JP2011133670A - White solder resist composition for spray painting - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: a white resist composition for spray painting which is excellent in edge covering property while reducing environmental load and prevents sagging, orange peel phenomenon and yellowing due to heat history, and to provide a printed wiring board on which the white resist composition for spray painting is sprayed and painted. <P>SOLUTION: The white resist composition for spray painting contains: (A) a carboxyl group-containing photosensitive resin; (B) silicon dioxide powder and/or metal oxide powder produced by a thermal decomposition; (C) a photopolymerization initiator; (D) a diluent; (E) an epoxy compound; (F) a titanium oxide; and (G) a solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、永久マスクとして使用可能なソルダーレジストや各種レジストなどに適したスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物、及びこれを塗装したプリント配線板に関するものである。   The present invention relates to a white solder resist composition for spray coating suitable for a solder resist and various resists that can be used as a permanent mask, and a printed wiring board coated with the same.

プリント配線板は、基板の上に導体回路のパターンを形成し、そのパターンのはんだ付けランドに電子部品をはんだ付けにより搭載するために使用され、そのはんだ付けランドを除く回路部分は永久保護皮膜としてのソルダーレジスト膜で被覆される。これにより、プリント配線板に電子部品をはんだ付けする際に、はんだが不必要な部分に付着するのを防止すると共に、回路導体が空気に直接曝されて酸化や湿度により腐食されるのを防止する。   A printed wiring board is used to form a pattern of a conductor circuit on a substrate and to mount electronic components on the soldering land of the pattern by soldering, and the circuit portion excluding the soldering land is used as a permanent protective film. It is covered with a solder resist film. This prevents solder from adhering to unnecessary parts when soldering electronic components to a printed wiring board, and prevents circuit conductors from being directly exposed to air and being corroded by oxidation or humidity. To do.

また、プリント配線板は発光ダイオード素子(LED)等の実装用基板としても使用されるようになり、実装面に形成されるソルダーレジスト膜には、光源からの光の反射率を向上させる機能が求められている。このような新たな用途に対応して、例えば、特許文献1に高反射率のソルダーレジスト膜を形成できるソルダーレジスト組成物が、特許文献2に反射率の低下が少ないソルダーレジスト膜を形成できるソルダーレジスト組成物が開示されている。   In addition, printed wiring boards are also used as mounting substrates for light emitting diode elements (LEDs) and the like, and the solder resist film formed on the mounting surface has a function of improving the reflectance of light from the light source. It has been demanded. Corresponding to such a new application, for example, a solder resist composition capable of forming a solder resist film having a high reflectance in Patent Document 1 is a solder that can form a solder resist film having a small decrease in reflectance in Patent Document 2. A resist composition is disclosed.

さらに、近年、プリント配線基板の配線密度の向上(細密化)の要求にともないソルダーレジスト組成物も高解像性、高精度化が要求され、民生用基板、産業用基板を問わずスクリーン印刷法から、位置精度、導体エッジ部の被覆性に優れる液状フォトソルダーレジスト法(写真現像法)が提案されている。これらのソルダーレジスト組成物は、プリント配線板上に感光性樹脂組成物である液状組成物を静電スプレー塗装機にて全面塗布し、溶媒を揮発させた後、露光して未露光部分を有機溶剤を用いて除去し、現像するものである。   Furthermore, in recent years, solder resist compositions have been required to have high resolution and high precision in response to the demand for improvement in the wiring density (densification) of printed wiring boards, and screen printing methods are applicable to both consumer and industrial boards. Therefore, a liquid photo solder resist method (photographic development method) is proposed which is excellent in positional accuracy and conductor edge coverage. These solder resist compositions are prepared by applying a liquid composition, which is a photosensitive resin composition, onto a printed wiring board using an electrostatic spray coating machine, volatilizing the solvent, and then exposing the unexposed portions to organic. It is removed using a solvent and developed.

静電スプレー塗装機にてプリント配線板に液状のソルダーレジスト組成物を塗布する場合、ソルダーレジスト組成物の溶剤含有量が多いと、ソルダーレジスト組成物の粘度が低下し、ダレ性やカバーリング性が悪くなり、スプレー塗布時の排気中の溶剤量が増加するので、環境に負荷がかかってしまう。一方で、ソルダーレジスト組成物中の溶剤含有量を少なくすると、「ユズ肌」など、ソルダーレジスト膜の仕上がり外観が悪くなってしまう。   When applying a liquid solder resist composition to a printed wiring board with an electrostatic spray coater, if the solder resist composition has a high solvent content, the viscosity of the solder resist composition will decrease, and sagging and covering properties will be reduced. As a result, the amount of solvent in the exhaust gas during spray application increases, which places a burden on the environment. On the other hand, when the content of the solvent in the solder resist composition is reduced, the finished appearance of the solder resist film such as “skin skin” is deteriorated.

そこで、特許文献3には、ソルダーレジスト膜のダレ性やエッジカバーリング性を向上させ、さらにユズ肌などの塗装外観の劣化を防止して塗装外観の良い塗膜を形成できるように、塗装時のソルダーレジスト組成物の温度を40℃以上60℃以下、見掛け粘度を30秒以上、100秒以下とする塗装方法が提案されている。しかし、特許文献3に記載の方法でも、ソルダーレジスト組成物中の溶剤含有量は35〜40質量%必要であり、環境負荷が大きいという問題がある。さらに、従来、目的とする粘度特性、チキソ性を出すために、水添ヒマシ油、脂肪酸アマイド、ポリカルボン酸塩、例えばビックケミー・ジャパン(株)製のAnti-Terra-U、Anti-Terra-203、Anti-Terra-204、ポリカルボン酸アマイド溶液、例えばビックケミー・ジャパン(株)製のBYK-405、変性ウレア、例えばビックケミー・ジャパン(株)製のBYK-410、BYK-411、BYK-420、BYK-425等、様々な材料が用いられていたが、いずれも熱履歴により黄変しやすく、白色ソルダーレジスト組成物の配合物として好ましくないという問題がある。   Therefore, Patent Document 3 discloses that a coating film having a good coating appearance can be formed by improving the sagging property and edge covering property of the solder resist film, and further preventing the deterioration of the coating appearance such as the yuzu skin. A coating method has been proposed in which the temperature of the solder resist composition is 40 ° C. or more and 60 ° C. or less and the apparent viscosity is 30 seconds or more and 100 seconds or less. However, even the method described in Patent Document 3 requires a solvent content in the solder resist composition of 35 to 40% by mass, which causes a problem that the environmental load is large. Furthermore, conventionally, in order to bring out desired viscosity characteristics and thixotropy, hydrogenated castor oil, fatty acid amide, polycarboxylates, such as Anti-Terra-U and Anti-Terra-203 manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. Anti-Terra-204, polycarboxylic acid amide solution, such as BYK-405 manufactured by Big Chemie Japan, modified urea, such as BYK-410, BYK-411, BYK-420 manufactured by Big Chemie Japan, Various materials such as BYK-425 have been used, but all have a problem that they tend to turn yellow due to thermal history and are not preferable as a composition for a white solder resist composition.

特開2007−322546号公報JP 2007-322546 A 特開2008−211036号公報JP 2008-211036 A 特開2006−351605号公報JP 2006-351605 A

本発明は、上記事情に鑑み、環境負荷を低減させつつ、エッジカバーリング性に優れ、ダレ性、ユズ肌、熱履歴による黄変を抑えることができるスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物及びこのスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物をスプレー塗装したプリント配線板を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, the present invention provides a white solder resist composition for spray coating, which is excellent in edge covering property and can suppress yellowing due to sagging property, wound skin, and thermal history while reducing the environmental load, and the spray. It aims at providing the printed wiring board which spray-coated the white soldering resist composition for coating.

