JP2012118621A - Color filter integrated touch panel sensor, display device with touch panel function and manufacturing method of polygonal work substrate - Google Patents

Color filter integrated touch panel sensor, display device with touch panel function and manufacturing method of polygonal work substrate Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter integrated touch panel sensor in which a touch panel sensor unit can be prevented from being impaired by static electricity.SOLUTION: On one side 11a of a substrate 11 of a color filter integrated touch panel sensor 20, a touch panel sensor unit 10 and an electricity removal pattern 23 having electroconductivity are provided. The electricity removal pattern 23 reaches an outer edge of the substrate 11 at least partially, and is not brought into contact with electrode patterns 13 and 15 of the touch panel sensor unit 10, a terminal unit 17 and conductive patterns 14 and 16. Furthermore, the electricity removal pattern 23 includes a tapered area 24 which is tapered inward, and a tip portion 24a of the tapered area 24 is covered with a protecting layer 22. Therefore, even when the protecting layer 22 is charged with static electricity, charges of the protecting layer 22 can be released to the electricity removal pattern 23.

Description

本発明は、タッチパネルセンサ部とカラーフィルタ部とを備えたカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサに関する。また本発明は、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサと表示基板とを備えたタッチパネル機能付き表示装置に関する。また本発明は、複数のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが割り付けられた多面付けワーク基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a color filter integrated touch panel sensor including a touch panel sensor section and a color filter section. The present invention also relates to a display device with a touch panel function including a color filter integrated touch panel sensor and a display substrate. The present invention also relates to a method for manufacturing a multi-sided work substrate to which a plurality of color filter integrated touch panel sensors are assigned.

タッチパネル機能を実現するためのタッチパネルセンサとして、静電容量式のタッチパネルセンサが知られている。容量結合式タッチパネルセンサにおいては、人間の指などの外部導体がタッチパネルセンサに接触(接近)するときに発生する静電容量の変化を利用して、タッチパネルセンサ上における人間の指などの外部導体の位置を検出する。静電容量式タッチパネルセンサには表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識(多点認識)への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている。   As a touch panel sensor for realizing a touch panel function, a capacitive touch panel sensor is known. In a capacitively coupled touch panel sensor, a change in capacitance generated when an external conductor such as a human finger contacts (approaches) the touch panel sensor is used to detect the external conductor such as a human finger on the touch panel sensor. Detect position. Capacitive touch panel sensors include a surface type and a projection type. The projection type is attracting attention because it is suitable for multi-touch recognition (multi-point recognition).

このようなタッチパネルセンサの形態として、タッチパネルセンサとカラーフィルタとを1つの基板上に形成したカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが知られている。例えば特許文献1において、基板と、基板の一面上に設けられたタッチパネルセンサ部と、基板の他面上に設けられたカラーフィルタ部と、を備えたカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが提案されている。   As a form of such a touch panel sensor, a color filter integrated touch panel sensor in which a touch panel sensor and a color filter are formed on one substrate is known. For example, Patent Document 1 proposes a color filter integrated touch panel sensor including a substrate, a touch panel sensor portion provided on one surface of the substrate, and a color filter portion provided on the other surface of the substrate. .

ところで、タッチパネルセンサおよびカラーフィルタは、一般に、はじめに基板上に塗工液を塗布し、次に基板上の塗工液を固化して層を形成し、その後、層をエッチングなどの方法を用いて加工することによって製造される。ここで、基板上に塗工液を塗布する工程においては、例えば、支持台上に固定された基板に対して塗工液が塗布される。また、基板上の塗工液を固化させる工程においては、例えば、ホットプレートを用いた加熱により塗工液が固化される。また、エッチング方法としてウェットエッチング法が用いられる場合、加工された層に残る液がエアーナイフにより除去される。   By the way, the touch panel sensor and the color filter generally apply a coating solution on a substrate first, then solidify the coating solution on the substrate to form a layer, and then use a method such as etching the layer. Manufactured by processing. Here, in the step of applying the coating liquid on the substrate, for example, the coating liquid is applied to the substrate fixed on the support base. In the step of solidifying the coating solution on the substrate, for example, the coating solution is solidified by heating using a hot plate. Further, when the wet etching method is used as the etching method, the liquid remaining in the processed layer is removed by an air knife.

基板上にタッチパネルセンサおよびカラーフィルタを製造する際、様々な原因により静電気が発生し得ることが知られている。静電気が発生する原因としては、例えば、支持台またはホットプレートから基板を剥離させる際の剥離帯電や、エアーナイフを用いた液切りの際の摩擦帯電などが挙げられる。このような静電気が放電すると、基板上に形成された層が損傷を受けるおそれがある。   It is known that static electricity can be generated due to various causes when manufacturing a touch panel sensor and a color filter on a substrate. Examples of the cause of the generation of static electricity include peeling electrification when the substrate is peeled off from the support base or the hot plate, and friction electrification when draining using an air knife. When such static electricity is discharged, the layer formed on the substrate may be damaged.

静電気に起因する層の損傷を防ぐため、特許文献2において、カラーフィルタのブラックマトリクス層の体積抵抗率を所定値以下にし、これによって、静電気の発生を低減することが提案されている。   In order to prevent damage to the layer due to static electricity, Patent Document 2 proposes that the volume resistivity of the black matrix layer of the color filter be set to a predetermined value or less, thereby reducing the generation of static electricity.

特開2010−160745号公報JP 2010-160745 A 特開2001−147314号公報JP 2001-147314 A

カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの製造工程においては、一般に、はじめに基板の一面上にタッチパネルセンサ部が形成され、次に基板の他面上にカラーフィルタ部が形成される。一般に、カラーフィルタ部の形成工程においては、基板の一面側を下方に向けた状態で基板が搬送される。このため、基板の搬送の際、基板の一面上に形成されているタッチパネルセンサ部に静電気が発生することが考えられる。このため、基板の一面側に、静電気の発生を抑制するための何らかの機構を設ける必要がある。   In the manufacturing process of a color filter integrated touch panel sensor, generally, a touch panel sensor portion is first formed on one surface of a substrate, and then a color filter portion is formed on the other surface of the substrate. In general, in the step of forming the color filter portion, the substrate is transported with one side of the substrate facing downward. For this reason, it is conceivable that static electricity is generated in the touch panel sensor portion formed on one surface of the substrate when the substrate is transported. For this reason, it is necessary to provide some mechanism for suppressing the generation of static electricity on one side of the substrate.

また、基板の搬送の際にタッチパネルセンサ部に静電気が発生することだけでなく、タッチパネルセンサ部を形成する際にタッチパネルセンサ部の所定の構成要素内に誘電分極が生じ、これによって静電気が発生することも考えられる。例えば、タッチパネルセンサ部の形成工程が、所定の構成要素に対する光硬化工程を含む場合、分子が光によって励起されることに起因して、所定の構成要素の表面と内部で分極が起こることが考えられる。この場合、誘電分極による電荷が放電することにより、タッチパネルセンサ部が損傷することが考えられる。   Further, not only static electricity is generated in the touch panel sensor unit when the substrate is transported, but also dielectric polarization occurs in predetermined components of the touch panel sensor unit when the touch panel sensor unit is formed, thereby generating static electricity. It is also possible. For example, when the formation process of the touch panel sensor part includes a photocuring process for a predetermined component, it is considered that polarization occurs on the surface and inside of the predetermined component due to the molecules being excited by light. It is done. In this case, it is conceivable that the touch panel sensor unit is damaged by the discharge of electric charges due to dielectric polarization.

本発明は、このような課題を効果的に解決し得るカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサおよびタッチパネル機能付き表示装置を提供することを目的とする。また本発明は、複数のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが割り付けられた多面付けワーク基板の製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a color filter integrated touch panel sensor and a display device with a touch panel function that can effectively solve such problems. It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a multi-sided work substrate to which a plurality of color filter integrated touch panel sensors are assigned.

第1の本発明は、基板と、前記基板の一面上に設けられたタッチパネルセンサ部と、前記基板の他面上に設けられ、複数色の着色層を有するカラーフィルタ部と、を備え、前記タッチパネルセンサ部は、前記基板の前記一面上に所定パターンで設けられた複数の電極パターンと、前記基板の前記一面上に設けられ、各々が各電極パターンに対応する複数の端子部と、前記基板の前記一面上に設けられ、各々が各電極パターンと各端子部との間を電気的に接続する複数の導電パターンと、各電極パターンおよび各導電パターンを覆うよう前記基板の前記一面上に設けられた保護層と、を有し、前記基板の前記一面上に、導電性を有する除電パターンがさらに設けられており、前記除電パターンは、少なくとも部分的に前記基板の外縁に達しており、かつ、前記電極パターン、前記端子部および前記導電パターンのいずれにも接触しておらず、前記除電パターンは、内方に向かって先細になる先細領域を含み、前記先細領域の先端部は、前記保護層により覆われていることを特徴とするカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサである。   1st this invention is equipped with the board | substrate, the touch-panel sensor part provided on the one surface of the said board | substrate, and the color filter part provided on the other surface of the said board | substrate and having a colored layer of multiple colors, The touch panel sensor unit includes a plurality of electrode patterns provided in a predetermined pattern on the one surface of the substrate, a plurality of terminal portions provided on the one surface of the substrate, each corresponding to each electrode pattern, and the substrate. A plurality of conductive patterns that are electrically connected between each electrode pattern and each terminal portion, and each electrode pattern and each conductive pattern are provided on the one surface so as to cover each electrode pattern and each conductive pattern. A conductive neutralization pattern is further provided on the one surface of the substrate, and the neutralization pattern at least partially reaches the outer edge of the substrate. And the electrode pattern, the terminal portion and the conductive pattern are not in contact with each other, the static elimination pattern includes a tapered region tapering inward, the tip of the tapered region, The color filter integrated touch panel sensor is covered with the protective layer.

第1の本発明によるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサにおいて、前記除電パターンの先細領域は、前記基板の外縁から前記保護層まで延び、かつ前記保護層に向かうにつれて先細になっていてもよい。   In the color filter integrated touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the tapered region of the static elimination pattern may extend from the outer edge of the substrate to the protective layer and taper toward the protective layer.

第1の本発明によるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサにおいて、前記除電パターンは、前記基板の外縁に達するとともに、部分的に前記外縁に平行に延びる線状領域をさらに含み、各先細領域は、前記線状領域の延びる方向に交差するよう前記線状領域から突出していてもよい。   In the color filter integrated touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the static elimination pattern further includes a linear region reaching the outer edge of the substrate and partially extending parallel to the outer edge, and each tapered region includes the line You may protrude from the said linear area | region so that it may cross | intersect the extending direction of a linear area | region.

第1の本発明によるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記先細領域の先端部上の前記保護層の厚みは、前記電極パターン上および前記導電パターン上の前記保護層の厚み以下となっている。   In the color filter integrated touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, preferably, the thickness of the protective layer on the tip of the tapered region is equal to or less than the thickness of the protective layer on the electrode pattern and the conductive pattern. ing.

第1の本発明によるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサにおいて、前記電極パターンは、x方向にx接続部を介して接続された複数のx電極単位と、x電極単位間に位置し、y方向にy接続部を介して接続された複数のy電極単位と、を有し、前記x接続部および前記y接続部は、前記基材の法線方向から見て重なり合うよう配置されており、前記x接続部と前記y接続部との間には、絶縁層が介在されていてもよい。この場合、好ましくは、前記除電パターンは、前記x接続部と同一の材料および前記y接続部と同一の材料を積層することにより形成されている。   In the color filter-integrated touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the electrode pattern is located between a plurality of x electrode units connected in the x direction via x connection parts, and between the x electrode units, and y in the y direction. A plurality of y electrode units connected via a connection portion, and the x connection portion and the y connection portion are arranged so as to overlap each other when viewed from the normal direction of the base material, and the x connection An insulating layer may be interposed between the portion and the y connection portion. In this case, preferably, the static elimination pattern is formed by laminating the same material as the x connection portion and the same material as the y connection portion.

第1の本発明によるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサにおいて、前記除電パターンの前記先細領域の前記先端部は、前記x接続部と同一の材料と前記y接続部と同一の材料との間に介在された、前記絶縁層と同一の材料をさらに含んでいてもよい。   In the color filter integrated touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the tip portion of the tapered region of the static elimination pattern is interposed between the same material as the x connection portion and the same material as the y connection portion. In addition, the same material as that of the insulating layer may be further included.

第1の本発明によるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサにおいて、前記タッチパネルセンサ部は、前記保護層上に設けられ、前記基板の法線方向から見て少なくとも前記除電パターンの前記先細領域の先端部に重なる帯電防止膜をさらに有していてもよい。この場合、好ましくは、前記帯電防止膜の表面抵抗は、前記保護層の表面抵抗よりも小さく、かつ前記電極パターンの表面抵抗および前記導電パターンの表面抵抗よりも大きくなっている。   In the color filter integrated touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the touch panel sensor portion is provided on the protective layer and overlaps at least a tip portion of the tapered region of the static elimination pattern when viewed from the normal direction of the substrate. You may further have an antistatic film. In this case, preferably, the surface resistance of the antistatic film is smaller than the surface resistance of the protective layer and larger than the surface resistance of the electrode pattern and the surface resistance of the conductive pattern.

第2の本発明は、上記記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサと、前記カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの前記カラーフィルタ部側に設けられた表示基板と、を備えたことを特徴とするタッチパネル機能付き表示装置である。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a touch panel function, comprising: the color filter integrated touch panel sensor described above; and a display substrate provided on the color filter portion side of the color filter integrated touch panel sensor. It is a display device.

第3の本発明は、上記記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが複数割り付けられた多面付けワーク基板の製造方法において、ワーク基板は一面および他面を有し、多面付けワーク基板の一面および他面は、前記カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが形成される複数のチップ部と、各チップ部を囲む外枠部と、に区画され、多面付けワーク基板の製造方法は、ワーク基板を準備する工程と、ワーク基板の一面上の各チップ部に、前記タッチパネルセンサ部を形成する工程と、
ワーク基板の一面上の各チップ部に、前記除電パターンを形成する工程と、ワーク基板の一面上の外枠部に、各除電パターンに電気的に接続され、導電性を有する外枠除電パターンを形成する工程と、ワーク基板の他面上の各チップ部に前記カラーフィルタ部を形成する工程と、を備えたことを特徴とする多面付けワーク基板の製造方法である。
According to a third aspect of the present invention, in the method for manufacturing a multi-sided work substrate in which a plurality of color filter integrated touch panel sensors are assigned, the work substrate has one side and the other side, and the one side and the other side of the multi-sided work substrate Is divided into a plurality of chip portions on which the color filter integrated touch panel sensor is formed, and an outer frame portion surrounding each chip portion, and a method for manufacturing a multi-faceted work substrate includes a step of preparing a work substrate, Forming the touch panel sensor part on each chip part on one surface of the work substrate;
A step of forming the static elimination pattern on each chip portion on one surface of the work substrate, and an outer frame static elimination pattern electrically connected to each static elimination pattern and having conductivity on the outer frame portion on one surface of the work substrate. A method of manufacturing a multi-faced work substrate, comprising: a step of forming; and a step of forming the color filter portion on each chip portion on the other surface of the work substrate.

第3の本発明による多面付けワーク基板の製造方法において、前記電極パターンは、x方向にx接続部を介して接続された複数のx電極単位と、x電極単位間に位置し、y方向にy接続部を介して接続された複数のy電極単位と、を有し、前記x接続部および前記y接続部は、前記基材の法線方向から見て重なり合うよう配置されており、前記x接続部と前記y接続部との間には、絶縁層が介在されていてもよい。また、前記タッチパネルセンサ部を形成する工程は、前記ワーク基板の一面上に透明電極材料を設ける工程と、設けられた透明電極材料をパターニングして、前記x電極単位、前記y電極単位および前記x接続部を形成する工程と、x方向接続部上に前記絶縁層を形成する工程と、前記ワーク基板の一面上に導電性材料を設ける工程と、設けられた導電性材料をパターニングして、前記y接続部を形成する工程と、を含んでいてもよい。この場合、好ましくは、前記外枠除電パターンおよび前記除電パターンは、前記透明電極材料をパターニングする際に前記x電極単位、前記y電極単位および前記x接続部と同時に形成される透明電極材料層と、前記導電性材料をパターニングする際に前記y接続部と同時に前記透明電極材料層上に形成される導電性材料層と、を含んでいる。   In the method for manufacturing a multi-sided work substrate according to the third aspect of the present invention, the electrode pattern is located between the plurality of x electrode units connected in the x direction via the x connection portions, and between the x electrode units, and in the y direction. a plurality of y electrode units connected via a y connection portion, and the x connection portion and the y connection portion are arranged so as to overlap each other when viewed from the normal direction of the base material, An insulating layer may be interposed between the connection portion and the y connection portion. Further, the step of forming the touch panel sensor unit includes a step of providing a transparent electrode material on one surface of the work substrate, and a patterning of the provided transparent electrode material to form the x electrode unit, the y electrode unit, and the x A step of forming a connection portion, a step of forming the insulating layer on the x-direction connection portion, a step of providing a conductive material on one surface of the work substrate, and patterning the provided conductive material, forming a y-connection portion. In this case, it is preferable that the outer frame static elimination pattern and the static elimination pattern include a transparent electrode material layer formed simultaneously with the x electrode unit, the y electrode unit, and the x connection portion when patterning the transparent electrode material. And a conductive material layer formed on the transparent electrode material layer simultaneously with the y-connecting portion when patterning the conductive material.

第3の本発明による多面付けワーク基板の製造方法において、前記電極パターンは、x方向にx接続部を介して接続された複数のx電極単位と、x電極単位間に位置し、y方向にy接続部を介して接続された複数のy電極単位と、を有し、前記x接続部および前記y接続部は、前記基材の法線方向から見て重なり合うよう配置されており、前記x接続部と前記y接続部との間には、絶縁層が介在されていてもよい。また、前記タッチパネルセンサ部を形成する工程は、前記ワーク基板の一面上に導電性材料を設ける工程と、
設けられた導電性材料をパターニングして、前記y接続部を形成する工程と、前記y接続部上に前記絶縁層を形成する工程と、前記ワーク基板の一面上に透明電極材料を設ける工程と、
設けられた透明電極材料をパターニングして、前記x電極単位、前記y電極単位および前記x接続部を形成する工程と、を含んでいてもよい。この場合、好ましくは、前記外枠除電パターンおよび前記除電パターンは、前記導電性材料をパターニングする際に前記y接続部と同時に形成される導電性材料層と、前記透明電極材料をパターニングする際に前記x電極単位、前記y電極単位および前記x接続部と同時に前記導電性材料層上に形成される透明電極材料層と、を含んでいる。
In the method for manufacturing a multi-sided work substrate according to the third aspect of the present invention, the electrode pattern is located between the plurality of x electrode units connected in the x direction via the x connection portions, and between the x electrode units, and in the y direction. a plurality of y electrode units connected via a y connection portion, and the x connection portion and the y connection portion are arranged so as to overlap each other when viewed from the normal direction of the base material, An insulating layer may be interposed between the connection portion and the y connection portion. Further, the step of forming the touch panel sensor unit includes a step of providing a conductive material on one surface of the work substrate,
Patterning the provided conductive material to form the y connection portion, forming the insulating layer on the y connection portion, and providing a transparent electrode material on one surface of the work substrate; ,
And patterning the provided transparent electrode material to form the x electrode unit, the y electrode unit, and the x connection part. In this case, preferably, the outer frame static elimination pattern and the static elimination pattern are formed when the conductive material layer is formed simultaneously with the y connection portion when patterning the conductive material and when the transparent electrode material is patterned. A transparent electrode material layer formed on the conductive material layer simultaneously with the x electrode unit, the y electrode unit, and the x connection portion.

第3の本発明による多面付けワーク基板の製造方法は、各チップ部内に設けられた保護層上に帯電防止膜を形成する工程をさらに備えていてもよい。この場合、好ましくは、前記帯電防止膜の表面抵抗は、前記保護層の表面抵抗よりも小さく、かつ前記電極パターンの表面抵抗および前記導電パターンの表面抵抗よりも大きくなっている。   The manufacturing method of the multi-sided work substrate according to the third aspect of the present invention may further include a step of forming an antistatic film on a protective layer provided in each chip portion. In this case, preferably, the surface resistance of the antistatic film is smaller than the surface resistance of the protective layer and larger than the surface resistance of the electrode pattern and the surface resistance of the conductive pattern.

