JP2012185880A - 電子ビーム描画方法、電子ビーム描画システム、インプリントモールドの製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。
【解決手段】回転ステージを回転させつつ、電子ビームを走査して原盤にパターン描画を行うに際して、ある所定領域へのサーボパターンの描画を開始する際に、その直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、そのデータ信号の一部を破棄して、ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始する。
【選択図】図５

Description

本発明は、高密度磁気記録媒体であるディスクリートトラックメディア用のインプリントモールド原盤を作製する際に、所望の微細パターンを描画するための電子ビーム描画方法および電子ビーム描画システムに関するものである。

また、本発明は、電子ビーム描画方法を用いた描画を行う工程を経て製造される、凹凸パターン表面を有するインプリントモールドの製造方法、さらには該インプリントモールドを用いて凹凸パターンが転写されてなる磁気ディスク媒体の製造方法に関するものである。

現状の磁気ディスク媒体では、一般にサーボパターンなどの情報パターンが予め形成されている。また、記録密度のさらなる高密度化の要請から、隣接するデータトラックを溝（グルーブ）で分離し、隣接トラック間の磁気的干渉を低減するようにしたディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ）が注目されている。

従来、上記サーボパターン等の微細パターンは、磁気ディスク媒体に凹凸パターンまたは磁化パターンなどとして形成されており、高密度の磁気ディスク媒体を製造するための磁気転写用マスター担体の原盤などに、所定の微細パターンをパターニングするための電子ビーム描画方法が提案されている。この電子ビーム描画方法は、原盤を回転ステージ上に載置し、該回転ステージを回転させることにより原盤を回転させながら、原盤上において電子ビームを偏向走査させることによってパターン描画を行うものである（例えば、特許文献１、２参照）。

特に、特許文献２にはディスクリートトラックメディア用の微細パターンを描画する方法が開示されており、グルーブパターンを周方向に複数の領域に分割して描画する方法が提案されている。

電子ビーム描画方法においては、回転ステージを駆動する駆動モータの回転角度位置を検出するエンコーダからのエンコーダ信号とフォーマッタで生成される描画クロックとを同期させてパターンを描画する方法が一般的である。しかしながら、この方法を用いると、回転ステージを駆動する駆動モータの回転速度ムラがある場合には、円周方向のパターン配置に誤差が生じる。

引用文献３では、描画領域の直前のエンコーダパルスから所定時間経過後に描画を開始するようにすることで、描画開始位置の位置誤差を抑制する方法が提案されている。

特開２００４−１５８２８７号公報 特開２００９−１２２２１７号公報 特開２００９−１８６５８１号公報

特許文献２に記載のようにグルーブパターンを周方向に複数の領域に分割して、各領域毎にエンコーダパルスに基づいて描画を開始する場合、回転速度ムラにより次のような問題が生じると考えられる。

図８は、エンコーダパルスに基づいて描画を行う際に、グルーブパターンの各領域間に生じ得る問題を説明するための図である。
各領域について、所定のエンコーダパルスから所定の描画クロック数後に描画が開始される。ここでは、エンコーダパルスＥ_１から３描画クロック目に第１の領域のグルーブパターンＧ_１の描画を開始し、次のエンコーダパルスＥ_２から３描画クロック目に第２の領域グルーブパターンＧ_２の描画を開始するよう描画開始の基準点（以下、インデックス（Index）と称する。）が設定されているものとする。描画データ信号群は連続したデータ信号からなり、各領域はそれぞれの領域を描画するためのデータ信号に基づいて描画される。

図８に示されるように、回転の線速度が正常であるとき、時刻ｔ_１にグルーブパターンＧ_１の描画データ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）に基づく描画を開始し、１描画クロック当たりＬｎの長さ周方向に描画し、次のインデックス（時刻ｔ_２）でグルーブパターンＧ_２の描画データ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_２）に基づく描画が開始される。

しかし、グルーブパターンＧ_１描画時の回転の線速度が正常時よりも速い場合、１描画クロック当たりＬｆ（＞Ｌｎ）の長さを描画することとなり、グループパターンＧ_１についてのデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）に基づく描画がグルーブパターンＧ_１を書くべき領域（円周方向ｘ_１〜ｘ_２）内で終了せず、i）グルーブパターンＧ_２の先頭領域（円周方向ｘ_２〜ｘ_２’）において描画が重なる、あるいはii)グルーブパターンＧ_２の描画の開始位置が本来の開始位置ｘ_２からずれる（遅れる）ことが起こり得る。

また回転の線速度が正常時よりも遅い場合、１描画クロック当たりＬｓ（＜Ｌｎ）の長さを描画することとなり、グルーブパターンＧ_１についてのデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）に基づく描画ではグルーブパターンＧ_１を書くべき領域を満たすのに足らず、グルーブパターンＧ_２との間に隙間が生じ得る。

このように、回転の速度ムラがあると、描画領域が重なったり、描画開始位置がずれたり、さらには、描画領域にとびが生じたりして、描画精度が低下するという問題がある。

また、グルーブパターンとサーボパターンとの境界においても同様の問題が生じる。図９は、グルーブパターンとサーボパターンとの各領域間に生じ得る問題を説明するための図である。

グルーブパターン同士の場合と同様に、グルーブパターンＧの描画時に回転の線速度が正常時よりも速い場合、グループパターンＧについてのデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ）に基づく描画がグルーブパターンＧを書くべき領域（円周方向ｘ_１〜ｘ_２）内で終了せず、i）サーボパターンＳの先頭領域（円周方向ｘ_２〜ｘ_２’）において描画が重なる、あるいはii)サーボパターンＳの描画の開始位置本来の開始位置ｘ_２からずれる（遅れる）ことが起こり得る。

また回転の線速度が正常時よりも遅い場合、グルーブパターンＧ_１についてのデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ）に基づく描画ではグルーブパターンＧを書くべき領域を満たすのに足らず、サーボパターンＳとの間に隙間が生じ得る。

