JP2012119510A - Vacuum lamination device, and method of forming insulating layer using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線層と絶縁層とを交互に積み上げて作製する多層プリント配線板において、配線回路基板上に絶縁層を形成する為の真空積層装置及び、これを用いた絶縁層の形成方法に関するものである。 The present invention relates to a vacuum lamination apparatus for forming an insulating layer on a printed circuit board in a multilayer printed wiring board produced by alternately stacking wiring layers and insulating layers, and an insulating layer forming method using the same. Is.
従来、多層プリント配線板の製造方法として、回路形成された配線回路基板と、絶縁層としてガラスクロス基材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグシート、及び銅箔とを一括積層し、スルーホールによって層間導通をとる方法が知られている。しかし、この方法ではプリプレグの樹脂を熱により再流動させて一定圧力下で硬化させるため、均一に硬化成形するためには、少なくとも1.0〜1.5時間は必要である。加えて、積層プレスにおいては一度に処理する基板枚数が限られること、及び加熱冷却時間を含めると一回の処理に数時間を要する等、生産性の低さが問題となっている。更に、外層にスルーホールめっきが入ることで導体厚が厚くなり、ファインパターンの形成が困難になる。回路層間の厚さがガラスクロスにより制限され、多層プリント配線板全体の薄化が困難になる等の課題がある。 Conventionally, as a manufacturing method of a multilayer printed wiring board, a circuit board formed circuit board, a prepreg sheet impregnated with a glass cloth base material and impregnated with an epoxy resin as an insulating layer, and a copper foil are collectively laminated, There is known a method for establishing interlayer conduction through a through hole. However, in this method, since the resin of the prepreg is reflowed by heat and cured under a constant pressure, at least 1.0 to 1.5 hours are required for uniform curing and molding. In addition, in the laminating press, the number of substrates to be processed at one time is limited, and when the heating and cooling time is included, low productivity is a problem, such as requiring several hours for one processing. Furthermore, through-hole plating enters the outer layer, the conductor thickness increases, making it difficult to form a fine pattern. There is a problem that the thickness between the circuit layers is limited by the glass cloth and it is difficult to thin the entire multilayer printed wiring board.
このような問題を解決する方法として、配線回路基板の導体層上に有機絶縁層を交互に積み上げていくビルドアップ方式の多層プリント配線板の製造技術が実用化されている。特許文献1及び特許文献2では、回路形成された配線回路基板に絶縁樹脂フィルムをラミネートし、加熱硬化後、粗化剤により表面に凹凸の粗化面を形成し、導体層をめっきにより形成する多層プリント配線板の製造法が開示されている。
As a method for solving such a problem, a manufacturing technique of a build-up type multilayer printed wiring board in which organic insulating layers are alternately stacked on a conductor layer of a printed circuit board has been put into practical use. In
