JP2012150461A - White curable resin composition - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a white curable resin composition capable of obtaining a cured material without deterioration in reflectance, resolution and dimensional accuracy and with excellent hiding power and reduced discoloration due to a thermal history.SOLUTION: A white curable resin composition contains (A) carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) photopolymerization initiator, (C) diluent, (D) epoxy compound, (E) titanium oxide, and (F) threne blue colorant.

Description

本発明は、優れた隠蔽力を備えた白色硬化性樹脂組成物、特に、プリント配線板等といった回路基板のソルダーレジスト膜や反射シートの反射皮膜として有用な白色硬化性樹脂組成物、並びに前記白色硬化性樹脂組成物の硬化物を有するプリント配線板及び反射シートに関するものである。   The present invention provides a white curable resin composition having an excellent hiding power, in particular, a white curable resin composition useful as a solder resist film for a circuit board such as a printed wiring board and a reflective film for a reflective sheet, and the white curable resin composition The present invention relates to a printed wiring board having a cured product of a curable resin composition and a reflective sheet.

プリント配線板は、基板の上に導体回路のパターンを形成し、そのパターンのはんだ付けランドに電子部品をはんだ付けにより搭載するために使用され、そのはんだ付けランドを除く回路部分は永久保護皮膜としてのソルダーレジスト膜で被覆される。これにより、プリント配線板に電子部品をはんだ付けする際に、はんだが不必要な部分に付着するのを防止すると共に、回路導体が空気に直接曝されて酸化や湿度により腐食されるのを防止する。また、ソルダーレジスト膜の隠蔽力を用いて、導体回路のパターン情報が外部に知見するのを防止する。   A printed wiring board is used to form a pattern of a conductor circuit on a substrate and to mount electronic components on the soldering land of the pattern by soldering, and the circuit portion excluding the soldering land is used as a permanent protective film. It is covered with a solder resist film. This prevents solder from adhering to unnecessary parts when soldering electronic components to a printed wiring board, and prevents circuit conductors from being directly exposed to air and being corroded by oxidation or humidity. To do. In addition, the hiding power of the solder resist film is used to prevent the conductor circuit pattern information from being found outside.

また、近年、技術進歩に伴い、エレクトロニクス分野では、小型化、軽量化への要求が一層増し、これに伴い、より小型化された電子部品を高密度に配置するために、プリント配線板の導体回路パターンのファインピッチ化、微細化、高精度性が求められている。これに応じて、ソルダーレジスト膜についても、解像性、寸法精度、薄膜化等の特性について、より高性能のものが要求されている。そこで、特許文献1では、所定の白顔料と所定の着色顔料を配合することにより、ソルダーレジスト膜を薄膜化しても導体回路のパターンを隠蔽できるソルダーレジスト組成物が提案され、特許文献2では、フタロシアニンを配合ずることにより、酸化チタンを高含有率で含有して、保存安定性を有するプリント配線板用白色硬化性樹脂組成物が提案されている。   In recent years, with the advancement of technology, the demand for miniaturization and weight reduction has further increased in the electronics field. Accordingly, in order to arrange more compact electronic components at high density, the conductors of printed wiring boards There is a demand for fine pitches, miniaturization, and high accuracy of circuit patterns. Accordingly, higher performance is required for the solder resist film with respect to characteristics such as resolution, dimensional accuracy, and thinning. Therefore, Patent Document 1 proposes a solder resist composition that can conceal the pattern of the conductor circuit even if the solder resist film is thinned by blending a predetermined white pigment and a predetermined color pigment. A white curable resin composition for printed wiring boards, which contains titanium oxide at a high content by blending phthalocyanine and has storage stability, has been proposed.

しかし、特許文献1に提案されている所定の着色顔料を配合しても、ソルダーレジスト組成物をプリント配線板に塗布して硬化させる際の熱履歴により、ソルダーレジスト膜が黄褐色に変色することで、導体回路パターンに対する隠蔽力が低下するという問題がある。   However, even if the predetermined coloring pigment proposed in Patent Document 1 is blended, the solder resist film turns yellowish brown due to the heat history when the solder resist composition is applied to the printed wiring board and cured. Thus, there is a problem that the hiding power for the conductor circuit pattern is reduced.

また、特許文献2で提案されている白色硬化性樹脂組成物では、熱履歴による変色性が低い顔料ということから、フタロシアニンを配合している。しかし、特許文献2の白色硬化性樹脂組成物では、熱履歴による樹脂成分の黄変により、結果的に、ソルダーレジスト膜が黄褐色に変色してしまい、導体回路パターンに対する隠蔽力が低下してしまうという問題がある。   Moreover, in the white curable resin composition proposed by patent document 2, since it is a pigment with low discoloration by a heat history, it mix | blends phthalocyanine. However, in the white curable resin composition of Patent Document 2, due to the yellowing of the resin component due to the thermal history, the solder resist film turns yellowish brown, resulting in a decrease in the hiding power for the conductor circuit pattern. There is a problem of end.

また、近年、環境負荷の低減のために太陽電池が注目されており、太陽電池の発電効率を向上させるために、高反射率を有し、耐変色性に優れた反射シートが要求されている。   In recent years, solar cells have been attracting attention for reducing the environmental load, and in order to improve the power generation efficiency of solar cells, there is a demand for a reflective sheet having high reflectivity and excellent discoloration resistance. .

特開2005−311233JP-A-2005-311233 特開2009−238771JP2009-238771

上記事情に鑑み、本発明の目的は、反射率、解像性及び寸法精度等の諸特性を損なうことなく、隠蔽力に優れ、熱履歴による変色を抑えた硬化物が得られる白色硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, the object of the present invention is to provide a white curable resin that provides a cured product that has excellent hiding power and suppresses discoloration due to thermal history without impairing various properties such as reflectance, resolution, and dimensional accuracy. An object is to provide a composition.

本発明の態様は、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂と、(B)光重合開始剤と、(C)希釈剤と、(D)エポキシ化合物と、(E)酸化チタンと、(F)スレン系青色着色剤とを含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。(F)成分のスレン系青色着色剤とは、スレン系色素であって、多環式キノン骨格を有する青色の染料を意味する。従って、本発明のスレン系青色着色剤とはスレン染料であり、顔料である上記フタロシアニンとは異なる。   Embodiments of the present invention include (A) a carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent, (D) an epoxy compound, (E) titanium oxide, and (F) A white curable resin composition comprising a selenium blue colorant. The selenium blue colorant as component (F) is a selenium pigment and means a blue dye having a polycyclic quinone skeleton. Therefore, the selenium blue colorant of the present invention is a selenium dye and is different from the phthalocyanine which is a pigment.

本発明の態様は、前記(E)酸化チタン100質量部に対し、前記(F)スレン系青色着色剤が0.003〜0.055質量部含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   According to an embodiment of the present invention, the white curable resin composition is characterized by containing 0.003 to 0.055 parts by mass of the (F) selenium blue colorant with respect to 100 parts by mass of the (E) titanium oxide. It is.

本発明の態様は、前記(A)カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対し、前記(E)酸化チタンが、40〜300質量部含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   An aspect of the present invention is a white curable resin composition, wherein the titanium oxide (E) is contained in an amount of 40 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) carboxyl group-containing photosensitive resin. .

本発明の態様は、さらに、(G)無機イオン交換体を含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   An embodiment of the present invention is a white curable resin composition further comprising (G) an inorganic ion exchanger.

本発明の態様は、上記白色硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物を有することを特徴とするプリント配線板である。   The aspect of this invention is a printed wiring board characterized by having the hardened | cured material which hardened the said white curable resin composition.

本発明の態様は、前記硬化物が、膜厚20μmにおいて、L*値が70以上、a*値が−2.5〜−0.5、b*値が−6.0〜−2.5であることを特徴とするプリント配線板である。   In the aspect of the present invention, when the cured product has a film thickness of 20 μm, the L * value is 70 or more, the a * value is −2.5 to −0.5, and the b * value is −6.0 to −2.5. It is a printed wiring board characterized by being.

本発明の態様は、上記白色硬化性樹脂組成物を硬化して得られた皮膜を有することを特徴とする反射シートである。   An aspect of the present invention is a reflective sheet having a film obtained by curing the white curable resin composition.

白色顔料である酸化チタンのほかに、スレン系青色着色剤を配合することにより、反射率、解像性及び寸法精度を損なうことなく、熱履歴による変色が抑えられ、且つ隠蔽力に優れた硬化物となる白色硬化性樹脂組成物を得ることができる。また、導体回路パターンを形成した基板上に、本発明の白色硬化性樹脂化合物の硬化物を塗布した場合に、導体回路パターン上における硬化物の色調と基材上における硬化物の色調との差を低減できる。よって、導体回路パターンに対する隠蔽力に優れた硬化物となる白色硬化性樹脂組成物を得ることができる。上記態様では、スレン系青色着色剤を配合することで、カルボキシル基含有感光性樹脂が熱履歴により黄変しても、硬化した白色硬化性樹脂組成物としての黄変が抑えられて、隠蔽力の低下を防止する、と考えられる。つまり、熱履歴によりカルボキシル基含有感光性樹脂は黄変するものの、スレン系青色着色剤の熱履歴による変色とあいまって、硬化した白色硬化性樹脂組成物の黄変が抑えられることにより、硬化物の隠蔽力低下を防止する、と考えられる。   In addition to titanium oxide, which is a white pigment, by adding a selenium blue colorant, it is possible to suppress discoloration due to thermal history without impairing reflectivity, resolution and dimensional accuracy, and to have excellent hiding power A white curable resin composition can be obtained. In addition, when the cured product of the white curable resin compound of the present invention is applied on the substrate on which the conductor circuit pattern is formed, the difference between the color tone of the cured product on the conductor circuit pattern and the color tone of the cured product on the substrate. Can be reduced. Therefore, the white curable resin composition used as the hardened | cured material excellent in the concealing power with respect to a conductor circuit pattern can be obtained. In the above aspect, by blending a selenium blue colorant, even when the carboxyl group-containing photosensitive resin turns yellow due to thermal history, yellowing as a cured white curable resin composition is suppressed, and the hiding power is reduced. It is thought to prevent the decrease of In other words, although the carboxyl group-containing photosensitive resin is yellowed due to the thermal history, the cured white curable resin composition is suppressed from yellowing due to the discoloration due to the thermal history of the selenium-based blue colorant. This is considered to prevent the hiding power from being reduced.

