JP2012148858A - Substrate floating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶ディスプレイ(LCD)その他のフラットパネルディスプレイ(FPD)等に用いられるガラス基板をエアにより浮上させる基板浮上装置に関する。 The present invention relates to a substrate levitating apparatus that levitates a glass substrate used for a liquid crystal display (LCD) or other flat panel display (FPD) by air.
従来、フォトリソグラフィ工程によりガラス基板(マザーガラス)にレジストパターニング等を行って液晶パネルを製造する製造工程や、ガラス基板を検査する検査工程において、マザーガラス基板をエアにより浮上させ、この非接触状態のマザーガラス基板を搬送部で保持して一定速度で搬送する浮上ステージが採用されている。 Conventionally, in a manufacturing process for manufacturing a liquid crystal panel by performing resist patterning on a glass substrate (mother glass) by a photolithography process or an inspection process for inspecting a glass substrate, the mother glass substrate is levitated by air, and this non-contact state A floating stage is used that holds the mother glass substrate by a transfer unit and transfers the mother glass substrate at a constant speed.
ガラス基板をエアにより浮上させて搬送する浮上ステージの場合、エア吐出孔が形成された浮上プレートを搬送方向に複数並べて配列し、浮上プレートのエア吐出孔からエアを吐出させることでガラス基板を浮上させている。 In the case of a levitation stage that levitates and conveys a glass substrate with air, a plurality of levitation plates with air discharge holes are arranged side by side in the conveyance direction, and the glass substrate is levitated by discharging air from the air discharge holes of the levitation plate. I am letting.
ガラス基板をエアにより浮上させる場合、ガラス基板に静電気が溜まってガラス基板と浮上ステージとの間に静電引力が作用することで、ガラス基板が浮上ステージに張り付く現象が生じる。このようにガラス基板が搬送中に浮上ステージに張り付くと、搬送部の保持部分とガラス基板との間に大きな力が加わりガラス基板が破損するという新たな問題が生じている。また、ガラス基板に静電気が溜まると、搬送中にガラス基板から静電気がスパークしてガラス基板が破壊することがある。 When a glass substrate is levitated by air, static electricity accumulates on the glass substrate and an electrostatic attractive force acts between the glass substrate and the levitating stage, thereby causing a phenomenon that the glass substrate sticks to the levitating stage. When the glass substrate sticks to the levitation stage during conveyance in this way, a new problem arises that a large force is applied between the holding portion of the conveyance unit and the glass substrate and the glass substrate is damaged. Moreover, when static electricity accumulates on the glass substrate, static electricity may spark from the glass substrate during transportation, and the glass substrate may be destroyed.
そのため、搬送路の上方にイオナイザを取付け、イオン化エアをガラス基板の上方から吹き付ける手法がとられている。
しかしながら、ガラス基板の上方からイオン化エアを吹き付けても、ガラス基板の裏面に溜まった静電気を有効に除去することができない。
Therefore, a method is adopted in which an ionizer is attached above the conveyance path and ionized air is blown from above the glass substrate.
However, even if ionized air is blown from above the glass substrate, static electricity accumulated on the back surface of the glass substrate cannot be effectively removed.
これらの問題を解決するために、イオナイザを浮上用エアの供給流路に配置し、浮上ステージの吐出孔からガラス基板の裏面に向けてイオン化エアを吹き付けてガラス基板を浮上させる手法がとられている(例えば、特許文献1及び2参照)。 In order to solve these problems, an ionizer is placed in the air supply flow path for levitation air, and a method is used in which the glass substrate is levitated by blowing ionized air from the discharge holes of the levitation stage toward the back surface of the glass substrate. (For example, see Patent Documents 1 and 2).
しかしながら、上記特許文献1及び2に記載されるように浮上用エアの供給流路にイオナイザを配置すると、発生したイオン化エアが配管・チャンバーといった経路を通過する際に中和或いは減衰するため、イオン化エアがガラス基板に到達する前に除電効率が低下するという問題がある。 However, as described in Patent Documents 1 and 2, when an ionizer is disposed in the supply flow path of the levitation air, the generated ionized air is neutralized or attenuated when passing through a route such as a pipe / chamber. There is a problem that the static elimination efficiency is lowered before the air reaches the glass substrate.
更には、イオナイザは、定期的な電極等のメンテナンスを要するため、上記特許文献1及び2に記載されるように浮上用エアの供給流路内にイオナイザを配置すると、メンテナンス性が悪いという問題もある。 Furthermore, since the ionizer requires regular maintenance of electrodes and the like, if the ionizer is disposed in the supply air flow path as described in Patent Documents 1 and 2, there is a problem that the maintainability is poor. is there.
本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、メンテナンス性を悪化させずに基板の除電効率を高めることができる基板浮上装置を提供する。 The subject of this invention provides the board | substrate floating apparatus which can raise the static elimination efficiency of a board | substrate, without degrading maintainability in view of the said conventional situation.
本発明の基板浮上装置は、基板の裏面に浮上用エアを吐出するエア浮上機構を有する浮上ステージと、前記浮上ステージの基板支持面に形成された収納空間と、イオン化エアを噴出す吐出孔が複数設けられた筒状を呈し、前記収納空間に配置され基板の裏面に対してイオン化エアを吹き付けるイオナイザと、を備える。 The substrate levitation apparatus of the present invention includes a levitation stage having an air levitation mechanism that ejects levitation air to the back surface of the substrate, a storage space formed on the substrate support surface of the levitation stage, and a discharge hole for ejecting ionized air. A plurality of ionizers that are arranged in the storage space and that blow ionized air against the back surface of the substrate.
本発明によれば、メンテナンス性を悪化させずに基板の除電効率を高めることができる。 According to the present invention, the neutralization efficiency of the substrate can be increased without deteriorating the maintainability.
以下、本発明の第1実施形態〜第4実施形態に係る基板浮上装置について、図面を参照しながら説明する。
<第1実施形態>
図1及び図2は、本発明の第1実施形態に係る基板浮上装置2を備える基板処理装置1を示す要部平面図及び要部左側面図である。
Hereinafter, substrate floating devices according to first to fourth embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<First Embodiment>
FIG.1 and FIG.2 is the principal part top view and principal part left view which show the substrate processing apparatus 1 provided with the substrate floating apparatus 2 which concerns on 1st Embodiment of this invention.
基板処理装置1は、フラットパネルディスプレイ(FPD)の製造ラインで製造される矩形状のガラス基板(マザーガラス基板)Sを浮上させ搬送方向に搬送する基板浮上装置2と、搬送方向と直交する方向に設けられた処理領域にてガラス基板Sに対して検査、修正、パターン転写などの処理を行う基板処理部を備えている。本実施形態では、基板処理部としてガラス基板S上の欠陥を検査する基板検査部を備えている。基板浮上装置2は、例えばガラス基板Sの裏面に浮上用エアを吐出するエア浮上機構を有する浮上ステージ2aと、浮上ステージ2a上に浮上したガラス基板Sを保持して搬送方向に搬送する基板搬送部2bと、浮上ステージ2aの基板支持面となる基板搬送面に形成された収納空間2cと、この収納空間2cに収納されガラス基板Sの裏面に向けてイオン化エアを吹き付けるイオナイザ3とを備える。 The substrate processing apparatus 1 includes a substrate levitation apparatus 2 that floats and transports a rectangular glass substrate (mother glass substrate) S manufactured in a flat panel display (FPD) production line in the transport direction, and a direction orthogonal to the transport direction. Is provided with a substrate processing unit that performs processing such as inspection, correction, and pattern transfer on the glass substrate S. In the present embodiment, a substrate inspection unit that inspects defects on the glass substrate S is provided as the substrate processing unit. The substrate levitation apparatus 2 includes, for example, a levitation stage 2a having an air levitation mechanism that discharges levitation air to the back surface of the glass substrate S, and a substrate conveyance that holds the glass substrate S levitated on the levitation stage 2a and conveys it in the conveyance direction. A part 2b, a storage space 2c formed on a substrate transport surface that serves as a substrate support surface of the levitation stage 2a, and an ionizer 3 that is stored in the storage space 2c and blows ionized air toward the back surface of the glass substrate S.
また、基板検査部は、本実施形態では、ガラス基板Sを検査する検査ヘッド4(二点鎖線で図示)、浮上ステージ2aを跨ぐように配置された門型のガントリ(二点鎖線で図示)5を備える。また浮上ステージ2aには、ガラス基板Sの端部又は中央部を吸着保持して搬送する基板搬送部2bと、ガラス基板Sを基準位置に位置決めする位置決め手段等を備える。本実施形態では、基板搬送部2bの一例として、矩形状に形成されたガラス基板Sの搬送方向と平行な1辺を保持する一例を示す。 Further, in this embodiment, the substrate inspection unit is an inspection head 4 for inspecting the glass substrate S (illustrated by a two-dot chain line), and a portal gantry (illustrated by a two-dot chain line) arranged so as to straddle the floating stage 2a. 5 is provided. The levitation stage 2a includes a substrate transport unit 2b that transports the glass substrate S by sucking and holding the end or center of the glass substrate S, positioning means for positioning the glass substrate S at a reference position, and the like. In the present embodiment, an example of holding one side parallel to the transport direction of the glass substrate S formed in a rectangular shape is shown as an example of the substrate transport unit 2b.