ビルドアップ方式による多層プリント配線板の製造方法では通常、配線回路基板120に絶縁樹脂フィルム110を真空加圧ラミネーターによりラミネートして絶縁層112bを形成する。最近は絶縁層112b上にファインパターンを形成する場合が多く、絶縁層112bの表面を平坦化する必要があることから、必要に応じて平面プレスユニット40による平面プレス処理を行う。このような積層工程では一般的に、真空加圧ラミネーターユニット(1stユニット)30と平面プレスユニット(2ndユニット)40が上下1対の搬送フィルム131によって連結された一貫ラインとなっている(図1参照)。配線回路基板120は、表裏の所定位置に絶縁樹脂フィルム110を仮付けされた状態で上下の搬送フィルム131に挟まれ、真空加圧ラミネート処理、平面プレス処理へと進み、冷却された後に装置から排出される。
In the multilayer printed wiring board manufacturing method by the build-up method, the
絶縁樹脂フィルム110の仮付けは、オートカットラミネーターと呼ばれる仮付け装置にて行う。この装置は、前工程から送られてきた配線回路基板120に、絶縁樹脂フィルム110やフォトリソ用ドライフィルムの先端を仮付けし、配線回路基板120を送りながらドライフィルムをラミネートし、最後に設定された長さにフィルムをカットした後、配線回路基板を真空ラミネーターへ送る装置である。仮付け位置はミリ単位で設定でき、ラミネートと並行してドライフィルムの保護シートを巻き取ることから、積層仕上りにおける品質改善と省力化を達成できる。絶縁樹脂フィルム110の仮付けでは、真空ラミネーターで積層を行う為、ラミネートロール16では加圧せず、絶縁樹脂フィルム110を送る際のガイドとして機能する。
Temporary attachment of the
プリント配線板の一般的な工程では、絶縁樹脂フィルム110の積層が完了した基板は、次の工程でレーザードリルを使用したビア加工を行う為、支持ベースフィルム111を剥離して絶縁層112bの表面を露出させる必要がある。しかしながら、一般的な絶縁樹脂フィルム110においては、絶縁樹脂層112の塗工部分と支持ベースフィルム111の寸法は同じ、もしくは絶縁樹脂フィルム110の塗工(巻き取り)方向に沿って、絶縁樹脂層112が塗布されない余白部が数ミリ程度あるのみである。従って、支持ベースフィルム111の剥離は自動化されず、オペレーターが1枚ずつ手作業で行うことが一般的であり、生産性の低さと品質のばらつきが問題となっていた。
In the general process of the printed wiring board, the substrate on which the
更に補足すれば、絶縁樹脂フィルム(ドライフィルム)110の支持ベースフィルム111は絶縁樹脂層112との接着強度が高く、フォトリソ用ドライフィルムで一般的に使用される、エアーブロー方式や粘着ロール方式の剥離装置(ピーラー)は使用できない。また、絶縁樹脂フィルム110に専用設計された剥離装置は高価なうえ、現状では製造設備として採用できる信頼度の高いものが市販されていない。従って、積層後の絶縁樹脂フィルム110から支持ベースフィルム111を低コストで効率的に、かつ安定して剥離する方法が確立されていないことが課題となっていた。
In addition, the supporting
このような課題に対して、特許文献3では、絶縁樹脂フィルム110の支持ベースフィルム111上に予め接着層113を形成する方法が提案されている。この方法では、図10のように、支持ベースフィルム111の一方の面に絶縁樹脂層112を形成し、残りの面に接着層113を形成する。接着層113は絶縁樹脂層112の厚みムラを避ける為、絶縁樹脂層112が形成されていない支持ベースフィルム111上の余白部に形成される。また、接着層113は絶縁樹脂層112の塗布と同時に形成される為、絶縁樹脂フィルム110の巻き取り方向に沿って帯状或いは線状に形成される。
For such a problem, Patent Document 3 proposes a method in which the
接着剤の種類としては、絶縁樹脂フィルム110の品質低下を避ける為に、無溶剤で常温におけるタック(粘着性)が無いもの、中でもホットメルト接着剤が好ましいとしている。ホットメルト接着剤は冷却と同時に固化して接着性を発現するばかりか、様々な溶融温度をもつものが市販されており、ラミネート温度を変更した際に、溶融特性を調整できるというメリットがある。
As the type of adhesive, in order to avoid quality degradation of the
接着層113が形成された絶縁樹脂フィルム110を配線回路基板120に仮付けしたものを真空ラミネート処理すると、接着剤がラミネート温度で溶融し、支持ベースフィルム111と搬送フィルム131とが溶融密着する。この状態で平面プレス処理を経て、最終的に基板が冷却される段階で搬送フィルム131と支持ベースフィルム111とが完全に接着する。最終的に基板が排出される際に、搬送フィルム巻き取りガイドロール53により搬送フィルム131と支持ベースフィルム111とが配線回路基板120dより剥離される。
When the