第1および第2の本発明によれば、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの基板の一面上には、タッチパネルセンサ部と、導電性を有する除電パターンとが設けられている。この除電パターンは、少なくとも部分的に前記基板の外縁に達しており、かつ、タッチパネルセンサ部の電極パターン、端子部および導電パターンのいずれにも接触していない。また、この除電パターンは、内方に向かって先細になる先細領域を含んでおり、この先細領域の先端部は、保護層により覆われている。このため、静電気により保護層が帯電した場合であっても、保護層の電荷を除電パターンに逃がすことができる。また、内方に向かって先細になる先細領域を用いて除電パターンを構成することにより、保護層の電荷が先細領域の先端部に集まりやすくなっている。このため、保護層の電荷をより確実に除電パターンに逃がすことができる。これによって、保護層の帯電量が大きくなるのを抑制することができる。このことにより、静電気の放電が生じるのを防ぐことができ、これによって、電極パターン、端子部および導電パターンが損傷するのを防ぐことができる。また、仮に放電が生じるとしても、除電パターンを設けることにより、放電の発生箇所を、タッチパネルセンサ部ではなく除電パターンにすることができる。これによって、タッチパネルセンサ部が損傷するのを防ぐことができる。   According to the first and second aspects of the present invention, the touch panel sensor section and the conductive neutralization pattern are provided on one surface of the color filter integrated touch panel sensor. The static elimination pattern reaches at least a part of the outer edge of the substrate, and does not contact any of the electrode pattern, the terminal part, and the conductive pattern of the touch panel sensor part. Further, the static elimination pattern includes a tapered region that tapers inward, and the tip of the tapered region is covered with a protective layer. For this reason, even when the protective layer is charged by static electricity, the charge of the protective layer can be released to the charge removal pattern. In addition, by forming a static elimination pattern using a tapered region that tapers inward, the charge of the protective layer is easily collected at the tip of the tapered region. For this reason, the electric charge of a protective layer can be more reliably released to a static elimination pattern. This can suppress an increase in the charge amount of the protective layer. As a result, it is possible to prevent the occurrence of static electricity discharge, thereby preventing the electrode pattern, the terminal portion and the conductive pattern from being damaged. Moreover, even if discharge occurs, by providing a charge removal pattern, the place where discharge occurs can be a charge removal pattern instead of the touch panel sensor unit. This can prevent the touch panel sensor unit from being damaged.

第3の本発明による多面付けワーク基板の製造方法は、ワーク基板の一面上の各チップ部にタッチパネルセンサ部を形成する工程と、ワーク基板の一面上の各チップ部に導電性を有する除電パターンを形成する工程と、ワーク基板の一面上の外枠部に、各除電パターンに電気的に接続され、導電性を有する外枠除電パターンを設ける工程と、ワーク基板の他面上の各チップ部にカラーフィルタ部を形成する工程と、を備えている。このため、ワーク基板の他面上にカラーフィルタ部を形成する間、ワーク基板に発生し得る静電気を低減することができる。このことにより、静電気の放電が生じるのを防ぐことができ、これによって、タッチパネルセンサ部が損傷するのを防ぐことができる。また、仮に放電が生じるとしても、除電パターンおよび外枠除電パターンを設けることにより、放電の発生箇所を、タッチパネルセンサ部ではなく除電パターンまたは外枠除電パターンにすることができる。これによって、タッチパネルセンサ部が損傷するのを防ぐことができる。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a multi-sided work substrate, the step of forming a touch panel sensor portion on each chip portion on one surface of the work substrate, and a charge removal pattern having conductivity on each chip portion on the one surface of the work substrate. Forming an electrically conductive outer frame neutralization pattern electrically connected to each static elimination pattern on the outer frame portion on one surface of the work substrate, and each chip portion on the other surface of the work substrate. And a step of forming a color filter portion. For this reason, static electricity that can be generated on the work substrate can be reduced while the color filter portion is formed on the other surface of the work substrate. Thereby, it is possible to prevent the occurrence of static electricity discharge, thereby preventing the touch panel sensor unit from being damaged. Further, even if a discharge occurs, by providing the charge removal pattern and the outer frame charge removal pattern, the place where the discharge occurs can be the charge removal pattern or the outer frame charge removal pattern instead of the touch panel sensor unit. This can prevent the touch panel sensor unit from being damaged.

図1は、本実施の第1の実施の形態におけるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサを示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a color filter integrated touch panel sensor according to the first embodiment. 図2Aは、図1のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサをIIA−IIA方向から見た縦断面図。2A is a longitudinal sectional view of the color filter integrated touch panel sensor of FIG. 1 as viewed from the IIA-IIA direction. 図2Bは、図1のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサをIIB−IIB方向から見た縦断面図。2B is a longitudinal sectional view of the color filter integrated touch panel sensor of FIG. 1 as viewed from the IIB-IIB direction. 図2Cは、図1のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサをIIC−IIC方向から見た縦断面図。2C is a longitudinal sectional view of the color filter integrated touch panel sensor of FIG. 1 as viewed from the IIC-IIC direction. 図3(a)は、本発明の第1の実施の形態における表示装置を示す縦断面図、図3(b)は、図3(a)の表示装置のカラーフィルタ部を矢印IIIb−IIIbから見た図、図3(c)は、図3(a)の表示装置の表示基板を矢印IIIc−IIIcから見た図。3A is a longitudinal sectional view showing the display device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 3B shows the color filter portion of the display device of FIG. 3A from arrows IIIb-IIIb. FIG. 3C is a view of the display substrate of the display device of FIG. 3A as viewed from the arrows IIIc-IIIc. 図4Aは、透明電極材料を用いてワーク基板上にx電極単位、y電極単位およびx接続部を形成する工程を示す平面図。FIG. 4A is a plan view showing a process of forming an x electrode unit, a y electrode unit, and an x connection portion on a work substrate using a transparent electrode material. 図4Bは、図4Aのワーク基板のチップ部を拡大して示す図。FIG. 4B is an enlarged view showing a chip portion of the work substrate of FIG. 4A. 図4Cは、図4Bのワーク基板をIVC−IVC方向から見た縦断面図。4C is a longitudinal sectional view of the work substrate of FIG. 4B as seen from the IVC-IVC direction. 図5Aは、ワーク基板上に絶縁層を形成する工程を示す平面図。FIG. 5A is a plan view showing a step of forming an insulating layer on the work substrate. 図5Bは、図5Aのワーク基板をVB−VB方向から見た縦断面図。FIG. 5B is a longitudinal sectional view of the work substrate of FIG. 5A viewed from the VB-VB direction. 図6Aは、導電性材料を用いてワーク基板上に導電パターン,端子部およびy接続部を形成する工程を示す平面図。FIG. 6A is a plan view showing a process of forming a conductive pattern, a terminal portion, and a y connection portion on a work substrate using a conductive material. 図6Bは、図6Aのワーク基板のチップ部を拡大して示す図。6B is an enlarged view showing a chip portion of the work substrate of FIG. 6A. 図6Cは、図6Bのワーク基板をVIC−VIC方向から見た縦断面図。6C is a longitudinal sectional view of the work substrate of FIG. 6B as seen from the VIC-VIC direction. 図7Aは、ワーク基板上に保護層を形成する工程を示す平面図。FIG. 7A is a plan view showing a process of forming a protective layer on the work substrate. 図7Bは、図7Aのワーク基板をVIIB−VIIB方向から見た縦断面図。FIG. 7B is a longitudinal sectional view of the work substrate of FIG. 7A as viewed from the VIIB-VIIB direction. 図8は、カラーフィルタ部を形成する方法を示す図。FIG. 8 is a diagram illustrating a method for forming a color filter portion. 図9(a)(b)は、ワーク基板が支持台から剥離される様子を示す図。FIGS. 9A and 9B are views showing a state where the work substrate is peeled from the support base. 図10は、本実施の第1の実施の形態において、除電パターンの形状の変形例を示す図。FIG. 10 is a diagram showing a modification of the shape of the static elimination pattern in the first embodiment. 図11Aは、本実施の第1の実施の形態において、除電パターンの層構成の変形例を示す図。FIG. 11A is a diagram showing a modification of the layer configuration of the static elimination pattern in the first exemplary embodiment. 図11Bは、本実施の第1の実施の形態において、除電パターンの層構成のその他の変形例を示す図。FIG. 11B is a diagram showing another modification of the layer configuration of the static elimination pattern in the first exemplary embodiment. 図11Cは、本実施の第1の実施の形態において、タッチパネルセンサ部の層構成の変形例を示す図。FIG. 11C is a diagram showing a modification of the layer configuration of the touch panel sensor unit in the first embodiment. 図12Aは、本実施の第2の実施の形態において、ワーク基板の一面上に形成されたタッチパネルセンサ部を示す平面図。FIG. 12A is a plan view showing a touch panel sensor unit formed on one surface of a work substrate in the second embodiment. 図12Bは、図12Aのワーク基板70をXIIB−XIIB方向から見た縦断面図。12B is a longitudinal sectional view of the work substrate 70 of FIG. 12A as viewed from the XIIB-XIIB direction. 図13Aは、本実施の第3の実施の形態におけるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサを示す平面図。FIG. 13A is a plan view showing a color filter integrated touch panel sensor according to a third embodiment of the present invention. 図13Bは、図13Aのカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサをXIIIB−XIIIB方向から見た縦断面図。13B is a longitudinal sectional view of the color filter integrated touch panel sensor of FIG. 13A as viewed from the XIIIB-XIIIB direction. 図14Aは、本実施の第3の実施の形態において、除電パターンの形状の変形例を示す図。FIG. 14A is a diagram showing a modification of the shape of the static elimination pattern in the third exemplary embodiment. 図14Bは、図14Aのワーク基板をXIVB−XIVB方向から見た縦断面図。14B is a longitudinal sectional view of the work substrate of FIG. 14A viewed from the XIVB-XIVB direction. 図15Aは、本実施の第4の実施の形態におけるタッチパネルセンサ部を示す平面図。FIG. 15A is a plan view showing a touch panel sensor unit in the fourth embodiment. 図15Bは、図15Aのタッチパネルセンサ部をXVB−XVB方向から見た縦断面図。FIG. 15B is a longitudinal sectional view of the touch panel sensor portion of FIG. 15A as viewed from the XVB-XVB direction. 図16は、本実施の第4の実施の形態において、除電パターンの形状の変形例を示す図。FIG. 16 is a diagram illustrating a modification of the shape of the static elimination pattern in the fourth embodiment.

以下、図1乃至図9(a)(b)を参照して、本発明の第1の実施の形態について説明する。まず図3(a)(b)(c)により、本実施の形態におけるタッチパネル機能付き表示装置60全体について説明する。なお本実施の形態においては、タッチパネル機能付き表示装置60の例として、タッチパネル機能付き液晶表示装置を示している。しかしながら、これに限定されることはなく、有機ELディスプレイやプラズマディスプレイなど、タッチパネル機能を備えたその他の表示装置の場合においても、本願発明を適用することにより、タッチパネル機能付き液晶表示装置の場合と同様の効果を得ることができる。   Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 9A and 9B. First, the entire display device 60 with a touch panel function in this embodiment will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, a liquid crystal display device with a touch panel function is shown as an example of the display device 60 with a touch panel function. However, the present invention is not limited to this, and in the case of other display devices having a touch panel function, such as an organic EL display and a plasma display, by applying the present invention, a liquid crystal display device with a touch panel function can be used. Similar effects can be obtained.

表示装置
図3(a)に示すように、タッチパネル機能付きの表示装置60は、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20と、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20に対向するよう設けられたTFT基板(表示基板)50と、を備えている。図3(a)に示すように、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20は、基板11と、基板11の一面11a上に設けられたタッチパネルセンサ部10と、基板11の他面11b上に設けられたカラーフィルタ部30と、を有している。また、TFT基板50は、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20のカラーフィルタ部30と対向するよう設けられている。すなわち、基板11の他面11b側が表示基板(TFT基板)側となっており、基板11の一面11a側が観察者側となっている。
Display Device As shown in FIG. 3A, a display device 60 with a touch panel function includes a color filter integrated touch panel sensor 20 and a TFT substrate (display substrate) provided to face the color filter integrated touch panel sensor 20. 50. As shown in FIG. 3A, the color filter integrated touch panel sensor 20 is provided on the substrate 11, the touch panel sensor unit 10 provided on the one surface 11 a of the substrate 11, and the other surface 11 b of the substrate 11. And a color filter unit 30. The TFT substrate 50 is provided so as to face the color filter portion 30 of the color filter integrated touch panel sensor 20. That is, the other surface 11b side of the substrate 11 is the display substrate (TFT substrate) side, and the one surface 11a side of the substrate 11 is the observer side.

図3(a)に示すように、カラーフィルタ部30とTFT基板50との間には液晶40が充填されており、この液晶40は封止材41により封止されている。なお図示はしないが、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20のタッチパネルセンサ部10上には、透光性を有した保護カバーが透明接着剤などを介して設けられていてもよい。保護カバーは、タッチパネルセンサ部10および表示装置60を保護するためのものであり、タッチパネル機能付き表示装置60の入力面(タッチ面、接触面)として機能する。   As shown in FIG. 3A, a liquid crystal 40 is filled between the color filter portion 30 and the TFT substrate 50, and the liquid crystal 40 is sealed with a sealing material 41. Although not shown, a transparent protective cover may be provided on the touch panel sensor unit 10 of the color filter integrated touch panel sensor 20 via a transparent adhesive or the like. The protective cover is for protecting the touch panel sensor unit 10 and the display device 60, and functions as an input surface (touch surface, contact surface) of the display device 60 with a touch panel function.

図3(c)は、図3(a)に示す表示装置60のTFT基板50を矢印IIIc−IIIcの方向から見た場合を示す図である。図3(c)に示すように、TFT基板50は、基板51と、液晶40に印加される電圧を制御する複数の透明電極部52と、透明電極部52に制御電圧を印加する配線部53とを有している。このうち各透明電極部52は、各々が表示装置60の単位画素に対応している。   FIG. 3C is a diagram showing a case where the TFT substrate 50 of the display device 60 shown in FIG. 3A is viewed from the direction of arrows IIIc-IIIc. As shown in FIG. 3C, the TFT substrate 50 includes a substrate 51, a plurality of transparent electrode portions 52 that control a voltage applied to the liquid crystal 40, and a wiring portion 53 that applies a control voltage to the transparent electrode portion 52. And have. Among these, each of the transparent electrode portions 52 corresponds to a unit pixel of the display device 60.

カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ
次に図1乃至図2Cおよび図3(a)(b)を参照して、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20について説明する。上述のように、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20は、基板11と、基板11の一面11a上に設けられたタッチパネルセンサ部10と、基板11の他面11b上に設けられたカラーフィルタ部30と、を有している。
Color Filter Integrated Touch Panel Sensor Next, the color filter integrated touch panel sensor 20 will be described with reference to FIGS. 1 to 2C and FIGS. 3 (a) and 3 (b). As described above, the color filter integrated touch panel sensor 20 includes the substrate 11, the touch panel sensor unit 10 provided on one surface 11 a of the substrate 11, and the color filter unit 30 provided on the other surface 11 b of the substrate 11. ,have.

基板11は、図1に示すように、4辺から構成される矩形形状を有している。しかしながら、基板11の形状が矩形に限られることはなく、基板11の形状として、多角形や円形などが適宜選択され得る。この基板11の材料は、TFT基板50の発光を外部に取り出すことができ、かつ水分および酸素を効率的に遮断することができる限り特に限定されるものではない。例えば、光透過性、安定性や耐久性等に優れたガラスやポリマー等を使用することができる。   As shown in FIG. 1, the substrate 11 has a rectangular shape composed of four sides. However, the shape of the substrate 11 is not limited to a rectangle, and a polygon, a circle, or the like can be appropriately selected as the shape of the substrate 11. The material of the substrate 11 is not particularly limited as long as the light emission of the TFT substrate 50 can be taken out and moisture and oxygen can be effectively blocked. For example, glass, polymer, etc. excellent in light transmittance, stability and durability can be used.

カラーフィルタ部
次に図3(a)(b)を参照して、カラーフィルタ部30について説明する。図3(b)は、図3(a)に示す表示装置60のカラーフィルタ部30を矢印IIIb−IIIbの方向から見た場合を示す図である。図3(b)に示すように、カラーフィルタ部30は、基板11と、基板11の他面11b上に設けられたブラックマトリクス層31と、基板11の他面11b上でブラックマトリクス層31間に設けられた複数色の着色層32と、を有している。
Color Filter Unit Next, the color filter unit 30 will be described with reference to FIGS. FIG. 3B is a diagram illustrating a case where the color filter unit 30 of the display device 60 illustrated in FIG. 3A is viewed from the direction of arrows IIIb-IIIb. As shown in FIG. 3B, the color filter unit 30 includes a substrate 11, a black matrix layer 31 provided on the other surface 11b of the substrate 11, and a space between the black matrix layer 31 on the other surface 11b of the substrate 11. A plurality of colored layers 32 provided on the substrate.

カラーフィルタ部30のブラックマトリックス層31は、カラーフィルタ部30の法線方向から見て上述したTFT基板50の配線部53に重なり合うよう配置されている。ブラックマトリックス層31としては、遮光性を有する材料からなる層が用いられる。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み1000〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カーボン微粒子や金属酸化物等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、この樹脂層をパターニングして形成したもの、および、カーボン微粒子や金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして形成したもの等、遮光性を有するものが用いられ得る。ブラックマトリックス層31の厚さは、要求される遮光性などに応じて適宜調整される。   The black matrix layer 31 of the color filter unit 30 is disposed so as to overlap the wiring unit 53 of the TFT substrate 50 described above when viewed from the normal direction of the color filter unit 30. As the black matrix layer 31, a layer made of a light-shielding material is used. For example, a thin metal film made of chromium or the like having a thickness of about 1000 to 2000 mm is formed by sputtering, vacuum deposition, or the like, and this thin film is patterned, and light-shielding particles such as carbon fine particles and metal oxides are contained. Forming a resin layer of polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, etc., patterning this resin layer, and forming a photosensitive resin layer containing light-shielding particles such as carbon fine particles and metal oxides And what has light-shielding property, such as what was formed by patterning this photosensitive resin layer, may be used. The thickness of the black matrix layer 31 is appropriately adjusted according to the required light shielding properties.

複数色の着色層32は、TFT基板50および液晶40を通った光の色を調整するものであり、少なくとも、赤色着色層、青色着色層および緑色着色層を含んでいる。
このうち赤色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いられてもよく、若しくは、2種以上が混合されて用いられてもよい。
青色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いられてもよく、若しくは、2種以上が混合されて用いられてもよい。
緑色着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料または染料は、単独で用いられてもよく、若しくは、2種以上が混合されて用いられてもよい。
複数色の着色層32が上記の赤色着色層、青色着色層および緑色着色層に限られることは無く、その他の色の着色層、例えば黄色着色層が含まれていてもよい。
The multi-colored colored layer 32 adjusts the color of light that has passed through the TFT substrate 50 and the liquid crystal 40, and includes at least a red colored layer, a blue colored layer, and a green colored layer.
Among these, examples of the colorant used in the red colored layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the blue colored layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the green coloring layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindolinone pigments. And pigments. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.
The colored layers 32 of a plurality of colors are not limited to the above-described red colored layer, blue colored layer, and green colored layer, and other colored layers, for example, a yellow colored layer may be included.

なお、ブラックマトリクス層31および着色層32と液晶40の間に保護膜(図示せず)が設けられていてもよい。保護膜の材料としては、珪素、アルミニウム、亜鉛またはスズの酸化物または酸窒化物からなる透明材料、あるいはアクリル樹脂等の有機絶縁膜を挙げることができる。また、ブラックマトリクス層31及び着色層32の表面に、画素表示用の共通透明電極(図示せず)が設けられていてもよい。さらに、ブラックマトリクス層31上に、カラーフィルタ部30とTFT基板50との間の空隙を保持するためのスペーサ(図示せず)が設けられていてもよい。   A protective film (not shown) may be provided between the black matrix layer 31 and the colored layer 32 and the liquid crystal 40. Examples of the material for the protective film include a transparent material made of an oxide or oxynitride of silicon, aluminum, zinc or tin, or an organic insulating film such as an acrylic resin. Further, a common transparent electrode (not shown) for pixel display may be provided on the surfaces of the black matrix layer 31 and the colored layer 32. Furthermore, a spacer (not shown) may be provided on the black matrix layer 31 for holding a gap between the color filter unit 30 and the TFT substrate 50.