なお、本実施形態の基板搬送部2bは、搬送ロボット等により浮上ステージ2aの搬入位置に搬入されたガラス基板S(図1に示す位置のガラス基板S)の一辺を吸着保持し、浮上ステージ2aに沿って設けられたガイドレールに沿って移動し、浮上したガラス基板Sの処理領域となる基板検査領域Rに1回又は複数回往復移動させて検査ヘッド4による検査を行わせ、この検査終了後にガラス基板Sを再び搬入位置と同一位置である搬出位置に搬送する。基板搬送部2bにより搬出位置に戻されたガラス基板Sは、搬送ロボット等により浮上ステージ2a上から搬出される。 The substrate transport unit 2b according to the present embodiment sucks and holds one side of the glass substrate S (the glass substrate S at the position shown in FIG. 1) that has been transported to the transport position of the levitation stage 2a by a transport robot or the like. The inspection head 4 is inspected by moving it back and forth once or a plurality of times to the substrate inspection region R, which is the processing region of the glass substrate S that has floated, along the guide rail provided along the surface, and this inspection is completed. Later, the glass substrate S is transferred again to the carry-out position, which is the same position as the carry-in position. The glass substrate S returned to the carry-out position by the substrate carrying unit 2b is carried out from the floating stage 2a by a carrying robot or the like.
浮上ステージ2aは、上面に形成された吐出孔から浮上用エアを吐出する矩形タイル状の複数の搬送浮上用プレート2a−1のほか、本実施形態では、基板検査領域(処理領域)Rの全域に亘ってガラス基板Sを一定高さで水平に浮上させる精密浮上用プレート2a−2が配置されている。 The levitation stage 2a includes a plurality of transfer levitation plates 2a-1 having a rectangular tile shape for discharging levitation air from an ejection hole formed on the upper surface, and in the present embodiment, the entire substrate inspection region (processing region) R. A precision levitation plate 2a-2 for horizontally levitation of the glass substrate S at a constant height is disposed.
搬送浮上用プレート2a−1は、基板検査領域Rを挟んで基板搬送方向(Y軸方向)の両側のそれぞれにおいてにステージ幅方向(X軸方向)に所定の間隙を隔てて複数列に配置される。各列に配置される複数の搬送浮上用プレート2a−1は、基板搬送方向(Y軸方向)に密接して直線状に配置されている。各列の搬送浮上用プレート2a−1は、精密浮上用プレート2a−2との間に隙間がないように密接して配置されることが好ましい。 The transport levitation plates 2a-1 are arranged in a plurality of rows with a predetermined gap in the stage width direction (X-axis direction) on each side of the substrate transport direction (Y-axis direction) across the substrate inspection region R. The The plurality of transport levitation plates 2a-1 disposed in each row are arranged in a straight line in close contact with the substrate transport direction (Y-axis direction). It is preferable that the transport levitation plates 2a-1 in each row are arranged in close contact with each other so that there is no gap between them and the precision levitation plate 2a-2.
精密浮上用プレート2a−2は、基板検査領域Rを挟んで2つ配置され、ステージ幅方向(X軸方向)の長さが基板検査領域Rと同一となっている。本実施形態では、基板検査領域(処理領域)Rが直線状に貫通した空隙に構成されている。この空隙には、ガラス基板Sの裏面側から照明光を照射させる透過照明用光源が配置される。この空隙は、イオナイザ3を収納するライン状の収納空間として利用することが可能で、透過照明用光源の透過照明ラインと干渉しないように透過照明ラインに沿ってイオナイザ3を設けることができる。
この空隙の両側には、精密浮上用プレート2a−2が対向して配置されている。この場合、一対の精密浮上用プレート2a−2には、透過照明用の空隙に沿ってガラス基板Sの裏面を浮上高さに規制するローラを配置することが望ましい。このローラにより浮上圧が低下する透過照明用の空隙を通過するガラス基板Sを下側から支えることにより、ガラス基板Sの搬送先端部が精密浮上用プレート2a−2に衝突することを防止できる。
精密浮上用プレート2a−2は、ガラス基板Sの浮上高さを高精度に制御可能であれば搬送浮上用プレート2a−1をステージ幅方向に隙間なく複数配列させたものでもよい。この精密浮上用プレート2a−2は、搬送浮上用プレート2a−1のようにステージ幅方向(X軸方向)に所定の間隙を隔てない分、単位面積当たりの浮上用エアの吐出量が搬送浮上用プレート2a−1と同程度でも、ガラス基板Sを精密に浮上させることができる。また、検査、修正、パターン転写などの処理を行う処理領域が平らな場合、基板検査領域R(処理領域)の長手方向の長さと同等の長さに形成した一枚もので構成してもよい。吐出孔と吸引孔を形成し吸引作用により浮上高さを高精度に制御可能な専用の精密浮上用プレート2a−2であってもよい。この精密浮上ステージ2a−2は、基板検査領域Rに沿って隙間なく配置されていればよい。
基板検査部としては、ガラス基板S上の欠陥を拡大観察するレビュー装置、またはガラス基板S上をラインセンサで撮像してマクロ画像を取得するマクロ検査装置などがある。処理領域内でガラス基板Sを水平に支持する必要がある処理装置として、パターンを転写する露光装置、またはガラス基板S上の欠陥を修正するリペア装置などある。
Two precision levitation plates 2 a-2 are arranged across the substrate inspection region R, and the length in the stage width direction (X-axis direction) is the same as that of the substrate inspection region R. In the present embodiment, the substrate inspection region (processing region) R is configured as a gap penetrating linearly. In this gap, a light source for transmission illumination that irradiates illumination light from the back side of the glass substrate S is arranged. This gap can be used as a line-shaped storage space for storing the ionizer 3, and the ionizer 3 can be provided along the transmission illumination line so as not to interfere with the transmission illumination line of the light source for transmission illumination.
On both sides of this gap, precision levitation plates 2a-2 are arranged to face each other. In this case, it is desirable to dispose a roller that regulates the back surface of the glass substrate S to the flying height along the gap for transmitted illumination in the pair of precision floating plates 2a-2. By supporting the glass substrate S that passes through the gap for transmission illumination whose levitation pressure is reduced by this roller from the lower side, it is possible to prevent the conveyance tip of the glass substrate S from colliding with the precision levitation plate 2a-2.
As long as the flying height of the glass substrate S can be controlled with high precision, the precision flying plate 2a-2 may be a plurality of the flying plates 2a-1 arranged in the stage width direction without any gaps. This precision levitation plate 2a-2 has the amount of discharge of levitation air per unit area that is not separated by a predetermined gap in the stage width direction (X-axis direction) unlike the conveyance levitation plate 2a-1. The glass substrate S can be precisely levitated even with the same degree as the plate 2a-1. Further, when the processing area for performing processing such as inspection, correction, and pattern transfer is flat, it may be constituted by a single sheet formed to have a length equivalent to the length in the longitudinal direction of the substrate inspection area R (processing area). . It may be a dedicated precision levitation plate 2a-2 in which discharge holes and suction holes are formed and the flying height can be controlled with high accuracy by suction. The precision levitation stage 2a-2 only needs to be arranged along the substrate inspection region R without a gap.
Examples of the substrate inspection unit include a review device that magnifies and observes defects on the glass substrate S, or a macro inspection device that captures a macro image by imaging the glass substrate S with a line sensor. Examples of the processing apparatus that needs to support the glass substrate S horizontally in the processing region include an exposure apparatus that transfers a pattern, a repair apparatus that corrects defects on the glass substrate S, and the like.
イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬出入位置(図1に示すガラス基板Sの位置)において、複数列に配置された搬送浮上用プレート2a−1間により形成されたライン状の収納空間2c、即ちステージ幅方向(X軸方向)における間隙に配置される。本実施形態の場合、4列に配列された搬送浮上用プレート2a−1の間に形成された3つのライン状の収納空間(間隙)2cにそれぞれイオナイザ3が配置されている。イオナイザ3は、細長い筒状を呈し、長手方向の表面にイオン化エアを噴出す吐出孔3aが複数設けられている。このイオナイザ3は、吐出孔3aの上端が浮上ステージ2aの上面より下方になるように収納空間2c内に収納される。
本実施形態に採用されるイオナイザ3は、基板搬送方向(Y軸方向)にガラス基板Sと同程度の長さで延びる細長い筒状を呈する。イオナイザ3は、上方に開口するように一定間隔で設けられた吐出孔3a(図1では一部のみ図示)からイオン化エアを直接的にガラス基板Sの裏面に吹き付けるもので、イオン化エアと浮上用エアとは流路が互いに独立している。イオナイザ3を収納するライン状の収納空間2cは、イオナイザ3の吐出孔3aの先端が浮上ステージ2aの上面(ガラス基板Sの浮上支持面)より下になる深さ寸法に形成されていればよい。好ましくは、吐出孔3aの先端が浮上ステージ2aの上面(浮上面)に対して数ミリから数十ミリ(例えば、1mmから50mm、好ましくは1mmから10mm)程離れるようにイオナイザ3を配置することで、ガラス基板Sとの干渉を防ぎ、かつガラス基板S裏面にイオン化エアを良好に吹き付けることができる。
The ionizer 3 is a line-shaped storage space 2c formed between the conveying and floating plates 2a-1 arranged in a plurality of rows at the loading / unloading position of the glass substrate S (the position of the glass substrate S shown in FIG. 1). Arranged in the gap in the stage width direction (X-axis direction). In the case of this embodiment, the ionizers 3 are respectively arranged in three line-shaped storage spaces (gap) 2c formed between the conveying and floating plates 2a-1 arranged in four rows. The ionizer 3 has an elongated cylindrical shape, and a plurality of discharge holes 3a for ejecting ionized air are provided on the surface in the longitudinal direction. The ionizer 3 is stored in the storage space 2c so that the upper end of the discharge hole 3a is below the upper surface of the floating stage 2a.
The ionizer 3 employed in the present embodiment has an elongated cylindrical shape that extends in the substrate transport direction (Y-axis direction) with the same length as the glass substrate S. The ionizer 3 blows ionized air directly onto the back surface of the glass substrate S from discharge holes 3a (only a part of which is shown in FIG. 1) provided at regular intervals so as to open upward. The flow paths are independent of air. The linear storage space 2c for storing the ionizer 3 only needs to be formed to have a depth dimension such that the tip of the discharge hole 3a of the ionizer 3 is below the upper surface of the floating stage 2a (the floating support surface of the glass substrate S). . Preferably, the ionizer 3 is arranged so that the tip of the discharge hole 3a is separated from the upper surface (floating surface) of the levitation stage 2a by several millimeters to several tens of millimeters (for example, 1 mm to 50 mm, preferably 1 mm to 10 mm). Thus, interference with the glass substrate S can be prevented, and ionized air can be favorably sprayed on the back surface of the glass substrate S.
なお、図3に示すように、イオナイザ3を水平方向(Y軸方向)や鉛直方向(Z軸方向)に移動させるイオナイザ移動機構や、イオナイザ3をその長手方向を中心に回動させるイオナイザ回動機構を配置することで、例えば、イオン化エアの吹き付け位置を調整したり、ガラス基板Sの裏面とイオナイザ3との距離を調整したり、イオン化エアの吹き付け方向を調整したりすることができる。 As shown in FIG. 3, an ionizer moving mechanism that moves the ionizer 3 in the horizontal direction (Y-axis direction) or the vertical direction (Z-axis direction), or an ionizer rotation that rotates the ionizer 3 about its longitudinal direction. By arranging the mechanism, for example, the ionization air spray position can be adjusted, the distance between the back surface of the glass substrate S and the ionizer 3 can be adjusted, or the ionization air spray direction can be adjusted.
また、イオナイザ回転機構に代えて、イオナイザ3の吐出孔3aを複数方向(例えば、鉛直上方向や、そこから傾斜した方向など)に開口するように形成してもよい。このようにすることで、複雑な回転機構を設けることなく互いに異なる2以上の方向からイオン化エアをガラス基板Sの裏面に同時に吹き付けることができる。また、イオナイザ3は、例えば、円筒状ではなく断面矩形の角パイプ等を用いて構成してもよい。 Further, instead of the ionizer rotating mechanism, the discharge holes 3a of the ionizer 3 may be formed so as to open in a plurality of directions (for example, a vertically upward direction, a direction inclined therefrom). By doing in this way, ionized air can be simultaneously sprayed on the back surface of the glass substrate S from two or more different directions without providing a complicated rotation mechanism. Further, the ionizer 3 may be configured using, for example, a rectangular pipe having a rectangular cross section instead of a cylindrical shape.
基板検査部を構成する検査ヘッド4は、顕微鏡や撮像部などからなる。なお、基板検査部として、浮上ステージ2aの幅方向(X軸方向)に平行な検査領域をライン状に撮像するラインセンサを用いてもよい。また、基板検査部は、検査ヘッド4にレーザリペアに用いるレーザ照射部等を配置したものであってもよい。 The inspection head 4 constituting the substrate inspection unit includes a microscope and an imaging unit. In addition, as a board | substrate test | inspection part, you may use the line sensor which images the test | inspection area | region parallel to the width direction (X-axis direction) of the floating stage 2a in a line form. Further, the substrate inspection unit may be one in which a laser irradiation unit or the like used for laser repair is arranged on the inspection head 4.
検査ヘッド4は、ガントリ5の水平アーム部側面に設けられた図示しないガイドに沿って例えばリニアモータ駆動により浮上ステージ2aの幅方向(X軸方向)に移動自在となっている。そのため、検査ヘッド4は、図示しない基板搬送部によって基板搬送方向(Y軸方向)に移動するガラス基板Sの全体を検査することが可能となっている。なお、ガントリ5をY軸方向に移動可能な構成とした場合には、ガラス基板Sを基準位置に固定した状態で検査が可能になるため、基板搬送部2bを省略することができる。また、本実施形態では、本基板浮上装置2を基板検査装置である基板処理装置1に適用した例を述べたが、本基板浮上装置2を露光装置、リペア装置などにも適用することができる。 The inspection head 4 is movable in the width direction (X-axis direction) of the levitation stage 2a along, for example, a linear motor drive along a guide (not shown) provided on the side surface of the horizontal arm portion of the gantry 5. Therefore, the inspection head 4 can inspect the entire glass substrate S moving in the substrate transport direction (Y-axis direction) by a substrate transport unit (not shown). When the gantry 5 is configured to be movable in the Y-axis direction, the inspection can be performed with the glass substrate S fixed at the reference position, so that the substrate transport unit 2b can be omitted. In the present embodiment, the substrate floating apparatus 2 is applied to the substrate processing apparatus 1 as a substrate inspection apparatus. However, the substrate floating apparatus 2 can also be applied to an exposure apparatus, a repair apparatus, and the like. .
以下、基板処理装置1の動作について説明する。
まず、図示しない搬送ロボットによってガラス基板Sが浮上ステージ2a上の搬入位置に搬入される。この搬入時には、リフタが浮上ステージ2aよりも上方に上昇して、搬送ロボットからリフタにガラス基板Sが受け渡される。搬送ロボットのハンドがガラス基板Sと浮上ステージ2aとの間から引き抜かれると、リフタが下降してガラス基板Sが浮上ステージ2aの搬入位置に浮上した状態で載置される。
Hereinafter, the operation of the substrate processing apparatus 1 will be described.
First, the glass substrate S is carried into a carry-in position on the floating stage 2a by a carrying robot (not shown). At the time of carrying in, the lifter rises above the floating stage 2a, and the glass substrate S is delivered from the transfer robot to the lifter. When the hand of the transfer robot is pulled out from between the glass substrate S and the floating stage 2a, the lifter is lowered and the glass substrate S is placed in a state where it floats to the carry-in position of the floating stage 2a.
浮上ステージ2a上に浮上したガラス基板Sは、整列手段等により基準位置にアライメントされる。基準位置にアライメントされたガラス基板Sは、基板搬送部2bの吸着パッドにより吸着保持される。 The glass substrate S that has floated on the floating stage 2a is aligned to a reference position by an alignment means or the like. The glass substrate S aligned at the reference position is sucked and held by the suction pad of the substrate transport unit 2b.
イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬出入位置に配置されているため、ガラス基板Sが浮上ステージ2a上に載置されたときからイオン化エアをガラス基板Sの裏面に直接吹き付けることが可能である。これにより、イオナイザ3は、前工程の装置でガラス基板Sが帯電していても、搬入段階で静電気を確実に除去することができる。 Since the ionizer 3 is disposed at the loading / unloading position of the glass substrate S, it is possible to blow ionized air directly on the back surface of the glass substrate S from when the glass substrate S is placed on the floating stage 2a. Thereby, even if the glass substrate S is charged in the apparatus of the previous process, the ionizer 3 can reliably remove static electricity at the carry-in stage.