一方、特許文献4では、接着層113を真空ラミネーターの投入機(ローダー)に設置した、ノズルアプリケーターにて吐出形成する方法が提案されている。特許文献3では、接着層113を絶縁樹脂フィルム110の製造時に形成するが、特許文献4の方法では真空ラミネート処理の直前に接着層113の形成を行い、様々な絶縁樹脂フィルム110に適用できるというメリットがある。
On the other hand, Patent Document 4 proposes a method in which the
しかしながら、特許文献3による絶縁層112bの形成方法においては、絶縁樹脂フィルム110の製造コストが高くなるという問題がある。絶縁樹脂フィルム110は塗工原反をスリット加工して数本の製品に分割するが、特許文献3で使用する絶縁樹脂フィルム110は絶縁樹脂層112の両端に接着層113を形成する為、製品よりやや幅の広い支持ベースフィルム111の中央に絶縁樹脂層112を塗布しなければならず、面積効率を上げることができない。また、接着層113を形成する為に新たなプロセスが必要になり、設備コストの追加と歩留りの低下から、更に製造コストが上がることになる。
However, the method for forming the
また、特許文献3及び特許文献4においては、図10のように、接着層113を絶縁樹脂フィルム110の両端部に形成する為、支持ベースフィルム111の中央部は搬送フィルム131と接着しない。従って、図11のように、配線回路基板120dを排出する際に、配線回路基板120dに絶縁樹脂層112を転写して硬化させて形成した絶縁層112bから、上下のガイドロール53によって支持ベースフィルム111を剥離する過程で、支持ベースフィルム111の中央部にシワが生じ、絶縁層112bの表面に、剥離痕(ムラ)141が生じ易いという問題がある。
Further, in Patent Document 3 and Patent Document 4, since the
更に、特許文献3、及び特許文献4の方法では、接着層113を絶縁樹脂フィルム110の両端部に、その巻き取り方向に沿って帯状(線状)に形成するため、接着剤の使用量が必要以上に多くなる問題があった。
Furthermore, in the methods of Patent Document 3 and Patent Document 4, since the
特許文献3の方法では絶縁樹脂フィルムの仮付け位置がずれた場合に、特許文献4の方法では搬送過程で配線回路基板の位置がずれた場合に、接着層の形成位置が基板上の所定の位置に対してずれることがある問題があった。 In the method of Patent Document 3, when the temporary attachment position of the insulating resin film is shifted, and in the method of Patent Document 4, when the position of the printed circuit board is shifted during the conveyance process, the formation position of the adhesive layer is a predetermined position on the substrate. There was a problem that the position may be shifted with respect to the position.
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、支持ベースフィルムに絶縁樹脂層が形成された絶縁樹脂フィルムを配線回路基板に積層し、支持ベースフィルムを剥離して配線回路基板上に絶縁層を形成する積層装置において、オートピーラー等の高価な設備を導入することなく、かつ効率的かつ品質的に安定した支持ベースフィルムの剥離が可能な積層装置、及びこれを用いた絶縁層の形成方法を提供することを目的とする。 The present invention has been devised in view of the above problems. An insulating resin film in which an insulating resin layer is formed on a support base film is laminated on a printed circuit board, and the support base film is peeled off to insulate on the printed circuit board. In a laminating apparatus for forming a layer, a laminating apparatus capable of efficiently and quality-stable peeling of a supporting base film without introducing expensive equipment such as an auto peeler, and formation of an insulating layer using the laminating apparatus It aims to provide a method.