タッチパネルセンサ部
次に図1乃至図2Cを参照して、タッチパネルセンサ部10について説明する。図1は、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20をタッチパネルセンサ部10側から見た場合を示す平面図である。図2A乃至図2Cはそれぞれ、図1のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20をIIA−IIA方向乃至IIC−IIC方向からそれぞれ見た縦断面図である。
Touch Panel Sensor Unit Next, the touch panel sensor unit 10 will be described with reference to FIGS. 1 to 2C. FIG. 1 is a plan view showing a color filter integrated touch panel sensor 20 as viewed from the touch panel sensor unit 10 side. 2A to 2C are longitudinal sectional views of the color filter integrated touch panel sensor 20 of FIG. 1 as viewed from the IIA-IIA direction to the IIC-IIC direction, respectively.

タッチパネルセンサ部10は、基板11の一面11a上に所定パターンで設けられた複数の電極パターン13,15と、基板11の一面11a上に設けられた複数の端子部17と、基板11の一面11a上に設けられた複数の導電パターン14,16と、を有している。このうち複数の端子部17は、各々が各電極パターン13,15に一対一で対応するよう設けられている。また複数の導電パターン14,16は、各々が各電極パターン13,15と各端子部17との間を電気的に接続するよう設けられている。また基板11の一面11a上には、各電極パターン13,15及び各導電パターン14,16を覆う保護層22がさらに設けられている。なお図1においては、説明の便宜上、保護層22が一点鎖線により表されている。   The touch panel sensor unit 10 includes a plurality of electrode patterns 13 and 15 provided in a predetermined pattern on one surface 11 a of the substrate 11, a plurality of terminal portions 17 provided on the one surface 11 a of the substrate 11, and one surface 11 a of the substrate 11. And a plurality of conductive patterns 14 and 16 provided thereon. Among these, the plurality of terminal portions 17 are provided so as to correspond to the electrode patterns 13 and 15 on a one-to-one basis. The plurality of conductive patterns 14 and 16 are provided so as to electrically connect the electrode patterns 13 and 15 and the terminal portions 17, respectively. A protective layer 22 that covers the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16 is further provided on the one surface 11 a of the substrate 11. In FIG. 1, for convenience of description, the protective layer 22 is represented by a one-dot chain line.

タッチパネルセンサ部10において、複数の電極パターン13,15が設けられている領域は、タッチパネルセンサ部10が表示装置60に組み込まれているときに画像が表示される表示領域となっている。一方、複数の導電パターン14,16および端子部17が設けられている領域は、画像が表示されない非表示領域となっている。   In the touch panel sensor unit 10, a region where the plurality of electrode patterns 13 and 15 are provided is a display region where an image is displayed when the touch panel sensor unit 10 is incorporated in the display device 60. On the other hand, the region where the plurality of conductive patterns 14 and 16 and the terminal portion 17 are provided is a non-display region where no image is displayed.

(電極パターン)
はじめに電極パターン13,15について詳細に説明する。図1に示すように、複数の電極パターン13,15は、x方向に延びる複数のx電極パターン13と、y方向に延びる複数のy電極パターン15とからなっている。このうち各x電極パターン13は、略正方形の形状を有する複数のx電極単位13aと、隣接するx電極単位13a間を接続するx接続部13bと、を含んでいる。同様に、各y電極パターン15は、略正方形の形状を有する複数のy電極単位15aと、隣接するy電極単位15a間を接続するy接続部15bと、を含んでいる。
(Electrode pattern)
First, the electrode patterns 13 and 15 will be described in detail. As shown in FIG. 1, the plurality of electrode patterns 13 and 15 are composed of a plurality of x electrode patterns 13 extending in the x direction and a plurality of y electrode patterns 15 extending in the y direction. Among these, each x electrode pattern 13 includes a plurality of x electrode units 13a having a substantially square shape, and an x connection portion 13b for connecting adjacent x electrode units 13a. Similarly, each y electrode pattern 15 includes a plurality of y electrode units 15a having a substantially square shape, and a y connection portion 15b that connects between adjacent y electrode units 15a.

x電極単位13aおよびy電極単位15aの寸法は、タッチパネルセンサ部10によって検知される指又はペン等に対する必要解像度により決定され、例えば5mm×5mmとなっている。なお、x電極単位13aおよびy電極単位15aの形状が正方形に限られることはなく、多角形や円形など様々な形状が適宜選択され得る。またx接続部13bおよびy接続部15bの寸法は、各x電極単位13a間および各y電極単位15a間を低抵抗で接続するよう設定されている。例えば、x接続部13bおよびy接続部15bの幅は5〜200μmの範囲内となっており、x接続部13bおよびy接続部15bの長さは100〜200μmの範囲内となっている。   The dimensions of the x electrode unit 13a and the y electrode unit 15a are determined by the necessary resolution for a finger, a pen, or the like detected by the touch panel sensor unit 10, and are, for example, 5 mm × 5 mm. The shape of the x electrode unit 13a and the y electrode unit 15a is not limited to a square, and various shapes such as a polygon and a circle can be appropriately selected. The dimensions of the x connection portion 13b and the y connection portion 15b are set so as to connect the x electrode units 13a and the y electrode units 15a with low resistance. For example, the widths of the x connection part 13b and the y connection part 15b are in the range of 5 to 200 μm, and the lengths of the x connection part 13b and the y connection part 15b are in the range of 100 to 200 μm.

図2Aおよび図2Bに示すように、x接続部13bは、x電極単位13aおよびy電極単位15aと同一平面上に形成されている。一方、y接続部15bは、x電極単位13aおよびy電極単位15aよりも上方に配置されている。また、x接続部13bおよびy接続部15bは、基板11の法線方向から見て互いに重なり合うよう配置されている。さらに、x接続部13bとy接続部15bが接触し、これによってx電極パターン13とy電極パターン15との間が導通するのを防ぐため、x接続部13bとy接続部15bとの間には絶縁層18が介在されている。なお説明の都合上、図1においては絶縁層18の表示を省略している。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the x connection portion 13b is formed on the same plane as the x electrode unit 13a and the y electrode unit 15a. On the other hand, the y connection portion 15b is disposed above the x electrode unit 13a and the y electrode unit 15a. Further, the x connection portion 13 b and the y connection portion 15 b are arranged so as to overlap each other when viewed from the normal direction of the substrate 11. Further, in order to prevent the x connection portion 13b and the y connection portion 15b from coming into contact with each other and thereby conducting between the x electrode pattern 13 and the y electrode pattern 15, the gap between the x connection portion 13b and the y connection portion 15b is prevented. Insulating layer 18 is interposed. For convenience of explanation, the display of the insulating layer 18 is omitted in FIG.

x電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aはそれぞれ、導電性を有し、かつ透明な透明電極材料から構成されている。透明電極材料としては、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物が用いられる。これらの金属酸化物が2種以上複合されてもよい。   Each of the x electrode unit 13a, the x connecting portion 13b, and the y electrode unit 15a is made of a transparent electrode material that is conductive and transparent. Examples of transparent electrode materials include indium tin oxide (ITO), zinc oxide, indium oxide, antimony-added tin oxide, fluorine-added tin oxide, aluminum-added zinc oxide, potassium-added zinc oxide, silicon-added zinc oxide, and zinc oxide. Metal oxides such as tin oxide, indium oxide-tin oxide, and zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide are used. Two or more of these metal oxides may be combined.

一方、y接続部15bは、導電パターン14,16および端子部17の材料と同一の材料を用いて形成される。y接続部15bについては後に詳細に説明する。   On the other hand, the y connection portion 15 b is formed using the same material as that of the conductive patterns 14 and 16 and the terminal portion 17. The y connection portion 15b will be described in detail later.

(導電パターンおよび端子部)
次に導電パターン14,16および端子部17について説明する。図1に示すように、複数の導電パターン14,16は、x電極パターン13と端子部17との間を電気的に接続するx導電パターン14と、y電極パターン15と端子部17との間を電気的に接続するy導電パターン16とからなっている。
(Conductive pattern and terminal part)
Next, the conductive patterns 14 and 16 and the terminal portion 17 will be described. As shown in FIG. 1, the plurality of conductive patterns 14 and 16 include an x conductive pattern 14 that electrically connects the x electrode pattern 13 and the terminal portion 17, and a space between the y electrode pattern 15 and the terminal portion 17. And y conductive pattern 16 for electrically connecting the two.

上述のように、x導電パターン14,y導電パターン16および端子部17はカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20の非表示領域に設けられている。このため、x導電パターン14,y導電パターン16および端子部17を構成する導電性材料は、透明性を有していてもよく、若しくは透明性を有していなくてもよい。すなわち、x導電パターン14,y導電パターン16および端子部17の導電性材料として、上述の透明電極材料と同様にITOなどの透明な材料が用いられてもよく、若しくは、上述の透明電極材料より高い電気伝導率を有する金属材料が用いられてもよい。x導電パターン14,y導電パターン16および端子部17の導電性材料として用いられる金属材料の例としては、アルミニウム、モリブデン、パラジウム、銀、クロム、銅等の金属及びそれらを主成分とする合金、あるいはそれら合金を含む積層体が挙げられる。   As described above, the x conductive pattern 14, the y conductive pattern 16, and the terminal portion 17 are provided in the non-display area of the color filter integrated touch panel sensor 20. For this reason, the electroconductive material which comprises the x conductive pattern 14, the y conductive pattern 16, and the terminal part 17 may have transparency, or does not need to have transparency. That is, as the conductive material of the x conductive pattern 14, the y conductive pattern 16, and the terminal portion 17, a transparent material such as ITO may be used in the same manner as the transparent electrode material described above, or from the transparent electrode material described above. A metal material having a high electrical conductivity may be used. Examples of the metal material used as the conductive material of the x conductive pattern 14, the y conductive pattern 16, and the terminal portion 17 include metals such as aluminum, molybdenum, palladium, silver, chromium, copper, and alloys containing them as a main component, Or the laminated body containing those alloys is mentioned.

なお図1においては、端子部17の幅がx導電パターン14およびy導電パターン16の幅よりも大きくなっている例を示したが、これに限られることはない。端子部17が設けられる目的は、導電パターン14,16を介して伝達される電極パターン13,15からの信号を適切に外部に送るための部分を提供することである。本実施の形態において、端子部17は、導電パターン14,16に電気的に接続されており、かつ保護層22によって覆われていない部分として定義される。   Although FIG. 1 shows an example in which the width of the terminal portion 17 is larger than the width of the x conductive pattern 14 and the y conductive pattern 16, the present invention is not limited to this. The purpose of providing the terminal portion 17 is to provide a portion for appropriately transmitting signals from the electrode patterns 13 and 15 transmitted through the conductive patterns 14 and 16 to the outside. In the present embodiment, the terminal portion 17 is defined as a portion that is electrically connected to the conductive patterns 14 and 16 and is not covered with the protective layer 22.

(y接続部)
次にy接続部15bについて詳述する。上述のように、y接続部15bは、導電パターン14,16および端子部17と同一の導電性材料から形成されている。このため後述するように、y接続部15bを、導電パターン14,16および端子部17と同時に形成することが可能となっている。これによって、y接続部15bと導電パターン14,16および端子部17とが別々の工程で形成される場合に比べて、より少ない工数でタッチパネルセンサ部10を製造することができる。
(Y connection part)
Next, the y connection portion 15b will be described in detail. As described above, the y connection portion 15 b is formed of the same conductive material as the conductive patterns 14 and 16 and the terminal portion 17. For this reason, as will be described later, the y-connection portion 15b can be formed simultaneously with the conductive patterns 14 and 16 and the terminal portion 17. Thereby, compared with the case where the y connection part 15b, the conductive patterns 14 and 16, and the terminal part 17 are formed in a separate process, the touch panel sensor part 10 can be manufactured with fewer man-hours.

なお、上述においてy接続部15bの幅が5〜200μmの範囲内となっている点について説明したが、y接続部15bの幅は、y接続部15bの材料に応じて設定されてもよい。
すなわち、導電パターン14,16、端子部17およびy接続部15bの導電性材料として、上述の透明電極材料と同様にITOなどの透明な材料が用いられる場合に、y接続部15bの幅が例えば20〜200μmの範囲内となっていてもよい。また、導電パターン14,16、端子部17およびy接続部15bの導電性材料として、上述の透明電極材料より高い電気伝導率を有する金属材料が用いられる場合に、y接続部15bの幅が例えば5〜20μmの範囲内となっていてもよい。
In addition, although the point which the width | variety of the y connection part 15b is in the range of 5-200 micrometers was demonstrated in the above-mentioned, the width | variety of the y connection part 15b may be set according to the material of the y connection part 15b.
That is, when a transparent material such as ITO is used as the conductive material of the conductive patterns 14 and 16, the terminal portion 17, and the y connection portion 15b, the width of the y connection portion 15b is, for example, It may be in the range of 20 to 200 μm. Moreover, when the metal material which has a higher electrical conductivity than the above-mentioned transparent electrode material is used as the conductive material of the conductive patterns 14 and 16, the terminal portion 17 and the y connection portion 15b, the width of the y connection portion 15b is, for example, It may be in the range of 5 to 20 μm.

導電パターン14,16、端子部17およびy接続部15bの導電性材料として金属材料が用いられる場合、好ましくは、図2A乃至図2Cに示すように、y接続部15bは、基板11の法線方向から見てカラーフィルタ部30のブラックマトリクス層31に重なり合うよう設けられている。このことにより、y接続部15bが透明性を有さない金属材料から形成される場合であっても、y接続部15bによって液晶表示装置60の表示が妨げられるのを防ぐことができる。この場合、x方向におけるブラックマトリクス層31の幅は、基材11の厚さ、x方向におけるy接続部15bの幅、液晶表示装置60の視野角などに応じて適宜設定されるが、例えば5〜100μmの範囲内となっている。   When a metal material is used as the conductive material of the conductive patterns 14 and 16, the terminal portion 17, and the y connection portion 15 b, the y connection portion 15 b is preferably a normal line of the substrate 11 as shown in FIGS. 2A to 2C. It is provided so as to overlap the black matrix layer 31 of the color filter portion 30 when viewed from the direction. Accordingly, even when the y connection portion 15b is formed from a metal material that does not have transparency, it is possible to prevent the display of the liquid crystal display device 60 from being hindered by the y connection portion 15b. In this case, the width of the black matrix layer 31 in the x direction is appropriately set according to the thickness of the base material 11, the width of the y connection portion 15b in the x direction, the viewing angle of the liquid crystal display device 60, and the like. It is in the range of ~ 100 μm.

(保護層)
次に保護層22について説明する。保護層22は、各電極パターン13,15及び各導電パターン14,16を外部から保護するための層である。例えば後述するように、基板11の他面11b上にカラーフィルタ部30を設ける際、既に基板11の一面11a上に設けられているタッチパネルセンサ部10の各電極パターン13,15及び各導電パターン14,16が損傷するのを防ぐための層である。また保護層22は、外部の水分を遮蔽するという役割も担っている。このような保護層22を構成する材料としては、絶縁性を有する材料が用いられ、例えば光硬化性アクリル樹脂が用いられる。
(Protective layer)
Next, the protective layer 22 will be described. The protective layer 22 is a layer for protecting the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16 from the outside. For example, as will be described later, when the color filter unit 30 is provided on the other surface 11 b of the substrate 11, the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 of the touch panel sensor unit 10 that are already provided on the one surface 11 a of the substrate 11. , 16 is a layer for preventing damage. The protective layer 22 also plays a role of shielding external moisture. As a material constituting such a protective layer 22, an insulating material is used, and for example, a photocurable acrylic resin is used.

次に、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20の更なる構成要素について説明する。図1乃至図2Bに示すように、基板11の一面11a上には、導電性を有する複数の除電パターン23がさらに設けられている。以下、除電パターン23について詳細に説明する。   Next, further components of the color filter integrated touch panel sensor 20 will be described. As shown in FIGS. 1 to 2B, a plurality of static elimination patterns 23 having conductivity are further provided on the one surface 11 a of the substrate 11. Hereinafter, the static elimination pattern 23 will be described in detail.

除電パターン
各除電パターン23は、図1に示すように、少なくとも部分的に基板11の外縁に達するともに、電極パターン13,15、端子部17および導電パターン14,16のいずれにも接触しないよう設けられている。また、各除電パターン23は、内方に向かって先細になる先細領域24を含んでおり、この先細領域24の先端部24aは、保護層22により覆われている。ここで「内方に向かって先細になる」とは、タッチパネルセンサ部10の非表示領域から表示領域に向かうにつれて、先細領域24の幅が狭くなることを意味している。
As shown in FIG. 1, each static elimination pattern 23 is provided so as to at least partially reach the outer edge of the substrate 11 and not to contact any of the electrode patterns 13 and 15, the terminal portion 17, and the conductive patterns 14 and 16. It has been. Each static elimination pattern 23 includes a tapered region 24 that tapers inward, and a tip 24 a of the tapered region 24 is covered with a protective layer 22. Here, “to taper inward” means that the width of the tapered region 24 becomes narrower from the non-display region of the touch panel sensor unit 10 toward the display region.

この除電パターン23は、静電気により電極パターン13,15および導電パターン14,16が損傷するのを防ぐことを意図して設けられるものである。例えば、このような除電パターン23を設けることにより、保護層22への帯電量を低減させることができると考えられる。また、この除電パターン23をカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20の外部に設けられた適切な導電体(図示せず)に接続することにより、保護層22に帯電している電気を、除電パターン23を介して適切に逃がすことができると考えられる。さらに、仮に保護層22の静電気が放電した場合であっても、放電の際の静電気の経路が電極パターン13,15および導電パターン14,16ではなく除電パターン23になることにより、電極パターン13,15および導電パターン14,16を保護することができると考えられる。   The static elimination pattern 23 is provided in order to prevent the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16 from being damaged by static electricity. For example, it is considered that the charge amount to the protective layer 22 can be reduced by providing such a charge removal pattern 23. In addition, by connecting this static elimination pattern 23 to an appropriate conductor (not shown) provided outside the color filter integrated touch panel sensor 20, the electricity charged in the protective layer 22 is changed to the static elimination pattern 23. It is thought that it can escape appropriately. Furthermore, even if the static electricity of the protective layer 22 is discharged, the static electricity path at the time of discharge is not the electrode patterns 13, 15 and the conductive patterns 14, 16 but the static elimination pattern 23. 15 and the conductive patterns 14 and 16 can be protected.

また上述のように、内方に向かって先細になる先細領域24を用いて除電パターン23を構成することにより、先細領域24をいわゆる避雷針として機能させることができる。従って、保護層22の電荷が先細領域24の先端部24aに集まりやすくなっている。このため、保護層22の電荷をより確実に除電パターン23に逃がすことができる。これによって、保護層22の帯電量が大きくなるのをより確実に抑制することができる。   In addition, as described above, by forming the static elimination pattern 23 using the tapered region 24 that tapers inward, the tapered region 24 can function as a so-called lightning rod. Accordingly, the charges of the protective layer 22 are likely to collect at the tip 24 a of the tapered region 24. For this reason, the electric charge of the protective layer 22 can be more reliably released to the static elimination pattern 23. Thereby, it is possible to more reliably suppress an increase in the charge amount of the protective layer 22.

好ましくは、先細領域24の先端部24aの角度θ(図1参照)は、0度よりも大きく、かつ90度以下となるよう設定されている。すなわち、先端部24aの角度θは鋭角または直角となっている。これによって、先細領域24の避雷針としての機能をより高めることができる。   Preferably, the angle θ (see FIG. 1) of the distal end portion 24a of the tapered region 24 is set to be greater than 0 degree and 90 degrees or less. That is, the angle θ of the distal end portion 24a is an acute angle or a right angle. Thereby, the function as a lightning rod of the taper area | region 24 can be improved more.