酸化チタン100質量部に対し、スレン系青色着色剤を0.003〜0.055質量部配合することにより、上記隠蔽力がさらに向上する。また、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対し、酸化チタンを40〜300質量部配合することにより、高反射率を有しつつ、解像性と寸法精度に優れた硬化物となる白色硬化性樹脂組成物を得ることができる。さらに、無機イオン交換体を配合することにより、高温多湿下でも、白色硬化性樹脂組成物の硬化物中におけるイオンマイグレーション現象を防止できる。   The hiding power is further improved by adding 0.003 to 0.055 parts by mass of a selenium blue colorant to 100 parts by mass of titanium oxide. In addition, by adding 40 to 300 parts by mass of titanium oxide to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing photosensitive resin, a white cured product that has a high reflectance and a cured product with excellent resolution and dimensional accuracy. Resin composition can be obtained. Furthermore, the ion migration phenomenon in the hardened | cured material of white curable resin composition can be prevented by mix | blending an inorganic ion exchanger also under high temperature and humidity.

プリント配線板に本発明の白色硬化性樹脂組成物を塗工することにより、反射率、解像性及び寸法精度を損なうことなく、熱履歴による変色が抑えられ、且つ導体回路パターンに対する隠蔽力に優れたソルダーレジスト膜を形成できる。膜厚20μmの硬化塗膜について、L*値が70以上、a*値が−2.5〜−0.5、b*値が−6.0〜−2.5であることにより、硬化塗膜の白色がはっきりして、例えば、発光ダイオード素子(LED)の発光を効率的に利用できるプリント配線板とすることができる。   By applying the white curable resin composition of the present invention to a printed wiring board, discoloration due to thermal history can be suppressed without impairing reflectivity, resolution, and dimensional accuracy, and the hiding power to the conductor circuit pattern can be reduced. An excellent solder resist film can be formed. For a cured coating film having a film thickness of 20 μm, the L * value is 70 or more, the a * value is −2.5 to −0.5, and the b * value is −6.0 to −2.5. The white of the film is clear, and for example, a printed wiring board that can efficiently use light emission of a light emitting diode element (LED) can be obtained.

シート状のベースフィルム表面に本発明の白色硬化性樹脂組成物を塗工することにより、反射率、解像性及び寸法精度を損なうことなく、熱履歴による変色が抑えられた反射皮膜を有する反射シートを得ることができる。   By applying the white curable resin composition of the present invention to the surface of the sheet-like base film, the reflection having a reflective film in which discoloration due to thermal history is suppressed without impairing the reflectance, resolution and dimensional accuracy. A sheet can be obtained.

次に、本発明の白色硬化性樹脂組成物の各成分について説明する。本発明の白色硬化性樹脂組成物は、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂と、(B)光重合開始剤と、(C)希釈剤と、(D)エポキシ化合物と、(E)酸化チタンと、(F)スレン系青色着色剤とを含有することを特徴とする。   Next, each component of the white curable resin composition of this invention is demonstrated. The white curable resin composition of the present invention comprises (A) a carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent, (D) an epoxy compound, and (E) titanium oxide. And (F) a selenium blue colorant.

(A)カルボキシル基含有感光性樹脂
カルボキシル基含有感光性樹脂は、特に限定されず、感光性の不飽和二重結合を1個以上有する感光性のカルボキシル基含有樹脂、感光性の不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂のいずれも使用可能である。(A)成分の例として、分子中にエポキシ基を2個以上有する多官能エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部にアクリル酸又はメタクリル酸等のラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させてエポキシ(メタ)アクリレートを得て、生成した水酸基に多塩基酸又はその無水物を反応させて得られる多塩基酸変性エポキシ(メタ)アクリレートを挙げることができる。
(A) Carboxyl group-containing photosensitive resin The carboxyl group-containing photosensitive resin is not particularly limited, and is a photosensitive carboxyl group-containing resin having at least one photosensitive unsaturated double bond, photosensitive unsaturated double bond. Any carboxyl group-containing resin having no bond can be used. As an example of the component (A), at least a part of the epoxy group of a polyfunctional epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule is reacted with a radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid. Mention may be made of polybasic acid-modified epoxy (meth) acrylates obtained by obtaining (meth) acrylates and reacting the produced hydroxyl groups with polybasic acids or anhydrides thereof.

前記多官能性エポキシ樹脂は、2官能以上のエポキシ樹脂であればいずれでも使用可能であり、エポキシ当量の制限は特にないが、通常1000以下、好ましくは100〜500のものを用いる。多官能性エポキシ樹脂には、例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂等のゴム変性エポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、о−クレゾールノボラック型等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族多官能エポキシ樹脂、グリシジルエステル型多官能エポキシ樹脂、グリシジルアミン型多官能エポキシ樹脂、複素環式多官能エポキシ樹脂、ビスフェノール変性ノボラック型エポキシ樹脂、多官能変性ノボラック型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物型エポキシ樹脂等を挙げることができる。また、これらの樹脂にBr、Cl等のハロゲン原子を導入したものも使用可能である。これらのうちでも塗膜のフレキシブル性の点から、シリコーン変性エポキシ樹脂等のゴム変性エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。   Any polyfunctional epoxy resin may be used as long as it is a bifunctional or higher functional epoxy resin, and there is no particular limitation on the epoxy equivalent, but one having a molecular weight of usually 1000 or less, preferably 100 to 500 is used. Examples of the polyfunctional epoxy resin include biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, rubber modified epoxy resin such as silicone modified epoxy resin, ε-caprolactone modified epoxy resin, bisphenol A type, bisphenol. Phenol type novolak type epoxy resin such as F type, bisphenol AD type, cresol novolak type epoxy resin such as о-cresol novolak type, bisphenol A novolak type epoxy resin, cyclic aliphatic polyfunctional epoxy resin, glycidyl ester type polyfunctional epoxy resin, Glycidylamine type polyfunctional epoxy resin, heterocyclic polyfunctional epoxy resin, bisphenol modified novolac type epoxy resin, polyfunctional modified novolak type epoxy resin, phenols and phenolic hydroxyl group Examples thereof include condensate type epoxy resins with aromatic aldehydes. Moreover, what introduce | transduced halogen atoms, such as Br and Cl, to these resin can also be used. Of these, rubber-modified epoxy resins such as silicone-modified epoxy resins are preferred from the viewpoint of the flexibility of the coating film. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

使用するラジカル重合性不飽和モノカルボン酸は、特に限定されず、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸などを挙げることができ、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方(以下、(メタ)アクリル酸ということがある。)が好ましく、特にアクリル酸が好ましい。(メタ)アクリル酸を反応させたものがエポキシ(メタ)アクリレートである。エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応方法に特に制限は無く、例えばエポキシ樹脂とアクリル酸を適当な希釈剤中で加熱することにより反応できる。 The radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to be used is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, and the like. At least one of acrylic acid and methacrylic acid (hereinafter referred to as (meth)). Acrylic acid is sometimes preferred.) Acrylic acid is particularly preferred. What reacted (meth) acrylic acid is epoxy (meth) acrylate. There is no restriction | limiting in particular in the reaction method of an epoxy resin and radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, For example, it can react by heating an epoxy resin and acrylic acid in a suitable diluent.

多塩基酸又は多塩基酸無水物は、前記エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応で生成した水酸基に反応し、樹脂に遊離のカルボキシル基を持たせるものである。使用する多塩基酸又はその無水物としては、特に限定されず、飽和、不飽和のいずれも使用可能である。多塩基酸には、例えば、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、クエン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、3−エチルテトラヒドロフタル酸、4−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3−メチルヘキサヒドロフタル酸、4−メチルヘキサヒドロフタル酸、3−エチルヘキサヒドロフタル酸、4−エチルヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸及びジグリコール酸等が挙げられ、多塩基酸無水物としてはこれらの無水物が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。 The polybasic acid or polybasic acid anhydride reacts with a hydroxyl group generated by the reaction between the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to give the resin a free carboxyl group. The polybasic acid to be used or its anhydride is not particularly limited, and either saturated or unsaturated can be used. Polybasic acids include, for example, succinic acid, maleic acid, adipic acid, citric acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4- Ethyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, methylhexahydro Examples include phthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, and diglycolic acid. Examples of polybasic acid anhydrides include these anhydrides. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、上記の多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂も感光性樹脂として使用できるが、上記の多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の有するカルボキシル基に、1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を持つグリシジル化合物を反応させることにより、ラジカル重合性不飽和基を更に導入し、さらに感光性を向上させた感光性樹脂としてもよい。 In the present invention, the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin can also be used as a photosensitive resin. However, one or more carboxyl groups in the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin have one or more. It is good also as the photosensitive resin which further introduce | transduced the radically polymerizable unsaturated group by making the glycidyl compound which has a radically polymerizable unsaturated group and an epoxy group react, and also improved photosensitivity.