本発明は、上記課題を達成する為に、少なくとも仮付けユニットと、搬送フィルム巻き出しユニットと、真空加圧ラミネーターユニットと、平面プレスユニットと、搬送フィルム巻き取りユニットを具備し、前記仮付けユニットが、配線回路基板の両面に対して、支持ベースフィルムに絶縁樹脂層が形成された絶縁樹脂フィルムの前記絶縁樹脂層側の面を対向させて重ね、前記絶縁樹脂層の先端部を、前記配線回路基板の有効領域外の所定領域に仮付けした基板を形成し、かつ、前記支持ベースフィルムの前記絶縁樹脂層の先端部と表裏の関係に位置する先端部に接着層を形成し、前記絶縁樹脂フィルムを所定サイズにカットし、前記搬送フィルム巻き出しユニットが該基板に搬送フィルムを重ね合わせ、前記真空加圧ラミネーターユニットが該基板に前記絶縁樹脂フィルムの前記絶縁樹脂層を積層して絶縁層を形成するとともに前記接着層を前記搬送フィルムに接着させ、前記平面プレスユニットが該基板の前記絶縁層を平滑化し、前記搬送フィルム巻き取りユニットが、該基板の面に前記絶縁層を残した状態で、該基板から前記搬送フィルムと前記接着層と支持ベースフィルムとを剥離することを特徴とする真空積層装置である。 In order to achieve the above object, the present invention comprises at least a tacking unit, a transport film unwinding unit, a vacuum pressure laminator unit, a flat press unit, and a transport film winding unit, and the tacking unit. However, the insulating resin layer-side surface of the insulating resin film having the insulating resin layer formed on the support base film is opposed to the both surfaces of the printed circuit board, and the tip of the insulating resin layer is placed on the wiring. A substrate temporarily attached to a predetermined area outside the effective area of the circuit board is formed, and an adhesive layer is formed on a front end portion of the support base film located in a relation between the front end and the back side of the insulating base layer, and the insulation The resin film is cut into a predetermined size, and the transport film unwinding unit superimposes the transport film on the substrate, and the vacuum pressure laminator unit The insulating resin layer of the insulating resin film is laminated on the substrate to form an insulating layer and the adhesive layer is adhered to the transport film, and the flat press unit smoothes the insulating layer of the substrate, and the transport The film winding unit peels off the transport film, the adhesive layer, and the support base film from the substrate while leaving the insulating layer on the surface of the substrate.
また、本発明は、上記の真空積層装置を用いて、配線回路基板上に絶縁層を形成することを特徴とする絶縁層の形成方法である。 In addition, the present invention is a method for forming an insulating layer, characterized in that an insulating layer is formed on a printed circuit board using the vacuum laminating apparatus described above.
本発明では、接着層113を仮付け装置で形成することにより、支持ベースフィルム111の先端部に、最小限の接着剤を用いて接着層を形成できる効果があり、更に、接着層の位置精度も向上できる効果がある。また、本発明では、接着層113の形成は、支持ベースフィルム111を剥離する際のきっかけとなる、支持ベースフィルム111の先端部にのみ形成するので、接着層113を形成するための接着剤の使用量を少なくできる効果がある。更に、本発明の積層装置においては、絶縁樹脂層112の仮付けと並行して接着層113を形成する為、配線回路基板120の位置ズレに関係なく、支持ベースフィルム111の先端部に精度よく接着層113を形成できる効果がある。かつ、絶縁樹脂層112の仮付け部112aと接着層113との位置関係は、同一ユニットで処理を行うことで常に一定にすることができ、これにより、剥離動作を安定して行うことができる効果がある。
In the present invention, by forming the
本発明の真空積層装置を用いることにより、オートピーラー等の高価な設備を導入することなく、通常の積層動作に付随した安価な方法で支持ベースフィルム111の剥離を行い、配線回路基板120上に絶縁層112bを効率よく形成できる効果がある。また、剥離された支持ベースフィルム111は搬送フィルム131とともに巻かれて回収されるため、占有スペースが小さく、廃棄作業の負担も軽減される効果がある。つまり、生産性と経済性に優れ、品質、歩留まり等で安定して絶縁層を形成できる効果がある。
By using the vacuum laminating apparatus of the present invention, the
本発明の真空積層装置の一実施形態を示す模式構造図を図1に示す。
本発明の真空積層装置は、仮付けユニット10と、搬送フィルム巻き出しユニット20と
、真空加圧ラミネーターユニット30と、平面プレスユニット40と、搬送フィルム巻き取りユニット50を具備することが特徴である。仮付けユニット10は、後記する支持ベースフィルム111に絶縁樹脂層112が形成された絶縁樹脂フィルム110の、絶縁樹脂層112側の面を配線回路基板120の面に対向するように重ねて、絶縁樹脂フィルム110の先端部の絶縁樹脂層112上に仮付け部112aを形成し、配線回路基板120の有効領域121の外の所定領域と、絶縁樹脂層112とを仮付けし、次に、絶縁樹脂フィルム110の先端部の、支持ベースフィルム111上に接着層113を形成する。そして、仮付けユニット10は、絶縁樹脂フィルム110を所定サイズにカットする。
A schematic structural diagram showing an embodiment of the vacuum laminating apparatus of the present invention is shown in FIG.
