as a shield sheet.

(比較例4)
厚さ0.5mmのAl板をシールドシートとした。
(Comparative Example 4)
An Al plate having a thickness of 0.5 mm was used as a shield sheet.

(評価)
実施例1〜5及び比較例1〜4で製造した各シールドシートを10cm×10cmに裁断し、評価用シールドシートとした。
(Evaluation)
Each shield sheet manufactured in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 was cut into 10 cm × 10 cm to obtain a shield sheet for evaluation.

(重量測定)
各評価用シールドシートの重量を、天秤(METTLER TLLENDO社製)で測定した。結果を表1に示した。
(Weight measurement)
The weight of each evaluation shield sheet was measured with a balance (manufactured by METLER TLLENDO). The results are shown in Table 1.

下記成型条件1−1〜成型条件2−2のいずれかの条件で評価用シールドシートを成型して電磁波シールド成型体を得、これを評価用シールド成型体とした。各評価用シールド成型体の電磁波シールド性能、及び、加工性を評価した。 The shield sheet for evaluation was molded under any of the following molding conditions 1-1 to 2-2 to obtain an electromagnetic wave shield molded body, which was used as the shield molded body for evaluation. The electromagnetic shielding performance and processability of each evaluation shield molding were evaluated.

(成型条件1−1)
下記(1)〜(4)の工程を経る、一般に「真空成型」と称される方法で成型した。
(1)評価用シールドシートを400℃のヒーターで60秒間一様に加熱し軟化させる。
(2)次に、軟化した評価用シールドシートをヒーターから離し、軟化した評価用シールドシートを金型に押し当てる。ここで、金型としては、高さ1cmで、底部の大きさ5cm×5cmの凸部(図3(a)中、h=1cm、W、W=5cm)を成型できるものを使用した。
(3)その後、真空ポンプを作動させて、軟化した評価サンプルと金型との隙間の空気を吸引し、軟化した評価用シールドシートと金型を密着させる。
(4)室温まで冷却した後、金型から取り外し、高さ1cmで、底部の大きさ5cm×5cmの凸部を中央部に有する電磁波シールド成型体を得る。
(Molding condition 1-1)
Molded by a method generally referred to as “vacuum molding” through the following steps (1) to (4).
(1) The evaluation shield sheet is uniformly heated with a heater at 400 ° C. for 60 seconds to be softened.
(2) Next, the softened evaluation shield sheet is separated from the heater, and the softened evaluation shield sheet is pressed against the mold. Here, as the mold, a mold having a height of 1 cm and capable of forming a convex part having a size of 5 cm × 5 cm at the bottom (in FIG. 3A, h = 1 cm, W 1 , W 2 = 5 cm) was used. .
(3) Thereafter, the vacuum pump is operated to suck the air in the gap between the softened evaluation sample and the mold, and the softened evaluation shield sheet and the mold are brought into close contact with each other.
(4) After cooling to room temperature, it removes from a metal mold | die, and obtains the electromagnetic wave shield molded object which has a convex part with a height of 1 cm and a size of 5 cm × 5 cm at the bottom.

(成型条件1−2)
金型として、高さ10cmで、底部の大きさ5cm×5cmの凸部(図3(a)中、h=10cm、W、W=5cm)を形成できるものを使用した以外は、成型条件1−1と同様の条件で真空成型を行い、高さ10cmで、底部の大きさ5cm×5cmの凸部を中央部に有する電磁波シールド成型体を得る。
(Molding condition 1-2)
Molding was performed except that a mold having a height of 10 cm and a convex part having a bottom size of 5 cm × 5 cm (in FIG. 3A, h = 10 cm, W 1 , W 2 = 5 cm) was used. Vacuum molding is performed under the same conditions as in Condition 1-1, and an electromagnetic wave shield molded body having a height of 10 cm and a bottom portion having a size of 5 cm × 5 cm at the center is obtained.