この感光性を向上させた感光性樹脂は、最後のグリシジル化合物の反応によってラジカル重合性不飽和基が、その前駆体の感光性樹脂の高分子の骨格の側鎖に結合するため、光重合反応性が高く、優れた感光特性を持つことができる。1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を持つ化合物としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリアクリレートモノグリシジルエーテル等が挙げられる。なお、グリシジル基は1分子中に複数有していてもよい。上記した1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を持つ化合物は、単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   The photosensitive resin with improved photosensitivity has a photopolymerization reaction because the radical polymerizable unsaturated group is bonded to the side chain of the polymer skeleton of the precursor photosensitive resin by the reaction of the last glycidyl compound. It has high properties and can have excellent photosensitivity. Examples of the compound having one or more radically polymerizable unsaturated groups and an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, pentaerythritol triacrylate monoglycidyl ether, and the like. In addition, you may have multiple glycidyl groups in 1 molecule. The above-mentioned compounds having one or more radically polymerizable unsaturated groups and epoxy groups may be used alone or in combination of two or more.

カルボキシル基含有感光性樹脂の酸価の下限値は、確実なアルカリ現像の点から30mgKOH/gであり、40mgKOH/gが好ましい。一方、酸価の上限値は、アルカリ現像液による露光部の溶解防止の点から200mgKOH/gであり、硬化物の耐湿性と電気特性の劣化防止の点から150mgKOH/gが好ましい。   The lower limit of the acid value of the carboxyl group-containing photosensitive resin is 30 mg KOH / g, preferably 40 mg KOH / g, from the viewpoint of reliable alkali development. On the other hand, the upper limit of the acid value is 200 mgKOH / g from the viewpoint of preventing dissolution of the exposed area with an alkali developer, and 150 mgKOH / g is preferable from the viewpoint of preventing moisture resistance of the cured product and preventing deterioration of electrical characteristics.

また、カルボキシル基含有感光性樹脂の重量平均分子量の下限値は、硬化物の強靭性及び指触乾燥性の点から3000であり、好ましくは5000である。一方、重量平均分子量の上限値は、(C)成分である希釈剤等との相溶性及び円滑なアルカリ現像性の点から200000であり、好ましくは50000である。   The lower limit of the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing photosensitive resin is 3000, preferably 5000, from the viewpoint of the toughness of the cured product and the touch drying property. On the other hand, the upper limit of the weight average molecular weight is 200,000, preferably 50,000 from the viewpoint of compatibility with the diluent (C) and the like and smooth alkali developability.

カルボキシル基含有感光性樹脂として市販されているものには、例えば、ZFR−1124、FLX−2089(以上、日本化薬(株)製)、サイクロマーP(ACA)Z−250、サイクロマーP(ACA)Z−300(以上、ダイセル化学工業(株)製)、リポキシ SP−4621(昭和高分子(株)製)等を挙げることができる。これらの樹脂は、単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   Examples of commercially available carboxyl group-containing photosensitive resins include ZFR-1124, FLX-2089 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Cyclomer P (ACA) Z-250, Cyclomer P ( ACA) Z-300 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), lipoxy SP-4621 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), and the like. These resins may be used alone or in combination of two or more.

(B)光重合開始剤
光重合開始剤は、一般的に使用されるものであれば特に限定されず、例えば、オキシム系開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン‐n‐ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2‐ジメトキシ‐2‐フェニルアセトフェノン、2,2‐ジエトキシ‐2‐フェニルアセトフェノン、2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐フェニルプロパン‐1‐オン、1‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2‐メチル‐1‐〔4‐(メチルチオ)フェニル〕‐2‐モルフォリノ‐プロパン‐1‐オン、4‐(2‐ヒドロキシエトキシ)フェニル‐2‐(ヒドロキシ‐2‐プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p‐フェニルベンゾフェノン、4,4′‐ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロルベンゾフェノン、2‐メチルアントラキノン、2‐エチルアントラキノン、2‐ターシャリーブチルアントラキノン、2‐アミノアントラキノン、2‐メチルチオキサントン、2‐エチルチオキサントン、2‐クロルチオキサントン、2,4‐ジメチルチオキサントン、2,4ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、P‐ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。光重合開始剤の配合量は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、5〜25質量部であり、8〜20質量部が好ましい。
(B) Photopolymerization initiator The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is generally used. For example, oxime initiators, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin -N-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- 1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2- (hydroxy -2-propyl Ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2- Examples include ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4 diethylthioxanthone, benzyl dimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, and P-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester. These may be used alone or in combination of two or more. The compounding quantity of a photoinitiator is 5-25 mass parts with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin, and 8-20 mass parts is preferable.

(C)希釈剤
希釈剤は、例えば、反応性希釈剤である光重合性モノマーであり、カルボキシル基含有感光性樹脂の光硬化を十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性などを有する硬化物を得るために使用する。光重合性モノマーとしては、例えば、1,4‐ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6‐ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性燐酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の反応性希釈剤が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。上記した反応性希釈剤の配合量は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、2.0〜40質量部であり、10〜35質量部が好ましい。
(C) Diluent Diluent is, for example, a photopolymerizable monomer that is a reactive diluent, and sufficiently cures the carboxyl group-containing photosensitive resin to have acid resistance, heat resistance, alkali resistance, and the like. Used to get things. Examples of the photopolymerizable monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified di (meth) phosphate ) Acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate Rate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta Examples include reactive diluents such as (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more. The compounding quantity of an above-described reactive diluent is 2.0-40 mass parts with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin, and 10-35 mass parts is preferable.

また、希釈剤として、白色硬化性組成物の粘度や乾燥性を調節するために、上記反応性希釈剤に代えてまたは上記反応性希釈剤とともに、非反応性希釈剤である有機溶剤を用いてもよい。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール、などのアルコール類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤類、セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。有機溶媒を用いる場合の配合量は、カルボキシル基含有感光性樹脂100重量部に対して、10〜500重量部が好ましい。   Moreover, in order to adjust the viscosity and drying property of a white curable composition as a diluent, it replaces with the said reactive diluent or uses the organic solvent which is a non-reactive diluent with the said reactive diluent. Also good. Examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as methanol, isopropanol and cyclohexanol, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane. Petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha, cellosolves such as cellosolve and butylcellosolve, carbitols such as carbitol and butylcarbitol, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl Examples thereof include acetates such as carbitol acetate and diethylene glycol monoethyl ether acetate. These may be used alone or in combination of two or more. As for the compounding quantity in the case of using an organic solvent, 10-500 weight part is preferable with respect to 100 weight part of carboxyl group-containing photosensitive resin.

(D)エポキシ化合物
エポキシ化合物は、硬化物の架橋密度を上げて、十分な機械的強度を有する硬化塗膜を得るためのものである。エポキシ化合物には、例えば、エポキシ樹脂がある。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、p−tert−ブチルフェノールノボラック型など)、ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒドリンを反応させて得られたビスフェノールF型やビスフェノールS型エポキシ樹脂、さらにシクロヘキセンオキシド基、トリシクロデカンオキシド基、シクロペンテンオキシド基などを有する脂環式エポキシ樹脂、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。エポキシ化合物の配合量は、硬化後に十分な機械的強度の塗膜を得る点から、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、5〜50質量部であり、10〜30質量部が好ましい。
(D) Epoxy compound The epoxy compound is for increasing the crosslinking density of the cured product to obtain a cured coating film having sufficient mechanical strength. Examples of the epoxy compound include an epoxy resin. Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, novolak type epoxy resin (phenol novolak type epoxy resin, o-cresol novolak type epoxy resin, p-tert-butylphenol novolak type, etc.), bisphenol F and bisphenol S with epichlorohydrin. Bisphenol F-type and bisphenol S-type epoxy resins obtained by reaction, alicyclic epoxy resins having cyclohexene oxide groups, tricyclodecane oxide groups, cyclopentene oxide groups, and the like, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate , Triglycidyl isocyanurate having a triazine ring such as triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, dicyclopentadiene type epoxy resin, Adama It can be exemplified Tan type epoxy resin. These compounds may be used alone or in combination of two or more. The compounding quantity of an epoxy compound is 5-50 mass parts with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin from the point which obtains the coating film of sufficient mechanical strength after hardening, and 10-30 mass parts is preferable. .

(E)酸化チタン
酸化チタンは、硬化物を白色化するためのものであり、例えば、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタンを挙げることができる。アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタンいずれも使用できるが、アナターゼ型酸化チタンは、ルチル型酸化チタンと比較して白色度は高いものの、光触媒活性を有するので、白色硬化性樹脂組成物中の樹脂の変色を引き起こすことがある。ルチル型酸化チタンは、光触媒活性をほとんど有さないので硬化物の変色を防止できる。
(E) Titanium oxide Titanium oxide is used for whitening the cured product, and examples thereof include anatase-type titanium oxide and rutile-type titanium oxide. Either anatase-type titanium oxide or rutile-type titanium oxide can be used, but anatase-type titanium oxide has a higher whiteness than rutile-type titanium oxide, but has photocatalytic activity, so the resin in the white curable resin composition May cause discoloration. Since rutile type titanium oxide has almost no photocatalytic activity, it can prevent discoloration of the cured product.