The vacuum laminating apparatus of the present invention is characterized by including a tacking
搬送フィルム巻き出しユニット20は、絶縁樹脂フィルム110が仮付けされ、かつその先端部に接着層113が形成された状態の配線回路基板120aに、搬送フィルム131を重ね合わせて配線回路基板120bを形成する。真空加圧ラミネーターユニット30は、絶縁樹脂フィルム110を配線回路基板120bの面に所定の条件で積層して絶縁層112bを形成した配線回路基板120cを形成する。平面プレスユニット40は、前記配線回路基板120cの面に形成された絶縁層112bの表面を平滑化する。搬送フィルム巻き取りユニット50は、絶縁層112bを配線回路基板120cの面に残した状態で、搬送フィルム131と接着層113と支持ベースフィルム111とを配線回路基板120cから剥離して配線回路基板120dを形成する。
The transport
本発明の真空積層装置は、支持ベースフィルム111に絶縁樹脂層112が形成された絶縁樹脂フィルム110の絶縁樹脂層112を、予め配線層等が形成された配線回路基板120上に転写して絶縁層112bを形成する積層装置である。以下、本発明の真空積層装置を構成する各ユニットについて説明する。
In the vacuum laminating apparatus of the present invention, the insulating
仮付けユニット10は、後述する支持ベースフィルム111に絶縁樹脂層112が形成された絶縁樹脂フィルム110を所定のサイズにカットして配線回路基板120上の所定位置に貼り付ける装置である。代表的な機種としては伯東(株)製のMach630、(株)日立プラントテクノロジー製のTLD−6500、(株)エム・シー・ケー製のMTA−602型等が挙げられる。本発明の真空積層装置では、仮付けユニット10において絶縁樹脂フィルム110の仮付けと接着層113の形成を並行して行うことを特徴とする。
The
先ず、仮付けユニット10で使用するための絶縁樹脂フィルム110を別途作製する。すなわち、図2の(a)及び(b)のような絶縁樹脂フィルム110の巻き出しロール11を作製する。これは、PETフィルム等からなる支持ベースフィルム111の一方の面に樹脂溶液をロールコート等により塗布するか、樹脂フィルムを貼り付け転写する等の方法で絶縁樹脂層112を形成し、絶縁樹脂層112の表面を保護フィルムで覆った形態でロール状に巻き取り、絶縁樹脂フィルム110の巻き出しロール11を作製する。具体的には、味の素ファインテクノ(株)製のABF−GX13等の絶縁樹脂フィルム110が使用できる。
First, an insulating
次に、図3の(a)及び(b)のように、予め配線層等が形成された有効領域121を有する配線回路基板120がローラーコンベアー15により仮付けユニット10へ搬送される。仮付けユニット10では、前述の支持ベースフィルム111に絶縁樹脂層112が形成された絶縁樹脂フィルム110の巻き出しロール11を装填する。巻き出しロール11から巻き出された絶縁樹脂フィルム110は、保護フィルムが保護フィルム巻き取りロール14にて巻き取られて剥ぎ取られ絶縁樹脂層112の面が露出される。そして、露出した面とは反対側の絶縁樹脂層112の面がエアー吸着盤12に吸着される。さらに、エアー吸着板12が絶縁樹脂層112を吸着した状態で下方へ移動し、絶縁樹脂層112の露出面を配線回路基板120に接触させる。その際に、配線回路基板120の有効領域121の外の先端部分に、絶縁樹脂層112の先端部を加熱、圧着して仮付けすることで仮付け部112aを形成する。
Next, as shown in FIGS. 3A and 3B, the printed