次に、除電パターン23の具体的な層構成について説明する。除電パターン23は、除電パターン23のうち少なくとも保護層22に接する部分が導電性を有する限りにおいて、様々な態様により構成され得る。例えば図2Aおよび図2Cに示すように、除電パターン23は、透明電極材料層27および導電性材料層29を含んでいる。また除電パターン23の先細領域24の先端部24aは、透明電極材料層27および導電性材料層29に加えてさらに先端部用絶縁層28を含んでいる。これによって、先細領域24のうち先端部24aをその他の部分に対して上方へ突出させることができる。このことにより、基板11の一面11aと平行な方向だけでなく一面11aと直交する方向においても、先細領域24をいわゆる避雷針として機能させることができる。このため、保護層22の電荷をより確実に除電パターン23に逃がすことができる。これによって、保護層22の帯電量が大きくなるのをより確実に抑制することができる。   Next, a specific layer configuration of the static elimination pattern 23 will be described. The static elimination pattern 23 can be configured in various ways as long as at least a portion of the static elimination pattern 23 that is in contact with the protective layer 22 has conductivity. For example, as shown in FIGS. 2A and 2C, the static elimination pattern 23 includes a transparent electrode material layer 27 and a conductive material layer 29. In addition to the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29, the tip portion 24 a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 further includes a tip portion insulating layer 28. As a result, the tip 24a of the tapered region 24 can be protruded upward with respect to the other portions. Thus, the tapered region 24 can function as a so-called lightning rod not only in a direction parallel to the one surface 11a of the substrate 11 but also in a direction perpendicular to the one surface 11a. For this reason, the electric charge of the protective layer 22 can be more reliably released to the static elimination pattern 23. Thereby, it is possible to more reliably suppress an increase in the charge amount of the protective layer 22.

次に、除電パターン23の各層27,28,29を構成する材料について説明する。透明電極材料層27は、後述するように、上述のx電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aを形成する材料と同一の材料から、x電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aと同時に形成される。また先端部用絶縁層28は、上述の絶縁層18を形成する材料と同一の材料から、絶縁層18と同時に形成される。また導電性材料層29は、上述のy接続部15bを形成する材料と同一の材料から、y接続部15bと同時に形成される。これによって、より少ない工数で除電パターン23を形成することが可能となる。   Next, the material which comprises each layer 27,28,29 of the static elimination pattern 23 is demonstrated. As will be described later, the transparent electrode material layer 27 is made of the same material as that forming the x electrode unit 13a, the x connection part 13b, and the y electrode unit 15a, and the x electrode unit 13a, the x connection part 13b and the y electrode. It is formed simultaneously with the unit 15a. The tip insulating layer 28 is formed simultaneously with the insulating layer 18 from the same material as that for forming the insulating layer 18 described above. The conductive material layer 29 is formed simultaneously with the y connection portion 15b from the same material as that for forming the y connection portion 15b. As a result, it is possible to form the static elimination pattern 23 with fewer man-hours.

好ましくは、先細領域24の先端部24a上の保護層22の厚みは、電極パターン13,15上および導電パターン14,16上の保護層22の厚みと略同一になっている、若しくは、電極パターン13,15上および導電パターン14,16上の保護層22の厚みより小さくなっている。例えば図2Aにおいて、先細領域24の先端部24a上の保護層22の厚みがtで表されており、y接続部15b上の保護層22の厚みがtで表されている。そして好ましくは、先端部24a上の保護層22の厚みtが、y接続部15b上の保護層22の厚みtと略同一になっているか、若しくは、y接続部15b上の保護層22の厚みtより小さくなっている。 Preferably, the thickness of the protective layer 22 on the tip 24a of the tapered region 24 is substantially the same as the thickness of the protective layer 22 on the electrode patterns 13, 15 and the conductive patterns 14, 16, or the electrode pattern 13 and 15 and the thickness of the protective layer 22 on the conductive patterns 14 and 16 is smaller. For example, in FIG. 2A, and the thickness of the protective layer 22 on the front end portion 24a of the tapered region 24 is represented by t 1, the thickness of the protective layer 22 on the y-connecting portion 15b is represented by t 2. Preferably, the thickness t 1 of the protective layer 22 on the tip 24 a is substantially the same as the thickness t 2 of the protective layer 22 on the y connection portion 15 b or the protective layer 22 on the y connection portion 15 b. It is smaller than the thickness t 2.

ところで、先細領域24の先端部24aの透明電極材料層27,先端部用絶縁層28および導電性材料層29は、上述のようにそれぞれ、x電極単位13a,絶縁層18およびy接続部15bと同一の材料からx電極単位13a,絶縁層18およびy接続部15bと同時に形成される。このため、先細領域24の先端部24aの厚みは、x電極単位13a,絶縁層18およびy接続部15bからなる積層体の厚みと略同一となっている。従って一般に、先端部24a上に設けられる保護層22の厚みtは、y接続部15b上に設けられる保護層22の厚みtと略同一になっていると考えられる。
ここで上述のように、先細領域24は、避雷針として機能するのに適切なパターンを有している。このため、厚みtと厚みtとが略同一の場合、保護層22の電荷に起因して仮に放電が生じるとしても、放電の経路を、y接続部15bを通る経路ではなく除電パターン23を通る経路にすることができる。これによって、タッチパネルセンサ部10の電極パターン13,15および導電パターン14,16が損傷するのを防ぐことができる。
By the way, the transparent electrode material layer 27, the tip insulating layer 28 and the conductive material layer 29 at the tip 24a of the tapered region 24 are respectively connected to the x electrode unit 13a, the insulating layer 18 and the y connection 15b as described above. It is formed simultaneously with the x electrode unit 13a, the insulating layer 18 and the y connection portion 15b from the same material. For this reason, the thickness of the front end portion 24a of the tapered region 24 is substantially the same as the thickness of the laminated body including the x electrode unit 13a, the insulating layer 18, and the y connection portion 15b. Therefore, generally, it is considered that the thickness t 1 of the protective layer 22 provided on the tip portion 24 a is substantially the same as the thickness t 2 of the protective layer 22 provided on the y connection portion 15 b.
Here, as described above, the tapered region 24 has an appropriate pattern to function as a lightning rod. For this reason, if the thickness t 1 and the thickness t 2 are substantially the same, even if a discharge occurs due to the charge of the protective layer 22, the discharge path is not the path through the y connection portion 15 b, but the static elimination pattern 23. The route can be through. Thereby, it is possible to prevent the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16 of the touch panel sensor unit 10 from being damaged.

放電の経路がy接続部15bを通る経路ではなく除電パターン23を通る経路になるという傾向は、先細領域24の先端部24a上の保護層22の厚みtが、y接続部15b上の保護層22の厚みtより小さくなっている場合により強くなると考えらえる。なぜなら、保護層22の厚みが小さい箇所ほど絶縁体耐圧が小さくなると考えられるからである。従って、好ましくは、先細領域24の先端部24a上の保護層22の厚みtは、y接続部15b上の保護層22の厚みtより小さくなっている。先端部24a上の保護層22の厚みtを、y接続部15b上の保護層22の厚みtより小さくするための具体的な方法については後述する。 Tendency route discharge is a path through the neutralization pattern 23 rather than the route through the y connection portion 15b has a thickness t 1 of the protective layer 22 on the front end portion 24a of the tapered region 24, the protection of the y connection part 15b It can be considered that the thickness becomes stronger when the thickness is smaller than the thickness t 2 of the layer 22. This is because it is considered that the insulator withstand voltage is smaller as the thickness of the protective layer 22 is smaller. Therefore, preferably, the thickness t 1 of the protective layer 22 on the tip portion 24 a of the tapered region 24 is smaller than the thickness t 2 of the protective layer 22 on the y connection portion 15 b. The thickness t 1 of the protective layer 22 on the tip portion 24a, will be described in detail later how to less than the thickness t 2 of the protective layer 22 on the y-connecting portion 15b.

次に、除電パターン23の形状についてさらに詳細に説明する。上述のように、除電パターン23は、少なくとも部分的に基板11の外縁まで延びている。具体的には、除電パターン23の先細領域24が、基板11の外縁から保護層22まで延びている。このため除電パターン23を、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20の外部に設けられた適切な導電体に容易に接続させることができる。例えば後述するように、カラーフィルタ部30の形成工程において、各除電パターン23を外枠除電パターン74(後述)に接続させることができる。   Next, the shape of the static elimination pattern 23 will be described in more detail. As described above, the static elimination pattern 23 extends at least partially to the outer edge of the substrate 11. Specifically, the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 extends from the outer edge of the substrate 11 to the protective layer 22. For this reason, the static elimination pattern 23 can be easily connected to an appropriate conductor provided outside the color filter integrated touch panel sensor 20. For example, as will be described later, in the process of forming the color filter unit 30, each static elimination pattern 23 can be connected to an outer frame static elimination pattern 74 (described later).

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。ここでは、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20および表示装置60の製造方法について説明する。   Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described. Here, a manufacturing method of the color filter integrated touch panel sensor 20 and the display device 60 will be described.

カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの製造方法
ここでは、複数のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが割り付けられた多面付けワーク基板を製造する方法について説明する。
Manufacturing Method of Color Filter Integrated Touch Panel Sensor Here, a method of manufacturing a multi-sided work substrate to which a plurality of color filter integrated touch panel sensors are assigned will be described.

はじめに、複数のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20が割り付けられるワーク基板70を準備する。ワーク基板70は、一面70aと他面70bとを有している。またワーク基板70の一面70aおよび他面70bは、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20が形成される複数のチップ部71と、各チップ部71を囲む外枠部72と、に区画される。後述する図4A乃至図7Bにおいて、点線で囲まれた部分がチップ部71となっている。   First, a work substrate 70 to which a plurality of color filter integrated touch panel sensors 20 are assigned is prepared. The work substrate 70 has one surface 70a and another surface 70b. Further, one surface 70 a and the other surface 70 b of the work substrate 70 are partitioned into a plurality of chip portions 71 on which the color filter integrated touch panel sensor 20 is formed, and an outer frame portion 72 surrounding each chip portion 71. 4A to 7B to be described later, a portion surrounded by a dotted line is a chip portion 71.

後述するように、多面付けワーク基板の製造方法において、はじめに、ワーク基板70の一面70a上の各チップ部71にタッチパネルセンサ部10が形成され、次に、ワーク基板70の他面70b上の各チップ部71にカラーフィルタ部30が形成される。そして、必要に応じて各チップ部71を切り出すことにより、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20が得られる。この場合、切り出されたワーク基板70が、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20の基板11となる。また、ワーク基板70の一面70aは基板11の一面11aに対応しており、ワーク基板70の他面70bは基板11の他面11bに対応している。
なお多面付けワーク基板70から各チップ部71を切り出す前に、多面付けワーク基板70とTFT基板50とが貼り合わされ、液晶セルの組み立てが行われてもよい。この場合、多面付けワーク基板70とTFT基板50とが貼り合わされた組立体から、個別の液晶セルが切り出される。
As will be described later, in the method for manufacturing a multi-sided work substrate, first, the touch panel sensor unit 10 is formed on each chip portion 71 on one surface 70a of the work substrate 70, and then each of the other surfaces 70b on the work substrate 70 is formed. The color filter unit 30 is formed on the chip unit 71. Then, the color filter integrated touch panel sensor 20 is obtained by cutting out each chip portion 71 as necessary. In this case, the cut work substrate 70 becomes the substrate 11 of the color filter integrated touch panel sensor 20. Further, one surface 70 a of the work substrate 70 corresponds to one surface 11 a of the substrate 11, and the other surface 70 b of the work substrate 70 corresponds to the other surface 11 b of the substrate 11.
In addition, before cutting out each chip | tip part 71 from the multi-sided work board | substrate 70, the multi-sided work board | substrate 70 and the TFT substrate 50 may be bonded together and a liquid crystal cell may be assembled. In this case, individual liquid crystal cells are cut out from the assembly in which the multi-sided work substrate 70 and the TFT substrate 50 are bonded together.

(タッチパネルセンサ部の製造方法)
以下、図4A乃至図7Bを参照して、ワーク基板70の一面70a上にタッチパネルセンサ部10を形成する方法について説明する。
(Manufacturing method of touch panel sensor part)
Hereinafter, a method of forming the touch panel sensor unit 10 on the one surface 70a of the work substrate 70 will be described with reference to FIGS. 4A to 7B.

[x電極単位,x接続部およびy電極単位の形成工程]
はじめに、ワーク基板70の一面70a上の各チップ部71にx電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aを形成する工程について、図4A乃至図4Cを参照して説明する。図4Aは、ワーク基板70の一面70aを示す平面図であり、図4Bは、図4Aに示すワーク基板70のチップ部71を拡大して示す図であり、図4Cは、図4Bのワーク基板70をIVC−IVC方向から見た縦断面図である。
[Formation process of x electrode unit, x connection part and y electrode unit]
First, a process of forming the x electrode unit 13a, the x connection part 13b, and the y electrode unit 15a on each chip part 71 on the one surface 70a of the work substrate 70 will be described with reference to FIGS. 4A to 4C. 4A is a plan view showing one surface 70a of the work board 70, FIG. 4B is an enlarged view showing the chip portion 71 of the work board 70 shown in FIG. 4A, and FIG. 4C is the work board of FIG. 4B. It is the longitudinal cross-sectional view which looked at 70 from the IVC-IVC direction.

はじめに、ワーク基板70の一面70a上にITOなどの透明電極材料を設ける。透明電極材料を設けるための方法が特に限定されることはなく、例えばスパッタリングなどの方法が適宜用いられる。   First, a transparent electrode material such as ITO is provided on one surface 70a of the work substrate 70. A method for providing the transparent electrode material is not particularly limited, and a method such as sputtering is appropriately used.

次に図4A乃至図4Cに示すように、ワーク基板70の一面70a上に設けられた透明電極材料をパターンニングして、ワーク基板70の一面70a上の各チップ部71にx電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aを形成する。同時に、図4A乃至図4Cに示すように、チップ部71のうち後に除電パターン23が設けられる部分、および外枠部72に、透明電極材料からなる透明電極材料層27が形成される。   Next, as shown in FIGS. 4A to 4C, the transparent electrode material provided on the one surface 70a of the work substrate 70 is patterned, and the x electrode units 13a, 13a, The x connection portion 13b and the y electrode unit 15a are formed. At the same time, as shown in FIGS. 4A to 4C, the transparent electrode material layer 27 made of a transparent electrode material is formed on the portion of the chip portion 71 where the static elimination pattern 23 will be provided later and on the outer frame portion 72.

透明電極材料をパターンニングする方法は特には限定されず、様々な公知のパターンニング方法を用いることができる。例えばフォトリソグラフィー法を用いることができる。   The method for patterning the transparent electrode material is not particularly limited, and various known patterning methods can be used. For example, a photolithography method can be used.

[絶縁層の形成工程]
次に絶縁層18を形成する工程について、図5Aおよび図5Bを参照して説明する。図5Aは、ワーク基板70のチップ部71を拡大して示す図であり、図5Bは、図5Aのワーク基板70をVB−VB方向から見た縦断面図である。
[Insulating layer formation process]
Next, the process of forming the insulating layer 18 will be described with reference to FIGS. 5A and 5B. 5A is an enlarged view of the chip portion 71 of the work substrate 70, and FIG. 5B is a longitudinal sectional view of the work substrate 70 of FIG. 5A viewed from the VB-VB direction.

はじめに、絶縁層18を形成するための材料、例えばアクリル樹脂をワーク基板70の一面70a上に設け、次に設けられた材料をパターニングする。これによって、図5Aおよび図5Bに示すように、x接続部13b上に絶縁層18が形成される。同時に、図5Aおよび図5Bに示すように、チップ部71のうち後に除電パターン23の先細領域24の先端部24aとなる部分に、絶縁層18の材料と同一の材料からなる先端部用絶縁層28が形成される。   First, a material for forming the insulating layer 18, for example, an acrylic resin is provided on the one surface 70 a of the work substrate 70, and then the provided material is patterned. As a result, as shown in FIGS. 5A and 5B, the insulating layer 18 is formed on the x connection portion 13b. At the same time, as shown in FIGS. 5A and 5B, a tip insulating layer made of the same material as that of the insulating layer 18 is formed on a portion of the chip portion 71 that will later become the tip 24a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23. 28 is formed.

[導電パターン、端子部およびy接続部の形成工程]
次に、ワーク基板70の一面70a上の各チップ部71にx導電パターン14,y導電パターン16,端子部17およびy接続部15bを形成する工程について、図6A乃至図6Cを参照して説明する。図6Aは、ワーク基板70の一面70aを示す平面図であり、図6Bは、図6Aに示すワーク基板70のチップ部71を拡大して示す図であり、図6Cは、図6Bのワーク基板70をVIC−VIC方向から見た縦断面図である。
[Process for forming conductive pattern, terminal portion and y connection portion]
Next, a process of forming the x conductive pattern 14, the y conductive pattern 16, the terminal portion 17, and the y connection portion 15b on each chip portion 71 on the one surface 70a of the work substrate 70 will be described with reference to FIGS. 6A to 6C. To do. 6A is a plan view showing one surface 70a of the work substrate 70, FIG. 6B is an enlarged view of the chip portion 71 of the work substrate 70 shown in FIG. 6A, and FIG. 6C is the work substrate of FIG. 6B. It is the longitudinal cross-sectional view which looked at 70 from the VIC-VIC direction.

はじめに、ワーク基板70の一面70a上に導電性材料、例えばアルミニウムなどの金属材料を設ける。導電性材料を設けるための方法が特に限定されることはなく、例えばスパッタリングなどの方法が適宜用いられる。   First, a conductive material, for example, a metal material such as aluminum is provided on one surface 70a of the work substrate 70. The method for providing the conductive material is not particularly limited, and for example, a method such as sputtering is appropriately used.

次に図6A乃至図6Cに示すように、ワーク基板70の一面70a上に設けられた導電性材料をパターンニングして、ワーク基板70の一面70a上の各チップ部71にx導電パターン14,y導電パターン16,端子部17およびy接続部15bを形成する。同時に、図6A乃至図6Cに示すように、チップ部71のうち後に除電パターン23が設けられる部分、および外枠部72に、導電性材料からなる導電性材料層29が形成される。
これによって、図6Bおよび図6Cに示すように、ワーク基板70の一面70a上の各チップ部71に、透明電極材料層27および導電性材料層29を含む除電パターン23が形成される。この除電パターン23は、図6Bに示すように、チップ部71の外縁に達するとともに、チップ部71の内方に向かうにつれて先細になる先細領域24を含んでいる。また先細領域24の先端部24aは、図6Cに示すように、透明電極材料層27および導電性材料層29に加えてさらに先端部用絶縁層28を含んでいる。このため、先細領域24のうち先端部24aがその他の部分に対して上方へ突出している。
また図6A乃至図6Cに示すように、ワーク基板70の一面70a上の外枠部72に、透明電極材料層27および導電性材料層29を含む外枠除電パターン74が形成される。この外枠除電パターン74は、好ましくは、可能な限り大きな面積を有するようなパターンとして形成される。また外枠除電パターン74は、図6Bおよび図6Cに示すように、各チップ部71の除電パターン23に接続されている。各除電パターン23および外枠除電パターン74は、後述するように、ワーク基板70の一面70a側での帯電量を低減する除電部73として機能する。
Next, as shown in FIGS. 6A to 6C, the conductive material provided on the one surface 70a of the work substrate 70 is patterned, and the x conductive patterns 14, The y conductive pattern 16, the terminal part 17, and the y connection part 15b are formed. At the same time, as shown in FIGS. 6A to 6C, the conductive material layer 29 made of a conductive material is formed on the portion of the chip portion 71 where the static elimination pattern 23 will be provided later and on the outer frame portion 72.
Thereby, as shown in FIG. 6B and FIG. 6C, the static elimination pattern 23 including the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29 is formed on each chip portion 71 on the one surface 70 a of the work substrate 70. As shown in FIG. 6B, the static elimination pattern 23 includes a tapered region 24 that reaches the outer edge of the chip portion 71 and tapers toward the inside of the chip portion 71. Further, the tip 24 a of the tapered region 24 includes a tip insulating layer 28 in addition to the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29 as shown in FIG. 6C. For this reason, the front-end | tip part 24a protrudes upwards with respect to another part among the taper area | regions 24. FIG.
Also, as shown in FIGS. 6A to 6C, an outer frame static elimination pattern 74 including the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29 is formed on the outer frame portion 72 on the one surface 70 a of the work substrate 70. The outer frame static elimination pattern 74 is preferably formed as a pattern having as large an area as possible. Further, the outer frame static elimination pattern 74 is connected to the static elimination pattern 23 of each chip portion 71 as shown in FIGS. 6B and 6C. Each static elimination pattern 23 and outer frame static elimination pattern 74 function as a static elimination unit 73 that reduces the amount of charge on the one surface 70a side of the work substrate 70, as will be described later.