ルチル型酸化チタンの粒子の平均粒径は特に限定されないが、例えば、0.01〜1μmである。また、ルチル型酸化チタン粒子の表面処理剤も特に限定されない。ルチル型酸化チタンには、例えば、富士チタン工業(株)製「TR−600」、「TR−700」、「TR−750」、「TR−840」、石原産業(株)製「R−550」、「R−580」、「R−630」、「R−820」、「CR−50」、「CR−60」、「CR−90」、「CR−93」、チタン工業(株)製「KR−270」、「KR−310」、「KR−380」、テイカ(株)製「JR−1000 」、「JR−805」, 「JR−806」等を使用することができる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。酸化チタンの配合量は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して30〜800質量部であり、白色度と解像性とのバランスの点から、好ましくは35〜500質量部であり、白色度と解像性とのバランスをより向上させる点から、特に好ましくは40〜300質量部である。   The average particle diameter of the rutile-type titanium oxide particles is not particularly limited, and is, for example, 0.01 to 1 μm. Further, the surface treating agent for rutile type titanium oxide particles is not particularly limited. Examples of rutile titanium oxide include “TR-600”, “TR-700”, “TR-750”, “TR-840” manufactured by Fuji Titanium Industry Co., Ltd., and “R-550” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. ”,“ R-580 ”,“ R-630 ”,“ R-820 ”,“ CR-50 ”,“ CR-60 ”,“ CR-90 ”,“ CR-93 ”, manufactured by Titanium Industry Co., Ltd. “KR-270”, “KR-310”, “KR-380”, “JR-1000”, “JR-805”, “JR-806” manufactured by Teika Co., Ltd. can be used. These may be used alone or in combination of two or more. The compounding amount of titanium oxide is 30 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing photosensitive resin, and preferably 35 to 500 parts by mass from the viewpoint of the balance between whiteness and resolution. In view of further improving the balance between whiteness and resolution, the amount is particularly preferably 40 to 300 parts by mass.

(F)スレン系青色着色剤
スレン系青色着色剤は、白色硬化性樹脂組成物から形成した硬化物のL*値を上げて白色度を高めるとともに、熱履歴による前記硬化物の黄変を防止して隠蔽力を高めるために配合する。特に、本発明の白色硬化性樹脂組成物をプリント配線板のソルダーレジスト膜として使用する場合、導体回路パターン上における硬化物の色調とプリント配線板の基材上における硬化物の色調との差を低減できる、すなわち、特に、導体回路パターン上の部分での黄変を防止することで該部分の隠蔽力の低下を抑えることができるので、優れた隠蔽力を有するソルダーレジスト膜を形成できる。また、スレン系青色着色剤を配合することで、他の青色着色剤(例えば、フタロシアニン系、アントラキノン系、ジオキサジン系の顔料)を配合して硬化物の白色度を高めた場合と比較して、硬化塗膜の解像性、寸法精度が向上する。
(F) Selenium blue colorant The selenium blue colorant increases the whiteness by increasing the L * value of the cured product formed from the white curable resin composition and prevents yellowing of the cured product due to thermal history. And is added to increase the hiding power. In particular, when the white curable resin composition of the present invention is used as a solder resist film for a printed wiring board, the difference between the color tone of the cured product on the conductor circuit pattern and the color tone of the cured product on the substrate of the printed wiring board is determined. Since the reduction of the hiding power of the portion can be suppressed by preventing yellowing particularly in the portion on the conductor circuit pattern, a solder resist film having an excellent hiding power can be formed. In addition, by blending a selenium-based blue colorant, compared to the case where the whiteness of the cured product is increased by blending other blue colorants (for example, phthalocyanine-based, anthraquinone-based, dioxazine-based pigments), The resolution and dimensional accuracy of the cured coating are improved.

スレン系青色着色剤の具体例としては、インダンスレンブルーRS(C.I.69800)、インダンスレンブルーBC(C.I.69825)等が挙げられる。また、具体的商品としては、例えば、東洋インキ製造(株)製「LIONOGEN BLUE6510」、山陽色素(株)製「スレンブルーGA210」、BASF社製「パリオゲンブルー」、アイ・シー・アイ社製「モノライトブルー3R」、「モノライトブルー3RN」等が上市されている。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   Specific examples of the selenium blue colorant include Indanthrene Blue RS (C.I. 69800), Indanthrene Blue BC (C.I. 69825), and the like. Specific products include, for example, “LIONOGEN BLUE6510” manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd., “Slen Blue GA210” manufactured by Sanyo Dye Co., Ltd., “Paliogen Blue” manufactured by BASF Corporation, and manufactured by ICI "Monolight Blue 3R", "Monolight Blue 3RN", etc. are on the market. These may be used alone or in combination of two or more.

スレン系青色着色剤の配合量は、硬化物のL*値を所定値以上としつつ、白色がはっきりした色調となる範囲にa*値とb*値が収まるよう、適宜選択可能である。硬化物のL*値は白色度の点で70以上であり、80以上が好ましい。a*値は硬化物の赤味と緑味を抑えて白色をはっきりさせる点で−2.5〜−0.5の範囲が好ましく、硬化物に被覆された導体パターンの銅色の赤味が視認されるのを防止する点で−2.0〜−1.0の範囲が特に好ましい。b*値は硬化物の黄色味と紫味を抑えて白色をはっきりさせる点で−6.0〜−2.5の範囲が好ましく、硬化物に被覆された導体パターンの銅色の黄味が視認されるのを防止する点で−5.0〜−3.0の範囲が特に好ましい。   The blending amount of the selenium blue colorant can be appropriately selected so that the a * value and the b * value are within the range where the white color becomes clear while the L * value of the cured product is set to a predetermined value or more. The L * value of the cured product is 70 or more in terms of whiteness, and preferably 80 or more. The a * value is preferably in the range of -2.5 to -0.5 from the viewpoint of suppressing the redness and greenness of the cured product and clarifying the white color, and the copper-colored redness of the conductor pattern coated with the cured product. The range of −2.0 to −1.0 is particularly preferable in that it is prevented from being visually recognized. The b * value is preferably in the range of −6.0 to −2.5 in terms of making the white color clear by suppressing the yellow and purple colors of the cured product, and the copper-colored yellowness of the conductor pattern coated with the cured product. A range of −5.0 to −3.0 is particularly preferable from the viewpoint of preventing visual recognition.

本発明において、上記したL*値、a*値及びb*値の範囲に白色の色具合を調整する場合、例えば、スレン系青色着色剤の配合量の下限値は、酸化チタン100質量部に対して、赤味と黄色味を抑えて硬化物の白色の色具合を調整しつつL*値を70以上とする点で0.003質量部であり、硬化物に被覆された導体パターンの銅色が視認されるのを防止して隠蔽性を高める点で0.004質量部が好ましく、視覚上鮮明な白色度を得る点で0.01質量部が特に好ましい。スレン系青色着色剤の配合量の上限値は、酸化チタン100質量部に対して、緑味と紫味を抑えて硬化物の白色の色具合を調整しつつL*値を70以上とする点で0.055質量部であり、硬化物に被覆された導体パターンの銅色が視認されるのを防止して隠蔽性を高める点で0.053質量部が好ましく、視覚上鮮明な白色度を得る点で0.050質量部が特に好ましい。   In the present invention, when the white color condition is adjusted within the range of the above L * value, a * value, and b * value, for example, the lower limit value of the blend amount of the selenium blue colorant is 100 parts by mass of titanium oxide. On the other hand, it is 0.003 parts by mass in terms of setting the L * value to 70 or more while adjusting the white color of the cured product while suppressing redness and yellowness, and the conductor pattern copper coated with the cured product The amount is preferably 0.004 parts by mass from the viewpoint of preventing the color from being visually recognized and enhancing the concealing property, and 0.01 parts by mass is particularly preferable from the viewpoint of obtaining a visually clear whiteness. The upper limit of the blending amount of the selenium blue colorant is that the L * value is 70 or more while controlling the white color of the cured product while suppressing the greenness and purpleness with respect to 100 parts by mass of titanium oxide. 0.055 parts by mass, preferably 0.053 parts by mass in terms of preventing the copper color of the conductor pattern coated with the cured product from being visually recognized and improving the concealment, and providing a visually clear whiteness. In terms of obtaining, 0.050 parts by mass is particularly preferable.

つまり、本発明の白色硬化性樹脂組成物は、上記硬化物のL*値、a*値、b*値を考慮しつつ、上記した(A)〜(F)成分や下記する任意成分を所定の配合割合で配合することとなる。   That is, in the white curable resin composition of the present invention, the above-described components (A) to (F) and the following optional components are determined in consideration of the L * value, a * value, and b * value of the cured product. It will mix | blend with the compounding ratio of.

本発明の白色硬化性樹脂組成物では、上記(A)〜(F)成分の他に、必要に応じて、(G)無機イオン交換体や、種々の添加成分、例えば、消泡剤、各種添加剤、体質顔料、増粘剤などを適宜配合することができる。   In the white curable resin composition of the present invention, in addition to the above components (A) to (F), (G) inorganic ion exchangers and various additive components such as antifoaming agents, Additives, extender pigments, thickeners and the like can be appropriately blended.