(成型条件2−1)
下記の工程を経る、一般に「プレス成型」と称される方法で成型した。
評価用シールドシートを凸型と凹型との間に位置させ、室温、20,000Nの力で評価サンプルに10秒間圧力を加える。その後、力を開放し型から取り外すことにより、電磁波シールド成型体を得る。
ここで、凸型及び凹型としては、高さ1cmで、底部の大きさ5cm×5cmの凸部(図3(a)中、h=1cm、W、W=5cm)を成型できるものを使用した。
(Molding conditions 2-1)
Molded by a method generally called “press molding” through the following steps.
The evaluation shield sheet is positioned between the convex mold and the concave mold, and pressure is applied to the evaluation sample for 10 seconds with a force of 20,000 N at room temperature. Thereafter, the electromagnetic wave shield molding is obtained by releasing the force and removing it from the mold.
Here, as the convex mold and the concave mold, a mold having a height of 1 cm and a convex part having a bottom size of 5 cm × 5 cm (in FIG. 3A, h = 1 cm, W 1 , W 2 = 5 cm) can be formed. used.

(成型条件2−2)
凸型及び凹型として、高さ10cmで、底部の大きさ5cm×5cmの凸部(図3(a)中、h=10cm、W、W=5cm)を形成できるものを使用した以外は、成型条件2−1と同様の条件でプレス成型を行い、高さ10cmで、底部の大きさ5cm×5cmの凸部を中央部に有する電磁波シールド成型体を得る。
(Molding condition 2-2)
Except for using a convex shape and a concave shape that can form a convex portion having a height of 10 cm and a bottom size of 5 cm × 5 cm (in FIG. 3A, h = 10 cm, W 1 , W 2 = 5 cm). Then, press molding is performed under the same conditions as the molding condition 2-1, and an electromagnetic wave shield molded body having a height of 10 cm and a bottom portion having a size of 5 cm × 5 cm at the center is obtained.

(電磁波シールド性能の評価)
予め、各評価用シールドシートの電磁波シールド性能をKEC法により、1〜100MHzの周波数領域で測定する。
次に、実施例1〜5及び比較例1、2の評価用シールドシートについては、上記成型条件1−1で成型し、比較例3、4の評価用シールドシートについては、上記成型条件2−1で成型して、評価用シールド成型体を作製し、各評価用シールド成型体について、電磁波シールド性能をKEC法により、1〜100MHzの周波数領域で測定する。
そして、各評価用シールドシート及び各評価用シールド成型体の電磁波シールド性能を下記の基準で評価した。結果を表1に示した。
(電磁波シールド性能の評価基準)
○:30dB以上の電磁波シールド効果がある。
△:10以上30dB未満の電磁波シールド効果がある。
×:10dB未満の電磁波シールド効果。
(Evaluation of electromagnetic shielding performance)
The electromagnetic wave shielding performance of each evaluation shield sheet is previously measured in the frequency region of 1 to 100 MHz by the KEC method.
Next, the evaluation shield sheets of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were molded under the molding condition 1-1, and the evaluation shield sheets of Comparative Examples 3 and 4 were molded according to the molding condition 2- 1 to produce an evaluation shield molding, and for each of the evaluation shield moldings, the electromagnetic shielding performance is measured in the frequency region of 1 to 100 MHz by the KEC method.
The electromagnetic shielding performance of each evaluation shield sheet and each evaluation shield molding was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
(Evaluation criteria for electromagnetic shielding performance)
A: There is an electromagnetic wave shielding effect of 30 dB or more.
Δ: There is an electromagnetic wave shielding effect of 10 or more and less than 30 dB.
X: Electromagnetic wave shielding effect of less than 10 dB.

さらに、各評価用シールド成型体の電磁波シールド性能の、成型前(評価用シールドシート)の電磁波シールド性能に対する比率(シールド性能維持率(%))を算出した。結果を表1に示した。 Furthermore, the ratio (shield performance maintenance rate (%)) of the electromagnetic shielding performance of each evaluation shield molding to the electromagnetic shielding performance before molding (evaluation shield sheet) was calculated. The results are shown in Table 1.