本発明の第1の態様は、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂、(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末、(C)光重合開始剤、(D)希釈剤、(E)エポキシ化合物、(F)酸化チタン及び(G)溶剤を含有することを特徴とするスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物である。本発明では、白色ソルダーレジスト組成物の粘度及びチキソ性(チキソ比)の調整に、(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末を用いることで、黄変の防止と溶剤の含有量を低減させることによる環境負荷の抑制を行ないつつ、スプレー塗装に適した粘度特性を有する白色ソルダーレジスト組成物を提供するものである。   The first aspect of the present invention includes (A) a carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by a thermal decomposition method, (C) a photopolymerization initiator, (D It is a white solder resist composition for spray coating, which contains a) a diluent, (E) an epoxy compound, (F) titanium oxide, and (G) a solvent. In the present invention, by adjusting the viscosity and thixotropy (thixo ratio) of the white solder resist composition, (B) the silicon dioxide powder and / or the metal oxide powder produced by the thermal decomposition method is used. The present invention provides a white solder resist composition having viscosity characteristics suitable for spray coating, while preventing environmental load by preventing and reducing the solvent content.

本発明の第2の態様は、前記(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末が、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、2〜20質量部含有することを特徴とするスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物である。   In the second aspect of the present invention, the silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by the thermal decomposition method (B) is 2 to 100 parts by weight of (A) carboxyl group-containing photosensitive resin. It is a white solder resist composition for spray coating characterized by containing 20 mass parts.

本発明の第3の態様は、前記(G)溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルを含有することを特徴とするスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物である。   A third aspect of the present invention is the white solder resist composition for spray coating, wherein the solvent (G) contains propylene glycol monomethyl ether.

本発明の第4の態様は、チキソ比が、1.4〜2.2であることを特徴とするスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物であり、本発明の第5の態様は、粘度が、1〜50dPa・sであることを特徴とするスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物である。なお、「チキソ比」とは、ソルダーレジスト組成物の温度25℃の条件下、粘度計による回転数が5rpmと50rpmの粘度の比(η5/η50)を意味する。   The fourth aspect of the present invention is a white solder resist composition for spray coating, wherein the thixo ratio is 1.4 to 2.2, and the fifth aspect of the present invention has a viscosity of A white solder resist composition for spray coating, which is 1 to 50 dPa · s. The “thixo ratio” means the ratio (η5 / η50) of the viscosity at a rotation speed of 5 rpm and 50 rpm measured by a viscometer under the condition that the temperature of the solder resist composition is 25 ° C.

本発明の第6の態様は、前記スプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物をスプレー塗装したことを特徴とするプリント配線板である。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board in which the white solder resist composition for spray coating is spray-coated.

本発明の第1の態様によれば、粘度及びチキソ比の調整に、(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末を用いるので、エッジカバーリング性に優れ、ダレ性、ユズ肌、フィルム張り付き性及び熱履歴による黄変が抑制されたソルダーレジスト膜を形成できる。また、(G)溶剤の含有量を低減させて環境負荷を抑えることができる。さらに、スプレー塗装に適した粘度が得られるので、生産効率が向上する。   According to the first aspect of the present invention, since the silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by the thermal decomposition method (B) is used for adjusting the viscosity and the thixo ratio, the edge covering property is excellent. It is possible to form a solder resist film in which sagging property, crushed skin, film adhesion, and yellowing due to thermal history are suppressed. In addition, the environmental load can be suppressed by reducing the content of the solvent (G). Furthermore, since a viscosity suitable for spray coating can be obtained, production efficiency is improved.

本発明の第2の態様によれば、(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末が、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、2〜20質量部含有することで、スプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物として、より適した粘度、チキソ比を得ることができる。   According to the second aspect of the present invention, (B) the silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by the thermal decomposition method is 2 parts per 100 parts by mass of (A) the carboxyl group-containing photosensitive resin. By containing -20 mass parts, more suitable viscosity and thixo ratio can be obtained as a white solder resist composition for spray coating.

本発明の第3の態様によれば、(G)溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルを含有することにより、ダレ性、フィルム張り付き性をより抑えることができる。   According to the third aspect of the present invention, when the solvent (G) contains propylene glycol monomethyl ether, sagging properties and film sticking properties can be further suppressed.

本発明の第4、5の態様によれば、熱履歴による黄変を抑えつつ、エッジカバーリング性、低ダレ性、低ユズ肌性、低フィルム張り付き性の各特性についてバランスよく向上させることができる。   According to the fourth and fifth aspects of the present invention, it is possible to improve the edge covering property, the low sagging property, the low swell skin property, and the low film sticking property in a well-balanced manner while suppressing yellowing due to thermal history. it can.

本発明の第6の態様によれば、エッジカバーリング性に優れ、ダレ性、ユズ肌、フィルム張り付き性及び熱履歴による黄変が抑制されたソルダーレジスト膜を被覆したプリント配線板を得ることができる。   According to the sixth aspect of the present invention, it is possible to obtain a printed wiring board that is coated with a solder resist film that is excellent in edge covering properties and has suppressed sagging properties, crushed skin, film adhesion, and yellowing due to thermal history. it can.

次に、本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物の各成分について説明する。本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物は、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂、(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末、(C)光重合開始剤、(D)希釈剤、(E)エポキシ化合物、(F)酸化チタン及び(G)溶剤を含有するものであって、上記各成分は、以下の通りである。   Next, each component of the white solder resist composition for spray coating of the present invention will be described. The white solder resist composition for spray coating of the present invention comprises (A) a carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) a silicon dioxide powder and / or a metal oxide powder produced by a thermal decomposition method, and (C) photopolymerization initiation. Containing the agent, (D) diluent, (E) epoxy compound, (F) titanium oxide and (G) solvent, and each of the above components is as follows.

(A)カルボキシル基含有感光性樹脂
カルボキシル基を含有した感光性樹脂であれば特に限定されず、例えば、感光性の不飽和二重結合を1個以上有する感光性のカルボキシル基含有樹脂、感光性の不飽和二重結合を有さないカルボキシル基含有樹脂を挙げることができる。(A)成分の例として、分子中にエポキシ基を2個以上有する脂環式エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部にアクリル酸又はメタクリル酸等のラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させた後、生成した水酸基に飽和または不飽和の多塩基酸または多塩基酸無水物を反応させたものを挙げることができる。
(A) Carboxyl group-containing photosensitive resin No particular limitation as long as it is a photosensitive resin containing a carboxyl group, for example, a photosensitive carboxyl group-containing resin having one or more photosensitive unsaturated double bonds, photosensitive property And a carboxyl group-containing resin having no unsaturated double bond. As an example of the component (A), a radical polymerizable unsaturated monocarboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid is reacted with at least a part of the epoxy group of the alicyclic epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule. Subsequently, a product obtained by reacting the produced hydroxyl group with a saturated or unsaturated polybasic acid or polybasic acid anhydride can be exemplified.

前記脂環式エポキシ樹脂とは、脂環骨格を有する樹脂であり、骨格が脂肪族環式化合物の連鎖によって形成されているエポキシ樹脂である。エポキシ当量の制限は特にないが、通常1000以下、好ましくは100〜500のものを用いる。   The alicyclic epoxy resin is a resin having an alicyclic skeleton, and the skeleton is an epoxy resin formed by a chain of aliphatic cyclic compounds. Although there is no restriction | limiting in particular of an epoxy equivalent, Usually, 1000 or less, Preferably the thing of 100-500 is used.

脂環骨格エポキシ樹脂としては、例えば、ダイセル化学工業(株)製「EHPE-3150」(2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキセン付加物)などを挙げることができる。 Examples of the alicyclic skeleton epoxy resin include “EHPE-3150” (1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. Cyclohexene adduct).

これらのエポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させると、エポキシ基とカルボキシル基の反応によりエポキシ基が開裂して水酸基とエステル結合が生成する。   When these epoxy resins are reacted with radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, the epoxy group is cleaved by the reaction of the epoxy group and the carboxyl group to form a hydroxyl group and an ester bond.

使用するラジカル重合性不飽和モノカルボン酸は、特に限定されず、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸などがあるが、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方(以下、(メタ)アクリル酸ということがある。)が好ましく、特にアクリル酸が好ましい。   The radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to be used is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, and cinnamic acid. However, at least one of acrylic acid and methacrylic acid (hereinafter referred to as (meth) acrylic). It is sometimes referred to as an acid.), And acrylic acid is particularly preferable.