(G)無機イオン交換体
無機イオン交換体は、反対電荷のイオンを取り込んでイオン交換を行うことで、本発明の白色硬化性樹脂組成物中に残っている塩素イオン、ナトリウムイオン等のイオン性不純物を捕捉固定するとともに、電圧を印加することでイオンとなり移動する金属イオンを捕捉固定することで、高温多湿条件下であっても、白色硬化性樹脂組成物の硬化物中におけるイオンマイグレーション現象を防止するために用いられる。このイオンマイグレーション現象が防止されることで、例えば、本発明の白色硬化性樹脂組成物をプリント配線板のソルダーレジスト膜に使用すると、ソルダーレジスト膜に起因する電極間のショートを防止できる。
(G) Inorganic ion exchanger The inorganic ion exchanger takes in ions of opposite charge and performs ion exchange, so that ionic properties such as chlorine ions and sodium ions remaining in the white curable resin composition of the present invention are obtained. Impurities are captured and fixed, and metal ions that move and become ions by applying a voltage are captured and fixed, so that the ion migration phenomenon in the cured product of the white curable resin composition can be achieved even under high temperature and high humidity conditions. Used to prevent. By preventing this ion migration phenomenon, for example, when the white curable resin composition of the present invention is used for a solder resist film of a printed wiring board, a short circuit between electrodes due to the solder resist film can be prevented.

無機イオン交換体のタイプは、特に限定されず、陰イオン交換タイプ、陽イオン交換タイプ、両イオン交換タイプ等が挙げられる。また、無機イオン交換体としては、例えば、Zr系、Sb系、Bi系、Bi‐Sb系、Mg‐Al系、Zr‐Bi系等が挙げられるが、特に限定されることなく使用できる。   The type of the inorganic ion exchanger is not particularly limited, and examples thereof include an anion exchange type, a cation exchange type, and a both ion exchange type. Examples of inorganic ion exchangers include Zr, Sb, Bi, Bi-Sb, Mg-Al, and Zr-Bi, but can be used without any particular limitation.

無機イオン交換体には、例えば、陽イオン交換体としては、東亞合成(株)製の「IXE‐100」、「IXE‐300」、陰イオン交換体としては、東亞合成(株)製の「IXE‐500」、「IXE‐530」、「IXE‐550」、「IXE‐700」、「IXE‐700F」、「IXE‐800」、両イオン交換体としては、東亞合成(株)製の「IXE‐600」、「IXE‐633」、「IXE‐6107」、「IXE‐6136」、「IXEPLUS-A1」、「IXEPLUS-A2」、「IXEPLUS-B1」等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   Inorganic ion exchangers include, for example, “IXE-100” and “IXE-300” manufactured by Toagosei Co., Ltd. as cation exchangers, and “Toyo Gosei Co., Ltd.” manufactured by Toagosei Co., Ltd. “IXE-500”, “IXE-530”, “IXE-550”, “IXE-700”, “IXE-700F”, “IXE-800”, both ion exchangers, manufactured by Toagosei Co., Ltd. IXE-600 "," IXE-633 "," IXE-6107 "," IXE-6136 "," IXEPLUS-A1 "," IXEPLUS-A2 "," IXEPLUS-B1 ", and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

無機イオン交換体は、添加量を抑制して塗工性の低下を防止する点から、カチオンの交換容量がNaイオン換算で0.2meq/g以上、アニオン交換容量がClイオン換算で0.2meq/g以上が好ましく、イオン捕捉の点からカチオンの交換容量がNaイオン換算で0.5meq/g以下、アニオン交換容量がClイオン換算で0.5meq/g以下が好ましい。また、無機イオン交換体のメジアン径(d50)は、特に限定されないが、本発明の白色硬化性樹脂組成物中における分散性の点から2.5μm以下が好ましい。   The inorganic ion exchanger has a cation exchange capacity of 0.2 meq / g or more in terms of Na ions and an anion exchange capacity of 0.2 meq in terms of Cl ions from the viewpoint of suppressing the addition amount to prevent a decrease in coatability. The ion exchange capacity is preferably 0.5 meq / g or less in terms of Na ion, and the anion exchange capacity is preferably 0.5 meq / g or less in terms of Cl ion from the viewpoint of ion trapping. The median diameter (d50) of the inorganic ion exchanger is not particularly limited, but is preferably 2.5 μm or less from the viewpoint of dispersibility in the white curable resin composition of the present invention.

無機イオン交換体の配合量は、特に限定されないが、その下限値は、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、イオンマイグレーション現象を確実に防止する点から0.1質量部が好ましく、イオンマイグレーションによる変色を防止する点から0.5質量部が特に好ましい。一方、その上限値は白色硬化性樹脂組成物の粘度の上昇を防止して、塗工性を確実に付与する点から20質量部であり、解像性の低下を防止とアンダーカット値の上昇を確実に抑制する点から10質量部が好ましい。   Although the compounding quantity of an inorganic ion exchanger is not specifically limited, The lower limit is 0.1 mass part from the point which prevents an ion migration phenomenon reliably with respect to 100 mass parts of (A) carboxyl group-containing photosensitive resin. 0.5 parts by mass is particularly preferable from the viewpoint of preventing discoloration due to ion migration. On the other hand, the upper limit is 20 parts by mass from the viewpoint of preventing the increase in the viscosity of the white curable resin composition and providing the coatability with certainty, preventing the decrease in resolution and increasing the undercut value. 10 mass parts is preferable from the point which suppresses reliably.

消泡剤には、公知のものを使用でき、例えば、シリコーン系、炭化水素系、アクリル系等を挙げることができる。添加剤には、例えば、シラン系、チタネート系、アルミナ系等のカップリング剤といった分散剤、三フッ化ホウ素−アミンコンプレックス、ジシアンジアミド(DICY)及びその誘導体、有機酸ヒドラジド、ジアミノマレオニトリル(DAMN)及びその誘導体、メラミン及びその誘導体、グアナミン及びその誘導体、アミンイミド(AI)並びにポリアミン等の潜在性硬化剤、アセチルアセナートZn及びアセチルアセナートCr等のアセチルアセトンの金属塩、エナミン、オクチル酸錫、第4級スルホニウム塩、トリフェニルホスフィン、イミダゾール、イミダゾリウム塩並びにトリエタノールアミンボレート等の硬化促進剤を挙げることができる。体質顔料は、硬化物の物理的強度を上げるためのものであり、例えば、シリカ、硫酸バリウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、タルク、マイカ等を挙げることができる。また、増粘剤には、有機ベントナイト等を挙げることができる。   A well-known thing can be used for an antifoamer, for example, a silicone type, a hydrocarbon type, an acrylic type etc. can be mentioned. Examples of additives include dispersants such as coupling agents such as silane, titanate, and alumina, boron trifluoride-amine complex, dicyandiamide (DICY) and its derivatives, organic acid hydrazide, and diaminomaleonitrile (DAMN). And its derivatives, melamine and its derivatives, guanamine and its derivatives, amine imide (AI) and latent curing agents such as polyamine, metal salts of acetylacetone such as acetylacetonate Zn and acetylacetonate Cr, enamine, tin octylate, Examples thereof include quaternary sulfonium salts, triphenylphosphine, imidazole, imidazolium salts and curing accelerators such as triethanolamine borate. The extender is for increasing the physical strength of the cured product, and examples thereof include silica, barium sulfate, alumina, aluminum hydroxide, talc, and mica. Moreover, organic bentonite etc. can be mentioned as a thickener.

上記した本発明の白色硬化性樹脂組成物の製造方法は、特定の方法に限定されないが、例えば、上記各成分を所定割合で配合後、室温にて、三本ロール、ボールミル、サンドミル等の混練手段、またはスーパーミキサー、プラネタリーミキサー等の攪拌手段により混練または混合して製造することができる。また、前記混練または混合の前に、必要に応じて、予備混練または予備混合してもよい。   The manufacturing method of the above-described white curable resin composition of the present invention is not limited to a specific method. For example, after blending each of the above components at a predetermined ratio, kneading such as a three roll, ball mill, sand mill, etc. at room temperature. It can be produced by kneading or mixing by means, or stirring means such as a super mixer or planetary mixer. Further, prior to the kneading or mixing, if necessary, preliminary kneading or premixing may be performed.

以下に、上記した本発明の白色硬化性樹脂組成物の塗工方法について説明する。まず、本発明の白色硬化性樹脂組成物をソルダーレジスト膜としてプリント配線板に塗工する場合を例にとって説明する。   Below, the coating method of the above-mentioned white curable resin composition of this invention is demonstrated. First, the case where the white curable resin composition of the present invention is applied to a printed wiring board as a solder resist film will be described as an example.