基板搬送部2bは、浮上ステージ2の一方側面に設けられたガイドレールに沿って往復移動可能に設けれ、ガラス基板Sを基板検査領域Rに1回又は複数回往復させる。基板検査領域Rにおいては、検査ヘッド4がガントリ5の水平アーム部に沿ってX軸方向に適宜移動しながら拡大観察その他の検査を行う。検査が終了すると、基板搬送部2bは、再び搬入位置と同一位置である搬出位置にガラス基板Sを戻して、基板搬送部2bによる吸着を解除した後にリフタ、搬送ロボット等により基板処理装置1外に搬出させる。なお、イオナイザ3は、ガラス基板Sが基板処理装置1に搬入されてから搬出されるまでの間、連続的にイオン化エアを吐出し続ける構成としてもよい。また、イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬入時、搬出時、検査直前等に限定してイオン化エアを吐出する構成としてもよい。 The substrate transport unit 2b is provided so as to be able to reciprocate along a guide rail provided on one side surface of the levitation stage 2, and reciprocates the glass substrate S to the substrate inspection region R one or more times. In the substrate inspection region R, the inspection head 4 performs enlargement observation and other inspections while appropriately moving along the horizontal arm portion of the gantry 5 in the X-axis direction. When the inspection is completed, the substrate transport unit 2b returns the glass substrate S to the carry-out position, which is the same position as the carry-in position, and after releasing the suction by the substrate transport unit 2b, the substrate transport unit 2b is moved outside the substrate processing apparatus 1 by a lifter, a transport robot, To unload. The ionizer 3 may be configured to continuously discharge ionized air from when the glass substrate S is loaded into the substrate processing apparatus 1 until it is unloaded. Moreover, the ionizer 3 is good also as a structure which discharges ionization air only at the time of carrying in of the glass substrate S, carrying out, immediately before a test | inspection.
以上説明した本実施形態では、イオナイザ3は、複数列に配列された搬送浮上用プレート2a−1間の収納空間に配置され、ガラス基板Sの裏面に対してイオン化エアを直接吹き付ける。そのため、従来のように浮上用エアの供給流路にイオナイザ3を配置する場合に比べ、イオンがガラス基板Sに到達する前に中和或いは減少するのを防ぐことができる。また、イオナイザ3がエア浮上機構とは独立して浮上用プレート2a−1の収納空間2cに配置されているため、浮上ステージ2aを分解することなく浮上ステージ2aの上方からイオナイザ3の電極などの交換やメンテナンスが簡単に実施することができる。よって、本実施形態によれば、メンテナンス性を悪化させずにガラス基板Sの除電効率を高めることができる。 In the present embodiment described above, the ionizer 3 is arranged in the storage space between the transport levitation plates 2a-1 arranged in a plurality of rows, and directly blows ionized air against the back surface of the glass substrate S. Therefore, it is possible to prevent the ions from being neutralized or reduced before reaching the glass substrate S, as compared with the case where the ionizer 3 is arranged in the supply flow path of the levitation air as in the prior art. Further, since the ionizer 3 is disposed in the storage space 2c of the levitation plate 2a-1 independently of the air levitation mechanism, the electrodes of the ionizer 3 and the like can be viewed from above the levitation stage 2a without disassembling the levitation stage 2a. Replacement and maintenance can be performed easily. Therefore, according to this embodiment, the static elimination efficiency of the glass substrate S can be improved without deteriorating the maintainability.
また、本実施形態では、イオナイザ3を複数の搬送浮上用プレート2a−1間の間隙に配置することにより、浮上ステージ2aを組み立てた後に、イオナイザ3を所望の位置に簡単に取り付けることができるとともに、メンテナンスの際にイオナイザ3を浮上ステージ2aの上方側から簡単に取り外して交換することができる。
また、本実施形態では、イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬送方向(Y軸方向)に延びる。そのため、基板搬送方向(Y軸方向)に亘ってガラス基板Sの除電を行うことができ、したがって、除電効率をより高めることができる。
In the present embodiment, the ionizer 3 can be easily attached to a desired position after assembling the levitation stage 2a by disposing the ionizer 3 in the gap between the plurality of transport levitation plates 2a-1. During the maintenance, the ionizer 3 can be easily removed and replaced from the upper side of the floating stage 2a.
In the present embodiment, the ionizer 3 extends in the transport direction (Y-axis direction) of the glass substrate S. For this reason, the glass substrate S can be neutralized in the substrate transport direction (Y-axis direction), and therefore the neutralization efficiency can be further improved.
また、本実施形態では、イオナイザ3は、ガラス基板Sの搬入位置及び搬出位置(本実施形態では互いに同一位置)に配置される。イオナイザ3をガラス基板Sの搬入位置に設けることにより、ガラス基板Sの搬入と同時に前工程の装置(上流側装置)で帯電したガラス基板Sをイオナイザ3により除電することができる。また、イオナイザ3をガラス基板Sの搬出位置に設けることにより、ガラス基板Sの搬出と同時に本基板処理装置1内で帯電したガラス基板Sをイオナイザ3で除電し次工程の装置に送り出すことができる。なお、搬送ロボットで搬入する場合には、搬送ロボットを基板処理装置1の横に配置し、イオナイザ3の長手方向と交差する方向から搬送ロボットのハンドを出し入れするとよい。このように搬送ロボットのハンドの直進方向に対してイオナイザ3が交差して配置されることで、搬送ロボットによるガラス基板Sの搬入時又は搬出時に基板裏面側からイオン化エアを吹き付けて除電することが可能になり、ガラス基板Sとともに搬送ロボットも同時に除電することができる。 Moreover, in this embodiment, the ionizer 3 is arrange | positioned in the carrying-in position and carrying-out position (this embodiment mutually the same position) of the glass substrate S. By providing the ionizer 3 at the position where the glass substrate S is carried in, the glass substrate S charged by the previous process device (upstream device) can be discharged by the ionizer 3 simultaneously with the loading of the glass substrate S. Further, by providing the ionizer 3 at the unloading position of the glass substrate S, the glass substrate S charged in the substrate processing apparatus 1 at the same time as the unloading of the glass substrate S can be discharged by the ionizer 3 and sent to the next process apparatus. . In the case of carrying in by the transfer robot, the transfer robot may be placed beside the substrate processing apparatus 1 and the transfer robot hand may be taken in and out from the direction intersecting the longitudinal direction of the ionizer 3. In this way, by disposing the ionizer 3 so as to intersect the straight direction of the hand of the transfer robot, ionization air can be blown from the back side of the substrate when the glass substrate S is carried in or out by the transfer robot to eliminate static electricity. It becomes possible, and the transfer robot as well as the glass substrate S can be discharged at the same time.
また、イオナイザ3の吐出孔3aを複数方向に開口するように形成することで、互いに異なる2以上の方向からイオン化エアを基板裏面の広い範囲に吹き付けることができ、除電効率をより高めることができる。 Further, by forming the discharge holes 3a of the ionizer 3 so as to open in a plurality of directions, ionized air can be blown over a wide area on the back surface of the substrate from two or more different directions, and the charge removal efficiency can be further improved. .
なお、本実施形態では、イオナイザ3は、ステージ幅方向(X軸方向)における搬送浮上用プレート2a−1間の間隙の全てに配置されているが、イオナイザ3は1つ以上配置すればよい。
また、本実施形態では、矩形タイル状の複数の搬送浮上用プレート2a−1を複数列に配列させた浮上ステージ2aの一例を示したが、ガラス基板Sと同等の大きさの一枚の浮上プレートにより浮上ステージを構成してもよい。この一枚で構成した浮上ステージを使用した場合、イオナイザを収納するライン状の収納空間として、浮上プレート上にイオナイザを埋設できる程度の深い溝を形成することで実現可能である。この浮上ステージをガントリ移動の固定式浮上ステージに採用した場合、イオナイザを収納するライン状の収納空間となる収納用溝を放射状、格子状又は環状に形成し、これら収納用溝にイオナイザを取り付けることにより、ガラス基板Sの裏面全域にイオン化エアを良好に供給できる。
In the present embodiment, the ionizers 3 are arranged in all the gaps between the conveying and floating plates 2a-1 in the stage width direction (X-axis direction), but one or more ionizers 3 may be arranged.
In the present embodiment, an example of the floating stage 2a in which a plurality of rectangular floating tiles 2a-1 are arranged in a plurality of rows is shown. However, a single floating surface having the same size as the glass substrate S is shown. The levitation stage may be constituted by a plate. In the case of using this single floating table, it can be realized by forming a groove that is deep enough to embed the ionizer on the floating plate as a linear storage space for storing the ionizer. When this levitation stage is used as a fixed levitation stage for gantry movement, storage grooves that form a linear storage space for storing the ionizer are formed in a radial, grid or annular shape, and the ionizer is attached to these storage grooves. Thus, ionized air can be satisfactorily supplied to the entire back surface of the glass substrate S.