仮付けユニット10では更に、図4の(a)及び(b)のように、絶縁樹脂層112の仮付け部112aに近接した支持ベースフィルム111の先端部に、所定の幅で接着層113を形成する。特に、接着層113を支持ベースフィルム111の先端辺まで形成し、後に接着層113を加熱する際に接着層113が溶融して支持ベースフィルム111の先端の前方の側面まで這い上がるようにする。次に、ローラーコンベアー15とラミネートロール16が連動して配線回路基板120を送り、所定の位置で絶縁樹脂フィルム110をカットする。仮付けユニット10では、所定サイズにカットされ、かつ、先端部に接着層113が形成された絶縁樹脂フィルム110が先端部分に仮付けされた配線回路基板120aが作製される。
Further, in the tacking
接着層113は、絶縁樹脂層112の仮付け部112aに近接して形成する必要があるが、配線回路基板が排出される際に、支持ベースフィルム111を剥離する際のきっかけとして作用することを考慮すると、図4の(a)及び(b)のように、配線回路基板120の搬送方向に対して仮付け部112aよりも前方、好ましくは支持ベースフィルム111の先端部に形成することが好ましい。また、接着層113の形状については、剥離の際に応力が集中する支持ベースフィルム111の端部に沿って、直線状に形成することが好ましい。特に、ノズルアプリケーター13という比較的簡便な接着剤吐出装置を用いると、積層工程で染み出し量の少ない高粘度の接着剤を使用できることから好ましい。
The
また、ノズルアプリケーター13は先端ノズルが小型なため塗布位置の変更について設計の自由度が高いことと、接着剤の吐出量を調整することで接着剤の広がり具合を調整し易いことから特に好ましい。本発明で用いられるノズルアプリケーター13はノードソン(株)、加越(株)、ITWダイナテック(株)製等が使用できる。取り付け位置については、図1に示すように上下のエアー吸着盤12の先端に取り付けられた、仮付けヒーターに近接した位置に固定する。ノズルアプリケーター13の固定方法は、図5の(a)のように、配線回路基板120の横方向に複数配列し、小さなドット形状を連続させて帯状に接着層113を形成しても良いし、図5の(b)のように、1個のノズルを横方向へスライドさせて線状の接着層113を形成してもよい。この方法によれば、絶縁樹脂層112の仮付け(熱圧着)時間を利用して接着剤の塗布が可能であり、生産性を低下させないことから特に好ましい。
In addition, the
接着層113は、形成後にタックがあると接着剤がローラーコンベアー15に付着して配線回路基板120を汚染し、作業性や品質を低下させることから好ましくない。よって、本発明で用いる接着剤は接着層113を形成した直後に固化し、表面にタックの残らないホットメルト型接着剤が好ましい。なかでも、溶融粘度の高いものは接着性、機械的特性に優れ、かつ積層過程での染み出し量が少ないので特に好ましい。ホットメルト接着剤の軟化点については低過ぎると真空加圧ラミネーターユニット30での積層過程で圧力を加えた場合、接着剤が広がり過ぎて配線回路基板120bの外へ染み出し、上下の搬送フィルム131が接着して搬送過程で支障をきたすことから好ましくない。また軟化点が高過ぎると接着剤が十分に溶融せず、支持ベースフィルム111を剥離する際に十分な接着性が得られないことから好ましくない。
If the
ホットメルト型接着剤の軟化点は、絶縁樹脂フィルム110を配線回路基板120bへ積層する際の積層温度(プレス温度)よりもマイナス30℃以上、プラス30℃未満の範囲であることが好ましい。市販品の具体例としては、東洋ペトロライト(株)製 H−629A(軟化点120℃)、三洋化成工業(株)製 ナノスタックA(軟化点111℃)、住友スリーエム(株)製 ジェットメルトEC3760(軟化点81℃)、旭化学合成(株)製 アサヒメルト RK960(軟化点98℃)、ダイセル化学工業(株)製 リキメルト1354(軟化点100℃)、日立化成ポリマー(株)製 ハイボン9881H(軟化点85℃)等の軟包装材用ホットメルト型接着剤があげられる。
The softening point of the hot melt adhesive is preferably in the range of minus 30 ° C. or more and less than plus 30 ° C. than the lamination temperature (press temperature) when the insulating