上記のようにして製造した本発明の白色硬化性樹脂組成物を、例えば銅箔をエッチングして形成した回路パターンを有するプリント配線板上に、スクリーン印刷法、ロールコータ法、バーコータ法、スプレーコータ法、カーテンフローコータ法、グラビアコータ法等を用いて所望の厚さに塗布し、白色硬化性樹脂組成物中の溶剤を揮散させるために60〜80℃程度の温度で15〜60分間程度加熱する予備乾燥を行ってタックフリーの塗膜を形成する。その後、塗布した白色硬化性樹脂組成物上に、前記回路パターンのランド以外を透光性にしたパターンを有するネガフィルムを密着させ、その上から紫外線を照射させる。そして、前記ランドに対応する非露光領域を希アルカリ水溶液で除去することにより塗膜が現像される。現像方法には、スプレー法、シャワー法等が用いられ、使用される希アルカリ水溶液としては0.5〜5%の炭酸ナトリウム水溶液が一般的であるが、他のアルカリも使用可能である。次いで、130〜170℃の熱風循環式の乾燥機等で20〜80分間ポストキュアを行うことにより塗膜を熱硬化させ、プリント配線板上に目的とする白色硬化性樹脂組成物の硬化塗膜を形成させることができる。   The white curable resin composition of the present invention produced as described above, for example, on a printed wiring board having a circuit pattern formed by etching a copper foil, screen printing method, roll coater method, bar coater method, spray coater It is applied to the desired thickness using the method, curtain flow coater method, gravure coater method, etc., and heated for about 15 to 60 minutes at a temperature of about 60 to 80 ° C. to volatilize the solvent in the white curable resin composition. Pre-drying is performed to form a tack-free coating film. Then, the negative film which has the pattern which made translucent except the land of the said circuit pattern was stuck on the apply | coated white curable resin composition, and an ultraviolet-ray is irradiated from it. Then, the coating film is developed by removing the non-exposed areas corresponding to the lands with a dilute alkaline aqueous solution. As a developing method, a spray method, a shower method, or the like is used. As a dilute alkali aqueous solution used, a 0.5 to 5% sodium carbonate aqueous solution is generally used, but other alkalis can also be used. Next, the coating film is thermally cured by performing post-cure for 20 to 80 minutes with a hot-air circulating dryer or the like at 130 to 170 ° C., and a cured coating film of the desired white curable resin composition on the printed wiring board. Can be formed.

このようにして得られた硬化塗膜にて被覆されたプリント配線板に、噴流はんだ付け方法、リフローはんだ付け方法等により電子部品がはんだ付けされることで、電子回路ユニットが形成される。   An electronic circuit unit is formed by soldering an electronic component to the printed wiring board coated with the cured coating film thus obtained by a jet soldering method, a reflow soldering method, or the like.

次に、上記した白色硬化性樹脂組成物をシート状のベースフィルム表面に塗工して、反射シートを製造する方法例について説明する。シート状ベースフィルム表面を例えば酸処理して洗浄後、該洗浄した表面に、上記のようにして製造した白色硬化性樹脂組成物を所定の塗工手段にて所望の厚さ(例えば5〜100μmの厚さ)に塗布する。塗工後、60〜80℃程度の温度で15〜60分間程度加熱する予備乾燥を行ってタックフリーの塗膜を形成する。次いで、130〜170℃程度の温度で10〜80分間ポストキュアを行うことにより、シート状のベースフィルム表面に目的とする白色の硬化塗膜、すなわち反射皮膜を形成させて白色の反射シートを製造できる。   Next, an example of a method for producing a reflective sheet by coating the above-described white curable resin composition on the surface of a sheet-like base film will be described. After the surface of the sheet-like base film is washed by acid treatment, for example, the white curable resin composition produced as described above is applied to the washed surface with a desired thickness (for example, 5 to 100 μm) by a predetermined coating means. (Thickness). After coating, preliminary drying is performed at a temperature of about 60 to 80 ° C. for about 15 to 60 minutes to form a tack-free coating film. Next, by performing post cure at a temperature of about 130 to 170 ° C. for 10 to 80 minutes, a desired white cured coating film, that is, a reflective coating film is formed on the surface of the sheet-like base film to produce a white reflective sheet. it can.

上記シート状ベースフィルムの材料は、特に限定されないが、例えば、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリビニルフロライド(PVF)、フッ化エチレン・プロピレンコポリマー(FEP)、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)、アラミド、ポリアミド・イミド、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエチレンナフタレート(PEN)、液晶ポリマー(LCP)等を挙げることができる。   The material of the sheet-like base film is not particularly limited. For example, polyimide, polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl fluoride (PVF), fluorinated ethylene / propylene copolymer (FEP), polytetrafluoroethylene (PTFE), aramid , Polyamide / imide, epoxy, polyetherimide, polysulfone, polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystal polymer (LCP), and the like.

塗工手段としては、現在、印刷マスクを用いたスクリーン印刷法による印刷が一般に多く用いられるが、これを含めて均一に塗工できる塗工手段であれば、特に限定されない。スクリーン印刷法以外の塗工手段には、例えば、スプレーコータ、ホンメルトコータ、バーコータ、アプリケータ、ブレードコータ、ナイフコータ、エアナイフコータ、カーテンフローコータ、ロールコータ、グラビアコータ、オフセット印刷、ディップコータ、刷毛塗り等を挙げることができる。   As the coating means, printing by a screen printing method using a printing mask is generally used at present, but there is no particular limitation as long as it is a coating means that can be applied uniformly including this. Examples of coating means other than the screen printing method include spray coater, honmelt coater, bar coater, applicator, blade coater, knife coater, air knife coater, curtain flow coater, roll coater, gravure coater, offset printing, dip coater, brush A paint etc. can be mentioned.

以下に、上記反射シートの使用方法例について説明する。反射シートは、例えば、太陽電池モジュールの裏面側、すなわち日射を受ける表面とは反対側の表面上に配置してバックシートとして使用できる。反射シートをバックシートとして使用すると、太陽電池モジュールの発電素子に受光されずに太陽電池モジュール内を透過した太陽光が、反射シートの反射皮膜により反射されて太陽電池モジュールの裏面側から再度太陽電池モジュール内部に戻されるので、太陽電池モジュールの発電効率が向上する。なお、太陽電池モジュール裏面への反射シートの設置方法には、例えば、接着剤や接着用テープを用いて太陽電池モジュール裏面に直接貼り合わせる方法が挙げられる。   Below, the usage example of the said reflection sheet is demonstrated. For example, the reflection sheet can be used as a back sheet by being disposed on the back surface side of the solar cell module, that is, on the surface opposite to the surface receiving solar radiation. When the reflective sheet is used as a back sheet, the sunlight transmitted through the solar cell module without being received by the power generation element of the solar cell module is reflected by the reflective film of the reflective sheet, and again from the back side of the solar cell module. Since it is returned to the inside of the module, the power generation efficiency of the solar cell module is improved. In addition, the installation method of the reflective sheet to a solar cell module back surface includes the method of sticking directly on a solar cell module back surface using an adhesive agent or an adhesive tape, for example.

反射シートを、太陽電池モジュールのバックシートに使用する場合、ベースフィルムには、例えば、厚さ40μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる。また、硬化後の膜厚が所定値(例えば20〜23μm)となるように白色硬化性樹脂組成物を塗工する。さらに、白色硬化性樹脂組成物の塗工部位は、太陽電池モジュール裏面に対向したベースフィルム表面の全面または略全面について行なうのが好ましい。   When the reflective sheet is used for a back sheet of a solar cell module, for example, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 40 μm is used as the base film. Moreover, a white curable resin composition is applied so that the film thickness after hardening may become a predetermined value (for example, 20-23 micrometers). Furthermore, it is preferable that the white curable resin composition is applied on the entire surface or substantially the entire surface of the base film facing the back surface of the solar cell module.

本発明の白色硬化性樹脂組成物は、上記用途の他に、適宜の塗工方法にて、街灯用バックライト、LEDのバックシート表面等にも利用可能である。   The white curable resin composition of the present invention can be used for streetlight backlights, LED backsheet surfaces, and the like by an appropriate coating method in addition to the above applications.

次に、本発明の実施例を説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、これらの例に限定されるものではない。   Next, examples of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to these examples as long as the gist thereof is not exceeded.

実施例1〜15、比較例1〜4
下記表1に示す各成分を下記表1に示す配合割合にて配合し、攪拌機にて予備混合した後、3本ロールを用いて室温にて混合分散させて、実施例1〜15、比較例1〜4にて使用する白色硬化性樹脂組成物を調製した。そして、調製した白色硬化性樹脂組成物を後述する試験片作製工程を用いて基板上に塗工し、試験片を作成した。なお、下記表1に示す各成分の配合量は、特に断りの無い限り質量部を示す。
Examples 1-15, Comparative Examples 1-4
Each component shown in the following Table 1 is blended at the blending ratio shown in the following Table 1, and after preliminary mixing with a stirrer, the mixture is mixed and dispersed at room temperature using three rolls. Examples 1 to 15 and Comparative Examples The white curable resin composition used in 1-4 was prepared. And the prepared white curable resin composition was apply | coated on the board | substrate using the test piece preparation process mentioned later, and the test piece was created. In addition, unless otherwise indicated, the compounding quantity of each component shown in following Table 1 shows a mass part.