[保護層の形成工程]
次に保護層22を形成する工程について、図7Aおよび図7Bを参照して説明する。図7Aは、ワーク基板70のチップ部71を拡大して示す図であり、図7Bは、図7Aのワーク基板70をVIIB−VIIB方向から見た縦断面図である。
[Protective layer formation process]
Next, the process of forming the protective layer 22 will be described with reference to FIGS. 7A and 7B. 7A is an enlarged view of the chip portion 71 of the work substrate 70, and FIG. 7B is a longitudinal sectional view of the work substrate 70 of FIG. 7A as viewed from the VIIB-VIIB direction.

はじめに、保護層22を形成するための材料、例えばアクリル樹脂をワーク基板70の一面70a上に設け、次に設けられた材料をパターニングする。これによって、図7Aおよび図7Bに示すように、各電極パターン13,15および各導電パターン14,16を覆う保護層22が形成される。この際、パターニングは、保護層22が除電パターン23のうち少なくとも先細領域24の先端部24aを覆うよう実施される。このようにして、ワーク基板70の一面70a上の各チップ部71にタッチパネルセンサ部10が形成される。   First, a material for forming the protective layer 22, for example, an acrylic resin is provided on the one surface 70a of the work substrate 70, and then the provided material is patterned. As a result, as shown in FIGS. 7A and 7B, a protective layer 22 that covers the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16 is formed. At this time, the patterning is performed such that the protective layer 22 covers at least the tip 24 a of the tapered region 24 in the static elimination pattern 23. In this way, the touch panel sensor unit 10 is formed on each chip unit 71 on the one surface 70a of the work substrate 70.

ところで図7Aおよび図7Bに示すように、本実施の形態において、保護層22は各チップ部71内にのみ設けられる。すなわち、保護層22は、外枠部72には設けられない。そして外枠部72には、導電性を有する外枠除電パターン74が形成されている。このため、ワーク基板70の一面70a全域にわたって保護層が設けられている場合に比べて、ワーク基板70の一面70a上における保護層22の面積が小さくなっている。このことにより、後述するカラーフィルタ部30の形成工程において、保護層22の帯電量を小さくすることができる。   Incidentally, as shown in FIGS. 7A and 7B, in the present embodiment, the protective layer 22 is provided only in each chip portion 71. That is, the protective layer 22 is not provided on the outer frame portion 72. The outer frame portion 72 is formed with a conductive outer frame charge removal pattern 74. For this reason, the area of the protective layer 22 on the one surface 70a of the work substrate 70 is smaller than when the protective layer is provided over the entire surface 70a of the work substrate 70. Thereby, the charge amount of the protective layer 22 can be reduced in the formation process of the color filter portion 30 described later.

なお保護層22をパターニングする具体的な方法が特に限られることはなく、様々なパターニング方法が適宜用いられる。例えば、上述のように保護層22を構成する材料として光硬化性アクリル樹脂が用いられる場合、パターニング方法としてフォトリソグラフィー法が用いられる。   The specific method for patterning the protective layer 22 is not particularly limited, and various patterning methods are used as appropriate. For example, when a photocurable acrylic resin is used as the material constituting the protective layer 22 as described above, a photolithography method is used as the patterning method.

(カラーフィルタ部の製造方法)
次に、図8を参照して、ワーク基板70の他面70b上にカラーフィルタ部30を形成する方法について説明する。図8は、カラーフィルタ部30を形成する際に実施される工程で用いられる装置を示す図である。この装置は、塗布手段81と、乾燥手段82と、プリベーク手段83と、露光・現像手段84と、水切り手段85とを備えている。
(Manufacturing method of color filter part)
Next, a method for forming the color filter portion 30 on the other surface 70b of the work substrate 70 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a diagram illustrating an apparatus used in a process performed when the color filter unit 30 is formed. This apparatus includes a coating unit 81, a drying unit 82, a pre-baking unit 83, an exposure / development unit 84, and a draining unit 85.

図8に示すように、はじめにワーク基板70は、複数のタッチパネルセンサ部10が形成された一面70aが下方に向くよう上下反転される。次に図8に示すように、塗布手段81において、ブラックマトリクス層31を構成する材料を含む塗工液がワーク基板70の他面70b上のチップ部71に塗布される。この際、図8に示すように、ワーク基板70は、タッチパネルセンサ部10が形成された一面70aが下方に向けられた状態で、支持台86により吸着支持される。   As shown in FIG. 8, first, the work substrate 70 is turned upside down so that one surface 70a on which the plurality of touch panel sensor units 10 are formed faces downward. Next, as shown in FIG. 8, a coating liquid containing a material constituting the black matrix layer 31 is applied to the chip portion 71 on the other surface 70 b of the work substrate 70 by the application unit 81. At this time, as shown in FIG. 8, the work substrate 70 is sucked and supported by the support base 86 with the one surface 70 a on which the touch panel sensor unit 10 is formed facing downward.

次に図8に示すように、乾燥手段82において、塗工液に含まれる溶剤が減圧乾燥により除去される。なお、ワーク基板70を塗布手段81から乾燥手段82まで搬送する手段として、例えば図8に示すように、回転する搬送ローラー87が用いられる。この場合、ワーク基板70の一面70a上に形成されたタッチパネルセンサ部10が搬送ローラー87に接触しながら、ワーク基板70が搬送ローラー87により搬送される。   Next, as shown in FIG. 8, in the drying means 82, the solvent contained in the coating liquid is removed by drying under reduced pressure. As a means for conveying the work substrate 70 from the coating means 81 to the drying means 82, for example, a rotating conveyance roller 87 is used as shown in FIG. In this case, the work substrate 70 is transported by the transport roller 87 while the touch panel sensor unit 10 formed on the one surface 70 a of the work substrate 70 is in contact with the transport roller 87.

その後、図8に示すように、プリベーク手段83において、例えばホットプレートを用いることにより、他面70b上に形成されたブラックマトリクス層31用の材料が加熱される。これによって、他面70b上に形成されたブラックマトリクス層31用の材料の乾燥が進む。次に、露光・現像手段84において、他面70b上に形成されたブラックマトリクス層31用の材料がパターニングされる。これによって、他面70b上に、上述の図3(b)に示すような所定のパターンを有するブラックマトリクス層31が形成される。その後、水切り手段85において、ブラックマトリクス層31上に残っている液がエアーナイフにより除去される。   Thereafter, as shown in FIG. 8, in the pre-baking means 83, the material for the black matrix layer 31 formed on the other surface 70b is heated by using, for example, a hot plate. Thereby, the material for the black matrix layer 31 formed on the other surface 70b is dried. Next, in the exposure / development means 84, the material for the black matrix layer 31 formed on the other surface 70b is patterned. As a result, the black matrix layer 31 having a predetermined pattern as shown in FIG. 3B is formed on the other surface 70b. Thereafter, in the draining means 85, the liquid remaining on the black matrix layer 31 is removed by an air knife.

次に、ブラックマトリクス層31の間に着色層32を形成する。このようにして、ワーク基板70の他面70b上の各チップ部71にカラーフィルタ部30が形成される。これによって、ワーク基板70の各チップ71にカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20が形成される。なお、着色層32を形成する際に実施される工程は、用いられる材料が異なるという点を除いて、上述のブラックマトリクス層31を形成する際に実施される工程と略同一である。従って、着色層32を形成する工程の詳細な説明は省略される。   Next, a colored layer 32 is formed between the black matrix layers 31. In this way, the color filter portion 30 is formed on each chip portion 71 on the other surface 70b of the work substrate 70. As a result, the color filter integrated touch panel sensor 20 is formed on each chip 71 of the work substrate 70. In addition, the process performed when forming the colored layer 32 is substantially the same as the process performed when forming the above-described black matrix layer 31 except that the material used is different. Therefore, detailed description of the process of forming the colored layer 32 is omitted.

(剥離の際の作用効果)
ところで、塗布手段81などにおいては、図9(a)に示すように、複数の吸着穴88を有する支持台86によってワーク基板70が支持される。ここで図9(b)は、ワーク基板70を支持台86から剥離させようとしている状態を示す図である。この場合、剥離の際の剥離帯電に起因して、タッチパネルセンサ部10の保護層22が帯電することが考えられる。ここで本実施の形態によれば、上述のように、ワーク基板70の一面70a上には、保護層22に接続された除電パターン23と、除電パターン23に接続された外枠除電パターン74とが設けられている。このため、保護層22に蓄えられている静電気を、除電パターン23および外枠除電パターン74に引き受けさせることができる。これによって、保護層22における帯電量を低減させることができ、このことにより、静電気の放電が生じるのを防ぐことができる。これによって、ワーク基板70を支持台86から剥離させる際、静電気の放電によってタッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。
(Function and effect when peeling)
By the way, in the coating means 81 and the like, the work substrate 70 is supported by a support base 86 having a plurality of suction holes 88 as shown in FIG. Here, FIG. 9B is a diagram showing a state in which the work substrate 70 is about to be peeled off from the support base 86. In this case, it is conceivable that the protective layer 22 of the touch panel sensor unit 10 is charged due to peeling charging at the time of peeling. Here, according to the present embodiment, as described above, the static elimination pattern 23 connected to the protective layer 22 and the outer frame static elimination pattern 74 connected to the static elimination pattern 23 are provided on the one surface 70a of the work substrate 70. Is provided. For this reason, the static electricity stored in the protective layer 22 can be accepted by the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74. As a result, the amount of charge in the protective layer 22 can be reduced, which can prevent static discharge. Thereby, when the work substrate 70 is peeled off from the support base 86, it is possible to prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged by electrostatic discharge.

また本実施の形態によれば、上述のように、除電パターン23は、内方に向かって先細になる先細領域24を含み、先細領域24の先端部24aは、保護層22により覆われている。このため、先細領域24をいわゆる避雷針として機能させることができる。従って、保護層22の電荷が先細領域24の先端部24aに集まりやすくなっている。このことにより、保護層22における帯電量をより確実に低減させることができる。   Further, according to the present embodiment, as described above, the static elimination pattern 23 includes the tapered region 24 that tapers inward, and the distal end portion 24 a of the tapered region 24 is covered with the protective layer 22. . For this reason, the taper area | region 24 can be functioned as what is called a lightning rod. Accordingly, the charges of the protective layer 22 are likely to collect at the tip 24 a of the tapered region 24. Thereby, the charge amount in the protective layer 22 can be reduced more reliably.

さらに本実施の形態によれば、除電パターン23の先細領域24のうち先端部24aが、その他の部分に対して上方へ突出している。これによって、先細領域24の避雷針としての機能がさらに高められている。従って、保護層22の電荷が先細領域24の先端部24aにより集まりやすくなっており、このことにより、保護層22における帯電量をより確実に低減させることができる。   Further, according to the present embodiment, the distal end portion 24a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 protrudes upward with respect to the other portions. As a result, the function of the tapered region 24 as a lightning rod is further enhanced. Therefore, the charge of the protective layer 22 is easily collected by the tip end portion 24a of the tapered region 24, and this makes it possible to more reliably reduce the charge amount in the protective layer 22.

また、ワーク基板70と支持台86との間で仮に放電が生じるとしても、放電は、より面積が大きく、かつ電気抵抗の低い箇所で生じると考えられる。すなわち、ワーク基板70の外枠部72に大面積を有するパターンで設けられ、かつ保護層22により覆われていない外枠除電パターン74において放電が生じると考えられる。このため、仮に放電が発生する場合であっても、放電による損傷は、タッチパネルセンサ部10ではなく外枠除電パターン74に発生し易いと考えられる。すなわち、外枠除電パターン74を設けることによって、タッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。   Further, even if a discharge occurs between the work substrate 70 and the support base 86, it is considered that the discharge occurs at a location having a larger area and a lower electric resistance. That is, it is considered that a discharge occurs in the outer frame static elimination pattern 74 that is provided in a pattern having a large area on the outer frame portion 72 of the work substrate 70 and is not covered by the protective layer 22. For this reason, even if discharge occurs, it is considered that damage due to discharge is likely to occur not in the touch panel sensor unit 10 but in the outer frame charge removal pattern 74. That is, by providing the outer frame static elimination pattern 74, it is possible to prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged.

また、仮にタッチパネルセンサ部10の保護層22において放電が生じるとしても、放電は、より電気抵抗の低い経路を通って生じると考えられる。ここで本実施の形態によれば、上述のように、除電パターン23の先細領域24の先端部24a上の保護層22の厚みtが、電極パターン13,15上および導電パターン14,16上の保護層22の厚みt以下となっている。すなわち、保護層22の厚み方向において、先細領域24の先端部24a上の保護層22の電気抵抗は、極パターン13,15上および導電パターン14,16上の保護層22の電気抵抗よりも小さくなっている。このため、仮に放電が生じるとしても、放電の経路は、電極パターン13,15または導電パターン14,16を通る経路ではなく、除電パターン23の先細領域24の先端部24aを通る経路で生じると考えられる。このため、仮に保護層22において放電が発生する場合であっても、放電による損傷は、電極パターン13,15または導電パターン14,16ではなく除電パターン23に発生し易いと考えられる。すなわち、除電パターン23を設けることによって、タッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。 Moreover, even if a discharge occurs in the protective layer 22 of the touch panel sensor unit 10, it is considered that the discharge occurs through a path having a lower electrical resistance. Here, according to the present embodiment, as described above, the thickness t 1 of the protective layer 22 on the tip 24 a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 is set on the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16. and it has a thickness t 2 of the protective layer 22 below. That is, in the thickness direction of the protective layer 22, the electrical resistance of the protective layer 22 on the tip 24 a of the tapered region 24 is smaller than the electrical resistance of the protective layer 22 on the polar patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16. It has become. For this reason, even if discharge occurs, it is considered that the discharge path is not a path that passes through the electrode patterns 13 and 15 or the conductive patterns 14 and 16 but a path that passes through the tip 24a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23. It is done. For this reason, even if a discharge occurs in the protective layer 22, it is considered that damage due to the discharge is likely to occur not in the electrode patterns 13, 15 or the conductive patterns 14, 16 but in the charge removal pattern 23. That is, by providing the static elimination pattern 23, it is possible to prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged.

またワーク基板70を支持台86から剥離させる際、一般には、ワーク基板70全体が支持台86から同時に剥離されるのではなく、ワーク基板70の一部分が他の部分よりも先に剥離される。例えば、ワーク基板70の端部分(一端部分および一端部分の反対側にある他端部分)が、ワーク基板70の中央部分よりも先に剥離される。若しくは、はじめにワーク基板70の一端部分が剥離され、次にワーク基板70の中央部分が剥離され、最後にワーク基板の他端部分が剥離される。このように時間差を設けてワーク基板70の各部分を剥離することは、剥離帯電を低減することを目的として実施されている。
ここで図9(b)に示すように、ワーク基板70の外縁近傍が最後まで支持台86に接触している場合について考える。この際、仮に静電気の放電が発生する場合、この放電は各タッチパネルセンサ部10の外縁近傍で生じると考えられる。ここで本実施の形態によれば、上述のように、除電パターン23は、電極パターン13,15や導電パターン14,16よりもタッチパネルセンサ部10の外縁に近い領域に設けられている。このため、仮に静電気の放電が発生する場合であっても、放電による損傷は、電極パターン13,15や導電パターン14,16ではなく除電パターン23に発生し易いと考えられる。すなわち本実施の形態によれば、時間差を設けてワーク基板70の各部分を剥離することにより、剥離帯電を低減するだけでなく、放電による損傷が除電パターン23において生じ易くすることができる。これによって、電極パターン13,15および導電パターン14,16が損傷するのをより確実に防ぐことができる。
When the work substrate 70 is peeled from the support base 86, generally, the entire work substrate 70 is not peeled from the support base 86 at the same time, but a part of the work substrate 70 is peeled off before other portions. For example, the end portion of the work substrate 70 (one end portion and the other end portion on the opposite side of the one end portion) is peeled off before the center portion of the work substrate 70. Alternatively, one end portion of the work substrate 70 is first peeled off, then the central portion of the work substrate 70 is peeled off, and finally the other end portion of the work substrate is peeled off. In this way, peeling each part of the work substrate 70 with a time difference is performed for the purpose of reducing peeling charging.
Here, as shown in FIG. 9B, consider the case where the vicinity of the outer edge of the work substrate 70 is in contact with the support base 86 to the end. At this time, if static discharge occurs, it is considered that this discharge occurs near the outer edge of each touch panel sensor unit 10. Here, according to the present embodiment, as described above, the static elimination pattern 23 is provided in a region closer to the outer edge of the touch panel sensor unit 10 than the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16. For this reason, even if static electricity discharge occurs, it is considered that damage due to the discharge is likely to occur not in the electrode patterns 13 and 15 or the conductive patterns 14 and 16 but in the charge removal pattern 23. That is, according to the present embodiment, by peeling each part of the work substrate 70 with a time difference, not only the peeling charge can be reduced, but also damage due to discharge can easily occur in the static elimination pattern 23. This can more reliably prevent the electrode patterns 13 and 15 and the conductive patterns 14 and 16 from being damaged.

好ましくは、ワーク基板70を支持台86から剥離させる際、ワーク基板70の一面70a上の外枠除電パターン74が、適切な手段により接地され、または外部の適切な導電体に接続される。これによって、除電パターン23および外枠除電パターン74の電荷を外部に逃がすことができ、このことにより、保護層22に蓄えられている静電気を除電パターン23および外枠除電パターン74にさらに引き受けさせることが可能となる。これによって、保護層22における帯電量をより低減させることができ、このことにより、静電気の放電が生じるのをより確実に防ぐことができる。   Preferably, when the work substrate 70 is peeled from the support base 86, the outer frame static elimination pattern 74 on one surface 70a of the work substrate 70 is grounded by an appropriate means or connected to an appropriate external conductor. As a result, the charge of the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 can be released to the outside, and thereby, the static electricity stored in the protective layer 22 is further accepted by the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74. Is possible. As a result, the amount of charge in the protective layer 22 can be further reduced, which can more reliably prevent the occurrence of static electricity discharge.

除電パターン23および外枠除電パターン74の電荷を外部に逃がすための具体的な手段が特に限定されることはなく、様々な手段が用いられ得る。例えば、ワーク基板70を支持台86から剥離させる手段として、支持台86から上方に突出して支持台86上のワーク基板70を持ち上げるリフトピン(図示せず)が用いられる場合について考える。この場合、導電性を有する材料を用いてリフトピンを構成し、かつリフトピンを接地しておき、そしてリフトピンを除電パターン23または外枠除電パターン74に接触させることにより、除電パターン23および外枠除電パターン74の電荷を外部に逃がすことができる。また、支持台86自体を導電性を有する材料で構成し、かつ支持台86を接地しておくことにより、除電パターン23および外枠除電パターン74の電荷を外部に逃がすこともできる。   Specific means for releasing the charges of the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 to the outside are not particularly limited, and various means can be used. For example, consider a case where lift pins (not shown) that protrude upward from the support base 86 and lift the work board 70 on the support base 86 are used as means for separating the work board 70 from the support base 86. In this case, the lift pin is formed using a conductive material, the lift pin is grounded, and the lift pin is brought into contact with the charge removal pattern 23 or the outer frame charge removal pattern 74, thereby removing the charge removal pattern 23 and the outer frame charge removal pattern. 74 charges can be released to the outside. Further, by configuring the support base 86 itself with a conductive material and grounding the support base 86, the charges of the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 can be released to the outside.

(搬送の際の作用効果)
また回転する搬送ローラー87によってワーク基板70を搬送する場合、搬送ローラー87に起因してタッチパネルセンサ部10の保護層22が帯電することが考えられる。例えば、搬送ローラー87が空転する際に搬送ローラー87が帯電し、この電気がタッチパネルセンサ部10の保護層22に伝導されることが考えられる。この場合も、上述の剥離帯電の場合と同様に、保護層22に蓄えられている静電気を、除電パターン23および外枠除電パターン74に引き受けさせることができる。これによって、保護層22における帯電量を低減させることができ、このことにより、静電気の放電が生じるのを防ぐことができる。
(Effects during transport)
Further, when the work substrate 70 is transported by the rotating transport roller 87, it is conceivable that the protective layer 22 of the touch panel sensor unit 10 is charged due to the transport roller 87. For example, it is conceivable that the transport roller 87 is charged when the transport roller 87 idles and this electricity is conducted to the protective layer 22 of the touch panel sensor unit 10. Also in this case, the static electricity stored in the protective layer 22 can be accepted by the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 as in the case of the above-described peeling charging. As a result, the amount of charge in the protective layer 22 can be reduced, which can prevent static discharge.