(加工性の評価)
実施例1〜5及び比較例1、2の評価用シールドシートについては、上記成型条件1−2で成型し、比較例3、4の評価用シールドシートについては、上記成型条件2−2で成型して、評価用シールド成型体を作製し、各評価用シールド成型体を目視で観察し、その加工性について下記の基準で評価した。結果を表1に示した。
(加工性の評価基準)
○:成型体の外観にひび割れなし
×:成型体の外観にひび割れあり
(Processability evaluation)
About the shielding sheet for evaluation of Examples 1-5 and Comparative Examples 1 and 2, it shape | molds on the said molding conditions 1-2, About the shielding sheet for evaluation of Comparative Examples 3 and 4, it shape | molds on the said molding conditions 2-2. Then, a shield molded body for evaluation was produced, each shield molded body for evaluation was visually observed, and the workability was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
(Processing evaluation criteria)
○: No crack in the appearance of the molded body ×: There is a crack in the appearance of the molded body

Figure 2012186222
Figure 2012186222

(実施例6)
比較例1で作製したシールドシートを成型条件1−1で成型し、高さ1cmで、底部の大きさ5cm×5cmの凸部を中央部に有する成型体a(図3参照)を作製した。その後、導電性ポリマー組成物Aをディップコーター(株式会社あすみ技研社製、Mシリーズを用いて、引き上げ速度1mm/secで成型体aに塗布して電磁波シールド成型体Aを作製した。
(Example 6)
The shield sheet produced in Comparative Example 1 was molded under molding conditions 1-1, and a molded body a (see FIG. 3) having a height of 1 cm and a bottom portion having a size of 5 cm × 5 cm at the center was prepared. Then, the electroconductive polymer composition A was applied to the molded body a at a lifting speed of 1 mm / sec using a dip coater (manufactured by Asumi Giken Co., Ltd., M series) to prepare an electromagnetic wave shield molded body A.

(評価)
実施例6で作製した成型体a及び電磁波シールド成型体Aのそれぞれを評価サンプルとして、下記の評価を行った。
(Evaluation)
The following evaluation was performed using each of the molded body a and the electromagnetic wave shield molded body A produced in Example 6 as an evaluation sample.

(重量測定)
各評価サンプルの重量を、天秤(METTLER TLLENDO社製)で測定した。結果を表2に示した。
(Weight measurement)
The weight of each evaluation sample was measured with a balance (manufactured by METTTLER TLLENDO). The results are shown in Table 2.

(電磁波シールド性能の評価)
実施例6で作製した成型体a及び電磁波シールド成型体Aのそれぞれの電磁波シールド性能をKEC法により、1〜100MHzの周波数領域で測定した。
そして、成型体a及び電磁波シールド成型体Aのそれぞれの電磁波シールド性能を下記の基準で評価した。結果を表2に示した。
(電磁波シールド性能の評価基準)
○:30dB以上の電磁波シールド効果がある。
△:10以上30dB未満の電磁波シールド効果がある。
×:10dB未満の電磁波シールド効果。
(Evaluation of electromagnetic shielding performance)
The electromagnetic shielding performance of each of the molded product a and the electromagnetic shielding molded product A produced in Example 6 was measured in the frequency range of 1 to 100 MHz by the KEC method.
And each electromagnetic wave shielding performance of the molded object a and the electromagnetic wave shield molded object A was evaluated on the following reference | standard. The results are shown in Table 2.
(Evaluation criteria for electromagnetic shielding performance)
A: There is an electromagnetic wave shielding effect of 30 dB or more.
Δ: There is an electromagnetic wave shielding effect of 10 or more and less than 30 dB.
X: Electromagnetic wave shielding effect of less than 10 dB.

Figure 2012186222
表1の結果から、実施例1〜5の成型用シールドシートは、比較例1、2のシールドシートに比べて成型後の電磁波シールド性能の維持率が高く、成型体が実用上充分な電磁波シールド性能を有していることが明らかとなった。また、比較例3、4のシールドシートに比べて、軽量で、かつ、成型性に優れることも明らかとなった。
また、表2の結果から、樹脂層上に金属層が形成された積層体を成型した後、得られた成型体に導電性ポリマー層を形成した場合も、電磁波シールド性能に優れた電磁波シールド成型体となることが明らかとなった。
Figure 2012186222
From the results of Table 1, the shielding sheets for molding of Examples 1 to 5 have a higher retention rate of the electromagnetic shielding performance after molding than the shielding sheets of Comparative Examples 1 and 2, and the electromagnetic shielding with a molded body that is practically sufficient. It became clear that it had performance. Moreover, it became clear that it was lightweight and excellent in a moldability compared with the shield sheet of Comparative Examples 3 and 4.
In addition, from the results of Table 2, after molding a laminated body in which a metal layer is formed on a resin layer, an electromagnetic wave shielding molding excellent in electromagnetic wave shielding performance even when a conductive polymer layer is formed on the obtained molded body. It became clear that it became a body.