表1中の各成分についての詳細は以下の通りである。
(A)カルボキシル基含有感光性樹脂
・サイクロマーP(ACA)Z−300:ダイセル化学工業(株)製、アクリル共重合構造の樹脂を使用したカルボキシル基含有樹脂。
(B)光重合開始剤
・イルガキュア819:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、ビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)‐フェニルフォスフィンオキサイド。
・DAROCURE TPO:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド。
(C)希釈剤
・アロニックスM245:東亜合成(株)製、ポリエチレングリコールジアクリレート。
・EDGAC:三洋化成(株)製、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート。
(D)エポキシ化合物
・YX‐4000:ジャパンエポキシレジン(株)製、ビキシレノール型エポキシ樹脂。
(E)酸化チタン
・CR‐93:石原産業(株)製、ルチル型酸化チタン。
・タイペークA100:石原産業(株)製、アナターゼ型酸化チタン。
(F)スレン系青色着色剤
・LIONOGEN BLUE6510:東洋インキ製造(株)製。
(G)無機イオン交換体
・IXE‐100:東亞合成(株)製、Zr系の陽イオン交換体、メジアン径1.0μm。
・IXE‐700F:東亞合成(株)製、Mg‐Al系の陰イオン交換体、メジアン径1.5μm。
・IXE‐6107:東亞合成(株)製、Zr‐Bi系の両イオン交換体、メジアン径1.5μm。
・IXE‐6136:東亞合成(株)製、Zr‐Bi系の両イオン交換体、メジアン径2.1μm。
その他、KS−66は信越化学工業(株)製のシリコーン系消泡剤である。添加剤であるR−974は日本アエロジル(株)製のチキソ性付与剤、DICY‐7はジャパンエポキシレジン(株)製の潜在性硬化剤、メラミンも潜在性硬化剤である。LIONOL BLUE7350は東洋インキ製造(株)製のフタロシアニン系青色着色剤である。
Details of each component in Table 1 are as follows.
(A) Carboxyl group-containing photosensitive resin / cyclomer P (ACA) Z-300: A carboxyl group-containing resin using a resin having an acrylic copolymer structure, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
(B) Photopolymerization initiator Irgacure 819: Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide manufactured by Ciba Specialty Chemicals.
DAROCURE TPO: Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
(C) Diluent Aronix M245: manufactured by Toagosei Co., Ltd., polyethylene glycol diacrylate.
-EDGAC: Sanyo Chemical Co., Ltd. diethylene glycol monoethyl ether acetate.
(D) Epoxy compound / YX-4000: Boxylenol type epoxy resin manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.
(E) Titanium oxide CR-93: manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., rutile titanium oxide.
-Taipei A100: manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., anatase type titanium oxide.
(F) Selenium blue colorant LIONOGEN BLUE6510: manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.
(G) Inorganic ion exchanger IXE-100: manufactured by Toagosei Co., Ltd., Zr-based cation exchanger, median diameter 1.0 μm.
IXE-700F: manufactured by Toagosei Co., Ltd., Mg-Al anion exchanger, median diameter 1.5 μm.
IXE-6107: manufactured by Toagosei Co., Ltd., Zr-Bi-based amphoteric ion exchanger, median diameter 1.5 μm.
IXE-6136: manufactured by Toagosei Co., Ltd., Zr-Bi-based ion exchanger, median diameter 2.1 μm.
In addition, KS-66 is a silicone-based antifoaming agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. The additive R-974 is a thixotropy imparting agent manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., DICY-7 is a latent curing agent manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., and melamine is also a latent curing agent. LIONOL BLUE 7350 is a phthalocyanine blue colorant manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.

試験片作製工程
導体パターンを形成したガラスエポキシ基板(パナソニック電工(株)製、両面銅張積層板R-1766、板厚1.6mmt、導体厚50μm)を、バフ研磨により表面処理した後、スクリーン印刷法にて、実施例1〜15及び比較例1〜4の白色硬化性樹脂組成物をそれぞれ塗布後、BOX炉にて80℃で20分(BOX炉内25分)の予備乾燥を行った。予備乾燥後、塗膜上に露光装置(オーク社製HMW−680GW)にて500mJ/cm2の露光を1分間行なった後、30℃、1%の炭酸ナトリウム水溶液にて現像した。現像後、BOX炉にて150℃で60分(BOX炉内70分)のポストキュアを行ってガラスエポキシ基板上に白色硬化性樹脂組成物の硬化塗膜を形成し、試験片を作成した。硬化塗膜の厚みは20〜23μmであった。
Test piece preparation process A glass epoxy substrate (made by Panasonic Electric Works Co., Ltd., double-sided copper-clad laminate R-1766, plate thickness 1.6 mmt, conductor thickness 50 μm) on which a conductive pattern was formed was surface-treated by buffing, and then screened After applying each of the white curable resin compositions of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 4 by a printing method, preliminary drying was performed in a BOX furnace at 80 ° C. for 20 minutes (25 minutes in the BOX furnace). . After preliminary drying, the coating film was exposed to 500 mJ / cm 2 with an exposure apparatus (OMW HMW-680GW) for 1 minute and then developed with a 1% aqueous sodium carbonate solution at 30 ° C. After the development, a post-cure was performed at 150 ° C. for 60 minutes (70 minutes in the BOX furnace) in a BOX furnace to form a cured coating film of a white curable resin composition on a glass epoxy substrate, thereby preparing a test piece. The thickness of the cured coating film was 20 to 23 μm.

評価
(1)導体パターンに対する隠蔽力
無電解金メッキ処理後、リフロー処理を行ってから、プレシャークッカー処理を行い、銅箔である導体パターンに対する白色塗膜の隠蔽力を目視により観察した。評価は、以下の基準に従って行なった。
◎:導体パターン上と基材上の色調に差異なし。
○:導体パターンのエッジ部に若干黄変あり。
△:導体パターン上に若干黄変あり。
×:導体パターン上に黄変あり。
なお、無電解金メッキ処理は、試験片を、無電解ニッケルめっき液(商品名「メルプレートNI−865T」、メルテックス社製)の入った85℃のめっき槽に15分間浸漬し、続いて、無電解金めっき液(商品名「メルプレートAU−601」、メルテックス社製)の入った90℃のめっき槽に10分間浸漬して行った。リフロー処理は、プリヒート温度60〜120℃、昇温速度1℃/秒、ピーク温度230℃、30秒にて行なった。プレッシャークッカー処理は、121℃、100%RH、72時間の条件にて行なった。
Evaluation (1) Concealing power for conductor pattern After the electroless gold plating treatment, the reflow treatment was performed, and then the pre-shear cooker treatment was performed, and the concealing power of the white coating film for the conductor pattern, which was a copper foil, was visually observed. Evaluation was performed according to the following criteria.
(Double-circle): There is no difference in the color tone on a conductor pattern and a base material.
○: Slightly yellowed at the edge of the conductor pattern.
Δ: Some yellowing on the conductor pattern.
X: Yellowing occurred on the conductor pattern.
In the electroless gold plating treatment, the test piece is immersed in an 85 ° C. plating bath containing an electroless nickel plating solution (trade name “Melplate NI-865T”, manufactured by Meltex) for 15 minutes, It was immersed in a 90 ° C. plating tank containing an electroless gold plating solution (trade name “Melplate AU-601”, manufactured by Meltex) for 10 minutes. The reflow treatment was performed at a preheat temperature of 60 to 120 ° C., a temperature increase rate of 1 ° C./second, a peak temperature of 230 ° C., and 30 seconds. The pressure cooker treatment was performed under the conditions of 121 ° C., 100% RH, 72 hours.

(2)色調
無電解金メッキ処理後、リフロー処理を行ってから、プレシャークッカー処理を行った試験片について、ガラスエポキシ基板の導体パターン上及びガラスエポキシ基板の基材上の明度(L*値)とクロマネティクス指数(a*値、b*値)を色差計SE2000(日本電色工業(株))にて測定した。
(3)反射率(%)
初期:ポストキュア後の試験片について、分光光度計U‐3410((株)日立製作所製:φ60mm積分球)にて、450nmおける反射率を測定した。
照射後:耐光性を評価するものであり、ポストキュア後の試験片について50J/cm2のUV照射(300〜450nmのUV、2分間)を行なった後、分光光度計U‐3410((株)日立製作所製:φ60mm積分球)にて、450nmおける試験片の反射率を測定した。
加熱後:耐熱性を評価するものであり、ポストキュア後の試験片について170℃で50時間加熱を行なった後、分光光度計U‐3410((株)日立製作所製:φ60mm積分球)にて、450nmおける試験片の反射率を測定した。
(4)解像性
所定のフォトマスク(ライン幅30〜130μm)を介して形成した露光部の残存ラインと抜けたスペースを目視にて確認、評価した。
(5)アンダーカット
幅100μmのフォトマスクを用いて硬化塗膜のラインを形成した上記ガラスエポキシ基板を切断して切断面からライン観察し、ラインの表面側の幅(x)と底部側(深部側)の幅(y)を測定し、(x−y)/2からアンダーカット値を評価した。
(2) Color tone After the electroless gold plating treatment, after the reflow treatment, the test piece subjected to the pre-shear cooker, the lightness (L * value) on the conductive pattern of the glass epoxy substrate and the base material of the glass epoxy substrate The chromatic index (a * value, b * value) was measured with a color difference meter SE2000 (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
(3) Reflectance (%)
Initial: With respect to the test piece after post-cure, the reflectance at 450 nm was measured with a spectrophotometer U-3410 (manufactured by Hitachi, Ltd .: φ60 mm integrating sphere).
After irradiation: Light resistance is evaluated. After the post-curing test piece, 50 J / cm 2 of UV irradiation (300 to 450 nm UV, 2 minutes) is applied, and then a spectrophotometer U-3410 ) The reflectance of the test piece at 450 nm was measured with Hitachi Ltd. (φ60 mm integrating sphere).
After heating: heat resistance is evaluated. After the post-cure test piece is heated at 170 ° C. for 50 hours, the spectrophotometer U-3410 (manufactured by Hitachi, Ltd .: φ60 mm integrating sphere) is used. The reflectance of the test piece at 450 nm was measured.
(4) Resolution The remaining line and the missing space of the exposed portion formed through a predetermined photomask (line width 30 to 130 μm) were visually confirmed and evaluated.
(5) Undercut Using a photomask with a width of 100 μm, cut the glass epoxy substrate on which the cured coating line was formed, and observed the line from the cut surface. The width (x) on the surface side of the line and the bottom side (deep part) Side) width (y) was measured, and the undercut value was evaluated from (xy) / 2.