接着層113の形成方法については、上記の如く接着剤を部分的に塗布形成する方法以外にも、粘着性のある両面テープを支持ベースフィルム111の先端部に貼り付ける方法等、特に限定はしない。但し、両面テープを貼る方法ではセパレーターフィルムの剥離等、装置の機構が複雑になる上、積層仕上りに影響しない程度に薄く、かつ耐熱性と接着力に優れる両面テープが高価なものに限定される為好ましくない。
The method for forming the
接着層113が形成された配線回路基板120aは、ローラーコンベアー15にて搬送フィルム巻き出しユニット20へ送り込まれる。搬送フィルム巻き出しユニット20では、搬送フィルム巻き出しロール21より送り出された搬送フィルム131が、ガイドロール22にて配線回路基板120aの支持ベースフィルム111上の接着層113と図6のように重ね合わされ、搬送フィルム131で両面がサンドイッチされた配線回路基板120bが作製される。搬送フィルム131はユニチカ(株)製のPTH−38や、東レ(株)製の26X42、三菱化学ポリエステルフィルム(株)製のSP36等のPETフィルムを使用することができる。これらのPETフィルムは表面が粗面化処理されており、真空加圧ラミネーターユニット30での積層処理の際に配線回路基板120bと搬送フィルム131との間の空気が抜け易く、搬送フィルム131と接着層113との接合が安定するので特に好ましい。
The printed
搬送フィルム131で両面をサンドイッチされた配線回路基板120bは、ローラーコンベアー15と連動したフィルム搬送系へ移動し、真空加圧ラミネーターユニット30、次いで平面プレスユニット40へ送り込まれる。図7のように、真空加圧ラミネーターユニット30で、支持ベースフィルム111上の絶縁樹脂層112が、プレス上板31とプレス下板32の間に挟んで所定の温度で加熱して加圧されることで配線回路基板120bに積層され、絶縁樹脂層112が硬化して両面に絶縁層112bが形成された配線回路基板120cが得られる。
The printed
次に、平面プレスユニット40で、配線回路基板120cがプレス上板41とプレス下板42の間に挟んで加熱・加圧されることで、配線回路基板120cの両面の絶縁層112bの平坦化処理が行われる。これらの過程で、接着層113が加熱溶融して支持ベースフィルム111の先端の前方の側面まで這い上がって支持ベースフィルム111の前方を塞ぐ状態で搬送フィルム131に接着する。こうして、搬送フィルム131に支持ベースフィルム111の先端部が溶融した接着層113で塞がれる形で接着される。真空加圧ラミネーターはニチゴー・モートン(株)のCVP−300、(株)名機製作所のMVLP−500/600IIB等、市販のものを使用することができる。これらの機種は、真空ラミネーターユニット30と平面プレスユニット40とを備え、これらがフィルム搬送系で連結されていることから好ましい。
Next, the
平面プレスユニット40より送り出された配線回路基板120cは、搬送フィルム巻き取りユニット50へ送られる。配線回路基板120cはここで冷却ファン54により数十秒間冷却され、接着層113が固化する。搬送フィルム巻き取りユニット50では、図8のように、搬送フィルム巻き取りガイドロール53により搬送フィルム131と接着層113と支持ベースフィルム111とを配線回路基板120cより剥離し、搬送フィルム巻き取りロール51に巻き取り、図9のように配線回路基板120の両面に絶縁層112bが形成された配線回路基板120dを得ることができる。
The printed
なお、以上の実施形態では、配線回路基板120の有効領域121の外の先端部分に、
絶縁樹脂層112の先端部を加熱、圧着して仮付けし、また、その絶縁樹脂層112の上面に接着層113を形成したが、本発明は、それに限定されない。すなわち、配線回路基板120の有効領域121の外の複数箇所の所定領域に、その所定領域の数に対応した複数の絶縁樹脂層112の先端部を仮付けし、また、各絶縁樹脂層112の、その先端部の上面に接着層113を形成するようにしても良い。