特に、回転の線速度が速い場合に生じるサーボパターンとグルーブとの重なりやサーボパターンの開始位置のズレはサーボ精度に影響を及ぼす恐れがあり問題となる。

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、円周方向に配置される描画領域間の境界領域における描画パターン精度の向上を可能とする電子ビーム描画方法および電子ビーム描画システムを提供することを目的とするものである。

また、本発明は、上記電子ビーム描画方法を用いた、インプリントモールドの製造方法を提供すること、および、そのインプリントモールドを用いた磁気ディスク媒体の製造方法を提供することを目的とするものである。

本発明の電子ビーム描画方法は、ロータリエンコーダを備えた回転ステージ上に載置された原盤に、前記回転ステージを回転させつつ電子ビームを走査して、ディスクリートトラックメディアを形成するための周方向に交互に配置されたグルーブパターンとサーボパターンとからなる微細パターンの描画を行う電子ビーム描画方法において、
各半径位置の周方向の所定領域毎に、該所定領域が前記電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスから所定時間経過後に、該所定領域毎の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始するものとし、
ある所定領域へのサーボパターンの描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、該データ信号の一部を破棄して、前記ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始することを特徴とする。

前記グルーブパターンを前記周方向に複数の所定領域に区分して該所定領域毎に描画する場合、
ある所定領域へのグルーブパターンの描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域のグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、該データ信号の一部を破棄して、前記ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始することが望ましい。

また、ある所定領域にグルーブパターンを描画するためのデータ信号群として、該所定領域に対応するデータ信号よりも多くのデータ信号を用意しておくことが望ましい。

本発明の電子ビーム描画システムは、ロータリエンコーダを備えた回転ステージおよび電子ビームを出射する電子銃を備え、該回転ステージ上に載置された原盤に、該回転ステージを回転させつつ前記電子ビームを走査してパターンの描画を行う電子ビーム描画装置と、
各半径位置の周方向の所定領域毎に、該所定領域が前記電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスから所定時間の経過後に、該所定領域毎の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始するように、前記所定領域毎の描画データ信号群を生成し、該描画データ信号群のデータ信号を前記電子ビーム描画装置に順次送出するデータ信号生成送出装置とを備え、
前記データ信号生成送出装置が、前記電子ビーム描画装置に出力する前記所定領域毎の前記描画データ信号群を、描画順序に従って交互に格納する複数のメモリを備え、前記所定領域毎にデータ信号を送出するメモリを切り替え、該メモリに格納されている描画データ信号群のデータ信号を送出するものであり、ある所定領域へのパターン描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部がデータ信号送出中のメモリに残っている場合であっても、前記ある所定領域の描画データ信号群を格納しているメモリに切り替え、該メモリから該ある所定領域の描画データ信号群のデータ信号の送出を開始するものであることを特徴とするものである。

前記データ信号生成送出装置は、前記グルーブパターンを描画するための前記描画データ信号群として、前記グルーブパターンが描画されるべき所定領域に対応するデータ信号よりも多くのデータ信号を含む描画データ信号群を生成するものであることが望ましい。

また、前記データ信号生成送出装置がバッファメモリをさらに備え、前記複数のメモリから該バッファメモリを介して前記電子ビーム描画装置へ送出するものであることが望ましい。

本発明のインプリントモールドの製造方法は、本発明の電子ビーム描画方法により、周方向に交互に配置されるグルーブパターンとサーボパターンとからなる微細パターンを原盤に描画し、該微細パターンが描画された原盤を用いて、前記微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て製造することを特徴とする。

本発明の磁気ディスク媒体の製造方法は、本発明の製造方法により製造されたインプリントモールドを用い、該モールドの表面に設けられた前記凹凸パターンに応じた凹凸パターンを転写する工程を経て製造することを特徴とする。

本発明の電子ビーム描画方法によれば、各半径位置の周方向の所定領域毎に、該所定領域が前記電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスから所定時間経過後に、該所定領域毎の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始するものとし、ある所定領域へのサーボパターンの描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、該データ信号の一部を破棄して、前記ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始するので、回転ムラにより線速度が速くなった場合に、サーボパターンとグルーブパターンの境界において描画が重なったり、サーボパターン開始位置が後方にずれたりするのを防止し、パターンの描画精度を向上することができる。すなわち周方向におけるグルーブパターンの終了位置およびサーボパターンの開始位置の精度が向上し、結果としてサーボの精度の向上に繋がる。

同様に、前記グルーブパターンを前記周方向に複数の所定領域に区分して該所定領域毎に描画する場合、ある所定領域へのグルーブパターンの描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域のグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、該データ信号の一部を破棄して、前記ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始すれば、回転ムラにより線速度が速くなった場合に、所定領域間の境界で描画が重なったり、描画開始位置が後方にずれたりするのを防止することができ、パターンの描画精度を向上することができる。

また、ある所定領域にグルーブパターンを描画するためのデータ信号群として、該所定領域に対応するデータ信号よりも多くのデータ信号を用意しておくようにすれば、回転ムラにより線速度が遅くなった場合にも、データ信号が足りずにパターンにトビが生じるという問題を生じず、該所定領域内全域に描画を行うことができる。

本発明の電子ビーム描画システムは、電子ビーム描画装置に出力する前記所定領域毎の前記描画データ信号群を、描画順序に従って交互に格納する複数のメモリを備え、前記所定領域毎にデータ信号を送出するメモリを切り替え、該メモリに格納されている描画データ信号群のデータ信号を送出するものであり、ある所定領域へのパターン描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部がデータ信号送出中のメモリに残っている場合であっても、前記ある所定領域の描画データ信号群を格納しているメモリに切り替え、該メモリから該ある所定領域の描画データ信号群のデータ信号の送出を開始するデータ信号生成送出装置を備えているので、本発明の電子ビーム描画方法を容易に実現することができる。