本発明は、電子機器、特に、パソコン、携帯電話、デジタルカメラ、ゲーム機、医療機器、自動車、電気自動車(ハイブリッド車を含む)、その他LSIなどの半導体が搭載される精密機器等、搭載される電気部品が発する電磁波をシールドするために好適に用いられる。 The present invention is mounted on electronic devices, in particular, personal computers, mobile phones, digital cameras, game machines, medical devices, automobiles, electric vehicles (including hybrid vehicles), and other precision devices on which semiconductors such as LSIs are mounted. It is suitably used for shielding electromagnetic waves emitted by electrical components.

10、20 シールドシート
11、21 樹脂層
12、22 金属層
13、23 積層体
14、24 導電性ポリマー層
100、200、300 電磁波シールド成型体
10, 20 Shield sheet 11, 21 Resin layer 12, 22 Metal layer 13, 23 Laminated body 14, 24 Conductive polymer layer 100, 200, 300 Electromagnetic wave shield molding

Claims (10)

少なくとも樹脂層(A)、金属層(B)、及び、0.05S/cm以上の導電性を有する導電性ポリマーを含有する導電性ポリマー層(C)からなり、
前記樹脂層(A)の少なくとも片面に金属層(B)を備え、かつ、
前記樹脂層(A)と前記金属層(B)とを有する積層体の少なくとも片面に前記導電性ポリマー層(C)を備えたことを特徴とする成型用電磁波シールドシート。
At least a resin layer (A), a metal layer (B), and a conductive polymer layer (C) containing a conductive polymer having a conductivity of 0.05 S / cm or more,
A metal layer (B) is provided on at least one surface of the resin layer (A), and
An electromagnetic wave shielding sheet for molding comprising the conductive polymer layer (C) on at least one surface of a laminate having the resin layer (A) and the metal layer (B).
前記金属層(B)は、導電性を有する金属若しくは金属酸化物、又は、磁性体からなる請求項1に記載の成型用電磁波シールドシート。 The electromagnetic wave shielding sheet for molding according to claim 1, wherein the metal layer (B) is made of a conductive metal, metal oxide, or magnetic material. 前記金属層(B)は、蒸着により形成された層であり、かつ、厚さが0.01〜10.0μmである請求項1又は2に記載の成型用電磁波シールドシート。 The electromagnetic wave shielding sheet for molding according to claim 1 or 2, wherein the metal layer (B) is a layer formed by vapor deposition and has a thickness of 0.01 to 10.0 µm. 前記導電性ポリマーは、ポリ(3,4−二置換チオフェン)とポリ陰イオンとの複合体からなる請求項1〜3のいずれかに記載の成型用電磁波シールドシート。 The electromagnetic wave shielding sheet for molding according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive polymer is composed of a composite of poly (3,4-disubstituted thiophene) and a polyanion. 前記導電性層(C)は、バインダーを含有し、かつ、前記バインダーの少なくとも1種がアクリル系樹脂である請求項1〜4いずれかに記載の成型用電磁波シールドシート。 The electromagnetic wave shielding sheet for molding according to any one of claims 1 to 4, wherein the conductive layer (C) contains a binder, and at least one of the binders is an acrylic resin. 前記導電性層(C)は、導電性ポリマーと導電性向上剤とを含有し、前記導電性向上剤の配合量が、前記導電性ポリマーの固形分100重量部に対して10〜1500重量部である導電性ポリマー組成物を用いて成形された層である請求項1〜5のいずれかに記載の成型用電磁波シールドシート。 The conductive layer (C) contains a conductive polymer and a conductivity improver, and the compounding amount of the conductivity improver is 10 to 1500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the conductive polymer. The electromagnetic wave shielding sheet for molding according to any one of claims 1 to 5, wherein the electromagnetic wave shielding sheet is a layer formed using a conductive polymer composition. 少なくとも樹脂層(A)、金属層(B)、及び、0.05S/cm以上の導電性を有する導電性ポリマーを含有する導電性ポリマー層(C)からなり、
前記樹脂層(A)の少なくとも片面に金属層(B)を備え、かつ、
前記樹脂層(A)と前記金属層(B)とを有する積層体の少なくとも片面に前記導電性ポリマー層(C)を備えたことを特徴とする電磁波シールド成型体。
At least a resin layer (A), a metal layer (B), and a conductive polymer layer (C) containing a conductive polymer having a conductivity of 0.05 S / cm or more,
A metal layer (B) is provided on at least one surface of the resin layer (A), and
An electromagnetic wave shield molded article comprising the conductive polymer layer (C) on at least one surface of a laminate having the resin layer (A) and the metal layer (B).
請求項1〜6に記載の成型用電磁波シールドシートを成型してなる請求項7に記載の電磁波シールド成型体。 The electromagnetic wave shielding molded product according to claim 7, wherein the electromagnetic wave shielding sheet for molding according to claim 1 is molded. 少なくとも樹脂層(A)、金属層(B)からなる積層シートを成型して得られた成型体の表面に、導電性ポリマー層(C)が形成された請求項7に記載の電磁波シールド成型体。 The electromagnetic wave shield molded article according to claim 7, wherein a conductive polymer layer (C) is formed on the surface of a molded article obtained by molding a laminated sheet comprising at least a resin layer (A) and a metal layer (B). . 電子機器の電磁波シールドとして用いられる請求項7〜9のいずれかに記載の電磁波シールド成型体。 The electromagnetic wave shield molded article according to any one of claims 7 to 9, which is used as an electromagnetic wave shield for electronic equipment.
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014132794A1 (en) * 2013-02-28 2014-09-04 ナガセケムテックス株式会社 Plating primer composition, method for manufacturing plated article, and plated article
WO2014200035A1 (en) * 2013-06-13 2014-12-18 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic wave shielding film, and electronic component mounting substrate
WO2015056609A1 (en) * 2013-10-18 2015-04-23 ナガセケムテックス株式会社 Composition for forming transparent conductive film, transparent conductor, and production method for transparent conductor
WO2015129546A1 (en) * 2014-02-25 2015-09-03 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic shielding film, flexible printed substrate, substrate for mounting electronic component, and method for covering electronic component
JP2015159214A (en) * 2014-02-25 2015-09-03 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic wave shield film, and flexible printed board
US20180009957A1 (en) * 2015-03-09 2018-01-11 Fondazione Istituto Italiano Di Tecnologia A process for preparing free-standing films of conductive polymers
JP2018152466A (en) * 2017-03-13 2018-09-27 Jx金属株式会社 Electromagnetic wave shield material
CN109395253A (en) * 2017-08-17 2019-03-01 赛尔瑞特有限责任公司 LED module for promoting effective wavelength to export
JP2019179887A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 東海興業株式会社 Electromagnetic wave shield
JP2021009983A (en) * 2019-07-01 2021-01-28 規泰 須崎 Acoustic apparatus component
CN114080424A (en) * 2019-07-04 2022-02-22 科德宝两合公司 Method for producing a component for shielding electromagnetic radiation