(6)イオンマイグレーション
導体パターンを形成したガラスエポキシ基板に代えて、IPC−TM−650のIPC−SM840B B−25テストクーポンのくし形電極に、上記と同様の方法で塗工して硬化塗膜を形成し、印荷電圧DC50V、85℃、85%R.H.で1000時間加湿した後のくし型パターンを光学顕微鏡(×100)にて観察し、以下の基準に従って評価した。
○:イオンマイグレーションの発生なし。
△:若干、イオンマイグレーション発生するが、くし型電極間でのショートなし。
×:マイグレーション発生により、くし型電極間でショート。
(6) Ion migration Instead of the glass epoxy substrate on which the conductor pattern is formed, the cured coating film is applied to the IPC-TM-650 IPC-SM840B B-25 test coupon comb electrode in the same manner as described above. And an imprint voltage of DC 50 V, 85 ° C., 85% R.D. H. The comb pattern after being humidified for 1000 hours was observed with an optical microscope (× 100) and evaluated according to the following criteria.
○: No ion migration occurred.
Δ: Some ion migration occurs, but no short circuit occurs between the comb electrodes.
×: Short-circuited between comb-type electrodes due to migration.

実施例1〜15、比較例1〜4について、導体パターンに対する隠蔽力、色調、反射率、解像性、アンダーカット、イオンマイグレーションの結果を下記表2に示す。   For Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 4, the results of hiding power, color tone, reflectance, resolution, undercut and ion migration for the conductor pattern are shown in Table 2 below.

表2より、スレン系青色着色剤を配合した実施例は、青色着色剤を配合しなかった比較例1及びフタロシアニン系青色着色剤を配合した比較例2〜4と比較して、ガラスエポキシ基板の導体パターン上における硬化塗膜の黄変が抑えられた。また、実施例1〜7は、ガラスエポキシ基板の導体パターン上のクロマネティクス指数(a*値、b*値)とガラスエポキシ基板の基材上のクロマネティクス指数(a*値、b*値)との差が比較例1〜4より小さい(実施例では、a*値の前記差は最大0.2、b*値の前記差は最大0.3であるのに対し、比較例では、a*値の前記差は最小0.4、b*値の前記差は最小0.4)ので、実施例では、導体パターン上と基材上との色調の差異が低減した。従って、各実施例は、導体パターンに対する隠蔽力に優れていた。   From Table 2, the Example which mix | blended the slen system blue colorant was compared with the comparative example 2-4 which mix | blended the comparative example 1 which did not mix | blend the blue colorant, and the phthalocyanine system blue colorant. Yellowing of the cured coating film on the conductor pattern was suppressed. In Examples 1 to 7, the chromaticity index (a * value, b * value) on the conductive pattern of the glass epoxy substrate and the chrominetic index (a * value, b * value) on the base material of the glass epoxy substrate. Is smaller than Comparative Examples 1 to 4 (in the example, the difference in the a * value is 0.2 at the maximum and the difference in the b * value is 0.3 at the maximum, whereas in the comparative example, the difference is a Since the difference in the * value is 0.4 at the minimum and the difference in the b * value is the minimum 0.4), in the examples, the difference in color tone between the conductor pattern and the substrate was reduced. Therefore, each Example was excellent in hiding power with respect to the conductor pattern.

特に、実施例1〜5と実施例6、7より、スレン系青色着色剤を酸化チタン100質量部に対して0.0036〜0.0375質量部の範囲で配合することにより、導体パターンに対する隠蔽力がさらに向上した。また、実施例1〜5では、a*値が−2.5〜−0.5、かつb*値が−6.0〜−2.5となって、硬化塗膜の白色の色具合がさらにはっきりした。   In particular, from Examples 1 to 5 and Examples 6 and 7, the selenium blue colorant is blended in the range of 0.0036 to 0.0375 parts by mass with respect to 100 parts by mass of titanium oxide, thereby concealing the conductor pattern. Power improved further. In Examples 1 to 5, the a * value was −2.5 to −0.5, and the b * value was −6.0 to −2.5, so that the white color of the cured coating film was It was even clearer.

スレン系青色着色剤を配合した実施例は、青色着色剤を配合しなかった比較例1及びフタロシアニン系青色着色剤を配合した比較例2〜4と同等程度またはそれ以上の反射率、解像性及びアンダーカット値が得られた。特に、実施例1〜3と比較例2〜4から、スレン系青色着色剤を配合した硬化塗膜は、フタロシアニン系青色着色剤を配合した硬化塗膜と比較して、解像性に優れ、またアンダーカット値が小さく寸法精度が良好であった。   The example which mix | blended the slen type | system | group blue colorant is a comparative example 1 which did not mix | blend a blue colorant, and the comparative examples 2-4 which mix | blended the phthalocyanine type | system | group blue colorant, or the reflectance and resolution beyond it. And undercut values were obtained. In particular, from Examples 1 to 3 and Comparative Examples 2 to 4, a cured coating film containing a selenium blue colorant is superior in resolution compared to a cured coating film containing a phthalocyanine blue colorant, The undercut value was small and the dimensional accuracy was good.

また、実施例8〜14より、さらに無機イオン交換体を配合すると、反射率、解像性、寸法精度、色調(明度とクロマネティクス指数)及び隠蔽力を損なうことなく、白色硬化性樹脂組成物のイオンマイグレーションの発生を確実に防止した。従って、無機イオン交換体の配合により、硬化塗膜による電極間のショートを確実に抑制できることが判明した。また、実施例8〜12、14より、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、無機イオン交換体を0.1〜2.0質量部の範囲で配合すると、解像性の低下とアンダーカット値の上昇を確実に抑えることができた。さらに、実施例15より、ルチル型酸化チタンに代えて、アナターゼ型酸化チタンを用いても、同様に、無機イオン交換体を配合すると、反射率、解像性、寸法精度、色調及び隠蔽力を損なうことなく、白色硬化性樹脂組成物のイオンマイグレーションの発生を確実に防止した。   In addition, when an inorganic ion exchanger is further blended from Examples 8 to 14, a white curable resin composition is obtained without impairing the reflectance, resolution, dimensional accuracy, color tone (brightness and chromaticness index) and hiding power. The occurrence of ion migration was reliably prevented. Therefore, it has been found that the short circuit between the electrodes due to the cured coating film can be surely suppressed by blending the inorganic ion exchanger. From Examples 8 to 12 and 14, when the inorganic ion exchanger is blended in the range of 0.1 to 2.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing photosensitive resin, the resolution decreases. The increase in the undercut value was reliably suppressed. Further, from Example 15, even when anatase type titanium oxide is used instead of rutile type titanium oxide, similarly, when an inorganic ion exchanger is blended, reflectance, resolution, dimensional accuracy, color tone and hiding power are improved. Without impairing, the occurrence of ion migration of the white curable resin composition was reliably prevented.

本発明の白色硬化性樹脂組成物は、反射率、解像性及び寸法精度を損なうことなく、隠蔽力に優れ、熱履歴による変色を抑えた硬化物が得られるので、例えば、プリント配線板のソルダーレジスト膜、太陽電池モジュールのバックシートなどの反射シート、等の分野で利用価値が高い。   The white curable resin composition of the present invention provides a cured product that has excellent hiding power and suppresses discoloration due to thermal history without impairing reflectivity, resolution, and dimensional accuracy. The utility value is high in fields such as a solder resist film and a reflective sheet such as a back sheet of a solar cell module.

Claims (7)

(A)カルボキシル基含有感光性樹脂と、(B)光重合開始剤と、(C)希釈剤と、(D)エポキシ化合物と、(E)酸化チタンと、(F)スレン系青色着色剤とを含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物。   (A) a carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent, (D) an epoxy compound, (E) titanium oxide, and (F) a selenium blue colorant A white curable resin composition comprising: 前記(E)酸化チタン100質量部に対し、前記(F)スレン系青色着色剤が0.003〜0.055質量部含有することを特徴とする請求項1に記載の白色硬化性樹脂組成物。   The white curable resin composition according to claim 1, wherein 0.003 to 0.055 parts by mass of the (F) selenium blue colorant is contained with respect to 100 parts by mass of the (E) titanium oxide. . 前記(A)カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対し、前記(E)酸化チタンが、40〜300質量部含有することを特徴とする請求項1または2に記載の白色硬化性樹脂組成物。   The white curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein the (E) titanium oxide is contained in an amount of 40 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) carboxyl group-containing photosensitive resin. . さらに、(G)無機イオン交換体を含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の白色硬化性樹脂組成物。   Furthermore, (G) inorganic ion exchanger is contained, The white curable resin composition of any one of Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の白色硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物を有することを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising a cured product obtained by curing the white curable resin composition according to any one of claims 1 to 4. 前記硬化物が、膜厚20μmにおいて、L*値が70以上、a*値が−2.5〜−0.5、b*値が−6.0〜−2.5であることを特徴とする請求項5に記載のプリント配線板。   The cured product has an L * value of 70 or more, an a * value of −2.5 to −0.5, and a b * value of −6.0 to −2.5 at a film thickness of 20 μm. The printed wiring board according to claim 5. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の白色硬化性樹脂組成物を硬化して得られた皮膜を有することを特徴とする反射シート。   A reflective sheet comprising a film obtained by curing the white curable resin composition according to claim 1.
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