本発明の電子ビーム描画方法を実施する一実施形態の電子ビーム描画システムの要部側面図(ａ)および部分平面図(ｂ)である。 本発明の電子ビーム描画方法により原盤に描画するディスクリートトラックメディア用の微細パターンを示す平面図 図２の微細パターンの一部の拡大図 本発明の電子ビーム描画方法の実施形態を説明するための図 本発明の電子ビーム描画方法によりグルーブパターンに引き続くサーボパターンを描画する際の描画パターンおよびその描画開始タイミングを説明するための図 本発明の電子ビーム描画方法によりグルーブパターンに引き続くグルーブパターンを描画する際の描画パターンおよびその描画開始タイミングを説明するための図 電子ビーム描画方法または電子ビーム描画システムによって描画された微細パターンを備えたインプリントモールドを用いて微細パターンを転写形成している過程を示す概略断面図 従来の描画方法において、グルーブパターンを複数の領域に分離して描画した場合の問題点を説明するための図 従来の描画方法において、グルーブパターンとサーボパターンとの境界で生じうる問題点を説明するための図

以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。

「電子ビーム描画システム」
まず、本発明の電子ビーム描画方法を実施するための本発明の電子ビーム描画システムの一実施形態について説明する。図１は電子ビーム描画システムの構成概略を示すブロック図である。
電子ビーム描画システム１００は、電子ビーム描画装置４０およびデータ信号生成送出装置５０を備え、電子ビーム描画装置４０は、原盤に対して電子ビームを照射する電子ビーム照射部２０と、原盤を回転および直線移動させる機械駆動部３０とを備えている。

電子ビーム照射部２０は、鏡筒１８内に電子ビームＥＢを出射する電子銃２１、電子ビームＥＢを半径方向Ｙおよび円周方向Ｘへ偏向させるとともに円周方向Ｘに一定の振幅で微小往復振動させる偏向手段２２，２３、電子ビームＥＢの照射をオン・オフするためのブランキング手段２４としてアパーチャ２５およびブランキング２６（偏向器）を備えており、電子銃２１から出射された電子ビームＥＢは偏向手段２２、２３および図示しない電磁レンズ等を経て、原盤（ここでは、レジスト１１が塗布された基板１０）上に照射される。

ブランキング手段２４における上記アパーチャ２５は、中心部に電子ビームＥＢが通過する透孔を備え、ブランキング２６はＥＢ照射のオン・オフ信号の入力に伴って、オン信号時には電子ビームＥＢを偏向させることなくアパーチャ２５の透孔を通過させて照射させ、一方、オフ信号時には電子ビームＥＢを偏向させてアパーチャ２５の透孔を通過させることなくアパーチャ２５で遮断して、電子ビームＥＢの照射を行わないように作動する。

機械駆動部３０は、鏡筒１８が上面に配置された筐体１９内に原盤を支持する回転ステージ３１および該ステージ３１の中心軸と一致するように設けられたモータ軸を有するスピンドルモータ３２と備えた回転ステージユニット３３と、回転ステージユニット３３を回転ステージ３１の一半径方向に直線移動させるための直線移動手段３４とを備えている。直線移動手段３４は、回転ステージユニット３３の一部に螺合された精密なネジきりが施されたロッド３５と、このロッド３５を正逆回転駆動させるパルスモータ３６とを備えている。また、ステージユニット３３には、回転ステージ３１の回転角に応じたエンコーダ信号を出力するエンコーダ３７が設置されている。エンコーダ３７は、スピンドルモータ３２のモータ軸に取り付けられる、多数の放射状のスリットが形成された回転板３８と、そのスリットを光学的に読み取り、エンコーダ信号を出力する光学素子３９とを備えている。なお、モータ３２の回転速度ムラに基づきエンコーダ信号にはバラツキが生じうる。

データ信号生成送出装置５０は、ハードディスクパターンの各半径位置の周方向の所定領域毎に、各所定領域が電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスから所定時間の経過後に、所定領域毎の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始するように、所定領域毎の描画データ信号群を生成し、描画データ信号群のデータ信号を電子ビーム描画装置４０に順次送出するものである。

データ信号生成送出装置５０は、描画すべきパターンに関する設計データ（描画パターンや描画タイミングを示すデータなど）を蓄積する設計データ蓄積部５２と、描画タイミングを計るための描画クロックを生成する描画クロック生成部５４と、設計データに基づいて描画データ信号群を生成し、その描画データ信号群を電子ビーム描画装置４０に送出するデータ振り分け部６０とを備えている。データ信号生成送出装置５０は所謂フォーマッタにより構成することができる。

描画すべきパターンに関する設計データは、電子ビーム描画を開始する前に、予め図示しない外部の設計データ処理装置からデータ信号生成送出装置５０に送られ、設計データ蓄積部５２に蓄積される。

データ信号生成送出装置５０のデータ振り分け部６０は、設計データ蓄積部５２に蓄積されている設計データを用いて、電子ビーム描画装置４０に出力する所定領域毎の描画データ信号群を生成するデータ生成部６１と、描画データ信号群を描画順序に従って交互に格納する複数のメモリ６２、６３と、描画データ信号を電子ビーム描画装置４０に送出する信号出力部６８と、該信号出力部６８と複数のメモリ６２、６３との間に配置されたバッファメモリ６６を備えている。

データ信号生成送出装置５０は、各所定領域の描画毎にデータ信号を送出する複数のメモリ６２、６３を切り替え手段６５により切り替え、メモリ６２、６３（以下において、メモリ１、メモリ２と称することがある。）に格納されている描画データ信号群のデータ信号を順次送出する。ここでは、２つのメモリ６２、６３を備えるが、３つ以上のメモリを備えていてもよい。
メモリ６２、６３からのデータ信号は、バッファメモリ６６を介して信号出力部６８に入力され、信号出力部６８から電子ビーム描画装置４０に送出される。このバッファメモリ６６を介することにより、メモリ６２、６３の切り替え時に、データ信号出力の遅れの発生を防止することができる。