また、エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応方法は、特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂とアクリル酸を適当な希釈剤中で加熱することにより反応させることができる。希釈剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール、などのアルコール類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤類、セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等の酢酸エステル類等を挙げることができる。また触媒としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのアミン類、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフェートなどのリン化合物類等を挙げることができる。   Moreover, the reaction method of an epoxy resin and radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid is not specifically limited, For example, it can be made to react by heating an epoxy resin and acrylic acid in a suitable diluent. Examples of the diluent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as methanol, isopropanol and cyclohexanol, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane. Petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha, cellosolves such as cellosolve and butylcellosolve, carbitols such as carbitol and butylcarbitol, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl Examples include acetates such as carbitol acetate. Examples of the catalyst include amines such as triethylamine and tributylamine, and phosphorus compounds such as triphenylphosphine and triphenylphosphate.

上記したエポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応において、エポキシ樹脂が有するエポキシ基1当量あたり、ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を0.7〜1.2当量反応させる。アクリル酸またはメタクリル酸の少なくとも一方を用いるときは、エポキシ樹脂が有するエポキシ基1当量あたり、0.8〜1.0当量反応させるのが好ましい。エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸の反応は、加熱状態で行うのが好ましく、その反応温度は、80〜140℃が特に好ましい。反応温度が140℃を超えるとラジカル重合性不飽和モノカルボン酸が熱重合を起こして合成が困難になることがあり、また80℃未満では反応速度が遅くなって生産効率が低下するためである。   In the reaction between the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, 0.7 to 1.2 equivalents of the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid are reacted per 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. When at least one of acrylic acid or methacrylic acid is used, it is preferable to carry out a reaction of 0.8 to 1.0 equivalent per equivalent of epoxy group of the epoxy resin. The reaction between the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid is preferably performed in a heated state, and the reaction temperature is particularly preferably 80 to 140 ° C. If the reaction temperature exceeds 140 ° C., the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid may undergo thermal polymerization and may be difficult to synthesize. If the reaction temperature is less than 80 ° C., the reaction rate becomes slow and the production efficiency decreases. .

エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸の希釈剤中での反応において、希釈剤の配合量は、反応系の総重量に対して20〜50%が好ましい。エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸の反応生成物は単離することなく、希釈剤の溶液のまま、必要に応じて、次の多塩基酸類との反応に供することができる。   In the reaction of the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid in the diluent, the blending amount of the diluent is preferably 20 to 50% with respect to the total weight of the reaction system. The reaction product of the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid can be subjected to the reaction with the following polybasic acids, if necessary, in the form of a diluent solution without isolation.

多塩基酸または多塩基酸無水物は、エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応で生成した水酸基に反応して、樹脂に遊離のカルボキシル基を持たせるものである。多塩基酸またはその無水物は、特に限定されず、飽和、不飽和のいずれも使用できる。多塩基酸としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、クエン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、3−エチルテトラヒドロフタル酸、4−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3−メチルヘキサヒドロフタル酸、4−メチルヘキサヒドロフタル酸、3−エチルヘキサヒドロフタル酸、4−エチルヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸及びジグリコール酸等が挙げられ、多塩基酸無水物としてはこれらの無水物が挙げられる。これらの化合物は単独でも2種以上を混合してもよい。   The polybasic acid or polybasic acid anhydride reacts with a hydroxyl group generated by a reaction between an epoxy resin and a radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to give the resin a free carboxyl group. The polybasic acid or its anhydride is not particularly limited, and either saturated or unsaturated can be used. Examples of the polybasic acid include succinic acid, maleic acid, adipic acid, citric acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4- Ethyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, methylhexahydro Examples include phthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, and diglycolic acid. Examples of polybasic acid anhydrides include these anhydrides. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

反応させようとする多塩基酸または多塩基酸無水物の使用量は、エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応生成物が有する水酸基1モルに対し0.3〜1.0モルであり、露光時に高感度の樹脂膜が得られる点からは、好ましくは0.4〜1.0モル、さらに好ましくは0.6〜1.0モルである。0.3モル未満であると得られた樹脂の希アルカリ現像性が低下することがあり、また1.0モルを超えると最終的に得られる硬化塗膜の諸特性(例えば耐水性等)を低下させることがある。   The amount of the polybasic acid or polybasic acid anhydride to be reacted is 0.3 to 1.0 mol with respect to 1 mol of the hydroxyl group of the reaction product of the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid. From the point that a highly sensitive resin film can be obtained at the time of exposure, it is preferably 0.4 to 1.0 mol, more preferably 0.6 to 1.0 mol. When the amount is less than 0.3 mol, the dilute alkali developability of the obtained resin may be reduced. When the amount exceeds 1.0 mol, various properties (for example, water resistance) of the finally obtained cured coating film may be reduced. May decrease.

多塩基酸は、上記不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂に添加され、脱水縮合反応され、反応時生成した水は反応系から連続的に取り出すことが好ましいが、その反応は加熱状態で行うのが好ましく、その反応温度は、70〜130℃であることが好ましい。反応温度が130℃を超えると、エポキシ樹脂に結合されたものや、未反応モノマーのラジカル重合性不飽和基が熱重合を起こし易くなり合成が困難になることがあり、また70℃以下では反応速度が遅くなり、実際の製造上好ましくないことがある。   The polybasic acid is preferably added to the unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin and subjected to a dehydration condensation reaction. The water produced during the reaction is preferably removed continuously from the reaction system, but the reaction is preferably carried out in a heated state. The reaction temperature is preferably 70 to 130 ° C. When the reaction temperature exceeds 130 ° C., those bonded to an epoxy resin and radically polymerizable unsaturated groups of unreacted monomers may easily cause thermal polymerization, making synthesis difficult. The speed is slow, which may be undesirable in actual manufacturing.

上記多塩基酸または多塩基酸無水物と不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂との反応生成物である多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の酸価は、60〜300mgKOH/gが好ましい。反応させる多塩基酸の量により、反応生成物の酸価は調整できる。   The acid value of the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic acid epoxy resin, which is a reaction product of the polybasic acid or polybasic acid anhydride and the unsaturated monocarboxylic acid epoxy resin, is preferably 60 to 300 mgKOH / g. The acid value of the reaction product can be adjusted by the amount of the polybasic acid to be reacted.

本発明においては、上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂も感光性樹脂として使用できるが、上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の有するカルボキシル基に、1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を持つグリシジル化合物を反応させることにより、ラジカル重合性不飽和基を更に導入し、さらに感光性を向上させたカルボキシル基含有感光性樹脂としてもよい。   In the present invention, the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin can also be used as a photosensitive resin, but one or more radical polymerizations are carried out on the carboxyl group of the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin. It is good also as a carboxyl group-containing photosensitive resin which further introduce | transduced the radically polymerizable unsaturated group and made the photosensitivity improved by making the glycidyl compound which has a functional unsaturated group and an epoxy group react.

この感光性を向上させたカルボキシル基含有感光性樹脂は、最後のグリシジル化合物の反応によってラジカル重合性不飽和基が、その前駆体の感光性樹脂の高分子の骨格の側鎖に結合するため、光重合反応性が高く、優れた感光特性を持つことができる。1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を持つ化合物としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリアクリレートモノグリシジルエーテル等が挙げられる。なお、グリシジル基は1分子中に複数有していてもよい。これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   In this carboxyl group-containing photosensitive resin with improved photosensitivity, the radically polymerizable unsaturated group is bonded to the side chain of the polymer skeleton of the precursor photosensitive resin by the reaction of the last glycidyl compound. High photopolymerization reactivity and excellent photosensitivity. Examples of the compound having one or more radically polymerizable unsaturated groups and an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, pentaerythritol triacrylate monoglycidyl ether, and the like. In addition, you may have multiple glycidyl groups in 1 molecule. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

上記グリシジル化合物は、上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の溶液に添加して反応させるが、その樹脂に導入したカルボキシル基1モルに対し、通常0.05〜0.5モルの割合で反応させる。得られるカルボキシル基含有感光性樹脂を含む白色ソルダーレジスト組成物の感光性や、熱管理幅及び電気絶縁性等の電気特性等の点から、0.1〜0.5モルの割合で反応させるのが好ましい。反応温度は80〜120℃が好ましい。このようにして得られるグリシジル化合物付加多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂からなる感光性樹脂は酸価が45〜250mgKOH/gである事が好ましい。   The glycidyl compound is added to and reacted with the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin solution, but usually in a ratio of 0.05 to 0.5 mol with respect to 1 mol of the carboxyl group introduced into the resin. React with. From the viewpoint of the photosensitivity of the white solder resist composition containing the resulting carboxyl group-containing photosensitive resin and the electrical properties such as the thermal management width and electrical insulation, the reaction is carried out at a rate of 0.1 to 0.5 mol. Is preferred. The reaction temperature is preferably 80 to 120 ° C. The photosensitive resin comprising the glycidyl compound-added polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin thus obtained preferably has an acid value of 45 to 250 mgKOH / g.