また、ワーク基板70と搬送ローラー87との間で仮に放電が生じるとしても、放電は、上述の剥離帯電の場合と同様に、外枠除電パターン74または除電パターン23に発生し易いと考えられる。すなわち、外枠除電パターン74および除電パターン23を設けることによって、タッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。   Further, even if a discharge occurs between the work substrate 70 and the transport roller 87, it is considered that the discharge is likely to occur in the outer frame charge removal pattern 74 or the charge removal pattern 23 as in the case of the above-described peeling charging. That is, by providing the outer frame static elimination pattern 74 and the static elimination pattern 23, it is possible to prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged.

好ましくは、ワーク基板70を搬送ローラー87によって搬送する際、ワーク基板70の一面70a上の外枠除電パターン74が、適切な手段により接地され、または外部の適切な導電体に接続される。これによって、除電パターン23および外枠除電パターン74の電荷を外部に逃がすことができ、このことにより、保護層22に蓄えられている静電気を除電パターン23および外枠除電パターン74にさらに引き受けさせることが可能となる。これによって、保護層22における帯電量をより低減させることができ、このことにより、静電気の放電が生じるのをより確実に防ぐことができる。   Preferably, when the work substrate 70 is transported by the transport roller 87, the outer frame static elimination pattern 74 on the one surface 70a of the work substrate 70 is grounded by an appropriate means or connected to an appropriate external conductor. As a result, the charge of the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 can be released to the outside, and thereby, the static electricity stored in the protective layer 22 is further accepted by the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74. Is possible. As a result, the amount of charge in the protective layer 22 can be further reduced, which can more reliably prevent the occurrence of static electricity discharge.

(液切りの際の作用効果)
また水切り手段85においてエアーナイフを用いてワーク基板70上の液を除去する際、エアーナイフによる大気との摩擦帯電によってタッチパネルセンサ部10の保護層22が帯電することが考えられる。この場合も、上述の剥離帯電の場合と同様に、保護層22に蓄えられている静電気を、除電パターン23および外枠除電パターン74に引き受けさせることができる。これによって、保護層22における帯電量を低減させることができ、このことにより、静電気の放電が生じるのを防ぐことができる。
(Effects when draining liquid)
Further, when removing the liquid on the work substrate 70 using the air knife in the draining means 85, it is conceivable that the protective layer 22 of the touch panel sensor unit 10 is charged by frictional charging with the atmosphere by the air knife. Also in this case, the static electricity stored in the protective layer 22 can be accepted by the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 as in the case of the above-described peeling charging. As a result, the amount of charge in the protective layer 22 can be reduced, which can prevent static discharge.

また、摩擦帯電によって仮に放電が生じるとしても、放電は、上述の剥離帯電の場合と同様に、外枠除電パターン74または除電パターン23に発生し易いと考えられる。すなわち、外枠除電パターン74および除電パターン23を設けることによって、タッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。   Further, even if discharge occurs due to frictional charging, it is considered that the discharge is likely to occur in the outer frame charge removal pattern 74 or the charge removal pattern 23 as in the case of the above-described peeling charge. That is, by providing the outer frame static elimination pattern 74 and the static elimination pattern 23, it is possible to prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged.

(その他の作用効果)
また、カラーフィルタ部30の形成工程の間ではなく、タッチパネルセンサ部10の形成工程において既に保護層22が帯電していることも考えられる。例えば、タッチパネルセンサ部10の保護層22が光硬化性アクリル樹脂からなる場合、光硬化工程時に分子が光によって励起されることに起因して、保護層22の表面と内部で分極が起こることが考えられる。ここで本実施の形態によれば、上述のように、ワーク基板70の一面70a上には、除電パターン23と、除電パターン23に接続された外枠除電パターン74とが設けられている。このうち除電パターン23は、内方に向かって先細になる先細領域24を含み、先細領域24の先端部24aは、保護層22により覆われている。このため、保護層22内部の電荷を除電パターン23の先細領域24の先端部24aに集め、そして外枠除電パターン74に逃がすことができる。これによって、保護層22における帯電量を低減させることができ、このことにより、放電が生じるのを防ぐことができる。これによって、タッチパネルセンサ部10の形成工程に起因して保護層22の表面と内部で分極が起こっている場合であっても、放電によってタッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。
(Other effects)
It is also conceivable that the protective layer 22 is already charged in the process of forming the touch panel sensor unit 10, not during the process of forming the color filter unit 30. For example, when the protective layer 22 of the touch panel sensor unit 10 is made of a photocurable acrylic resin, polarization may occur on the surface and inside of the protective layer 22 due to the molecules being excited by light during the photocuring process. Conceivable. Here, according to the present embodiment, as described above, the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 connected to the static elimination pattern 23 are provided on the one surface 70 a of the work substrate 70. Among these, the static elimination pattern 23 includes a tapered region 24 that tapers inward, and the tip 24 a of the tapered region 24 is covered with a protective layer 22. For this reason, the charge inside the protective layer 22 can be collected at the tip 24 a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 and escaped to the outer frame static elimination pattern 74. As a result, the amount of charge in the protective layer 22 can be reduced, which can prevent discharge from occurring. Thereby, even if polarization occurs on the surface and inside of the protective layer 22 due to the formation process of the touch panel sensor unit 10, it is possible to prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged by discharge.

表示装置の製造方法
次に、複数のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20が割り付けられた多面付けワーク基板70から、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20を1つ1つ取り出す。この際の具体的な方法が特に限られることはなく、例えば切断によりカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20が取り出される。ここで、好ましくは、保護層22は、ワーク基板70の一面70a上において、チップ部71内にのみ設けられている。このため、ワーク基板70の切断の際、保護層22が切断されることはない。すなわち、切断の際に保護層22に過大な力が印加されることはない。これによって、切断の際に保護層22がワーク基板70の一面70a上から剥離されるのを防ぐことができる。
Manufacturing Method of Display Device Next, the color filter integrated touch panel sensors 20 are taken out one by one from the multi-sided work substrate 70 to which the plurality of color filter integrated touch panel sensors 20 are assigned. The specific method in this case is not particularly limited, and the color filter integrated touch panel sensor 20 is taken out by cutting, for example. Here, preferably, the protective layer 22 is provided only in the chip portion 71 on the one surface 70 a of the work substrate 70. For this reason, the protective layer 22 is not cut when the work substrate 70 is cut. That is, an excessive force is not applied to the protective layer 22 at the time of cutting. Accordingly, it is possible to prevent the protective layer 22 from being peeled off from the one surface 70a of the work substrate 70 at the time of cutting.

取り出されたカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20は、図3(a)(b)(c)に示すように、液晶40およびTFT基板50と組み合わされる。また、必要に応じて、タッチパネルセンサ部10上に保護カバー(図示せず)が透明接着剤などを介して設けられる。このようにして、タッチパネル機能付き表示装置60が製造される。   The taken out color filter integrated touch panel sensor 20 is combined with the liquid crystal 40 and the TFT substrate 50 as shown in FIGS. Further, as necessary, a protective cover (not shown) is provided on the touch panel sensor unit 10 via a transparent adhesive or the like. In this way, the display device 60 with a touch panel function is manufactured.

本実施の形態によれば、上述のように、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20の基板11の一面11aには、タッチパネルセンサ部10と、導電性を有する除電パターン23とが設けられている。この除電パターン23は、少なくとも部分的に基板11の外縁に達しており、かつ、タッチパネルセンサ部10の電極パターン13,15、端子部17および導電パターン14,16のいずれにも接触していない。また、この除電パターン23は、内方に向かって先細になる先細領域24を含んでおり、この先細領域24の先端部24aは、保護層22により覆われている。このため、静電気により保護層22が帯電した場合であっても、保護層22の電荷を除電パターン23に逃がすことができる。また、内方に向かって先細になる先細領域24を用いて除電パターン23を構成することにより、保護層22の電荷が先細領域24の先端部24aに集まりやすくなっている。このため、保護層22の電荷をより確実に除電パターン23に逃がすことができ、これによって、保護層22の帯電量が大きくなるのを抑制することができる。このことにより、静電気の放電が生じるのを防ぐことができ、これによって、電極パターン13,15、端子部17および導電パターン14,16が損傷するのを防ぐことができる。また、仮に放電が生じるとしても、除電パターン23を設けることにより、放電の発生箇所を、タッチパネルセンサ部10ではなく除電パターン23にすることができる。これによって、タッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。   According to the present embodiment, as described above, the touch panel sensor unit 10 and the conductive charge removal pattern 23 are provided on the one surface 11 a of the substrate 11 of the color filter integrated touch panel sensor 20. The static elimination pattern 23 reaches the outer edge of the substrate 11 at least partially, and does not contact any of the electrode patterns 13 and 15, the terminal portion 17, and the conductive patterns 14 and 16 of the touch panel sensor unit 10. In addition, the static elimination pattern 23 includes a tapered region 24 that tapers inward, and a tip portion 24 a of the tapered region 24 is covered with a protective layer 22. For this reason, even when the protective layer 22 is charged by static electricity, the charge of the protective layer 22 can be released to the charge removal pattern 23. In addition, by forming the static elimination pattern 23 using the tapered region 24 that tapers inward, the charges of the protective layer 22 are easily collected at the tip 24 a of the tapered region 24. For this reason, the electric charge of the protective layer 22 can be more reliably released to the static elimination pattern 23, and thereby, it is possible to suppress an increase in the charge amount of the protective layer 22. As a result, it is possible to prevent the occurrence of static electricity discharge, thereby preventing the electrode patterns 13 and 15, the terminal portion 17, and the conductive patterns 14 and 16 from being damaged. Even if a discharge occurs, by providing the charge removal pattern 23, the place where the discharge occurs can be the charge removal pattern 23 instead of the touch panel sensor unit 10. This can prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged.

また本実施の形態によれば、複数のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20が割り付けられた多面付けワーク基板70を製造する際、ワーク基板70の一面70a上の外枠部72に、除電パターン23に接続された外枠除電パターン74が設けられている。このため、保護層22の電荷を除電パターン23を介して外枠除電パターン74に引き受けさせることができ、これによって、保護層22の帯電量が大きくなるのを抑制することができる。このことにより、静電気の放電が生じるのを防ぐことができ、これによって、電極パターン13,15、端子部17および導電パターン14,16が損傷するのを防ぐことができる。   In addition, according to the present embodiment, when manufacturing the multi-sided work substrate 70 to which the plurality of color filter integrated touch panel sensors 20 are assigned, the outer frame portion 72 on the one surface 70 a of the work substrate 70 is applied to the static elimination pattern 23. A connected outer frame neutralization pattern 74 is provided. For this reason, the charge of the protective layer 22 can be accepted by the outer frame charge removal pattern 74 via the charge removal pattern 23, thereby suppressing an increase in the charge amount of the protection layer 22. As a result, it is possible to prevent the occurrence of static electricity discharge, thereby preventing the electrode patterns 13 and 15, the terminal portion 17, and the conductive patterns 14 and 16 from being damaged.

また本実施の形態によれば、除電パターン23および外枠除電パターン74は、透明電極材料をパターニングする際にx電極単位13a、y電極単位15aおよびx接続部15bと同時に形成される透明電極材料層27と、導電性材料をパターニングする際にy接続部15bと同時に透明電極材料層27上に形成される導電性材料層29と、を含んでいる。このため、ワーク基板70にタッチパネルセンサ部10のみを形成する場合の工数と同一の工数で、除電パターン23および外枠除電パターン74からなる除電部73を形成することができる。このことにより、除電部73を含むカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20を簡易に製造することができる。   Further, according to the present embodiment, the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 are formed simultaneously with the x electrode unit 13a, the y electrode unit 15a, and the x connection portion 15b when patterning the transparent electrode material. The layer 27 and the conductive material layer 29 formed on the transparent electrode material layer 27 at the same time as the y-connecting portion 15b when the conductive material is patterned are included. For this reason, the static elimination part 73 which consists of the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 can be formed by the same man-hour as the man-hour when forming only the touch panel sensor part 10 in the work substrate 70. Thus, the color filter integrated touch panel sensor 20 including the charge eliminating unit 73 can be easily manufactured.

また本実施の形態によれば、除電パターン23の先細領域24の先端部24aは、透明電極材料層27と導電性材料層29との間に介在され、絶縁層18と同時に絶縁層18と同一の材料から形成される先端部用絶縁層28をさらに含んでいる。このため、上方に突出した先端部24aを含む先細領域24からなる除電パターン23を、ワーク基板70にタッチパネルセンサ部10のみを形成する場合の工数と同一の工数で形成することができる。このことにより、避雷針としての機能がより高められた除電部73を含むカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20を簡易に製造することができる。   Further, according to the present embodiment, the tip 24 a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 is interposed between the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29 and is the same as the insulating layer 18 simultaneously with the insulating layer 18. It further includes a tip insulating layer 28 formed of the above material. For this reason, the static elimination pattern 23 which consists of the taper area | region 24 containing the front-end | tip part 24a protruded upwards can be formed with the same man-hour as the man-hour when forming only the touch panel sensor part 10 in the work board | substrate 70. FIG. Thereby, the color filter integrated touch panel sensor 20 including the static eliminating portion 73 whose function as a lightning rod is further enhanced can be easily manufactured.

除電パターンの形状の変形例
なお除電パターン23の具体的な形状や数が特に限られることはなく、様々な形状を有する除電パターン23が所望の数だけ設けられ得る。例えば図10に示すように、各除電パターン23は、内方に向かって先細になる複数の先細領域24を含んでいてもよい。これによって、避雷針として機能する部分をより多くすることができ、このことにより、保護層22の電荷をより確実に除電パターン23に集めることができる。
Variations of the shape of the charge removal pattern The specific shape and number of the charge removal patterns 23 are not particularly limited, and a desired number of charge removal patterns 23 having various shapes can be provided. For example, as shown in FIG. 10, each static elimination pattern 23 may include a plurality of tapered regions 24 that taper inward. As a result, it is possible to increase the number of parts that function as a lightning rod, and thereby it is possible to more reliably collect the charge of the protective layer 22 in the static elimination pattern 23.

除電パターンの層構成の変形例
また本実施の形態によるタッチパネルセンサ部10の形成工程において、はじめにx電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aが形成され、次にx接続部13b上に絶縁層18が形成され、その後にy接続部15bが形成される例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図11Aに示すように、はじめにy接続部15bを形成し、次にy接続部15b上に絶縁層18を形成し、その後にx電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aを形成してもよい。
In the modification example of the layer configuration of the static elimination pattern and the formation process of the touch panel sensor unit 10 according to the present embodiment, the x electrode unit 13a, the x connection unit 13b, and the y electrode unit 15a are formed first, and then on the x connection unit 13b. The example in which the insulating layer 18 is formed and the y connection portion 15b is formed thereafter is shown. However, the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 11A, the y connection portion 15b is formed first, and then the insulating layer 18 is formed on the y connection portion 15b, and then the x electrode units 13a and x connection are formed. The portion 13b and the y electrode unit 15a may be formed.

具体的には、はじめに、ワーク基板70の一面70a上に導電性材料を設ける。次に、設けられた導電性材料をパターニングすることによりy接続部15bを形成する。その後、y接続部15b上に絶縁層18を形成する。次に、ワーク基板70の一面70a上に透明電極材料を設ける。その後、設けられた透明電極材料をパターニングすることにより、x電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aを形成する。これによってタッチパネルセンサ部10が形成される。   Specifically, first, a conductive material is provided on one surface 70 a of the work substrate 70. Next, the y connection portion 15b is formed by patterning the provided conductive material. Thereafter, the insulating layer 18 is formed on the y connection portion 15b. Next, a transparent electrode material is provided on one surface 70 a of the work substrate 70. Then, the x electrode unit 13a, the x connection part 13b, and the y electrode unit 15a are formed by patterning the provided transparent electrode material. Thereby, the touch panel sensor unit 10 is formed.

この場合、図11Aに示すように、外枠除電パターン74および除電パターン23は、導電性材料をパターニングする際にy接続部15bと同時に形成される導電性材料層29と、透明電極材料をパターニングする際にx電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aと同時に導電性材料層29上に形成される透明電極材料層27と、を含んでいる。また図11Aに示すように、除電パターン23の先細領域24の先端部24aは、透明電極材料層27と導電性材料層29との間に介在され、絶縁層18と同時に絶縁層18と同一の材料から形成される先端部用絶縁層28をさらに含んでいる。   In this case, as shown in FIG. 11A, the outer frame static elimination pattern 74 and the static elimination pattern 23 are formed by patterning the conductive material layer 29 formed simultaneously with the y connection portion 15b when patterning the conductive material, and the transparent electrode material. In this case, the transparent electrode material layer 27 formed on the conductive material layer 29 at the same time as the x electrode unit 13a, the x connection portion 13b, and the y electrode unit 15a is included. As shown in FIG. 11A, the tip 24a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 is interposed between the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29, and is the same as the insulating layer 18 simultaneously with the insulating layer 18. It further includes a tip insulating layer 28 made of a material.

除電パターンの層構成のその他の変形例
また本実施の形態において、除電パターン23の先細領域24の先端部24aが、透明電極材料層27と導電性材料層29との間に介在された先端部用絶縁層28を含む例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図11Bに示すように、先細領域24の先端部24aが、透明電極材料層27および導電性材料層29のみからなっていてもよい。すなわち、先細領域24のうち先端部24aがその他の部分に対して上方へ突出していていなくてもよい。
また本実施の形態において、外枠除電パターン74および除電パターン23が、透明電極材料層27および導電性材料層29の両方を含む例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、外枠除電パターン74および除電パターン23が透明電極材料層27または導電性材料層29のいずれか一方のみから形成されていてもよい。若しくは、外枠除電パターン74および除電パターン23が、透明電極材料層27または導電性材料層29とは異なるその他の導電性を有する材料から形成されていてもよい。
これらの場合であっても、内方に向かって先細になる先細領域24がいわゆる避雷針として機能することができ、このため、保護層22の電荷を先細領域24の先端部24aに集めることができる。
Other variations of the layer structure of the static elimination pattern and in the present embodiment, the distal end portion 24a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 is interposed between the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29. An example including the insulating layer 28 is shown. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 11B, the tip end portion 24 a of the tapered region 24 may be composed of only the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29. That is, the tip 24a of the tapered region 24 may not protrude upward with respect to other portions.
Further, in the present embodiment, an example in which the outer frame static elimination pattern 74 and the static elimination pattern 23 include both the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29 has been shown. However, the present invention is not limited to this, and the outer frame static elimination pattern 74 and the static elimination pattern 23 may be formed of only one of the transparent electrode material layer 27 and the conductive material layer 29. Alternatively, the outer frame static elimination pattern 74 and the static elimination pattern 23 may be formed of another conductive material different from the transparent electrode material layer 27 or the conductive material layer 29.
Even in these cases, the tapered region 24 that tapers inward can function as a so-called lightning rod, and for this reason, the charge of the protective layer 22 can be collected at the tip 24 a of the tapered region 24. .

カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの製造方法の変形例
また本実施の形態において、保護層22を形成する際のパターニング方法としてフォトリソグラフィー法が用いられる例を示した。この場合、保護層22のパターニングは、先細領域24の先端部24a上の保護層22の厚みtがy接続部15b上の保護層22の厚みtより小さくなるよう実施されてもよい。
例えば保護層22の材料としてネガ型感光性樹脂材料が用いられる場合、先細領域24の先端部24aに対応する部分における透過率がy接続部15bに対応する部分における透過率よりも小さくなっているハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法により、保護層22のパターニングが実施されてもよい。この場合、先細領域24の先端部24aに対応する部分に照射される露光光の強度が、y接続部15bに対応する部分に照射される露光光の強度よりも小さくなっている。このため、先細領域24の先端部24a上に形成される保護層22の厚みtが、y接続部15b上に形成される保護層22の厚みtより小さくなる。これによって、上述のように、放電の経路がy接続部15bを通る経路ではなく除電パターン23を通る経路になるという傾向をより強くすることができる。
若しくは保護層22の材料としてポジ型感光性樹脂材料が用いられる場合、先細領域24の先端部24aに対応する部分における透過率がy接続部15bに対応する部分における透過率よりも大きくなっているハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法により、保護層22のパターニングが実施されてもよい。この場合、先細領域24の先端部24aに対応する部分に照射される露光光の強度が、y接続部15bに対応する部分に照射される露光光の強度よりも大きくなっている。このため、先細領域24の先端部24a上に形成される保護層22の厚みtが、y接続部15b上に形成される保護層22の厚みtより小さくなる。これによって、上述のように、放電の経路がy接続部15bを通る経路ではなく除電パターン23を通る経路になるという傾向をより強くすることができる。
The modification example of the manufacturing method of the color filter integrated touch panel sensor and the present embodiment show an example in which the photolithography method is used as a patterning method when forming the protective layer 22. In this case, patterning of the protective layer 22 may be implemented as a thickness t 1 of the protective layer 22 on the front end portion 24a of the tapered region 24 is smaller than the thickness t 2 of the protective layer 22 on the y-connecting portion 15b.
For example, when a negative photosensitive resin material is used as the material of the protective layer 22, the transmittance at the portion corresponding to the tip portion 24a of the tapered region 24 is smaller than the transmittance at the portion corresponding to the y connection portion 15b. The protective layer 22 may be patterned by a photolithography method using a halftone mask. In this case, the intensity of the exposure light applied to the portion corresponding to the tip 24a of the tapered region 24 is smaller than the intensity of the exposure light applied to the portion corresponding to the y connection portion 15b. Therefore, the thickness t 1 of the protective layer 22 formed on the distal end portion 24a of the tapered region 24 is smaller than the thickness t 2 of the protective layer 22 formed on the y connection portion 15b. Thereby, as described above, the tendency that the discharge path is not the path passing through the y connection portion 15b but the path passing through the static elimination pattern 23 can be further strengthened.
Alternatively, when a positive photosensitive resin material is used as the material of the protective layer 22, the transmittance at the portion corresponding to the tip portion 24a of the tapered region 24 is larger than the transmittance at the portion corresponding to the y connection portion 15b. The protective layer 22 may be patterned by a photolithography method using a halftone mask. In this case, the intensity of the exposure light applied to the portion corresponding to the tip portion 24a of the tapered region 24 is greater than the intensity of the exposure light applied to the portion corresponding to the y connection portion 15b. Therefore, the thickness t 1 of the protective layer 22 formed on the distal end portion 24a of the tapered region 24 is smaller than the thickness t 2 of the protective layer 22 formed on the y connection portion 15b. Thereby, as described above, the tendency that the discharge path is not the path passing through the y connection portion 15b but the path passing through the static elimination pattern 23 can be further strengthened.

なお、通常のフォトマスクは、フォトマスク用透明基材と、フォトマスク用透明基材上に所定パターンで設けられた金属薄膜等の遮光部材と、からなっている。そして通常のフォトマスクは、透過部(フォトマスク用透明基材が露出する部位)と、遮光部(遮光部材が形成された部位)と、を有する2階調のフォトマスクとなっている。一方、上述のハーフトーンマスクは、透過部および遮光部に加え、透過部と遮光部の中間の透過率を有する中間透過率部を有している。このためハーフトーンマスクは、3階調以上の階調を有するフォトマスクとなっている。中間透過率部は、半透過性の薄膜等で形成される。   Note that a normal photomask includes a photomask transparent base material and a light shielding member such as a metal thin film provided in a predetermined pattern on the photomask transparent base material. The normal photomask is a two-tone photomask having a transmission part (a part where the photomask transparent substrate is exposed) and a light shielding part (a part where the light shielding member is formed). On the other hand, the above-described halftone mask has an intermediate transmittance portion having a transmittance intermediate between the transmission portion and the light shielding portion in addition to the transmission portion and the light shielding portion. Therefore, the halftone mask is a photomask having three or more gradations. The intermediate transmittance portion is formed of a semi-permeable thin film or the like.

カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの製造方法のその他の変形例
また上述のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの製造方法の変形例において、先細領域24の先端部24a上に形成される保護層22の厚みtをy接続部15b上に形成される保護層22の厚みtより小さくするため、保護層22のパターニングがハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法により実施される例を示した。しかしながら、先細領域24の先端部24a上に形成される保護層22の厚みtをy接続部15b上に形成される保護層22の厚みtより小さくするための方法がこれに限られることはない。例えば、ハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法により絶縁層18および先端部用絶縁層28のパターニングを実施することによって、先細領域24の先端部24a上に形成される保護層22の厚みtをy接続部15b上に形成される保護層22の厚みtより小さくすることができる。以下、ハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法により絶縁層18および先端部用絶縁層28のパターニングを実施する場合について、図11Cを参照して説明する。なお図11Cにおいて、保護層22の形状は、保護層22を塗布する際の保護層22自体のレベリング効果を考慮して表されている。
In another modification of the method for manufacturing the color filter integrated touch panel sensor or the above-described modification of the method for manufacturing the color filter integrated touch panel sensor, the thickness t 1 of the protective layer 22 formed on the tip portion 24a of the tapered region 24. the order smaller than the thickness t 2 of the protective layer 22 formed on the y connection portion 15b, patterning the protective layer 22 is an example carried out by photolithography using a halftone mask. However, the method for less than the thickness t 2 of the protective layer 22 formed of the thickness t 1 of the protective layer 22 formed on the distal end portion 24a of the tapered region 24 on the y-connecting portion 15b is limited to There is no. For example, by patterning the insulating layer 18 and the tip insulating layer 28 by photolithography using a halftone mask, the thickness t 1 of the protective layer 22 formed on the tip 24a of the tapered region 24 is reduced. it can be made smaller than the thickness t 2 of the protective layer 22 formed on the y connection portion 15b. Hereinafter, the case where the insulating layer 18 and the tip insulating layer 28 are patterned by a photolithography method using a halftone mask will be described with reference to FIG. 11C. In FIG. 11C, the shape of the protective layer 22 is represented in consideration of the leveling effect of the protective layer 22 itself when the protective layer 22 is applied.

例えば絶縁層18および先端部用絶縁層28の材料としてネガ型感光性樹脂材料が用いられる場合、先細領域24の先端部24aに対応する部分における透過率がy接続部15bに対応する部分における透過率よりも大きくなっているハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法により、絶縁層18および先端部用絶縁層28のパターニングが実施されてもよい。この場合、先細領域24の先端部24aに対応する部分に照射される露光光の強度が、y接続部15bに対応する部分に照射される露光光の強度よりも大きくなっている。このため図11Cに示すように、先細領域24の先端部24a上に形成される先端部用絶縁層28の厚みtが、y接続部15b上に形成される絶縁層18の厚みtより大きくなる。その後、先端部用絶縁層28および絶縁層18の上に、導電性材料層29およびy接続部15bが設けられ、さらに保護層22が設けられる。この場合、基板11の一面11aから導電性材料層29の表面(一側の面)までの距離は、基板11の一面11aからy接続部15bの表面(一側の面)までの距離よりも大きくなっている。このため、保護層22自体のレベリング効果により、図11Cに示すように、導電性材料層29上、すなわち先細領域24の先端部24a上に形成される保護層22の厚みtが、y接続部15b上に形成される保護層22の厚みtより小さくなる。これによって、放電の経路がy接続部15bを通る経路ではなく除電パターン23を通る経路になるという傾向をより強くすることができる。
また図11Cに示すように、基板11の一面11aから保護層22の表面(一側の面)までの距離に関しても、先細領域24の先端部24aにおける距離tの方が、y接続部15bにおける距離tよりも大きくなっている。このため、先細領域24の先端部24a上の保護層22が、他の位置にある保護層22に比べて突出している。このため、カラーフィルタ部30の製造工程において上述のようにワーク基板70を支持台86から剥離させる際、先細領域24の先端部24a上の保護層22が、最後に支持台86から離れる箇所となる。このことにより、剥離の際に放電が生じるとしても、放電の経路が除電パターン23を通る経路となる。これによって、タッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。
For example, when a negative photosensitive resin material is used as the material of the insulating layer 18 and the tip insulating layer 28, the transmittance at the portion corresponding to the tip 24a of the tapered region 24 is the transmittance at the portion corresponding to the y connection portion 15b. Patterning of the insulating layer 18 and the tip insulating layer 28 may be performed by a photolithography method using a halftone mask that is larger than the ratio. In this case, the intensity of the exposure light applied to the portion corresponding to the tip portion 24a of the tapered region 24 is greater than the intensity of the exposure light applied to the portion corresponding to the y connection portion 15b. Therefore, as shown in FIG. 11C, the thickness t 3 of the tip portion for the insulating layer 28 formed on the distal end portion 24a of the tapered region 24, than the thickness t 4 of the insulating layer 18 formed on the y connection part 15b growing. Thereafter, the conductive material layer 29 and the y-connecting portion 15b are provided on the tip insulating layer 28 and the insulating layer 18, and the protective layer 22 is further provided. In this case, the distance from the one surface 11a of the substrate 11 to the surface (one side surface) of the conductive material layer 29 is larger than the distance from the one surface 11a of the substrate 11 to the surface (one side surface) of the y connection portion 15b. It is getting bigger. Therefore, due to the leveling effect of the protective layer 22 itself, as shown in FIG. 11C, the thickness t 1 of the protective layer 22 formed on the conductive material layer 29, that is, the tip 24a of the tapered region 24 is smaller than the thickness t 2 of the protective layer 22 formed on the part 15b. As a result, the tendency that the discharge path is not the path passing through the y connection portion 15b but the path passing through the static elimination pattern 23 can be further strengthened.
In addition, as shown in FIG. 11C, with regard distance from one surface 11a of the substrate 11 to the surface (surface of one side) of the protective layer 22, towards the distance t 5 at the distal end 24a of the tapered region 24, y connecting portion 15b It is larger than the distance t 6 in. For this reason, the protective layer 22 on the front-end | tip part 24a of the taper area | region 24 protrudes compared with the protective layer 22 in another position. For this reason, when the work substrate 70 is peeled from the support base 86 as described above in the manufacturing process of the color filter section 30, the protective layer 22 on the tip 24a of the tapered region 24 is finally separated from the support base 86. Become. Thus, even if discharge occurs during peeling, the discharge path is a path that passes through the static elimination pattern 23. This can prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged.

若しくは絶縁層18および先端部用絶縁層28の材料としてポジ型感光性樹脂材料が用いられる場合、先細領域24の先端部24aに対応する部分における透過率がy接続部15bに対応する部分における透過率よりも小さくなっているハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法により、絶縁層18および先端部用絶縁層28のパターニングが実施されてもよい。この場合、先細領域24の先端部24aに対応する部分に照射される露光光の強度が、y接続部15bに対応する部分に照射される露光光の強度よりも小さくなっている。このため図11Cに示すように、先細領域24の先端部24a上に形成される先端部用絶縁層28の厚みtが、y接続部15b上に形成される絶縁層18の厚みtより大きくなる。これによって、保護層22自体のレベリング効果により、先細領域24の先端部24a上に形成される保護層22の厚みtを、y接続部15b上に形成される保護層22の厚みtより小さくすることができる。このことにより、放電の経路がy接続部15bを通る経路ではなく除電パターン23を通る経路になるという傾向をより強くすることができる。 Alternatively, when a positive photosensitive resin material is used as the material of the insulating layer 18 and the tip insulating layer 28, the transmittance at the portion corresponding to the tip 24a of the tapered region 24 is the transmittance at the portion corresponding to the y connection portion 15b. The insulating layer 18 and the tip insulating layer 28 may be patterned by a photolithography method using a halftone mask that is smaller than the ratio. In this case, the intensity of the exposure light applied to the portion corresponding to the tip 24a of the tapered region 24 is smaller than the intensity of the exposure light applied to the portion corresponding to the y connection portion 15b. Therefore, as shown in FIG. 11C, the thickness t 3 of the tip portion for the insulating layer 28 formed on the distal end portion 24a of the tapered region 24, than the thickness t 4 of the insulating layer 18 formed on the y connection part 15b growing. Thereby, due to the leveling effect of the protective layer 22 itself, the thickness t 1 of the protective layer 22 formed on the distal end portion 24a of the tapered region 24 is made larger than the thickness t 2 of the protective layer 22 formed on the y connection portion 15b. Can be small. As a result, the tendency that the discharge path is not the path passing through the y connection portion 15b but the path passing through the static elimination pattern 23 can be further strengthened.

なお本変形例においても、上述のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの製造方法の変形例の場合と同様に、保護層22のパターニングがハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法により実施されてもよい。これによって、先細領域24の先端部24a上に形成される保護層22の厚みtを、y接続部15b上に形成される保護層22の厚みtよりさらに小さくすることができる。このことにより、放電の経路がy接続部15bを通る経路ではなく除電パターン23を通る経路になるという傾向をさらに強くすることができる。 Also in this modification, patterning of the protective layer 22 may be performed by a photolithography method using a halftone mask, as in the case of the modification of the method for manufacturing the color filter integrated touch panel sensor described above. This can the thickness t 1 of the protective layer 22 formed on the distal end portion 24a of the tapered region 24, even smaller than the thickness t 2 of the protective layer 22 formed on the y connection portion 15b. As a result, it is possible to further strengthen the tendency that the discharge path is not the path passing through the y connection portion 15b but the path passing through the static elimination pattern 23.

第2の実施の形態
次に図12Aおよび図12Bを参照して、本発明の第2の実施の形態について説明する。ここで図12Aは、本実施の第2の実施の形態において、ワーク基板上に形成されたタッチパネルセンサ部を示す平面図であり、図12Bは、図12Aのワーク基板をXIIB−XIIB方向から見た縦断面図である。
Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 12A and 12B. Here, FIG. 12A is a plan view showing the touch panel sensor unit formed on the work substrate in the second embodiment, and FIG. 12B is a view of the work substrate of FIG. 12A from the XIIB-XIIB direction. FIG.

図12Aおよび図12Bに示す第2の実施の形態は、タッチパネルセンサ部の保護層上に帯電防止膜が設けられている点が異なるのみであり、他の構成は、図1乃至図11Bに示す第1の実施の形態と略同一である。図12Aおよび図12Bに示す第2の実施の形態において、図1乃至図11Bに示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   The second embodiment shown in FIGS. 12A and 12B is different only in that an antistatic film is provided on the protective layer of the touch panel sensor unit, and other configurations are shown in FIGS. 1 to 11B. This is substantially the same as the first embodiment. In the second embodiment shown in FIGS. 12A and 12B, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 11B are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図12Aおよび図12Bに示すように、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20のタッチパネルセンサ部10は、保護層22上に設けられた透明な帯電防止膜22aをさらに有している。この帯電防止膜22aは、例えば図12Aに示すように、保護層22全体を覆うベタ層として形成されている。しかしながら、帯電防止膜22aの形状が図12Aに示す形状に限られることはない。帯電防止膜22aは、基板11の法線方向から見て少なくとも除電パターン23の先細領域24の先端部24aに重なるよう設けられていればよい。   As shown in FIGS. 12A and 12B, the touch panel sensor unit 10 of the color filter integrated touch panel sensor 20 further includes a transparent antistatic film 22 a provided on the protective layer 22. The antistatic film 22a is formed as a solid layer covering the entire protective layer 22, for example, as shown in FIG. 12A. However, the shape of the antistatic film 22a is not limited to the shape shown in FIG. 12A. The antistatic film 22 a may be provided so as to overlap at least the tip 24 a of the tapered region 24 of the static elimination pattern 23 when viewed from the normal direction of the substrate 11.

帯電防止膜22aの表面抵抗は、保護層22の表面抵抗よりも小さく、かつ電極パターン13,15およびx導電パターン14,16の表面抵抗よりも大きくなっている。このような帯電防止膜22aを設けることにより、電極パターン13,15および導電パターン14,16を通る信号を乱すことなく、保護層22に帯電している電荷の水平方向、すなわち保護層22の表面に平行な方向における移動を促進することができる。例えば、保護層22の表面の中央近傍に存在する電荷を、帯電防止膜22aを介して除電パターン23近傍まで移動させ、そして電荷を除電パターン23に逃がすことができる。これによって、保護層22における帯電量を低減させることができ、このことにより、静電気の放電が生じるのを防ぐことができる。これによって、静電気の放電によってタッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。   The surface resistance of the antistatic film 22 a is smaller than the surface resistance of the protective layer 22 and larger than the surface resistances of the electrode patterns 13 and 15 and the x conductive patterns 14 and 16. By providing such an antistatic film 22a, the horizontal direction of charges charged in the protective layer 22, that is, the surface of the protective layer 22, without disturbing the signals passing through the electrode patterns 13, 15 and the conductive patterns 14, 16 It is possible to promote movement in a direction parallel to. For example, the charge existing near the center of the surface of the protective layer 22 can be moved to the vicinity of the static elimination pattern 23 via the antistatic film 22a, and the charge can be released to the static elimination pattern 23. As a result, the amount of charge in the protective layer 22 can be reduced, which can prevent static discharge. Thereby, it is possible to prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged by electrostatic discharge.

各層の表面抵抗の値についてより具体的に説明する。保護層22の表面抵抗は、例えば1014Ω/□以上となっており、またx電極単位13a,x接続部13bおよびy電極単位15aの表面抵抗は、例えば10Ω/□以下となっている。一方、帯電防止膜22aの表面抵抗は、例えば10〜1013Ω/□の範囲内となっている。そして、帯電防止膜22aは、その表面抵抗の値が上記の範囲内となるよう、その厚みおよび材料が適切に選択される。例えば帯電防止膜22aの材料として、金属または金属酸化物または有機化合物の導電性微粒子を含むアクリル樹脂が用いられ得る。 The value of the surface resistance of each layer will be described more specifically. The surface resistance of the protective layer 22 is, for example, 10 14 Ω / □ or more, and the surface resistances of the x electrode unit 13a, the x connection portion 13b, and the y electrode unit 15a are, for example, 10 2 Ω / □ or less. Yes. On the other hand, the surface resistance of the antistatic film 22a is in the range of, for example, 10 5 to 10 13 Ω / □. The thickness and material of the antistatic film 22a are appropriately selected so that the value of the surface resistance is within the above range. For example, an acrylic resin containing conductive fine particles of a metal, a metal oxide, or an organic compound can be used as the material of the antistatic film 22a.

なお本実施の形態において、除電パターン23および外枠除電パターン74の具体的な層構成が図12Bに示す例に限られることはなく、図11Aまたは図11Bに示す第1の実施の形態の変形例の場合と同様に、除電パターン23および外枠除電パターン74を様々な層で形成することができる。   In the present embodiment, the specific layer configuration of the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 is not limited to the example shown in FIG. 12B, and is a modification of the first embodiment shown in FIG. 11A or FIG. 11B. As in the case of the example, the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 can be formed of various layers.

第3の実施の形態
次に図13Aおよび図13Bを参照して、本発明の第3の実施の形態について説明する。ここで図13Aは、本実施の第3の実施の形態におけるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサを示す平面図であり、図13Bは、図13Aのカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサをXIIIB−XIIIB方向から見た縦断面図である。
Third Embodiment Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 13A and 13B. Here, FIG. 13A is a plan view showing the color filter integrated touch panel sensor according to the third embodiment, and FIG. 13B shows the color filter integrated touch panel sensor of FIG. 13A viewed from the XIIIB-XIIIB direction. It is a longitudinal cross-sectional view.

図13Aおよび図13Bに示す第3の実施の形態は、タッチパネルセンサ部の除電パターンが線状領域を含む点が異なるのみであり、他の構成は、図1乃至図11Bに示す第1の実施の形態と略同一である。図13Aおよび図13Bに示す第3の実施の形態において、図1乃至図11Bに示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   The third embodiment shown in FIGS. 13A and 13B is different only in that the charge removal pattern of the touch panel sensor unit includes a linear region, and other configurations are the same as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 11B. The form is substantially the same. In the third embodiment shown in FIGS. 13A and 13B, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 11B are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図13Aおよび図13Bに示すように、除電パターン23は、内方に向かって先細になる先細領域24に加えて、線状領域25をさらに含んでいる。この線状領域25は、図13Aに示すように、その全域にわたって基板11の外縁に達するとともに、基板11の外縁に平行に延びるものである。この場合、各先細領域24は、図13Aに示すように、線状領域25の延びる方向に交差するよう線状領域25から突出している。ここで「線状領域25の延びる方向に交差する」とは、線状領域25の延びる方向と、先細領域24の突出方向とが平行でないことを意味している。例えば図13Aに示す例においては、線状領域25の延びる方向と、先細領域24の突出方向とが直交している。   As shown in FIGS. 13A and 13B, the static elimination pattern 23 further includes a linear region 25 in addition to the tapered region 24 that tapers inward. As shown in FIG. 13A, the linear region 25 reaches the outer edge of the substrate 11 over the entire region and extends in parallel to the outer edge of the substrate 11. In this case, as shown in FIG. 13A, each tapered region 24 protrudes from the linear region 25 so as to intersect the extending direction of the linear region 25. Here, “crossing the extending direction of the linear region 25” means that the extending direction of the linear region 25 and the protruding direction of the tapered region 24 are not parallel. For example, in the example shown in FIG. 13A, the extending direction of the linear region 25 and the protruding direction of the tapered region 24 are orthogonal to each other.