描画データ信号を読み出すメモリの切り替えタイミングは、円周方向の所定領域毎に予め設定されている所定のエンコーダパルスと描画クロックによって決定される。所定領域が電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスから所定時間の経過後（所定の描画クロック数）にインデックスが付されており、データ信号生成送出装置５０はこのインデックスに基づいてメモリの切り替えを行うように構成されている。このメモリの切り替えは、所定領域毎の描画データ信号群に基づくパターン描画が開始されるタイミングに相当する。

また、データ信号生成送出装置５０は、ある所定領域へのパターン描画を開始する際に、その所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部がデータ信号送出中のメモリ６２に残っている場合であっても、その所定領域の描画データ信号群を格納しているメモリ６３に切り替え、メモリ６３から描画データ信号群のデータ信号送出を開始するように構成されている。データ信号生成送出装置は、原則として描画クロックに付与されているインデックスに基づいて、メモリの切り替えを行い、データ信号の送出を行う。

パターン描画を開始する際に、その所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部がデータ信号送出中のメモリ６２に残っている場合であっても、その所定領域の描画データ信号群を格納しているメモリ６３に切り替え、メモリ６３から描画データ信号群のデータ信号送出を開始するように構成されている。データ信号生成送出装置は、原則として描画クロックに付与されているインデックスに基づいて、メモリの切り替えを行い、データ信号の送出を行う。

さらに、データ信号生成送出装置５０は、データ生成部６１において、既述の通り、所定領域毎にその所定領域の描画すべきパターンの描画データ信号群を生成するものであるが、このとき、グルーブパターンを描画するための描画データ信号群としては、所定領域に対応するデータ信号数より多いデータ信号数を含む描画データ信号群を生成し、メモリに格納するよう構成されていることが望ましい。

描画クロック生成部５４は、不変の基準クロックを発生する基準クロック発生部を内包し、この基準クロックに基づいて描画クロックを生成するものである。

本電子ビーム描画システム１００においては、データ信号生成送出装置５０が、ブランキングのオン・オフ制御、電子ビームＥＢのＸ−Ｙ偏向制御、回転ステージ３１の回転速度制御等の制御信号からなる描画データ信号群を各所定領域毎に生成し、その描画データ信号を各アンプおよびドライバに振り分けるものであり、それぞれのデータ信号はエンコーダ３７から入力されたエンコーダパルスと描画クロックに基づいて所定のタイミングで送出される。
そして、電子ビーム描画装置４０において、スピンドルモータ３２の駆動すなわち回転ステージ３１の回転速度、パルスモータ３６の駆動すなわち直線移動手段３４による直線移動、電子ビームＥＢの変調、偏向手段２２および２３の制御、ブランキング手段２４のブランキング２６のオン・オフ制御等はデータ信号生成送出装置５０から送出された描画データ信号に基づいて行われる。

「電子ビーム描画方法」
次に、上述の電子ビーム描画システム１００を用いた、本発明の電子ビーム描画方法の実施形態を説明する。
図２は本発明の電子ビーム描画方法により原盤に描画するべき磁気ディスク媒体の微細パターン（ハードディスクパターン）を示す全体平面図、図３はこの微細パターンの一部の拡大図を示す図である。

図２および図３に示すように、ディスクリートトラックメディア用の微細パターンは、周方向に交互に配置されたサーボ領域１２に形成されるサーボパターンＳとデータ領域１５に形成されるグルーブパターンＧとで構成され、円盤状の基板１０に、外周部１０ａおよび内周部１０ｂを除く円環状領域に形成される。

サーボパターンＳは、基板１０の同心円状トラックに等間隔で、各セクターに中心部から湾曲放射状の細幅のサーボ領域１２に形成されてなる。サーボパターンＳは、例えば、プリアンブル、アドレス、バースト信号に対応するパターンを含み、一部を拡大した図２にはプレアンブル部のパターンが示されている。

一方、グルーブパターンＧは、隣接する各トラックを分離するようトラック方向に延びる同心円状に形成されてなるものである。

最終的なディスクリートトラックメディアでは、グルーブパターンＧおよびサーボパターンの描画部分が凹部に、その他の部分が磁性層による平坦部（ランド）となる。なお、凹部は非磁性体により埋め込まれていてもよい。

上記サーボパターンＳおよびグルーブパターンＧの描画は、表面にレジスト１１が塗布された基板１０からなる原盤を回転ステージ３１（図１参照）に設置して回転させつつ、例えば、内周側のトラックより外周側トラックへ順に、またはその反対方向へ、１トラックずつ電子ビームＥＢで走査しレジスト１１を照射露光するものである。基板１０は、例えばシリコン、ガラスあるいは石英からなる。

図４は、本発明の電子ビーム描画方法を実行するためのタイミングチャートを示す図である。本実施形態においては、1トラック分のグルーブパターンＧとサーボパターンＳを、基板１０の１回転で一度に描画するものとしている。
グルーブパターンＧは、基板１０（回転ステージ３１）を回転させつつ、電子ビームを一定の描画位置に照射させた状態で維持して描画する。他方サーボパターンＳはそれぞれトラック幅に亘るエレメントＳ_１,Ｓ_２,…を、基板１０を回転させつつ、その形状を塗りつぶすように微小径の電子ビームＥＢで走査して、１回転で１トラック内のサーボパターンＳを描画する。なお、隣接するトラックにまたがる半トラックずれたサーボエレメント（例えば、バースト信号）は、半分に分割することなく、描画基準を半トラックずらせて一度に描画すればよい。