(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末
熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末には、例えばヒュームドシリカが挙げられる。ヒュームドシリカを添加することにより、本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物にチキソ性を付与してソルダーレジスト膜のダレを抑えつつ、熱履歴による黄変等の変色を抑えることができる。本発明で使用できるヒュームドシリカは、特に限定されないが、例えば、塩化ケイ素を原料に高温で加水分解して得られるものを挙げることができる。
(B) The silicon dioxide powder produced by the thermal decomposition method and / or the silicon dioxide powder produced by the metal oxide powder thermal decomposition method includes, for example, fumed silica. By adding fumed silica, it is possible to suppress discoloration such as yellowing due to thermal history while imparting thixotropy to the white solder resist composition for spray coating of the present invention to suppress sagging of the solder resist film. Although the fumed silica which can be used by this invention is not specifically limited, For example, what is obtained by hydrolyzing silicon chloride as a raw material at high temperature can be mentioned.

比表面積、一次粒子径及び表面処理等、ヒュームドシリカの特性は特に限定されないが、塗布後のレベリング性の点で、比表面積50〜200m2/gのヒュームドシリカが好ましい。ヒュームドシリカには、例えば、親水性ヒュームドシリカとしては、日本アエロジル(株)製のAEROSIL(R)90、AEROSIL(R)130、AEROSIL(R)150、AEROSIL(R)200、AEROSIL(R)300、AEROSIL(R)380、AEROSIL(R) OX50、AEROSIL(R) EG50、AEROSIL(R) TT600、(株)トクヤマ製のレオロシールQS-09、QS-10L、QS-10、QS-102、CP-102、QS-20L、QS-20、QS-25C、QS-30、QS-30C、QS-40等が挙げられる。また、疎水性ヒュームドシリカとしては、日本アエロジル(株)製のAEROSIL(R) R972、AEROSIL(R) R974、AEROSIL(R) R104、AEROSIL(R) R106、AEROSIL(R) R202、AEROSIL(R) R805 、AEROSIL(R) R812、AEROSIL(R) R816、AEROSIL(R) R7200、AEROSIL(R) R8200、AEROSIL(R) R9200、AEROSIL(R) RY50、AEROSIL(R) NY50、 AEROSIL(R) RY200、AEROSIL(R) RY200S、AEROSIL(R) RX50、AEROSIL(R) NAX50、AEROSIL(R) RX200、AEROSIL(R) RX300、AEROSIL(R) R504、AEROSIL(R) DT4、(株)トクヤマ製のレオロシールMT-10、MT-10C、DM-10、DM-10C、DM-20S、DM-30、DM-30S、KS-20S、KS-20SC、HM-20L、HM-30S、PM-20L等が挙げられる。これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。 The characteristics of fumed silica such as specific surface area, primary particle size and surface treatment are not particularly limited, but fumed silica having a specific surface area of 50 to 200 m 2 / g is preferred from the viewpoint of leveling properties after coating. Examples of the fumed silica include AEROSIL (R) 90, AEROSIL (R) 130, AEROSIL (R) 150, AEROSIL (R) 200, AEROSIL (R) manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. ) 300, AEROSIL (R) 380, AEROSIL (R) OX50, AEROSIL (R) EG50, AEROSIL (R) TT600, Leorosil QS-09, QS-10L, QS-10, QS-102, manufactured by Tokuyama Corporation CP-102, QS-20L, QS-20, QS-25C, QS-30, QS-30C, QS-40, etc. are mentioned. As the hydrophobic fumed silica, AEROSIL® R972, AEROSIL® R974, AEROSIL® R104, AEROSIL® R106, AEROSIL® R106, AEROSIL® R202, AEROSIL (R) manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. ) R805, AEROSIL (R) R812, AEROSIL (R) R816, AEROSIL (R) R7200, AEROSIL (R) R8200, AEROSIL (R) R9200, AEROSIL (R) RY50, AEROSIL (R) NY50, AEROSIL (R) RY200 , AEROSIL (R) RY200S, AEROSIL (R) RX50, AEROSIL (R) NAX50, AEROSIL (R) RX200, AEROSIL (R) RX300, AEROSIL (R) R504, AEROSIL (R) DT4, Toroyama Co., Ltd. MT-10, MT-10C, DM-10, DM-10C, DM-20S, DM-30, DM-30S, KS-20S, KS-20SC, HM-20L, HM-30S, PM-20L, etc. It is done. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

熱分解法により製造された金属酸化物粉末には、例えばヒュームド金属酸化物が挙げられる。ヒュームド金属酸化物を添加することにより、上記ヒュームドシリカと同様に本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物にチキソ性を付与でき、熱履歴による黄変等の変色を抑えることができる。本発明で使用できるヒュームドシリカは、特に限定されないが、例えば、金属塩化物を原料に高温で加水分解して得られるものを挙げることができる。   Examples of the metal oxide powder produced by the pyrolysis method include fumed metal oxide. By adding a fumed metal oxide, it is possible to impart thixotropy to the white solder resist composition for spray coating of the present invention as in the case of the fumed silica, and to suppress discoloration such as yellowing due to thermal history. Although the fumed silica which can be used by this invention is not specifically limited, For example, what is obtained by hydrolyzing a metal chloride as a raw material at high temperature can be mentioned.

比表面積、一次粒子径及び表面処理等、ヒュームド金属酸化物の特性は特に限定されないが、塗布後のレベリング性の点で、比表面積50〜200m2/gのヒュームド金属酸化物が好ましい。ヒュームド金属酸化物としては、例えば、日本アエロジル(株)製のAEROXIDE(R) Alu、AEROXIDE(R) TiO2、AEROXIDE(R) TiO2 P25S、VP AEROPERL(R) P25/20 、VP Zirconium Oxide 3-YSZ、VP Zirconium Oxide PH 、 AEROXIDE(R) TiO2 T805 、AEROXIDE(R) AluC805等を挙げることができる。これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。特に、チタンの酸化物は、白色の隠ぺい力を向上できるので、色顔料としても使用できる。 The characteristics of the fumed metal oxide such as the specific surface area, the primary particle diameter, and the surface treatment are not particularly limited, but a fumed metal oxide having a specific surface area of 50 to 200 m 2 / g is preferable from the viewpoint of leveling properties after coating. Examples of the fumed metal oxide include AEROXIDE® Alu, AEROXIDE® TiO 2 , AEROXIDE® TiO 2 P25S, VP AEROPERL® P25 / 20, VP Zirconium Oxide 3 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. -YSZ, VP Zirconium Oxide PH, AEROXIDE® TiO 2 T805, AEROXIDE® AluC805 and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more. In particular, the oxide of titanium can improve white hiding power and can be used as a color pigment.