<第2実施形態>
図4は、本発明の第2実施形態に係る基板浮上装置2を備える基板処理装置11を示す要部平面図である。
本実施形態では、ガラス基板Sの搬入位置が搬出位置と異なる構成、即ちガラス基板Sを上流から下流の一方向(図3の左から右)のみに搬送する構成、並びに、ガラス基板Sの搬入位置(上流側搬送路)及び搬出位置(下流側搬送路)のそれぞれにイオナイザ12,13を配置した構成において、上述の第1実施形態と主に相違し、その他の点は概ね同様であるため、同様の点については、図4に図1〜図3と同一の符号を付して説明を省略する。
Second Embodiment
FIG. 4 is a plan view of a principal part showing a substrate processing apparatus 11 including the substrate floating apparatus 2 according to the second embodiment of the present invention.
In the present embodiment, the glass substrate S is loaded at a different position from the carry-out position, that is, the glass substrate S is transported only in one direction from the upstream to the downstream (from left to right in FIG. 3), and the glass substrate S is loaded. The configuration in which the ionizers 12 and 13 are arranged at the position (upstream side conveyance path) and the carry-out position (downstream side conveyance path), respectively, is mainly different from the above-described first embodiment, and the other points are almost the same. For the same points, the same reference numerals as those in FIGS. 1 to 3 are attached to FIG.
ガラス基板Sの搬入位置(図4のガラス基板S−1)側のイオナイザ12は、複数列(例えば4列)に配置された各列の搬送浮上用プレート2a間に形成されたライン状の収納空間(間隙)2cにそれぞれ(例えば計3本)配置されている。また、イオナイザ12は、浮上ステージ2aの搬入側端部近傍から搬入側の精密浮上用プレート2a−2の近傍まで延びる細長い筒状を呈する。イオナイザ12には、上方に開口するように一定間隔で吐出孔12aが設けられている。 The ionizer 12 on the side of the glass substrate S loading position (glass substrate S-1 in FIG. 4) is a linear storage formed between the transport and levitation plates 2a arranged in a plurality of rows (for example, 4 rows). Each (for example, a total of three) is arranged in each space (gap) 2c. The ionizer 12 has an elongated cylindrical shape extending from the vicinity of the carry-in side end of the levitation stage 2a to the vicinity of the carry-in precision levitation plate 2a-2. The ionizer 12 is provided with discharge holes 12a at regular intervals so as to open upward.
イオナイザ12は、浮上ステージ2aの搬入側端部近傍から搬入側の精密浮上用プレート2a−2の近傍に亘って配置されているため、搬入時から検査前までガラス基板Sの裏面に直接イオン化エアを吹き付けることができる。 Since the ionizer 12 is arranged from the vicinity of the carry-in side end of the levitation stage 2a to the vicinity of the carry-in precision levitation plate 2a-2, ionized air is directly applied to the back surface of the glass substrate S from the time of carry-in to before the inspection. Can be sprayed.
ガラス基板Sの搬出位置(図4のガラス基板S−2)側のイオナイザ13も、複数列(例えば4列)に配列された搬送浮上用プレート2a−1間に形成されたライン状の収納空間(間隙)2cにそれぞれ(例えば計3本)配置されている。また、イオナイザ13は、搬出側の精密浮上用プレート2a−2の近傍から浮上ステージ2aの搬出側端部近傍まで延びる細長い筒状を呈する。イオナイザ13にも、上方に開口するように一定間隔で吐出孔13aが設けられている。 The storage space in the form of a line formed between the transport and levitation plates 2a-1 arranged in a plurality of rows (for example, 4 rows) also for the ionizer 13 on the side where the glass substrate S is unloaded (glass substrate S-2 in FIG. 4). Each (for example, a total of three) is disposed in each (gap) 2c. Further, the ionizer 13 has an elongated cylindrical shape extending from the vicinity of the carry-out side precision levitation plate 2a-2 to the vicinity of the carry-out side end of the levitation stage 2a. The ionizer 13 is also provided with discharge holes 13a at regular intervals so as to open upward.
また、イオナイザ13は、搬出側の精密浮上用プレート2a−2の近傍から浮上ステージ2aの搬出側端部近傍に亘って配置されているため、検査後から搬出時までガラス基板Sの裏面に直接イオン化エアを吹き付けることができる。 Further, since the ionizer 13 is disposed from the vicinity of the carry-out precision levitating plate 2a-2 to the vicinity of the carry-out end of the levitation stage 2a, the ionizer 13 is directly attached to the back surface of the glass substrate S from the inspection to the carry-out. Ionized air can be blown.
以上説明した第2実施形態によっても、イオナイザ12,13は、搬送浮上用プレート2a−1等から構成されるエア浮上機構とは独立して配置され、ガラス基板Sの裏面に対してイオン化エアを直接吹き付ける。よって、本実施形態によっても、メンテナンス性を悪化させずにガラス基板Sの除電効率を高めることができる。 Also according to the second embodiment described above, the ionizers 12 and 13 are arranged independently of the air levitation mechanism including the conveyance levitation plate 2a-1 and the like, and ionized air is applied to the back surface of the glass substrate S. Spray directly. Therefore, also by this embodiment, the static elimination efficiency of the glass substrate S can be improved without deteriorating the maintainability.
また、本実施形態では、ガラス基板Sの搬入位置(上流側搬送路)及び搬出位置(下流側搬送路)にイオナイザ12,13を配置することにより、前工程の装置で帯電したガラス基板Sを除電した状態で安全に検査でき、かつ本基板処理装置内で搬送中に帯電したガラス基板Sを除電した状態で次工程の装置に安全に搬出することができる。 In the present embodiment, the ionizers 12 and 13 are arranged at the carry-in position (upstream conveyance path) and the carry-out position (downstream conveyance path) of the glass substrate S, so that the glass substrate S charged by the apparatus in the previous process is disposed. It can be safely inspected in the state of charge removal, and can be safely carried out to the next process apparatus in the state of charge removal of the glass substrate S charged during conveyance in the substrate processing apparatus.
<第3実施形態>
図5は、本発明の第3実施形態に係る基板浮上装置2を備える基板処理装置21を示す要部平面図である。
本実施形態では、ガラス基板Sの搬送方向に対してイオナイザを直交する方向に配置した例である。例えば、前工程(上流側装置)から搬送されてきたガラス基板Sを一方向に搬送しながら検査して次工程(下流側装置)に搬出するインライン方式の基板検査装置である基板処理装置21に基板浮上装置2を適用した例で説明する。イオナイザ22,23,24,25の配置構成において、上述の第1及び第2実施形態と主に相違し、その他の点は概ね同様であるため、同様の点については、図5に図1〜図4と同一の符号を付して説明を省略する。
<Third Embodiment>
FIG. 5 is a plan view of an essential part showing a substrate processing apparatus 21 including the substrate floating apparatus 2 according to the third embodiment of the present invention.
In the present embodiment, an ionizer is arranged in a direction orthogonal to the conveyance direction of the glass substrate S. For example, the substrate processing apparatus 21 which is an inline-type substrate inspection apparatus that inspects the glass substrate S conveyed from the previous process (upstream apparatus) while conveying it in one direction and carries it out to the next process (downstream apparatus). An example in which the substrate floating apparatus 2 is applied will be described. The arrangement of the ionizers 22, 23, 24, and 25 is mainly different from the above-described first and second embodiments, and the other points are substantially the same. For the same points, FIG. The same reference numerals as those in FIG.
基板浮上装置2は、基板製造工程の搬送ラインの一部に配置され、上流側から送られてきたガラス基板Sを基板処理部に搬送し、処理部で処理されたガラス基板Sを下流側に搬出する。イオナイザ22は、上流側の搬送ラインとの連結部分となる上流側の搬送浮上用プレート2a−1の搬入側端部に形成されたライン状の収納空間にガラス基板Sの搬送方向と交差する方向に配置される。また、本実施形態では、下流側の搬送ラインとの連結部となる下流側の搬送浮上用プレート2a−1の搬出側端部に形成されたライン状の収納空間にイオナイザ23を配置している。さらに搬入側の搬送浮上用プレート2a-1と精密浮上用プレート2a−2との間の連結部に形成されたライン状の収納空間、または搬出側の搬送浮上用プレート2a−1と精密浮上用プレート2a−2との間の連結部に形成されたライン状の収納空間にイオナイザ24、25を配置している。 The substrate levitation apparatus 2 is arranged in a part of the conveyance line of the substrate manufacturing process, conveys the glass substrate S sent from the upstream side to the substrate processing unit, and moves the glass substrate S processed by the processing unit to the downstream side. Take it out. The ionizer 22 intersects with the conveyance direction of the glass substrate S in a line-shaped storage space formed at the carry-in side end of the upstream conveyance levitation plate 2a-1 that becomes a connection portion with the upstream conveyance line. Placed in. Moreover, in this embodiment, the ionizer 23 is arrange | positioned in the linear storage space formed in the carrying-out side edge part of the downstream conveyance floating plate 2a-1 used as a connection part with a downstream conveyance line. . Further, a line-shaped storage space formed in a connecting portion between the carry-in transfer levitation plate 2a-1 and the precision levitation plate 2a-2, or the carry-out transfer levitation plate 2a-1 and the precision levitation plate Ionizers 24 and 25 are arranged in a line-shaped storage space formed at the connecting portion between the plate 2a-2.