エレメントを塗りつぶす電子ビームＥＢの走査は、電子ビームＥＢの照射のオン、オフをブランキング手段２４の動作により制御しつつ、サーボエレメントの最小トラック方向長さより小さいビーム径の電子ビームＥＢを、半径方向Ｙおよび半径方向と直交する方向（以下周方向Ｘ）へＸ−Ｙ偏向させて、基板１０（回転ステージ３１）の回転速度に応じて、半径方向Ｙと直交する周方向Ｘへ一定の振幅で高速に往復振動させて振らせることにより行う。

図４に基づき順により詳細に説明する。
図４(Ａ)は電子ビームＥＢの半径方向Ｙおよび周方向Ｘの電子ビームＥＢの描画動作を示し、図４(Ｂ)に半径方向Ｙの偏向信号Ｄef(Y)を、(Ｃ)に周方向Ｘの偏向信号Ｄef(X)を、(Ｄ)に周方向Ｘの振動信号Ｍod(X)を、(Ｅ)にＥＢ照射のオン・オフ動作を、(Ｆ)にエンコーダパルス、（Ｇ）に描画クロックをそれぞれ示している。

まず、既述の通り、グルーブパターンＧは、半径方向、周方向に偏向させることなく、また周方向に振動をさせることなく、ＥＢ照射信号のオンとして電子ビームＥＢを照射させた状態で、基板の回転により描画する。グルーブパターンＧの描画は、複数の所定領域に分割し、それぞれの所定領域毎にエンコーダパルスに基づく描画開始するようにしている。ひとつのデータ領域１５に形成される連続したグルーブパターンは、ひとつのデータ領域に亘って、途中でエンコーダパルスとの同期をとることなく連続的に描画してもよいが、複数の所定領域に分割して、該所定領域毎に予め定められたエンコーダパルスによる同期を取ることにより、これによりグルーブパターンＧとサーボパターンＳとの境界でのズレを抑制することができる。

サーボパターンＳのサーボエレメントＳ_１の描画は、所定のエンコーダパルスＥ_２発生時刻から所定時間Δｔ_２経過後に設定されたインデックス位置で、基準位置にある電子ビームＥＢを(Ｄ)の振動信号Ｍod(X)により周方向Ｘに往復振動させつつ、(Ｂ)の偏向信号Ｄef(Y)により半径方向（−Ｙ）に偏向させて送るとともに、基板１０の回転に伴う電子ビームＥＢの照射位置のずれを補償するために、(Ｃ)の偏向信号Ｄef(X)により回転の向きと同一の向き（−Ｘ）に偏向させて送ることにより、矩形状のサーボエレメントＳ_１を塗りつぶすように走査し、ＥＢ照射信号のオフによりブランキングさせて電子ビームＥＢの照射を停止し、サーボエレメントＳ_１の描画を終了する。その後に、半径方向Ｙおよび周方向Ｘの偏向を基準位置に戻す。

次に、基板１０が回転してサーボエレメントＳ_２、Ｓ_３・・・の描画位置で、サーボエレメントＳ_１の描画と同様に電子ビームＥＢを周方向Ｘに往復振動させつつ、半径方向および回転の向きに偏向させて描画を行う。

サーボパターンＳの先頭に配置されているエレメントＳ_１の描画開始点が、（Ｆ）のエンコーダパルスに基づいて正確な位置決めがなされるので、１周中のサーボパターンＳの形成位置の精度を高めることができる。

１つのトラックを１周描画した後、次のトラックに移動し同様に描画して、基板１０の全領域に所望の微細パターンを描画する。描画位置のトラック移動（径方向への移動）は、電子ビームＥＢを半径方向Ｙに偏向させて行うか、あるいは回転ステージ３１を半径方向Ｙに直線移動させて行う。回転ステージを直線移動させるのは、前述のように、電子ビームＥＢの半径方向Ｙの偏向可能範囲に応じて複数トラックの描画毎に行うか、１トラックの描画毎に行ってもよい。しかしながら、偏向手段により径方向へ移動させる方が効率的であることから、偏向手段による径方向への移動が可能な範囲では偏向させることによりトラック移動を行って複数トラック描画させた後に、ビームの偏向手段による径方向への偏向を一旦解除すると共に、直線移動手段３４を用いて回転ステージを複数トラック分程度半径方向に移動させるのが好ましい。

また、基板１０の描画領域における、描画部位の半径方向位置の移動つまりトラック移動に対し、基板１０の外周側部位でも内周側部位でも全描画域で同一の線速度となるように、前記回転ステージ３１の回転速度を外周側描画時には遅く、内周側描画時には速くなるように調整して、電子ビームＥＢによる描画を行うのが均一照射線量を得るためおよび描画位置精度を確保する点で好ましい。

電子ビームＥＢのビーム強度は、上記サーボエレメントＳ_１、Ｓ_２・・・の高速振動描画でレジスト１１の露光が十分に行える程度に設定されている。つまり、電子ビームＥＢによる描画幅（実質露光幅）は、照射時間、振幅に応じて照射ビーム径および振幅より広くなる特性があり、最終的なエレメント幅の描画を行うためには、その描画幅となる所定の照射線量で走査するために、振幅、偏向速度を調整することによって照射線量を規定するものである。なお、描画途中でのビーム強度を変更することは、ビーム安定性の面で困難である。

本実施形態の電子ビーム描画方法の描画開始タイミングの制御について図５、図６に基づいて説明する。

図５はグルーブパターンＧおよびそれに続くサーボパターンＳの描画および描画開始タイミングを説明するための図であり、エンコーダパルスと描画クロックによる描画タイミング、および回転ムラによる線速度の速度毎のパターン描画について示す図である。なお、図５には理解を容易にするために、各領域にパターンを描画するための、メモリ１およびメモリ２に格納されている描画データ信号群を模式的に示している。