また、上記ヒュームド酸化物を2種以上混合してもよいが、作業性の点から、熱分解法により製造された二酸化ケイ素(例えば、ニュームドシリカ)粉末と熱分解法により製造された金属酸化物(例えば、ヒュームド金属酸化物)粉末が予め混合されたものを使用してもよい。ヒュームドシリカとヒュームド金属酸化物の混合物として、例えば、日本アエロジル(株)製のAEROSIL(R) MOX80、AEROSIL(R) MOX170、AEROSIL(R) COK84を挙げることができる。   Further, two or more of the above fumed oxides may be mixed, but from the viewpoint of workability, silicon dioxide (for example, new silica) powder produced by pyrolysis and metal oxidation produced by pyrolysis A material (for example, fumed metal oxide) powder previously mixed may be used. Examples of the mixture of fumed silica and fumed metal oxide include AEROSIL (R) MOX80, AEROSIL (R) MOX170, and AEROSIL (R) COK84 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.

熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末の配合量は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、その下限値は、チキソ性を高くしてダレを防止する点から2質量部であり、確実にダレを防止する点から好ましくは7質量部である。また、その上限値は、塗布後のソルダーレジスト膜の平滑性を維持してユズ肌となるのを防止する点から20質量部であり、確実にソルダーレジスト膜の平滑性を維持する点から17質量部である。   The blending amount of the silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by the pyrolysis method is 100% by weight of the carboxyl group-containing photosensitive resin, and the lower limit thereof increases thixotropy to prevent sagging. It is 2 parts by mass from the point, and preferably 7 parts by mass from the viewpoint of reliably preventing sagging. Moreover, the upper limit is 20 parts by mass from the viewpoint of maintaining the smoothness of the solder resist film after application and preventing it from becoming a crusty skin, and from the point of reliably maintaining the smoothness of the solder resist film. Part by mass.

(C)光重合開始剤
一般的に使用される光重合開始剤であれば特に限定されず、例えば、オキシム系開始剤、ベンゾイン、アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン等がある。これらの光重合開始剤は単独でも2種以上を混合してもよい。光重合開始剤の配合量は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、1〜30質量部であり、好ましくは5〜20質量部である。
(C) Photopolymerization initiator It is not particularly limited as long as it is a photopolymerization initiator that is generally used. For example, oxime initiator, benzoin, acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1 -One, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzophenone and the like. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The compounding quantity of a photoinitiator is 1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin, Preferably it is 5-20 mass parts.

(D)希釈剤
希釈剤は、例えば、光重合性モノマーであり、カルボキシル基含有感光性樹脂の光硬化を十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性などを有する塗膜を得るために使用する。光重合性モノマーとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。これらの希釈剤は単独でも2種以上を混合してもよい。希釈剤の配合量は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、20〜300質量部であり、好ましくは2.0〜40質量部である。
(D) Diluent diluent is, for example, a photopolymerizable monomer, and is used to obtain a coating film having acid resistance, heat resistance, alkali resistance, etc. by sufficiently photocuring a carboxyl group-containing photosensitive resin. To do. Examples of the photopolymerizable monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and the like. Can be mentioned. These diluents may be used alone or in combination of two or more. The compounding quantity of a diluent is 20-300 mass parts with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin, Preferably it is 2.0-40 mass parts.

(E)エポキシ化合物
エポキシ化合物は、白色の感光性樹脂組成物において、硬化塗膜の架橋密度を上げるとともに、UV照射、熱履歴による白色塗膜の変色及び反射率の低下が少ない樹脂硬化膜を得るためのものであり、例えば、エポキシ樹脂を添加する。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、p−tert−ブチルフェノールノボラック型など)、ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒドリンを反応させて得られたビスフェノールF型やビスフェノールS型エポキシ樹脂、さらにシクロヘキセンオキシド基、トリシクロデカンオキシド基、シクロペンテンオキシド基などを有する脂環式エポキシ樹脂、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。
(E) Epoxy compound In the white photosensitive resin composition, the epoxy compound increases the cross-linking density of the cured coating film, and is a resin cured film with little discoloration of the white coating film due to UV irradiation and thermal history and a decrease in reflectance. For example, an epoxy resin is added. Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, novolak type epoxy resin (phenol novolak type epoxy resin, o-cresol novolak type epoxy resin, p-tert-butylphenol novolak type, etc.), bisphenol F and bisphenol S with epichlorohydrin. Bisphenol F-type and bisphenol S-type epoxy resins obtained by reaction, alicyclic epoxy resins having cyclohexene oxide groups, tricyclodecane oxide groups, cyclopentene oxide groups, and the like, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate , Triglycidyl isocyanurate having a triazine ring such as triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, dicyclopentadiene type epoxy resin, Adama It can be exemplified Tan type epoxy resin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ化合物の配合量は、硬化後に十分な塗膜を得、かつはんだ耐熱性を向上させる点から、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、1〜75質量部であり、塗膜硬化性とはんだ耐熱性のバランスの点から20〜60質量部が好ましい。   The compounding quantity of an epoxy compound is 1-75 mass parts with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin from the point which obtains a sufficient coating film after hardening, and improves solder heat resistance, and coating film hardening 20 to 60 parts by mass is preferable from the viewpoint of the balance between the heat resistance and the solder heat resistance.

(F)酸化チタン
酸化チタンは、アナタース型酸化チタン粒子及びルチル結晶構造を有する酸化チタン粒子であり、塗膜を白色化するために使用する。白色度の観点からルチル型酸化チタンが好ましい。ルチル型酸化チタンには、例えば、富士チタン工業(株)製「TR−600」、「TR−700」、「TR−750」、「TR−840」、石原産業(株)製「R−550」、「R−580」、「R−630」、「R−820」、「CR−50」、「CR−60」、「CR−90」、「CR−93」、チタン工業(株)製「KR−270」、「KR−310」、「KR−380」等を挙げることができる。ルチル型酸化チタンの配合量は、カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、30〜200質量部であり、好ましくは50〜150質量部である。
(F) Titanium oxide Titanium oxide is anatase-type titanium oxide particles and titanium oxide particles having a rutile crystal structure, and is used to whiten the coating film. From the viewpoint of whiteness, rutile type titanium oxide is preferable. Examples of rutile titanium oxide include “TR-600”, “TR-700”, “TR-750”, “TR-840” manufactured by Fuji Titanium Industry Co., Ltd., and “R-550” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. ”,“ R-580 ”,“ R-630 ”,“ R-820 ”,“ CR-50 ”,“ CR-60 ”,“ CR-90 ”,“ CR-93 ”, manufactured by Titanium Industry Co., Ltd. “KR-270”, “KR-310”, “KR-380” and the like can be mentioned. The compounding quantity of a rutile type titanium oxide is 30-200 mass parts with respect to 100 mass parts of carboxyl group-containing photosensitive resin, Preferably it is 50-150 mass parts.

(G)溶剤
溶剤は、スプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物の乾燥性を調節するためのものである。溶剤には、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロプレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及び上記グリコールエーテル類のエステル化物などのエステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類等を挙げることができる。
(G) The solvent is for adjusting the drying property of the white solder resist composition for spray coating. Examples of the solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, Glycol ethers such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol Monomethyl ether acetate and glyco Esters such as esters of ethers; ethanol, can be mentioned propanol, ethylene glycol, and alcohols such as propylene glycol.

本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物には、上記した成分(A)〜(G)の他に、必要に応じて、種々の添加成分、例えば、消泡剤、各種添加剤、体質顔料などを含有させることができる。   In the white solder resist composition for spray coating of the present invention, in addition to the components (A) to (G) described above, various additive components such as an antifoaming agent, various additives and extender pigments may be used as necessary. Etc. can be contained.

消泡剤には、公知のものを使用でき、例えば、シリコーン系、炭化水素系、アクリル系等を挙げることができる。   A well-known thing can be used for an antifoamer, for example, a silicone type, a hydrocarbon type, an acrylic type etc. can be mentioned.