イオナイザ22,23,24,25は、いずれも、基板搬送方向(Y軸方向)に交差する方向としてのステージ幅方向(X軸方向)に延びる細長い筒状を呈し、上方に開口するように一定間隔で吐出孔22a〜25aが設けられている。
本実施形態では、イオナイザ22,23,24,25を収納するライン状の収納空間をガラス基板Sの搬送方向に対して交差するように設けたが、この収納空間の長手方向(X軸方向)に沿って所定の間隔にローラを配置することが望ましい。各ローラは、浮上ステージ2aの上面に対してガラス基板Sの浮上高さと同じになるように突出して設けられればよい。ローラを収納空間の両側に配列させることにより、収納空間部分で浮上圧が低下してもガラス基板Sの先端辺をローラで水平に支持して安全に搬送させることができる。少なくとも収納空間の下流側にローラを配列させることで、収納空間部分で浮上圧が低下してガラス基板Sの先端辺の浮上高さが低下しても、ローラの曲面にガラス基板Sの先端辺が当接して浮上高さ位置に戻されるため、ガラス基板Sを安全に搬送することができる。
Each of the ionizers 22, 23, 24, and 25 has an elongated cylindrical shape extending in the stage width direction (X-axis direction) as a direction intersecting the substrate transport direction (Y-axis direction), and is constant so as to open upward. Discharge holes 22a to 25a are provided at intervals.
In the present embodiment, the line-shaped storage space for storing the ionizers 22, 23, 24, and 25 is provided so as to intersect the transport direction of the glass substrate S. However, the longitudinal direction of the storage space (X-axis direction) It is desirable to arrange rollers at predetermined intervals along the line. Each roller may be provided so as to protrude from the upper surface of the floating stage 2a so as to be the same as the flying height of the glass substrate S. By arranging the rollers on both sides of the storage space, the tip side of the glass substrate S can be horizontally supported by the roller and transported safely even if the flying pressure drops in the storage space. By arranging the rollers at least on the downstream side of the storage space, even if the flying pressure decreases in the storage space portion and the flying height of the front end side of the glass substrate S decreases, the front end side of the glass substrate S on the curved surface of the roller Is brought into contact and returned to the flying height position, so that the glass substrate S can be safely transported.
イオナイザ22は搬入位置にてガラス基板S−1の裏面に直接イオン化エアを吹き付けることができ、イオナイザ23は搬出位置にてガラス基板S−2の裏面に直接イオン化エアを吹き付けることができる。
また、イオナイザ24,25は、基板検査領域Rの少なくとも上流側でガラス基板Sの裏面にイオン化エアを吹き付けて除電することができ、静電吸引作用の影響を受けることなく基板検査領域Rにおけるガラス基板Sの浮上精度を高めることができる。
The ionizer 22 can spray ionized air directly on the back surface of the glass substrate S-1 at the carry-in position, and the ionizer 23 can spray ionized air directly on the back surface of the glass substrate S-2 at the carry-out position.
Further, the ionizers 24 and 25 can discharge electricity by blowing ionized air on the back surface of the glass substrate S at least upstream of the substrate inspection region R, and the glass in the substrate inspection region R is not affected by the electrostatic attraction action. The flying accuracy of the substrate S can be increased.
以上説明した本実施形態によっても、イオナイザ22〜25は、搬送浮上用プレート2a−1等から構成される浮上ステージ2aとは独立して配置され、ガラス基板Sの裏面に対してイオン化エアを直接吹き付ける。よって、本実施形態によっても、メンテナンス性を悪化させずにガラス基板Sの除電効率を高めることができる。 Also according to the present embodiment described above, the ionizers 22 to 25 are arranged independently of the floating stage 2a composed of the conveying and floating plate 2a-1 and the like, and ionized air is directly applied to the back surface of the glass substrate S. Spray. Therefore, also by this embodiment, the static elimination efficiency of the glass substrate S can be improved without deteriorating the maintainability.
また、本実施形態では、イオナイザ22〜25は、基板搬送方向(Y軸方向)に直交するステージ幅方向(X軸方向)に延びる。そのため、ガラス基板Sの搬送中にガラス基板Sの裏側全面に亘ってイオン化エアを吹き付けることができ、したがって、除電効率をより高めることができる。 In the present embodiment, the ionizers 22 to 25 extend in the stage width direction (X-axis direction) orthogonal to the substrate transport direction (Y-axis direction). Therefore, ionized air can be blown over the entire back side of the glass substrate S during the conveyance of the glass substrate S, and therefore the charge removal efficiency can be further increased.
また、本実施形態では、イオナイザ22を浮上ステージ2の搬入側端部に配置することで、上流で帯電したガラス基板Sを装置内に送り込みながら除電することができる。また、イオナイザ23を浮上ステージ2aの搬出側端部に配置することで、装置内で帯電したガラス基板Sを除電しながら下流側に搬出することができる。このようにイオナイザ22,23を搬送方向と交差する方向に配置することにより、ガラス基板Sを搬送しながらガラス基板Sの裏面全面に亘ってイオン化エアを吹き付けることができ、したがって、除電効率をより高めることができる。イオナイザは、浮上ステージ2aの搬入側端部または搬出側端部のいずれか一方の端部に設けられればよいが、浮上ステージ2aの搬入端部に設けることが好ましい。 Further, in the present embodiment, by disposing the ionizer 22 at the carry-in side end of the levitation stage 2, it is possible to remove electricity while feeding the glass substrate S charged upstream into the apparatus. Further, by arranging the ionizer 23 at the carry-out side end of the levitation stage 2a, the glass substrate S charged in the apparatus can be carried out to the downstream side while removing electricity. By disposing the ionizers 22 and 23 in the direction intersecting the transport direction in this way, ionized air can be blown over the entire back surface of the glass substrate S while transporting the glass substrate S, and thus the charge removal efficiency is further improved. Can be increased. The ionizer may be provided at either the end of the carry-in side or the carry-out side of the levitation stage 2a, but is preferably provided at the carry-in end of the levitation stage 2a.
また、本実施形態では、イオナイザ24,25は、基板検査領域Rの両側に配置された精密浮上用ステージ2a−2、2a−2に沿って配置されているため、高精度な浮上高さが要求される基板検査領域Rの近傍で除電し静電引力による影響を取り除くことができる。これによりガラス基板Sが静電吸引により浮上ステージ2a側に引き寄せられるのを確実に防ぐことができ、したがって、検査ヘッド4の顕微鏡の焦点がガラス基板S表面からずれるのを抑えることができるなど、検査精度を高めることができる。イオナイザは、基板検査領域(処理領域)の搬入側か搬出側の一方に配置されていればよい。また、浮上ステージ2aの搬入側端部にイオナイザ22が設けられている場合、基板検査領域(処理領域)との連結部分に配置されるイオナイザ24,25を省略してもよい。 In the present embodiment, the ionizers 24 and 25 are arranged along the precision levitation stages 2a-2 and 2a-2 arranged on both sides of the substrate inspection region R. The effect of electrostatic attraction can be removed by eliminating static electricity in the vicinity of the required substrate inspection region R. Thereby, it is possible to reliably prevent the glass substrate S from being attracted to the floating stage 2a side by electrostatic attraction, and thus it is possible to suppress the focus of the inspection head 4 from being shifted from the surface of the glass substrate S. Inspection accuracy can be increased. The ionizer should just be arrange | positioned at one of the carrying-in side or the carrying-out side of a board | substrate test | inspection area | region (processing area | region). Further, when the ionizer 22 is provided at the carry-in side end of the levitation stage 2a, the ionizers 24 and 25 arranged at the connection portion with the substrate inspection region (processing region) may be omitted.
なお、本実施形態では、ステージ幅方向(X軸方向)と平行に延びるようにイオナイザ22〜25を配置する例について説明したが、例えば図6に示す基板処理装置31のイオナイザ33,34のように、基板搬送方向(Y軸方向)に交差する方向として、ステージ幅方向(X軸方向)及び基板搬送方向(Y軸方向)に延びるようにイオナイザ33,34を搬送方向に対して斜めに配置することでも、ガラス基板Sの裏側全面に亘ってイオン化エアを吹き付けることができる。イオナイザ33,34を浮上ステージ2a,2aの対角線上に配置した例でしましたが、ステージ幅方向(X軸方向)に対して傾斜角度を数度から10度程度にすることでことでも同様の効果を得ることができる。 In the present embodiment, the example in which the ionizers 22 to 25 are arranged so as to extend in parallel with the stage width direction (X-axis direction) has been described. However, for example, ionizers 33 and 34 of the substrate processing apparatus 31 illustrated in FIG. Further, the ionizers 33 and 34 are arranged obliquely with respect to the transport direction so as to extend in the stage width direction (X-axis direction) and the substrate transport direction (Y-axis direction) as a direction intersecting the substrate transport direction (Y-axis direction). Also, ionized air can be sprayed over the entire back side of the glass substrate S. The ionizers 33 and 34 were arranged on the diagonal lines of the levitation stages 2a and 2a, but the same can be said by changing the inclination angle from several degrees to 10 degrees with respect to the stage width direction (X-axis direction). An effect can be obtained.