In the above embodiment, the tip portion outside the
Although the tip of the insulating
また、本発明は、配線回路基板120dの絶縁層112b上に回路形成、ビア形成及び上記絶縁層形成を所定回数繰り返すことにより、多層配線回路基板及び、半導体パッケージ基板等を製造することができる。
Further, according to the present invention, a multilayer wiring circuit board, a semiconductor package board, and the like can be manufactured by repeating circuit formation, via formation, and formation of the insulating layer on the insulating
本発明の真空積層装置を用いた絶縁層112bの形成方法によれば、オートピーラー等の高価な設備を導入することなく、通常の積層動作に付随した安価な方法で支持ベースフィルム111の剥離を行い、配線回路基板120上に絶縁層112bを効率よく形成できる。また、剥離された支持ベースフィルム111は搬送フィルム131とともに巻かれて回収されるため、占有スペースが小さく、廃棄作業の負担も軽減される。つまり、生産性と経済性に優れ、品質、歩留まり等で安定して絶縁層112bを形成できる。それにより、多層配線回路基板、及び半導体パッケージ基板等を容易に製造することができる。
According to the method for forming the insulating
10・・・仮付けユニット
11・・・絶縁樹脂フィルム巻き出しロール
12・・・エアー吸着盤
13・・・ノズルアプリケーター
14・・・保護フィルム巻き取りロール
15・・・ローラーコンベアー
16・・・ラミネートロール
20・・・搬送フィルム巻き出しユニット
21・・・搬送フィルム巻き出しロール
22・・・ガイドロール
30・・・真空加圧ラミネーターユニット
31、41・・・プレス上板
32,42・・・プレス下板
40・・・平面プレスユニット
50・・・搬送フィルム巻き取りユニット
51・・・搬送フィルム巻き取りロール
52・・・ニップロール
53・・・搬送フィルム巻き取りガイドロール
54・・・冷却ファン
110・・・絶縁樹脂フィルム
111・・・支持ベースフィルム
112・・・絶縁樹脂層
112a・・・絶縁樹脂層の仮付け部
112b・・・絶縁層
113・・・接着層
120・・・配線回路基板
120a・・・絶縁樹脂フィルム仮付け、及び接着層形成後の配線回路基板
120b・・・上下の搬送フィルムでサンドイッチされた配線回路基板
120c・・・積層処理後、支持ベースフィルム剥離前の配線回路基板
120d・・・絶縁層形成後の配線回路基板
121・・・有効領域
131・・・搬送フィルム
141・・・剥離痕(ムラ)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010268296A JP2012119510A (en) | 2010-12-01 | 2010-12-01 | Vacuum lamination device, and method of forming insulating layer using the same |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140033675A (en) * | 2012-09-10 | 2014-03-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | Cutting apparatus and method for manufacturing touch panel |
-
2010
- 2010-12-01 JP JP2010268296A patent/JP2012119510A/en active Pending
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