各種添加剤には、例えば、シラン系、チタネート系、アルミナ系等のカップリング剤といった分散剤、三フッ化ホウ素−アミンコンプレックス、ジシアンジアミド(DICY)及びその誘導体、有機酸ヒドラジド、ジアミノマレオニトリル(DAMN)及びその誘導体、グアナミン及びその誘導体、メラミン及びその誘導体、アミンイミド(AI)並びにポリアミン等の潜在性硬化剤、アセチルアセナートZn及びアセチルアセナートCr等のアセチルアセトンの金属塩、エナミン、オクチル酸錫、第4級スルホニウム塩、トリフェニルホスフィン、イミダゾール、イミダゾリウム塩並びにトリエタノールアミンボレート等の熱硬化促進剤を挙げることができる。   Examples of various additives include dispersants such as coupling agents such as silane, titanate, and alumina, boron trifluoride-amine complex, dicyandiamide (DICY) and its derivatives, organic acid hydrazide, and diaminomaleonitrile (DAMN). ) And derivatives thereof, guanamine and derivatives thereof, melamine and derivatives thereof, latent hardeners such as amine imide (AI) and polyamine, metal salts of acetylacetone such as acetylacetonate Zn and acetylacetonate Cr, enamine, tin octylate, Examples include quaternary sulfonium salts, triphenylphosphine, imidazole, imidazolium salts, and thermosetting accelerators such as triethanolamine borate.

体質顔料は、塗工したソルダーレジスト膜の物理的強度を上げるためのものであり、例えば、シリカ、硫酸バリウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、タルク、マイカ等を挙げることができる。   The extender pigment is for increasing the physical strength of the coated solder resist film, and examples thereof include silica, barium sulfate, alumina, aluminum hydroxide, talc, and mica.

上記した本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物の製造方法は、特定の方法に限定されないが、例えば、上記成分(A)〜(G)および必要に応じてその他の成分を所定割合で配合後混合され、必要に応じて三本ロール、ボールミル、サンドミル等の混練手段、あるいはスーパーミキサー、プラネタリーミキサー等の攪拌手段により混練または混合され、本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物が得られる。   Although the manufacturing method of the above-mentioned white solder resist composition for spray coating of the present invention is not limited to a specific method, for example, the above components (A) to (G) and other components are blended at a predetermined ratio as necessary. After mixing, if necessary, it is kneaded or mixed by a kneading means such as a triple roll, ball mill or sand mill, or a stirring means such as a super mixer or a planetary mixer to obtain the white solder resist composition for spray coating of the present invention. It is done.

上記のようにして得られた本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物は、例えば銅張り積層板の銅箔をエッチングして形成した回路のパターンを有するプリント配線板に所望の厚さ、例えば5〜100μmの厚さでスプレー塗布される。スプレー塗布の手段としては、例えば、静電スプレー塗装機、エアースプレー塗装機、エアレススプレー塗装機等を挙げることができる。   The white solder resist composition for spray coating of the present invention obtained as described above has a desired thickness on a printed wiring board having a circuit pattern formed by etching a copper foil of a copper-clad laminate, for example, Spray coating is applied at a thickness of 5 to 100 μm. Examples of the spray coating means include an electrostatic spray coating machine, an air spray coating machine, and an airless spray coating machine.

スプレー塗工後、必要に応じて熱風炉または遠赤外線炉等で予備乾燥が行われ、白色ソルダーレジスト組成物から溶剤を揮発させて塗膜の表面をタックフリーの状態にする。予備乾燥の温度はおおむね50〜100℃程度、予備乾燥の時間は20〜25分が好ましい。   After spray coating, preliminary drying is performed in a hot-air oven or a far-infrared oven as necessary, and the solvent is volatilized from the white solder resist composition to make the surface of the coating film tack-free. The preliminary drying temperature is preferably about 50 to 100 ° C., and the preliminary drying time is preferably 20 to 25 minutes.

予備乾燥後、LDI(Laser Direct Imaging)を用いたレーザー直描による露光、または、活性エネルギー線を通さないようにしたネガマスクを用いて活性エネルギー線による露光が行われる。ネガマスクとしては活性エネルギー線が紫外線の場合にはネガフィルム、電子線の場合には金属性マスク、X線の場合には鉛性マスクがそれぞれ使用されるが、簡単なネガフィルムを使用できるためプリント配線板製造では活性エネルギー線として紫外線が多く用いられる。紫外線の照射量は10〜1000mJ/cmである。 After preliminary drying, exposure by laser direct drawing using LDI (Laser Direct Imaging) or exposure by active energy rays is performed using a negative mask that does not allow passage of active energy rays. As the negative mask, a negative film is used when the active energy ray is ultraviolet, a metal mask is used when it is an electron beam, and a lead mask is used when it is an X-ray, but it can be printed because a simple negative film can be used. In the production of wiring boards, ultraviolet rays are often used as active energy rays. The irradiation amount of ultraviolet rays is 10 to 1000 mJ / cm 2 .

露光は、プリント配線板製造の場合は、例えば回路のパターンのはんだ付けランド以外は透光性にしたパターンのネガフィルムを密着させて、その上から紫外線を照射させた後、このはんだ付けランドに対応する非露光領域を希アルカリ水溶液で除去することにより塗膜が現像される。この除去は未露光部分の溶解、膨潤、剥離等のいずれでもよい。この際使用される希アルカリ水溶液としては0.5〜5%の炭酸ナトリウム水溶液が一般的であるが、他のアルカリも使用可能である。   In the case of printed wiring board manufacture, for example, a negative film having a light-transmitting pattern other than the soldering land of the circuit pattern is closely attached and irradiated with ultraviolet rays from above, and then the soldering land is applied to the soldering land. The coating is developed by removing the corresponding non-exposed areas with dilute alkaline aqueous solution. This removal may be any of dissolution, swelling, peeling, etc. of the unexposed part. The dilute alkaline aqueous solution used at this time is generally 0.5 to 5% sodium carbonate aqueous solution, but other alkalis can also be used.

次いで、熱硬化性化合物を含有する場合には、例えば130〜170℃の熱風炉または遠赤外線炉等の乾燥機等で20〜80分間加熱することによりポストキュアを行ない、これによりソルダーレジスト膜を形成させることができる。   Next, in the case of containing a thermosetting compound, for example, a post-cure is performed by heating for 20 to 80 minutes with a dryer such as a hot-air oven or a far-infrared oven at 130 to 170 ° C., thereby forming a solder resist film. Can be formed.

このようにしてソルダーレジスト膜で被覆したプリント配線板が得られ、これに電子部品が噴流はんだ付け方法や、リフローはんだ付け方法によりはんだ付けされることにより接続、固定されて搭載され、一つの電子回路ユニットが形成される。   In this way, a printed wiring board coated with a solder resist film is obtained, on which electronic components are connected, fixed and mounted by soldering by a jet soldering method or a reflow soldering method. A circuit unit is formed.

本発明においては、その電子部品搭載前のソルダーレジスト膜を被覆したプリント配線板、このプリント配線板に電子部品搭載した電子部品搭載後のプリント配線板のいずれをもその対象に含む。   In the present invention, both the printed wiring board coated with the solder resist film before mounting the electronic component and the printed wiring board mounted with the electronic component on the printed wiring board are included in the object.

次に、本発明の実施例を説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、これらの例に限定されるものではない。   Next, examples of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to these examples as long as the gist thereof is not exceeded.

実施例1〜15、比較例1〜3
下記表1に示す各成分を下記表1に示す割合にて配合し、3本ロールを用いて室温にて混合分散させて、実施例1〜15、比較例1〜3にて使用するスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物を調製した。下記表1中の配合の数字は質量部を示す。
Examples 1-15, Comparative Examples 1-3
Each component shown in the following Table 1 is blended at a ratio shown in the following Table 1, mixed and dispersed at room temperature using three rolls, and spray coating used in Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 3 A white solder resist composition was prepared. The numbers in the formulation in Table 1 below indicate parts by mass.