イオナイザ33,34を収納するライン状の収納空間2c´をガラス基板Sの搬送方向に対して斜めに形成することで、搬送されてくるガラス基板Sの先端辺が常にライン状の収納空間2c´と交差して搬送される。このため、ガラス基板Sの先端辺の一部分しかライン状に形成された収納空間2c´に架からないため、ガラス基板Sがライン状の収納空間2c´による浮上低下の影響を受けることなく安全にガラス基板Sを搬送することができる。図4に示すライン状の収納空間2cもガラス基板の搬送方向に対して斜めに形成することが可能である。 By forming the line-shaped storage space 2c ′ for storing the ionizers 33, 34 obliquely with respect to the transport direction of the glass substrate S, the leading edge of the transported glass substrate S is always a line-shaped storage space 2c ′. And crossed. For this reason, since only a part of the front end side of the glass substrate S is hung on the storage space 2c ′ formed in a line shape, the glass substrate S can be safely prevented from being affected by a decrease in flying height due to the line-shaped storage space 2c ′. The glass substrate S can be conveyed. The linear storage space 2c shown in FIG. 4 can also be formed obliquely with respect to the conveyance direction of the glass substrate.
<第4実施形態>
図7は、本発明の第4実施形態に係る基板浮上装置42を備える基板処理装置41を示す要部平面図である。
本実施形態では、イオナイザ43を千鳥状に配置した点及びそれに伴う搬送浮上用プレート42a−1の構成において、上述の第1〜第3実施形態と主に相違し、その他の点は概ね同様であるため、同様の点については、図7に図1〜図6と同一の符号を付して説明を省略する。
<Fourth embodiment>
FIG. 7 is a main part plan view showing a substrate processing apparatus 41 including a substrate floating apparatus 42 according to the fourth embodiment of the present invention.
In the present embodiment, the ionizers 43 are arranged in a staggered manner and the configuration of the transport levitation plate 42a-1 is mainly different from the first to third embodiments described above, and the other points are substantially the same. Therefore, the same points are denoted by the same reference numerals as those in FIGS. 1 to 6 in FIG.
基板浮上装置42のイオナイザ43は、複数に分割されガラス基板Sの搬送方向に対して交差する方向に交互にずらして配置されている。本実施形態の浮上ステージ42aは、矩形状に形成された搬送浮上用プレート42a−1を列方向(Y軸方向)と行方向(X軸方向)に一枚置きに交互に配列した。イオナイザ43は、搬送方向に対して直交する各搬送浮上用プレート42a−1の端部の空間部分に搬送方向と直交する方向に千鳥状に配置されている。 The ionizers 43 of the substrate levitation apparatus 42 are divided into a plurality of portions and are alternately shifted in a direction intersecting the transport direction of the glass substrate S. In the levitation stage 42a of the present embodiment, the conveying levitation plates 42a-1 formed in a rectangular shape are alternately arranged in the column direction (Y-axis direction) and the row direction (X-axis direction) alternately. The ionizers 43 are arranged in a staggered manner in a space portion at the end of each transport levitation plate 42a-1 orthogonal to the transport direction in a direction orthogonal to the transport direction.
イオナイザ43は、ステージ幅方向(X軸方向)に細長い筒状を呈し、上方に開口するように一定間隔で吐出孔43aが設けられている。イオナイザ43の長手方向長さは、矩形状に形成された搬送浮上用プレート42a−1の幅寸法(X軸方向)と同程度の長さ、すなわち列方向に配列された搬送浮上用プレート42a−1間に間隙の幅寸法(X軸方向)と略同一となっている。 The ionizer 43 has an elongated cylindrical shape in the stage width direction (X-axis direction), and discharge holes 43a are provided at regular intervals so as to open upward. The length in the longitudinal direction of the ionizer 43 is approximately the same as the width dimension (X-axis direction) of the conveying and floating plate 42a-1 formed in a rectangular shape, that is, the conveying and floating plate 42a- arranged in the row direction. 1 is substantially the same as the width dimension of the gap (X-axis direction).
以上説明した本実施形態によっても、イオナイザ43は、搬送浮上用プレート42a−1等から構成されるエア浮上機構とは独立して配置され、ガラス基板Sの裏面に対してイオン化エアを直接吹き付ける。よって、本実施形態によっても、メンテナンス性を悪化させずにガラス基板Sの除電効率を高めることができる。 Also according to the present embodiment described above, the ionizer 43 is arranged independently of the air levitation mechanism including the transport levitation plate 42a-1 and the like, and directly blows ionized air against the back surface of the glass substrate S. Therefore, also by this embodiment, the static elimination efficiency of the glass substrate S can be improved without deteriorating the maintainability.
また、本実施形態では、イオナイザ43は、ガラス基板Sの搬送方向と直交するように千鳥状に配置されるため、浮上ステージ42上を搬送されるガラス基板Sの裏面全域にイオン化エアを良好に供給できる。この場合、複数に分割されたイオナイザ43を搬送用浮上プレート42a−1の端部に近づけてほぼ直線となる千鳥状に配置すると、作業台によるメンテナンス作業の際に作業台の移動回数が少なくなりメンテナンス作業効率を向上させることができ好ましい。更に、イオナイザ43を千鳥状に配列することにより、ガラス基板Sの先端辺が部分的に搬送浮上用プレート42a−1により浮上支持されるため、イオナイザ43の収納空間において浮上圧が低下してもガラス基板Sを水平に維持して安全に搬送することができる。この場合、搬送浮上用プレート42a−1を搬送方向と直交する方向に交互に配列する際に、各隣接する搬送浮上用プレート42a−1を搬送方向に重複させて配列することが好ましい。これにより、下流側に配置されたイオナイザ43と上流側に配列されたイオナイザ43との間に搬送浮上用プレート42a−1が搬送方向と直交する方向に連続して配置されるため、ガラス基板Sを水平に維持して安全に搬送することができる。 In the present embodiment, the ionizers 43 are arranged in a zigzag shape so as to be orthogonal to the transport direction of the glass substrate S, so that ionized air is favorably distributed over the entire back surface of the glass substrate S transported on the floating stage 42. Can supply. In this case, if the ionizers 43 divided into a plurality are arranged in a staggered pattern that is substantially straight and close to the end of the transfer floating plate 42a-1, the number of times the work table moves is reduced during maintenance work by the work table. Maintenance work efficiency can be improved, which is preferable. Further, by arranging the ionizers 43 in a staggered manner, the tip side of the glass substrate S is partially supported by the transport and floating plate 42 a-1, so that even if the flying pressure is lowered in the storage space of the ionizer 43. The glass substrate S can be maintained safely and transported safely. In this case, it is preferable to arrange the adjacent transport levitation plates 42a-1 so as to overlap in the transport direction when the transport levitation plates 42a-1 are alternately arranged in the direction orthogonal to the transport direction. Thereby, since the conveyance levitation plate 42a-1 is continuously arranged in the direction orthogonal to the conveyance direction between the ionizer 43 arranged on the downstream side and the ionizer 43 arranged on the upstream side, the glass substrate S Can be transported safely by keeping it horizontal.
また、イオナイザ43を複数に分割して配列することで、搬送方向と直行する方向に1本配置した高価なイオナイザの交換に比べてコンパクトで安価なイオナイザ43を部分的に交換することが可能になるため、交換やメンテナンス作業が楽にできるとともに、部品の交換を安価にできるという利点がある。上記各実施の形態で使用されるイオナイザも複数に分割して配置することが可能である。 In addition, by arranging the ionizer 43 in a plurality of sections, it is possible to partially replace the ionizer 43 that is compact and inexpensive compared to replacement of an expensive ionizer that is arranged in a direction perpendicular to the transport direction. Therefore, there is an advantage that replacement and maintenance work can be facilitated and replacement of parts can be made inexpensively. The ionizers used in the above embodiments can also be divided into a plurality of parts.
更に、複数に分割することで、いずれか1つのイオナイザ43が故障して機能しなくなっても、他のイオナイザ43で除電することができるため、製造ラインを長い時間止めることなく故障したイオナイザ43を交換することができる。 Furthermore, by dividing into multiple parts, even if one of the ionizers 43 fails and does not function, the other ionizers 43 can be used for static elimination, so that the failed ionizer 43 can be removed without stopping the production line for a long time. Can be exchanged.