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01130595A (en) * 1987-11-17 1989-05-23 Ricoh Co Ltd Electromagnetic shielding laminated body
JPH02295732A (en) * 1989-05-09 1990-12-06 Asai Bussan Kk Antistatic plastic sheet
JPH03246999A (en) * 1990-02-23 1991-11-05 Michio Arai Sheet material for electromagnetic wave shielding
JPH0878874A (en) * 1994-09-06 1996-03-22 Yutaka Sato Shield case and electric apparatus using the same
JPH08153987A (en) * 1994-11-28 1996-06-11 Nitto Denko Corp Shielding tape and shield structure
JP2009016496A (en) * 2007-07-03 2009-01-22 Achilles Corp Transparent electromagnetic wave shield film
JP2010040770A (en) * 2008-08-05 2010-02-18 Nec Tokin Corp Conductive polymer suspension, method of manufacturing same, conductive polymer material, electrolytic capacitor, solid electrolytic capacitor, and method of manufacturing same
JP2010130371A (en) * 2008-11-27 2010-06-10 I Cast:Kk Concentrated element model type attenuation transmission line structure
JP2010182648A (en) * 2009-02-09 2010-08-19 Toda Kogyo Corp Transparent conductive substrate, transparent conductive substrate for dye-sensitized solar cell, and manufacturing method for transparent conductive substrate