Figure 2011133670
Figure 2011133670

なお、表1中の各成分についての詳細は以下の通りである。
(A)カルボキシル基含有感光性樹脂
・合成例1:樹脂A−1の合成
エポキシ樹脂(ダイセル化学工業社製、EHPE−3150 )270質量部を、セロソルブアセテート400質量部に融解したものにアクリル酸(不飽和基含有モノカルボン酸)110質量部を加え加熱還流条件下、定法により反応させ、この反応生成物に、テトラヒドロ無水フタル酸(多塩基酸無水物)160質量部を定法により反応させ、続いて、グリシジルメタアクリレート(エチレン性不飽和単量体)40質量部を加熱還流下定法により反応させて、生成物(樹脂A−1)を得た。
・合成例2:樹脂A−2の合成
エポキシ樹脂としてクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC社製、N−680)210質量部をジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート120質量部に溶解したものにアクリル酸72質量部を加え加熱還流条件下、定法により反応させ、この反応生成物に、テトラヒドロ無水フタル酸(多塩基酸無水物)76質量部を定法により反応させて、生成物(樹脂A−2)を得た。
・サイクロマーP(ACA)Z−300:ダイセル化学工業(株)製、アクリル共重合構造の樹脂を使用したカルボキシル基含有樹脂。
・ZFR−1124:日本化薬社製、ビスフェノールF型エポキシアクリレート構造のカルボキシル基含有樹脂。
・FLX−2089:日本化薬社製、ウレタン変性エポキシアクリレート構造のカルボキシル基含有樹脂。
(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末
・AEROSIL R974:日本アエロジル(株)製、疎水性ヒュームドシリカ。
・AEROSIL 200:日本アエロジル(株)製、親水性ヒュームドシリカ。
・AEROXIDE Alu C:日本アエロジル(株)製、ヒュームド金属酸化物(酸化アルミニウム)。
・AEROXIDE TiO2 P25:日本アエロジル(株)製、ヒュームド金属酸化物(二酸化チタン)。
(C)光重合開始剤
・DAROCURE TPO:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド。
(D)希釈剤
・M-408:東亜合成(株)製、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート。
(E)エポキシ化合物
・EPICRON 860:大日本インキ化学工業(株)製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂。
(F)酸化チタン
・CR‐80:石原産業(株)製、ルチル型酸化チタン。
The details of each component in Table 1 are as follows.
(A) Carboxyl group-containing photosensitive resin / Synthesis Example 1: Synthesis of Resin A-1 Acrylic acid was obtained by melting 270 parts by mass of epoxy resin (EHPE-3150 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) in 400 parts by mass of cellosolve acetate. (Unsaturated group-containing monocarboxylic acid) 110 parts by mass was added and reacted under heating and reflux conditions by a conventional method. To this reaction product, 160 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride (polybasic acid anhydride) was reacted by a conventional method, Subsequently, 40 parts by mass of glycidyl methacrylate (ethylenically unsaturated monomer) was reacted by a heating under reflux method to obtain a product (resin A-1).
Synthesis Example 2: Synthesis of Resin A-2 72 parts by mass of acrylic acid was obtained by dissolving 210 parts by mass of cresol novolac type epoxy resin (manufactured by DIC, N-680) as an epoxy resin in 120 parts by mass of diethylene glycol monoethyl ether acetate. The reaction product was reacted with 76 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride (polybasic acid anhydride) by a conventional method to obtain a product (resin A-2). .
Cyclomer P (ACA) Z-300: a carboxyl group-containing resin using a resin having an acrylic copolymer structure manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
ZFR-1124: a carboxyl group-containing resin having a bisphenol F type epoxy acrylate structure manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
FLX-2089: Nippon Kayaku Co., Ltd., a carboxyl group-containing resin having a urethane-modified epoxy acrylate structure.
(B) Silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by a thermal decomposition method AEROSIL R974: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., hydrophobic fumed silica.
AEROSIL 200: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., hydrophilic fumed silica.
-AEROXIDE Alu C: Nippon Aerosil Co., Ltd., fumed metal oxide (aluminum oxide).
AEROXIDE TiO 2 P25: Nippon Aerosil Co., Ltd., fumed metal oxide (titanium dioxide).
(C) Photopolymerization initiator DAROCURE TPO: Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
(D) Diluent-M-408: Toa Gosei Co., Ltd., ditrimethylolpropane tetraacrylate.
(E) Epoxy compound EPICRON 860: Dainippon Ink and Chemicals, bisphenol A type epoxy resin.
(F) Titanium oxide CR-80: manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., rutile titanium oxide.

その他、添加剤であるDICY‐7はジャパンエポキシレジン社製の硬化促進剤、メラミンは潜在性硬化剤、比較例3で使用したBYK‐411はビックケミー・ジャパン(株)製のチキソ性付与剤である。   In addition, the additive DICY-7 is a curing accelerator made by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., melamine is a latent curing agent, and BYK-411 used in Comparative Example 3 is a thixotropic agent made by Big Chemie Japan Co., Ltd. is there.

試験片作成工程を以下に示す。
基板:ガラスエポキシ基板FR-4、板厚1.6mm、導体厚50μm、幅200μm
基板表面処理:酸処理(3%硫酸水溶液)
塗工:スプレー塗工
塗装条件:吐出量(110cc/min),コンベアー速度(2.3m/min)ディスク回転数(30000rpm)、印加電圧(−35KV)、スプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物液のWet膜厚は約60μm
DRY膜厚:30〜35μm
予備乾燥:70℃、20分(BOX炉内25分)
露光:ソルダーレジスト組成物上400mJ/cm(オーク社製HMW−680GW)
現像:1%Na2CO3、30℃、0.1MPa、60秒
ポストキュア:150℃、60分(BOX炉内70分)
The test piece preparation process is shown below.
Substrate: Glass epoxy substrate FR-4, plate thickness 1.6mm, conductor thickness 50μm, width 200μm
Substrate surface treatment: acid treatment (3% sulfuric acid aqueous solution)
Coating: Spray coating Coating conditions: Discharge rate (110 cc / min), conveyor speed (2.3 m / min), disk rotation speed (30000 rpm), applied voltage (-35 KV), white solder resist composition liquid for spray coating Wet film thickness is about 60μm
DRY film thickness: 30-35 μm
Predrying: 70 ° C, 20 minutes (25 minutes in BOX furnace)
Exposure: 400 mJ / cm 2 on the solder resist composition (OMW HMW-680GW)
Development: 1% Na 2 CO 3 , 30 ° C., 0.1 MPa, 60 seconds Post cure: 150 ° C., 60 minutes (70 minutes in BOX furnace)