1 基板処理装置
2 基板浮上装置
2a 浮上ステージ
2a−1 搬送浮上用プレート
2a−2 精密浮上用プレート
2b 基板搬送部
2c 収納空間
3 イオナイザ
3a 吐出孔
4 検査ヘッド
5 ガントリ
11 基板浮上装置
12,13 イオナイザ
12a,13a 吐出孔
S 基板
21 基板処理装置
22,23,24,25 イオナイザ
22a,23a,24a,25a 吐出孔
31 基板処理装置
33,34 イオナイザ
33a,34a 吐出孔
41 基板処理装置
42 基板浮上装置
42a 浮上ステージ
42a−1 搬送浮上用プレート
42a−2 精密浮上用プレート
42b 基板搬送部
43 イオナイザ
43a 吐出孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing apparatus 2 Substrate levitation apparatus 2a Floating stage 2a-1 Transport levitation plate 2a-2 Precision levitation plate 2b Substrate transport section 2c Storage space 3 Ionizer 3a Discharge hole 4 Inspection head 5 Gantry 11 Substrate levitation apparatus 12, 13 Ionizer 12a, 13a Discharge hole S Substrate 21 Substrate processing device 22, 23, 24, 25 Ionizer 22a, 23a, 24a, 25a Discharge hole 31 Substrate processing device 33, 34 Ionizer 33a, 34a Discharge hole 41 Substrate processing device 42 Substrate floating device 42a Ascending stage 42a-1 Conveying levitating plate 42a-2 Precise levitating plate 42b Substrate conveying part 43 Ionizer 43a Discharge hole
Claims (15)
前記浮上ステージの基板支持面に形成された収納空間と、
イオン化エアを噴出す吐出孔が複数設けられた筒状を呈し、前記収納空間に配置され基板の裏面に対してイオン化エアを吹き付けるイオナイザと、
を備えることを特徴とする基板浮上装置。 A levitation stage having an air levitation mechanism for discharging levitation air to the back surface of the substrate;
A storage space formed on the substrate support surface of the levitation stage;
An ionizer that presents a cylindrical shape provided with a plurality of discharge holes for ejecting ionized air, and that blows ionized air against the back surface of the substrate disposed in the storage space;
A substrate levitation apparatus comprising:
ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。 In the levitation stage, a rectangular tile-shaped levitation plate that discharges levitation air from an ejection hole formed on the upper surface is disposed with a predetermined gap therebetween.
The substrate floating apparatus according to claim 1.
ことを特徴とする請求項2記載の基板浮上装置。 The floating plate is arranged in a plurality of rows with a predetermined gap therebetween, and a line-shaped gap formed between the rows is configured as the storage space in which the ionizer is stored.
The substrate floating apparatus according to claim 2.
ことを特徴とする請求項2記載の基板浮上装置。 The levitation plates are alternately arranged in the column direction and every other row direction, and a space portion surrounded by each levitation plate is configured as the storage space.
The substrate floating apparatus according to claim 2.
ことを特徴とする請求項4記載の基板浮上装置。 The floating plates are arranged so as to be partially overlapped with each other,
The substrate floating apparatus according to claim 4.
ことを特徴とする請求項4記載の基板浮上装置。 The ionizers are alternately arranged in a staggered manner in the storage units arranged in the width direction of the stage.
The substrate floating apparatus according to claim 4.
前記浮上プレートの長手方向が前記基板搬送部の基板搬送方向に沿うように配列し、
前記イオナイザは、前記基板搬送部の基板搬送方向に沿うように前記収納空間に配置される、
ことを特徴とする請求項2または3記載の基板浮上装置。 The levitation stage further includes a substrate transport unit that transports the substrate in a levitated state,
Arranged so that the longitudinal direction of the floating plate is along the substrate transport direction of the substrate transport unit,
The ionizer is disposed in the storage space along the substrate transport direction of the substrate transport unit.
The substrate floating apparatus according to claim 2 or 3, wherein
前記浮上プレートの長手方向が前記基板搬送部の基板搬送方向に沿うように配列し、
前記イオナイザを前記基板搬送部の基板搬送方向と交差するように前記収納空間に配置する、
ことを特徴とする請求項2ないし4記載の基板浮上装置。 The levitation stage further includes a substrate transport unit that transports the substrate in a levitated state,
Arranged so that the longitudinal direction of the floating plate is along the substrate transport direction of the substrate transport unit,
The ionizer is disposed in the storage space so as to intersect the substrate transport direction of the substrate transport unit.
5. The substrate floating apparatus according to claim 2, wherein the substrate floating apparatus is characterized.
ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。 The levitation stage is constituted by a single levitation plate having the same size as the substrate, and the grooving stage has a radial groove, a lattice groove or an annular groove having a depth capable of embedding the ionizer. The substrate floating apparatus according to claim 1, wherein the substrate floating apparatus is configured as a space.
前記収納空間は、前記基板搬送部の搬送方向に対して直交又は傾斜させて設けられる、
ことを特徴とする請求項1または2記載の基板浮上装置。 The levitation stage further includes a substrate transport unit that transports the substrate in a levitated state,
The storage space is provided orthogonal to or inclined with respect to the transport direction of the substrate transport unit.
The substrate floating apparatus according to claim 1 or 2, wherein
前記収納空間は、前記浮上ステージと本基板浮上装置に連結される搬送ラインとの連結部分に設けられる、
ことを特徴とする請求項1または2記載の基板浮上装置。 The levitation stage further includes a substrate transport unit that transports the substrate in a levitated state,
The storage space is provided at a connection portion between the levitation stage and a transfer line connected to the substrate levitation apparatus.
The substrate floating apparatus according to claim 1 or 2, wherein
前記浮上ステージは、前記基板の処理領域の全域に亘って前記基板を一定に高さで水平に浮上させる精密浮上用プレートと、前記処理領域を挟んで両側に配置され、上面に形成された吐出孔から浮上用エアを吐出する搬送浮上用プレートとを有し、
前記精密浮上用プレートと前記搬送浮上用プレートの連結部分に前記イオナイザを収納する前記収納空間を設け、
前記イオナイザは、前記収納空間に前記基板搬送部の搬送方向と交差するように配置される、
ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。 The levitation stage further includes a substrate transport unit that transports the substrate in a levitated state,
The levitation stage is disposed on both sides of the processing region with a precision levitation plate that floats the substrate horizontally at a constant height over the entire processing region of the substrate, and a discharge formed on the upper surface. A transport levitation plate for discharging the levitation air from the hole,
The storage space for storing the ionizer is provided in a connecting portion between the precision levitation plate and the transport levitation plate,
The ionizer is disposed in the storage space so as to intersect the transport direction of the substrate transport unit.
The substrate floating apparatus according to claim 1.
前記浮上ステージは、前記基板の処理領域の全域に亘って前記基板を一定に高さで水平に浮上させる精密浮上用プレートを有し、
前記精密浮上用プレートに前記基板搬送部の搬送方向と交差する方向に透過照明用の空隙を形成し、この空隙を前記収納空間として兼用する、
ことを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。 The levitation stage further includes a substrate transport unit that transports the substrate in a levitated state,
The levitation stage has a precision levitation plate that levitates the substrate horizontally at a constant height over the entire processing region of the substrate,
Forming a gap for transmitted illumination in a direction intersecting the conveyance direction of the substrate conveyance section in the precision levitation plate, and also using this gap as the storage space;
The substrate floating apparatus according to claim 1.
を特徴とする請求項10ないし13記載の基板浮上装置。 14. The substrate floating according to claim 10, further comprising: a roller configured to regulate a back surface of the substrate to a flying height along the storage space formed in a direction intersecting a transport direction of the substrate transport unit. apparatus.
ことを特徴とする請求項10ないし13記載の基板浮上装置。 The ionizer is divided into a plurality of and arranged in the storage space formed in a direction intersecting the transport direction of the substrate transport unit,
14. The substrate floating apparatus according to any one of claims 10 to 13, wherein
Priority Applications (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012195362A (en) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | Substrate transfer device |
JP2012218876A (en) * | 2011-04-08 | 2012-11-12 | Daifuku Co Ltd | Conveying device for planar base material |
CN114084648A (en) * | 2021-10-29 | 2022-02-25 | 江苏宏芯亿泰智能装备有限公司 | Substrate bearing device and substrate transfer system |
WO2024043280A1 (en) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | 株式会社ナノシステムソリューションズ | Wafer inspection device and wafer transport device |
WO2024134777A1 (en) * | 2022-12-20 | 2024-06-27 | Jswアクティナシステム株式会社 | Observation device, observation method, and method for manufacturing semiconductor device |
-
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- 2011-01-19 JP JP2011008975A patent/JP2012148858A/en not_active Withdrawn
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