図５に示すように、所定領域（円周方向位置ｘ_１−ｘ_２）へのグルーブパターンＧの描画は、位置ｘ_１がＥＢ照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスＥ_１を基準とし、パルスＥ_１発生時刻ｔ_１から所定時間（Δｔ_１）経過後に開始される。所定時間Δｔ_１は、ここでは、ｔ_１からインデックスが付与された３描画クロックである。同様にサーボパターンＳの描画は、位置ｘ_２がＥＢ照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスＥ_２を基準とし、パルスＥ_２発生時刻ｔ_２から所定時間（Δｔ_２）経過後に開始される。

グルーブパターンＧを描画しているとき、データ信号生成送出装置５０のメモリ１に格納されたグルーブパターンデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ）のデータ信号がバッファメモリ６６および信号出力部６８を介して電子ビーム描画装置４０に送出されているとする。メモリ１には、回転が正常（線速度が正常）であるときに、所定領域を描画するために必要とされるデータ信号数よりも多いデータ数を含むグループパターンデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ）が格納されている。

線速度が正常である場合、１描画クロック当たりＬｎの長さ描画し、サーボパターン描画の開始時刻ｔ_２＋Δｔ_２において、余分なデータは未だ送出されずメモリ１に残っているが、切り替え手段６５によりメモリ２に切り替えられて、メモリ２に格納されているサーボパターンのデータ信号群Ｄａｔa（Ｓ）のデータ信号のバッファメモリ６６への送出が開始され、次の所定領域へのサーボパターン描画が開始される。メモリ２からの信号送出の間に、先のグルーブパターンの描画データ信号群Ｄａｔa（Ｇ）はメモリ１から消去（破棄）され、メモリ１には新たにサーボパターンの次に描画するグルーブパターンの描画データ信号群が格納される。

線速度が正常時よりも速い場合、１描画クロック当たりＬｆ（＞Ｌｎ）の長さを描画するので、正常時よりも少ないデータ数で所定領域の描画が終了してしまこととなるが、正常時と同様に、サーボパターン描画の開始時刻ｔ_２＋Δｔ_２において、未だ送出されていないデータ信号がメモリ１に残っているが、切り替え手段６５によりメモリ２に切り替えられて、メモリ２に格納されているサーボパターンのデータ信号群Ｄａｔa（Ｓ）のデータ信号のバッファメモリ６６への送出が開始され、サーボパターン描画が開始される。メモリ２からの信号送出の間に、先のグルーブパターンの描画データ信号群Ｄａｔa（Ｇ）はメモリ１から消去（破棄）され、メモリ１には新たにサーボパターンの次に描画するグルーブパターンの描画データ信号群が格納される。

線速度が正常時よりも遅い場合、１描画クロック当たりＬｓ（＜Ｌｎ）の長さしか描画できないので、所定領域の描画を行うためには、正常時よりも多いデータ数が必要となる。本実施形態では、グルーブパターンの描画データ信号群Ｄａｔａ（Ｇ）として、メモリ１に回転が正常（線速度が正常）であるときに、所定領域を描画するために必要とされるデータ信号数よりも多いデータ数を含むグループパターンデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ）が格納されているので、線速度が遅い場合であっても、所定領域内に描画抜け（トビ）が生じない。この場合にも、サーボパターン描画の開始時刻ｔ_２＋Δｔ_２において、切り替え手段６５によりメモリ２に切り替えられて、メモリ２に格納されているサーボパターンのデータ信号群Ｄａｔａ（Ｓ）のデータ信号のバッファメモリ６６への送出が開始され、サーボパターン描画が開始される。

このように、本実施形態の電子ビーム描画方法は、ある所定領域へのサーボパターンの描画を開始する際に、その所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、そのデータ信号の一部を破棄して、ある所定領域の描画データ信号群に基づくサーボパターンの描画を開始するので、回転が速くなった場合であっても、サーボパターンが描画されるべき所定領域にグルーブパターンが延びて描画されることがなく、グルーブパターンの終了位置およびサーボパターンの開始位置精度を向上させることができる。

また、グルーブパターンの描画データ信号群として、過剰なデータ信号を予め用意しておくことにより、回転が遅くなった場合であっても、グルーブパターンが描画されるべき領域の全域にグルーブパターンの描画をすることができ、描画抜けが生じないので、やはり、グルーブパターンの終了位置の精度を向上させることができる。

図６はグルーブパターンＧを周方向に複数の所定領域に分割して描画する場合であって、グルーブパターンＧ_１に引き続きグルーブパターンＧ_２の描画を行う場合のパターン描画および描画開始タイミングを説明するための図であり、エンコーダパルスと描画クロックによる描画タイミング、および回転ムラによる線速度の速度毎のパターン描画について示す図である。なお、図６には図５と同様に、理解を容易にするために、各領域にパターンを描画するための、メモリ１およびメモリ２に格納されている描画データ信号群を模式的に示している。

図６に示すように、所定領域（円周方向位置ｘ_１−ｘ_２）へのグルーブパターンＧ_１の描画は、位置ｘ_１がＥＢ照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスＥ_１を基準とし、パルスＥ_１発生時刻ｔ_１から所定時間（Δｔ_１）経過後に開始される。所定時間Δｔ_１は、ここでは、ｔ_１からインデックスが付与された３描画クロックである。同様にグルーブパターンＧ_２の描画は、位置ｘ_２がＥＢ照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスＥ_２を基準とし、パルスＥ_２発生時刻ｔ_２から所定時間（Δｔ_２）経過後に開始される。

グルーブパターンＧ_１を描画しているとき、データ信号生成送出装置５０のメモリ１に格納されたグルーブパターンデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）のデータ信号がバッファメモリ６６および信号出力部６８を介して電子ビーム描画装置４０に送出されているとする。メモリ１には、回転が正常（線速度が正常）であるときに、所定領域を描画するために必要とされるデータ信号数よりも多いデータ数を含むグループパターンデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）が格納されている。