評価・測定項目は以下の通りである。
(1)粘度
調製したスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物について、マルコム製スパイラル粘度計PC-1C型(φ35ローター)を用いて、試料温度25℃における粘度測定を行った。
(2)チキソ比
調製したスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物について、ブルックフィールド製粘度計RVT型を用いて、試料温度25℃におけるスピンドル回転数5rpmと50rpmの粘度の比(η5/η50)からチキソ比を算出した。
(3)ダレ性
試験片である塗装基板を目視評価した。
○:塗装基板表面上のソルダーレジスト膜にヨリやダレがない。
△:塗装基板表面上のソルダーレジスト膜にヨリやダレがややある。
×:塗装基板表面上のソルダーレジスト膜にヨリやダレがある。
(4)ユズ肌性
試験片である塗装基板を目視評価した。
○:塗装基板表面上のソルダーレジスト膜が平滑である。
△:塗装基板表面上のソルダーレジスト膜に凹凸がやや存在する。
×:塗装基板表面上のソルダーレジスト膜に凹凸がある。
―:ダレの発生が著しく試験片が作成できず評価不能。
(5)フィルム張り付き性
予備乾燥後にネガフィルムを接触させ、露光した際の張り付き性を評価した。
○:張り付きなし。
△:塗膜に張り付き跡が残存。
×:フィルム引き剥がし後、フィルムインク付着。
―:ダレの発生が著しく試験片が作成できず評価不能。
(6)エッジカバーリング
試験片である塗装基板を断面観察し、導体のエッジ部分に被覆しているレジストの膜厚を測定した。
(7)変色性評価
変色評価:260℃で5分間加熱後硬化塗膜の変色を目視にて評価した。
○:変色なし。
△:変色が若干認められる。
×:黄変。
(8)はんだ耐熱性
試験片の硬化塗膜を、JIS C−6481の試験方法に従って、260℃のはんだ槽に30秒間浸せき後、セロハンテープによるピーリング試験を1サイクルとし、これを1〜3回繰り返した後の塗膜状態を目視により観察し、以下の基準に従って評価した。
◎:3サイクル繰り返し後も塗膜に変化が認められない。
○:3サイクル繰り返し後の塗膜にほんの僅か変化が認められる。
△:2サイクル繰り返し後の塗膜に変化が認められる。
×:1サイクル後の塗膜に剥離が認められる。
The evaluation / measurement items are as follows.
(1) Viscosity The viscosity of the prepared white solder resist composition for spray coating was measured at a sample temperature of 25 ° C. using a Malcolm spiral viscometer PC-1C type (φ35 rotor).
(2) Thixo ratio Using the Brookfield viscometer RVT type for the prepared white solder resist composition for spray coating, the thixo is calculated from the ratio of the viscosity of the spindle at 5 rpm and 50 rpm at the sample temperature of 25 ° C. (η5 / η50). The ratio was calculated.
(3) Sag property The coated substrate which is a test piece was visually evaluated.
○: There is no twist or sag in the solder resist film on the surface of the painted substrate.
Δ: The solder resist film on the surface of the painted substrate is slightly twisted or sagged.
X: The solder resist film on the surface of the painted substrate has a twist or sag.
(4) Scratch skin property The painted substrate which is a test piece was visually evaluated.
○: The solder resist film on the coated substrate surface is smooth.
Δ: Some unevenness exists in the solder resist film on the surface of the coated substrate.
X: The solder resist film on the surface of the coated substrate has irregularities.
―: Sagging occurred so much that the specimen could not be prepared and could not be evaluated.
(5) Film sticking property The negative film was contacted after preliminary drying, and the sticking property when exposed was evaluated.
○: No sticking.
Δ: A sticky mark remains on the coating film.
X: Film ink adhered after film peeling.
―: Sagging occurred so much that the specimen could not be prepared and could not be evaluated.
(6) Edge Covering The cross section of the coated substrate, which is a test piece, was observed, and the film thickness of the resist covering the edge portion of the conductor was measured.
(7) Discoloration evaluation Discoloration evaluation: After heating at 260 ° C for 5 minutes, the discoloration of the cured coating film was visually evaluated.
○: No discoloration.
Δ: Some discoloration is observed.
X: Yellowing.
(8) Solder heat resistance A cured coating film of a test piece is immersed in a solder bath at 260 ° C. for 30 seconds in accordance with a test method of JIS C-6481, and then a peeling test using a cellophane tape is defined as one cycle, and this is performed 1-3 times. The coating state after the repetition was observed visually and evaluated according to the following criteria.
A: No change is observed in the coating film even after 3 cycles.
○: Only a slight change is observed in the coating film after repeating 3 cycles.
(Triangle | delta): A change is recognized by the coating film after 2 cycles repetition.
X: Peeling is recognized in the coating film after 1 cycle.

上記測定結果、評価結果を表2に示す。   The measurement results and evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2011133670
Figure 2011133670

上記表2に示すように、熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末を2〜20質量部配合した実施例1〜15では、ダレを防止しつつユズ肌の発生とフィルムへの張り付きを抑えることができ、さらにエッジ部分に被覆しているレジストの膜厚も7μm以上と良好であった。これは、スプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物の粘度が1.1〜3.0dPa・s、チキソ比が1.4〜2.2と、スプレー塗装に適した数値範囲となったためと考えられる。また、実施例1〜15では、粘度及びチキソ性(チキソ比)の調整に熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末を使用しているので、熱履歴による変色性も抑制でき、さらにはんだ耐熱性も良好であった。ただ、若干ではあるが、粘度55dPa・sの実施例14ではユズ肌の傾向が、粘度0.5dPa・sの実施例15ではダレの傾向が見られた。   As shown in Table 2 above, in Examples 1 to 15 in which 2 to 20 parts by mass of silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by the thermal decomposition method were mixed, Sticking to the film could be suppressed, and the film thickness of the resist covering the edge portion was also as good as 7 μm or more. This is probably because the white solder resist composition for spray coating has a viscosity range of 1.1 to 3.0 dPa · s and a thixo ratio of 1.4 to 2.2, which is a numerical range suitable for spray coating. Moreover, in Examples 1-15, since the silicon dioxide powder and / or metal oxide powder which were manufactured by the thermal decomposition method are used for adjustment of a viscosity and thixotropy (thixo ratio), the discoloration property by a thermal history is also included. Moreover, the solder heat resistance was good. However, a slight tendency was observed in Example 14 having a viscosity of 55 dPa · s, and a tendency to sag in Example 15 having a viscosity of 0.5 dPa · s.

実施例1〜5と実施例9〜10の対比より、熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末、熱分解法により製造された金属酸化物粉末のいずれでも、ほぼ同等にダレを防止しつつユズ肌の発生とフィルムへの張り付きを抑えることができた。また、実施例1〜5と実施例11〜13の対比より、溶剤にプロピレングリコールモノメチルエーテルを配合すると、ダレ性、フィルム張り付き性をより抑えることができた。   From the comparison between Examples 1 to 5 and Examples 9 to 10, both silicon dioxide powder produced by the pyrolysis method and metal oxide powder produced by the pyrolysis method were almost equally prevented from dripping. Generation of skin and sticking to the film could be suppressed. Further, from the comparison of Examples 1 to 5 and Examples 11 to 13, when propylene glycol monomethyl ether was added to the solvent, sagging properties and film stickiness could be further suppressed.

一方で、比較例1では、スプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物の粘度及びチキソ比が高く、塗装基板の表面に凹凸が生じるユズ肌が観察された。比較例2では、チキソ比が低く、ダレが発生して試験片の作成ができなかった。従来のチキソ性付与剤を使用した比較例3では、ダレは発生せず、ユズ肌も観察されなかったが、加熱後に塗膜表面が黄変した。   On the other hand, in Comparative Example 1, the viscosity and the thixo ratio of the white solder resist composition for spray coating were high, and a crushed skin with irregularities on the surface of the coated substrate was observed. In Comparative Example 2, the thixo ratio was low, sagging occurred, and a test piece could not be prepared. In Comparative Example 3 in which a conventional thixotropic agent was used, no sagging occurred and no skin was observed, but the surface of the coating film turned yellow after heating.

本発明のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物は、エッジカバーリング性に優れ、ダレ性、ユズ肌、熱履歴による黄変を抑えることができるので、プリント配線板の分野、特にLED実装用プリント配線板の分野で利用価値が高い。   The white solder resist composition for spray coating of the present invention has excellent edge covering properties and can suppress yellowing due to sagging properties, crushed skin, and thermal history, so the field of printed wiring boards, particularly printed wiring for LED mounting. High utility value in the field of boards.

Claims (6)

(A)カルボキシル基含有感光性樹脂、(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末、(C)光重合開始剤、(D)希釈剤、(E)エポキシ化合物、(F)酸化チタン及び(G)溶剤を含有することを特徴とするスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物。   (A) carboxyl group-containing photosensitive resin, (B) silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by thermal decomposition method, (C) photopolymerization initiator, (D) diluent, (E) epoxy compound A white solder resist composition for spray coating, comprising: (F) titanium oxide and (G) a solvent. 前記(B)熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末及び/または金属酸化物粉末が、(A)カルボキシル基含有感光性樹脂100質量部に対して、2〜20質量部含有することを特徴とする請求項1に記載のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物。   The silicon dioxide powder and / or metal oxide powder produced by the thermal decomposition method (B) contains 2 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) carboxyl group-containing photosensitive resin. The white solder resist composition for spray coating according to claim 1. 前記(G)溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルを含有することを特徴とする請求項1に記載のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物。   The white solder resist composition for spray coating according to claim 1, wherein the solvent (G) contains propylene glycol monomethyl ether. チキソ比が、1.4〜2.2であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物。   The white solder resist composition for spray coating according to any one of claims 1 to 3, wherein the thixo ratio is 1.4 to 2.2. 粘度が、1〜50dPa・sであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物。   The white solder resist composition for spray coating according to any one of claims 1 to 4, wherein the viscosity is 1 to 50 dPa · s. 請求項1乃至5のいずれか1項に記載のスプレー塗装用白色ソルダーレジスト組成物をスプレー塗装したことを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board, wherein the white solder resist composition for spray coating according to any one of claims 1 to 5 is spray-coated.
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