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01130595A (en) * 1987-11-17 1989-05-23 Ricoh Co Ltd Electromagnetic shielding laminated body
JPH02295732A (en) * 1989-05-09 1990-12-06 Asai Bussan Kk Antistatic plastic sheet
JPH03246999A (en) * 1990-02-23 1991-11-05 Michio Arai Sheet material for electromagnetic wave shielding
JPH0878874A (en) * 1994-09-06 1996-03-22 Yutaka Sato Shield case and electric apparatus using the same
JPH08153987A (en) * 1994-11-28 1996-06-11 Nitto Denko Corp Shielding tape and shield structure
JP2009016496A (en) * 2007-07-03 2009-01-22 Achilles Corp Transparent electromagnetic wave shield film
JP2010040770A (en) * 2008-08-05 2010-02-18 Nec Tokin Corp Conductive polymer suspension, method of manufacturing same, conductive polymer material, electrolytic capacitor, solid electrolytic capacitor, and method of manufacturing same
JP2010130371A (en) * 2008-11-27 2010-06-10 I Cast:Kk Concentrated element model type attenuation transmission line structure
JP2010182648A (en) * 2009-02-09 2010-08-19 Toda Kogyo Corp Transparent conductive substrate, transparent conductive substrate for dye-sensitized solar cell, and manufacturing method for transparent conductive substrate

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014132794A1 (en) * 2013-02-28 2014-09-04 ナガセケムテックス株式会社 Plating primer composition, method for manufacturing plated article, and plated article
JP2018195854A (en) * 2013-06-13 2018-12-06 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic wave-shielding film, and electronic component-mounted substrate
WO2014200035A1 (en) * 2013-06-13 2014-12-18 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic wave shielding film, and electronic component mounting substrate
JPWO2014200035A1 (en) * 2013-06-13 2017-02-23 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic wave shielding film and electronic component mounting board
JPWO2015056609A1 (en) * 2013-10-18 2017-03-09 ナガセケムテックス株式会社 Composition for forming transparent conductive film, transparent conductor, and method for producing transparent conductor
WO2015056609A1 (en) * 2013-10-18 2015-04-23 ナガセケムテックス株式会社 Composition for forming transparent conductive film, transparent conductor, and production method for transparent conductor
WO2015129546A1 (en) * 2014-02-25 2015-09-03 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic shielding film, flexible printed substrate, substrate for mounting electronic component, and method for covering electronic component
JP2015159214A (en) * 2014-02-25 2015-09-03 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic wave shield film, and flexible printed board
US10590247B2 (en) * 2015-03-09 2020-03-17 Fondazione Istituto Italiano Di Tecnologia Process for preparing free-standing films of conductive polymers
JP2018507939A (en) * 2015-03-09 2018-03-22 フォンダジオン イスティチュート イタリアーノ ディ テクノロジア Process for making conductive polymer free-standing film
US20180009957A1 (en) * 2015-03-09 2018-01-11 Fondazione Istituto Italiano Di Tecnologia A process for preparing free-standing films of conductive polymers
JP2018152466A (en) * 2017-03-13 2018-09-27 Jx金属株式会社 Electromagnetic wave shield material
JP2019041103A (en) * 2017-08-17 2019-03-14 セルリターン カンパニー リミテッド Led module for increasing effective wavelength output
CN109395253A (en) * 2017-08-17 2019-03-01 赛尔瑞特有限责任公司 LED module for promoting effective wavelength to export
JP2019179887A (en) * 2018-03-30 2019-10-17 東海興業株式会社 Electromagnetic wave shield
JP7162439B2 (en) 2018-03-30 2022-10-28 東海興業株式会社 electromagnetic wave shield
JP2021009983A (en) * 2019-07-01 2021-01-28 規泰 須崎 Acoustic apparatus component
JP7438247B2 (en) 2019-07-04 2024-02-26 カール・フロイデンベルク・カーゲー Method of manufacturing electromagnetic radiation shielding components
CN114080424A (en) * 2019-07-04 2022-02-22 科德宝两合公司 Method for producing a component for shielding electromagnetic radiation
JP2022539409A (en) * 2019-07-04 2022-09-08 カール・フロイデンベルク・カーゲー Method for manufacturing electromagnetic radiation shielding parts

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