線速度が正常である場合、１描画クロック当たりＬｎの長さ描画し、グルーブパターンＧ_２描画の開始時刻ｔ_２＋Δｔ_２において、余分なデータは未だ送出されずメモリ１に残っているが、切り替え手段６５によりメモリ２に切り替えられて、メモリ２に格納されているグルーブパターンＧ_２のデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_２）のデータ信号のバッファメモリ６６への送出が開始され、次の所定領域へのサーボパターン描画が開始される。メモリ２からの信号送出の間に、先のグルーブパターンＧ_１の描画データ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）はメモリ１から消去（破棄）され、メモリ１には新たにサーボパターンの次に描画するグルーブパターンの描画データ信号群が格納される。

線速度が正常時よりも速い場合、１描画クロック当たりＬｆ（＞Ｌｎ）の長さを描画するので、正常時よりも少ないデータ数で所定領域の描画が終了してしまこととなるが、正常時と同様に、グルーブパターンＧ_２描画の開始時刻ｔ_２＋Δｔ_２において、未だ送出されていないデータ信号がメモリ１に残っているが、切り替え手段６５によりメモリ２に切り替えられて、メモリ２に格納されているグルーブパターンＧ_２のデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_２）のデータ信号のバッファメモリ６６への送出が開始され、サーボパターン描画が開始される。メモリ２からの信号送出の間に、先のグルーブパターンＧ_１の描画データ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）はメモリ１から消去（破棄）され、メモリ１には新たにグルーブパターンＧ_２の次に描画するパターンの描画データ信号群が格納される。

線速度が正常時よりも遅い場合、１描画クロック当たりＬｓ（＜Ｌｎ）の長さしか描画できないので、所定領域の描画を行うためには、正常時よりも多いデータ数が必要となる。本実施形態では、グルーブパターンＧ_１の描画データ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）として、メモリ１に回転が正常（線速度が正常）であるときに、所定領域を描画するために必要とされるデータ信号数よりも多いデータ数を含むグループパターンデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_１）が格納されているので、線速度が遅い場合であっても、所定領域内に描画抜け（トビ）が生じない。この場合にも、グルーブパターンＧ_２描画の開始時刻ｔ_２＋Δｔ_２において、切り替え手段６５によりメモリ２に切り替えられて、メモリ２に格納されているグルーブパターンＧ_２のデータ信号群Ｄａｔａ（Ｇ_２）のデータ信号のバッファメモリ６６への送出が開始され、グルーブパターンＧ_２描画が開始される。

このように、本実施形態の電子ビーム描画方法は、ある所定領域へのグルーブパターンの描画を開始する際に、その所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、そのデータ信号の一部を破棄して、ある所定領域の描画データ信号群に基づくグルーブパターンの描画を開始するので、回転が速くなった場合であっても、グルーブパターン同士の境界において、グルーブパターンが重なったり、後のグルーブパターンの開始位置が遅れて描画されたりすることがなく、グルーブパターン同士の境界における描画精度を向上させることができる。

また、グルーブパターンの描画データ信号群として、過剰なデータ信号を予め用意しておくことにより、回転が遅くなった場合であっても、グルーブパターンが描画されるべき領域に全域にグルーブパターンの描画をすることができ、描画抜けが生じないので、やはり、グルーブパターン間の描画精度をさらに向上させることができる。

なお、上記においては、グルーブパターンを、電子ビームの偏向走査をすることなく描画を行うものとしているが、グルーブパターンを複数の所定領域に分割した複数のグルーブエレメント（上述のグルーブパターンＧ_１、Ｇ_２…に相当）で構成し、グルーブエレメント単位で電子ビームを半径方向と直交する方向（周方向Ｘ）に偏向走査し、基板の回転に伴ってグルーブエレメントＧｎ（ｎ＝１，２,…）を順に時間的間隔を持って描画するようにしてもよい（特開２００９−１２２２１７号公報参照）。この場合も、グルーブエレメントＧ_ｎの描画のための電子ビーム周方向Ｘへの偏向走査中に次のインデックス（次のグループエレメントＧ_ｎ＋１の描画開始時刻）が生じた場合には、このインデックスで、次のグループエレメントＧ_ｎ＋１の描画を開始するようにすれば、回転ムラにより線速度が速くなった場合に、グルーブエレメント間、あるいは、グルーブパターンとサーボパターンとの境界において描画が重なったり、パターンの開始位置が後方にずれたりするのを防止し、パターンの描画精度を向上させることができる。

上記実施形態においては、エンコーダパルスの立ち上がり時刻を基準とするものとしたが、エンコーダパルスの立ち下り時刻、あるいは立ち上がりおよび立ち下り時刻の両者を基準としてもよい。

なお、上記実施形態においては、描画方法として、サーボパターン中のエレメントの描画は電子ビームを周方向に高速振動させると共に、半径方向に偏向させることによりエレメント形状を塗りつぶすようにする方法について説明したが、電子ビームを半径方向に高速振動させるようにしてもよい。また。従来のＯＮ，ＯＦＦ描画方法を用いて、複数回転で１トラックを描画するようにしてもよい。

具体的な例を簡単に説明する。
半径３０ｍｍの位置のトラックを描画する際、１周を２５０セクタ（１のデータ領域と１のサーボ領域）程度に分割し、１つのデータ領域を１つの所定領域として（複数の領域に分割することなく）描画すると、所定領域の終端において周方向に１セクタあたり９０ｎｍ程度のズレが生じる場合がある。したがって、このような場合においてはグルーブパターンを描画するための描画データ信号群として余分に１００ｎｍ程度以上のデータ信号を用意しておくことが望ましい。

＜インプリントモールドの製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法＞
次に、上記のような電子ビーム描画システム１００により、前述の電子ビーム描画方法によって微細パターンを描画する工程を経て製造するインプリントモールド（凹凸パターン担持体）の製造方法およびそのインプリントモールドを用いた磁気ディスク媒体の製造方法を説明する。図７は、インプリントモールドを用いて微細凹凸パターンを転写形成している過程を示す概略断面図である。

インプリントモールド７０は、透光性材料による基板７１の表面に、図７では不図示の前述のレジスト１１が塗布され、サーボパターンＳおよびグルーブパターンＧが描画される。その後、現像処理して、レジストによる凹凸パターンを基板７１に形成する。このパターン状のレジストをマスクとして基板７１をエッチングし、その後レジストを除去し、表面に形成された微細凹凸パターン７２を備えるインプリントモールド７０を得る。一例としては、上記微細凹凸パターン７２は、ディスクリートトラックメディア用のサーボパターンとグルーブパターンとを備えたものである。

このインプリントモールド７０を用いて、インプリント法によって磁気ディスク媒体８０を製造する。磁気ディスク媒体８０は、基板８１上に磁性層８２を備え、その上にマスク層を形成するためのレジスト樹脂層８３が被覆されている。そして、このレジスト樹脂層８３に、前記インプリントモールド７０の微細凹凸パターン７２が押し当てられて、紫外線照射によって上記レジスト樹脂層８３を硬化させ、微細パターン７２の凹凸形状を転写形成してなる。その後、レジスト樹脂層８３の凹凸形状に基づき磁性層８２をエッチングし、磁性層８２による微細凹凸パターンが形成されたディスクリートトラックメディア用の磁気ディスク媒体８０を製造する。

以上説明した、本発明の電子ビーム描画方法を用いた、インプリントモールドの製造方法は一例であり、本発明の電子ビーム描画方法を用いて微細パターンの描画を行い、凹凸パターンを形成する工程を経るものであれば上述の製造方法に限るものではない。

10 基板
11 レジスト
12 サーボ領域
15 データ領域
20 電子ビーム照射部
30 機械駆動部
37 エンコーダ
40 電子ビーム描画装置
50 データ信号生成送出装置
60 データ振り分け部
61 データ生成部
62,63 メモリ
66 バッファメモリ
70 インプリントモールド
71 基板
72 微細凹凸パターン
80 磁気ディスク媒体
81 基板
82 磁性層
83 レジスト樹脂層
Ｇ グルーブパターン
Ｓ サーボパターン
EB 電子ビーム

Claims (8)

1. ロータリエンコーダを備えた回転ステージ上に載置された原盤に、前記回転ステージを回転させつつ電子ビームを走査して、ディスクリートトラックメディアを形成するための周方向に交互に配置されたグルーブパターンとサーボパターンとからなる微細パターンの描画を行う電子ビーム描画方法において、
   各半径位置の周方向の所定領域毎に、該所定領域が前記電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスから所定時間の経過後に、該所定領域毎の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始するものとし、
   ある所定領域へのサーボパターンの描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、該データ信号の一部を破棄して、前記ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始することを特徴とする電子ビーム描画方法。
2. 前記グルーブパターンを前記周方向に複数の所定領域に区分して該所定領域毎に描画する場合、
   ある所定領域へのグルーブパターンの描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域のグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部が描画されることなく残っている場合、該データ信号の一部を破棄して、前記ある所定領域の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始することを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画方法。
3. ある所定領域にグルーブパターンを描画するためのデータ信号群として、該所定領域に対応するデータ信号よりも多くのデータ信号を用意しておくことを特徴とする請求項１または２記載の電子ビーム描画方法。
4. ロータリエンコーダを備えた回転ステージおよび電子ビームを出射する電子銃を備え、該回転ステージ上に載置された原盤に、該回転ステージを回転させつつ前記電子ビームを走査してパターンの描画を行う電子ビーム描画装置と、
   各半径位置の周方向の所定領域毎に、該所定領域が前記電子ビーム照射位置に位置する前に生じる所定のエンコーダパルスから所定時間の経過後に、該所定領域毎の描画データ信号群に基づくパターン描画を開始するように、前記所定領域毎の描画データ信号群を生成し、該描画データ信号群のデータ信号を前記電子ビーム描画装置に順次送出するデータ信号生成送出装置とを備え、
   前記データ信号生成送出装置が、前記電子ビーム描画装置に出力する前記所定領域毎の前記描画データ信号群を、描画順序に従って交互に格納する複数のメモリを備え、前記所定領域毎にデータ信号を送出するメモリを切り替え、該メモリに格納されている描画データ信号群のデータ信号を送出するものであり、ある所定領域へのパターン描画を開始する際に、該ある所定領域の直前の所定領域にグルーブパターンを描画するための描画データ信号群のデータ信号の一部がデータ信号送出中のメモリに残っている場合であっても、前記ある所定領域の描画データ信号群を格納しているメモリに切り替え、該メモリから該ある所定領域の描画データ信号群のデータ信号の送出を開始するものであることを特徴とする電子ビーム描画システム。
5. 前記データ信号生成送出装置が、前記グルーブパターンを描画するための前記描画データ信号群として、前記グルーブパターンが描画されるべき所定領域に対応するデータ信号よりも多くのデータ信号を含む描画データ信号群を生成するものであることを特徴とする請求項４記載の電子ビーム描画システム。
6. 前記データ信号生成送出装置がバッファメモリをさらに備え、前記複数のメモリから該バッファメモリを介して前記電子ビーム描画装置へ送出するものであることを特徴とする請求項４または５項記載の電子ビーム描画システム。
7. 請求項１から請求項３いずれか１項記載の電子ビーム描画方法により、周方向に交互に配置されるグルーブパターンとサーボパターンとからなる微細パターンを原盤に描画し、該微細パターンが描画された原盤を用いて、前記微細パターンに応じた凹凸パターンを形成する工程を経て製造することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
8. 請求項７記載の製造方法により製造されたインプリントモールドを用い、該モールドの表面に設けられた前記凹凸パターンに応じた凹凸パターンを転写する工程を経て製造することを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。

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