図示はしないが、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20の製造工程において、図13Aに示す線状領域25は、全域にわたってワーク基板70の外枠部72に形成される外枠除電パターン74に接続されている。このため、保護層22に帯電している電荷をより低い電気抵抗で外枠除電パターン74側へ逃がすことができる。このことにより、静電気の放電によって電極パターン13,15、端子部17、導電パターン14,16および保護層22が損傷するのをより確実に防ぐことができる。   Although not shown, in the manufacturing process of the color filter integrated touch panel sensor 20, the linear region 25 shown in FIG. 13A is connected to the outer frame neutralization pattern 74 formed on the outer frame portion 72 of the work substrate 70 over the entire area. Yes. For this reason, the electric charge charged in the protective layer 22 can be released to the outer frame neutralization pattern 74 side with a lower electric resistance. Thereby, it is possible to more reliably prevent the electrode patterns 13 and 15, the terminal portion 17, the conductive patterns 14 and 16, and the protective layer 22 from being damaged by electrostatic discharge.

除電パターンの形状の変形例
なお本実施の形態において、線状領域25が、その全域にわたって基板11の外縁に達する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、線状領域25が少なくともその一部において基板11の外縁(チップ部71の外縁)に達していればよい。
In the present embodiment, the linear region 25 reaches the outer edge of the substrate 11 over the entire region. However, the present invention is not limited to this, and it is sufficient that the linear region 25 reaches the outer edge of the substrate 11 (the outer edge of the chip portion 71) at least partially.

図14Aは、本実施の形態の変形例において、ワーク基板70の一面70aに形成されたタッチパネルセンサ部10、除電パターン23および外枠除電パターン74を示す図であり、図14Bは、図14Aのワーク基板70をXIVB−XIVB方向から見た縦断面図である。図14Aおよび図14Bに示す例においては、除電パターン23の線状領域25の端部のみが、矩形状の基板11(チップ部71)の外縁に達し、そして外枠部72の外枠除電パターン74に接続されている。これによって、保護層22に帯電している電荷を、除電パターン23を介して外枠除電パターン74に逃がすことができる。なお図14Aおよび図14Bに示す例においては、除電パターン23は、線状領域25から内方に突出する先細領域24に加えて、線状領域25から外方に突出する先細領域24をさらに含んでいる。そして、各先細領域24は保護層22により覆われている。これによって、避雷針として機能する部分をより多くすることができ、このことにより、保護層22の電荷をより確実に除電パターン23に集めることができる。また本実施の形態によれば、線状領域25のパターンの引き回しを適宜設計することにより、導電パターン14,16にノイズが重畳されるのを抑制する効果を除電パターン23に持たせることもできる。   14A is a diagram showing the touch panel sensor unit 10, the static elimination pattern 23, and the outer frame static elimination pattern 74 formed on one surface 70a of the work substrate 70 in a modification of the present embodiment, and FIG. 14B is a diagram of FIG. 14A. It is the longitudinal cross-sectional view which looked at the work board | substrate 70 from the XIVB-XIVB direction. In the example shown in FIG. 14A and FIG. 14B, only the end of the linear region 25 of the static elimination pattern 23 reaches the outer edge of the rectangular substrate 11 (chip portion 71), and the outer frame static elimination pattern of the outer frame portion 72 74. As a result, the charge charged on the protective layer 22 can be released to the outer frame charge removal pattern 74 via the charge removal pattern 23. 14A and 14B, the static elimination pattern 23 further includes a tapered region 24 protruding outward from the linear region 25 in addition to the tapered region 24 protruding inward from the linear region 25. It is out. Each tapered region 24 is covered with a protective layer 22. As a result, it is possible to increase the number of parts that function as a lightning rod, and thereby it is possible to more reliably collect the charge of the protective layer 22 in the static elimination pattern 23. In addition, according to the present embodiment, the neutralization pattern 23 can have an effect of suppressing noise from being superimposed on the conductive patterns 14 and 16 by appropriately designing the pattern of the linear region 25. .

なお本実施の形態および変形例において、除電パターン23および外枠除電パターン74の具体的な層構成が図13Bまたは図14Bに示す例に限られることはなく、図11Aまたは図11Bに示す第1の実施の形態の変形例の場合と同様に、除電パターン23および外枠除電パターン74を様々な層で形成することができる。   In the present embodiment and the modification, the specific layer configuration of the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 is not limited to the example shown in FIG. 13B or FIG. 14B, and the first configuration shown in FIG. 11A or FIG. As in the case of the modification of the embodiment, the static elimination pattern 23 and the outer frame static elimination pattern 74 can be formed of various layers.

また本実施の形態および変形例において、線状領域25が直線状に延びる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、線状領域25が、曲線状に延びる部分を含んでいてもよい。   Moreover, in this Embodiment and the modification, the example which the linear area | region 25 extended linearly was shown. However, the present invention is not limited to this, and the linear region 25 may include a portion extending in a curved shape.

第4の実施の形態
次に図15Aおよび図15Bを参照して、本発明の第4の実施の形態について説明する。ここで図15Aは、本実施の第4の実施の形態におけるカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサを示す平面図であり、図15Bは、図15Aのカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサをXVB−XVB方向から見た縦断面図である。
Fourth Embodiment Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 15A and 15B. Here, FIG. 15A is a plan view showing the color filter integrated touch panel sensor according to the fourth embodiment, and FIG. 15B is a view of the color filter integrated touch panel sensor of FIG. 15A viewed from the XVB-XVB direction. It is a longitudinal cross-sectional view.

図15Aおよび図15Bに示す第4の実施の形態は、タッチパネルセンサ部の除電パターンが狭幅領域を含む点が異なるのみであり、他の構成は、図1乃至図11Bに示す第1の実施の形態と略同一である。図15Aおよび図15Bに示す第4の実施の形態において、図1乃至図11Bに示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   The fourth embodiment shown in FIGS. 15A and 15B is different only in that the static elimination pattern of the touch panel sensor unit includes a narrow width region, and the other configurations are the first embodiment shown in FIGS. 1 to 11B. The form is substantially the same. In the fourth embodiment shown in FIGS. 15A and 15B, the same parts as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 11B are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

各除電パターン23は、図15Aに示すように、少なくとも部分的に基板11(チップ部71)の外縁に達するともに、電極パターン13,15、端子部17および導電パターン14,16のいずれにも接触しないよう設けられている。また、各除電パターン23は、内方に向かって延びる狭幅領域26を含んでおり、この狭幅領域26の先端部26aは、保護層22により覆われている。ここで「内方に向かって延びる」とは、タッチパネルセンサ部10の非表示領域から表示領域に向かって狭幅領域26が延びていることを意味している。   As shown in FIG. 15A, each static elimination pattern 23 at least partially reaches the outer edge of the substrate 11 (chip portion 71) and contacts any of the electrode patterns 13, 15, the terminal portion 17, and the conductive patterns 14, 16. It is provided not to. Each static elimination pattern 23 includes a narrow region 26 extending inward, and a tip end portion 26 a of the narrow region 26 is covered with a protective layer 22. Here, “extends inward” means that the narrow area 26 extends from the non-display area of the touch panel sensor unit 10 toward the display area.

ここで本実施の形態の背景について説明する。本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20の製造工程において、タッチパネルセンサ部10の保護層22に生じる静電気に起因する放電は、保護層22により覆われているパターンのうち、より幅の狭いパターンにおいて生じやすいことが見いだされた。ここで、従来のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ20のタッチパネルセンサ部10において、最も幅の狭いパターンは、例えば図15Aおよび図15Bに示すy接続部15bとなっている。   Here, the background of the present embodiment will be described. As a result of extensive research by the present inventors, in the manufacturing process of the color filter integrated touch panel sensor 20, the discharge caused by static electricity generated in the protective layer 22 of the touch panel sensor unit 10 is a pattern covered with the protective layer 22. Of these, it has been found that it tends to occur in narrower patterns. Here, in the touch panel sensor unit 10 of the conventional color filter integrated touch panel sensor 20, the narrowest pattern is, for example, a y connection unit 15b shown in FIGS. 15A and 15B.

保護層22に生じる静電気に起因する放電がより幅の狭いパターンにおいて生じやすいことの原因としては、様々なことが考えられる。例えば、パターンの幅が狭いほど、パターンが避雷針として機能し、電荷を集めやすくなることが考えられる。   Various causes can be considered as the cause of the discharge caused by the static electricity generated in the protective layer 22 in a narrower pattern. For example, it is conceivable that the narrower the pattern width, the easier it is for the pattern to function as a lightning rod and collect charges.

このような背景に基づいて、本実施の形態においては、上述の除電パターン23の狭幅領域26を、最も狭い幅を有するパターンとして形成している。例えば、除電パターン23の狭幅領域26の幅wは、y接続部15bの幅wよりも小さくなっている。具体的には、y接続部15bの幅wが10〜20μmの範囲内となっている場合、狭幅領域26の幅wは5〜20μmの範囲内となっている。これによって、仮に保護層22の静電気の放電が生じる場合であっても、放電の発生箇所を、タッチパネルセンサ部10ではなく除電パターン23にすることができる。これによって、タッチパネルセンサ部10が損傷するのを防ぐことができる。 Based on such a background, in the present embodiment, the narrow region 26 of the static elimination pattern 23 is formed as a pattern having the narrowest width. For example, the width w 1 of the reduced width region 26 of the neutralization pattern 23 is smaller than the width w 2 of the y connection portion 15b. Specifically, when the width w 2 of the y connection portion 15b is in the range from 10 to 20 [mu] m, the width w 1 of the reduced width region 26 is in the range of 5 to 20 [mu] m. As a result, even if static discharge of the protective layer 22 occurs, the place where the discharge occurs can be the static elimination pattern 23 instead of the touch panel sensor unit 10. This can prevent the touch panel sensor unit 10 from being damaged.

除電パターンの形状の変形例
なお除電パターン23の具体的な形状が特に限られることはない。本実施の形態において、各除電パターン23は、少なくとも部分的に基板11(チップ部71)の外縁に達するともに、内方に向かって延びる少なくとも1つの狭幅領域26を含んでいればよい。また、設けられる除電パターン23の数が特に限られることもない。例えば図16に示すように、各除電パターン23が、多数の狭幅領域26を結合することにより形成されていてもよい。これによって、避雷針として機能する部分をより多くすることができ、このことにより、保護層22の電荷をより確実に除電パターン23に集めることができる。
Modification of the shape of the charge removal pattern The specific shape of the charge removal pattern 23 is not particularly limited. In the present embodiment, each static elimination pattern 23 only needs to include at least one narrow region 26 that extends inward while at least partially reaching the outer edge of the substrate 11 (chip portion 71). Further, the number of static elimination patterns 23 provided is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 16, each static elimination pattern 23 may be formed by joining a large number of narrow regions 26. As a result, it is possible to increase the number of parts that function as a lightning rod, and thereby it is possible to more reliably collect the charge of the protective layer 22 in the static elimination pattern 23.

また本実施の形態において、除電パターン23の狭幅領域26の幅が、y接続部15bの幅よりも小さくなっている例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、電極パターン13,15または導電パターン14,16の構成に応じて、狭幅領域26の幅が適宜設定される。例えば図11Aに示す第1の実施の形態の変形例のように、x接続部13bがy接続部15bよりも上方に配置されている場合、除電パターン23の狭幅領域26の幅が、y接続部15bの幅よりも小さくなるよう設定されてもよい。   Further, in the present embodiment, an example in which the width of the narrow region 26 of the static elimination pattern 23 is smaller than the width of the y connection portion 15b is shown. However, the present invention is not limited to this, and the width of the narrow region 26 is appropriately set according to the configuration of the electrode patterns 13 and 15 or the conductive patterns 14 and 16. For example, as in the modification of the first embodiment shown in FIG. 11A, when the x connection portion 13b is disposed above the y connection portion 15b, the width of the narrow region 26 of the static elimination pattern 23 is y You may set so that it may become smaller than the width | variety of the connection part 15b.

10 タッチパネルセンサ部
11 基板
11a 基板の一面
11b 基板の他面
13 x電極パターン
13a x電極単位
13b x接続部
14 x導電パターン
15 y電極パターン
15a y電極単位
15b y接続部
16 y導電パターン
17 端子部
18 絶縁層
20 カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ
22 保護層
22a 帯電防止膜
23 除電パターン
24 先細領域
24a 先端部
25 線状領域
26 狭幅領域
26a 先端部
27 透明電極材料層
28 先端部用絶縁層
29 導電性材料層
30 カラーフィルタ部
31 ブラックマトリクス層
32 着色層
40 液晶
41 封止材
50 TFT基板
51 基板
52 透明電極部
53 配線部
60 表示装置
70 ワーク基板
70a ワーク基板の一面
70b ワーク基板の他面
71 チップ部
72 外枠部
73 除電部
74 外枠除電パターン
81 塗布手段
82 乾燥手段
83 プリベーク手段
84 露光・現像手段
85 水切り手段
86 支持台
87 搬送ローラー
88 吸着穴
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Touch panel sensor part 11 Board | substrate 11a The one surface 11b of the board | substrate Other surfaces 13 x electrode pattern 13a x electrode unit 13b x connection part 14 x conductive pattern 15 y electrode pattern 15a y electrode unit 15b y connection part 16 y conductive pattern 17 Terminal part DESCRIPTION OF SYMBOLS 18 Insulating layer 20 Color filter integrated touch panel sensor 22 Protective layer 22a Antistatic film 23 Static elimination pattern 24 Tapered area | region 24a Tip part 25 Linear area | region 26 Narrow area | region 26a Tip part 27 Transparent electrode material layer 28 Tip insulating layer 29 Conductivity Material Layer 30 Color Filter Unit 31 Black Matrix Layer 32 Colored Layer 40 Liquid Crystal 41 Sealing Material 50 TFT Substrate 51 Substrate 52 Transparent Electrode Unit 53 Wiring Unit 60 Display Device 70 Work Substrate 70a One Side 70b of the Work Substrate 71 Chip part 72 Outer frame part 73 Static elimination part 74 Outside Frame neutralization pattern 81 Coating means 82 Drying means 83 Pre-baking means 84 Exposure / development means 85 Draining means 86 Support base 87 Conveying roller 88 Adsorption hole

Claims (13)

基板と、
前記基板の一面上に設けられたタッチパネルセンサ部と、
前記基板の他面上に設けられ、複数色の着色層を有するカラーフィルタ部と、を備え、
前記タッチパネルセンサ部は、前記基板の前記一面上に所定パターンで設けられた複数の電極パターンと、前記基板の前記一面上に設けられ、各々が各電極パターンに対応する複数の端子部と、前記基板の前記一面上に設けられ、各々が各電極パターンと各端子部との間を電気的に接続する複数の導電パターンと、各電極パターンおよび各導電パターンを覆うよう前記基板の前記一面上に設けられた保護層と、を有し、
前記基板の前記一面上に、導電性を有する除電パターンがさらに設けられており、
前記除電パターンは、少なくとも部分的に前記基板の外縁に達しており、かつ、前記電極パターン、前記端子部および前記導電パターンのいずれにも接触しておらず、
前記除電パターンは、内方に向かって先細になる先細領域を含み、
前記先細領域の先端部は、前記保護層により覆われている
ことを特徴とするカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ。
A substrate,
A touch panel sensor provided on one surface of the substrate;
A color filter portion provided on the other surface of the substrate and having a colored layer of a plurality of colors,
The touch panel sensor unit includes a plurality of electrode patterns provided in a predetermined pattern on the one surface of the substrate, a plurality of terminal portions provided on the one surface of the substrate, each corresponding to each electrode pattern, A plurality of conductive patterns provided on the one surface of the substrate, each electrically connecting between each electrode pattern and each terminal portion, and on the one surface of the substrate so as to cover each electrode pattern and each conductive pattern A protective layer provided,
On the one surface of the substrate, a static elimination pattern having conductivity is further provided,
The static elimination pattern at least partially reaches the outer edge of the substrate, and does not contact any of the electrode pattern, the terminal portion, and the conductive pattern,
The static elimination pattern includes a tapered region that tapers inward,
A color filter integrated touch panel sensor, wherein the tip of the tapered region is covered with the protective layer.
前記除電パターンの先細領域は、前記基板の外縁から前記保護層まで延び、かつ前記保護層に向かうにつれて先細になっている
ことを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ。
2. The color filter integrated touch panel sensor according to claim 1, wherein a tapered region of the charge removal pattern extends from an outer edge of the substrate to the protective layer and tapers toward the protective layer.
前記除電パターンは、前記基板の外縁に達するとともに、部分的に前記外縁に平行に延びる線状領域をさらに含み、
各先細領域は、前記線状領域の延びる方向に交差するよう前記線状領域から突出している
ことを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ。
The static elimination pattern further includes a linear region reaching the outer edge of the substrate and partially extending parallel to the outer edge,
2. The color filter integrated touch panel sensor according to claim 1, wherein each tapered region protrudes from the linear region so as to intersect with a direction in which the linear region extends.
前記先細領域の先端部上の前記保護層の厚みは、前記電極パターン上および前記導電パターン上の前記保護層の厚み以下となっている
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ。
The thickness of the said protective layer on the front-end | tip part of the said taper area | region is below the thickness of the said protective layer on the said electrode pattern and the said conductive pattern, The Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned. Color filter integrated touch panel sensor.
前記電極パターンは、x方向にx接続部を介して接続された複数のx電極単位と、x電極単位間に位置し、y方向にy接続部を介して接続された複数のy電極単位と、を有し、
前記x接続部および前記y接続部は、前記基材の法線方向から見て重なり合うよう配置されており、
前記x接続部と前記y接続部との間には、絶縁層が介在されており、
前記除電パターンは、前記x接続部と同一の材料および前記y接続部と同一の材料を積層することにより形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ。
The electrode pattern includes a plurality of x electrode units connected in the x direction via x connection parts, and a plurality of y electrode units located between the x electrode units and connected in the y direction via y connection parts. Have
The x connection portion and the y connection portion are arranged so as to overlap each other when viewed from the normal direction of the base material,
An insulating layer is interposed between the x connection portion and the y connection portion,
4. The color filter according to claim 1, wherein the static elimination pattern is formed by laminating the same material as the x connection portion and the same material as the y connection portion. Body type touch panel sensor.
前記除電パターンの前記先細領域の前記先端部は、前記x接続部と同一の材料と前記y接続部と同一の材料との間に介在された、前記絶縁層と同一の材料をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ。   The tip portion of the tapered region of the static elimination pattern further includes the same material as the insulating layer interposed between the same material as the x connection portion and the same material as the y connection portion. The color filter-integrated touch panel sensor according to claim 5. 前記タッチパネルセンサ部は、前記保護層上に設けられ、前記基板の法線方向から見て少なくとも前記除電パターンの前記先細領域の先端部に重なる帯電防止膜をさらに有し、
前記帯電防止膜の表面抵抗は、前記保護層の表面抵抗よりも小さく、かつ前記電極パターンの表面抵抗および前記導電パターンの表面抵抗よりも大きくなっていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサ。
The touch panel sensor unit is further provided on the protective layer, and further includes an antistatic film that overlaps at least a tip of the tapered region of the static elimination pattern when viewed from the normal direction of the substrate.
The surface resistance of the antistatic film is smaller than the surface resistance of the protective layer, and larger than the surface resistance of the electrode pattern and the surface resistance of the conductive pattern. The color filter integrated touch panel sensor according to any one of the above.
請求項1に記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサと、
前記カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサの前記カラーフィルタ部側に設けられた表示基板と、を備えた
ことを特徴とするタッチパネル機能付き表示装置。
The color filter integrated touch panel sensor according to claim 1;
A display device with a touch panel function, comprising: a display substrate provided on the color filter unit side of the color filter integrated touch panel sensor.
請求項1に記載のカラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが複数割り付けられた多面付けワーク基板の製造方法において、
ワーク基板は一面および他面を有し、多面付けワーク基板の一面および他面は、前記カラーフィルタ一体型タッチパネルセンサが形成される複数のチップ部と、各チップ部を囲む外枠部と、に区画され、
多面付けワーク基板の製造方法は、
ワーク基板を準備する工程と、
ワーク基板の一面上の各チップ部に、前記タッチパネルセンサ部を形成する工程と、
ワーク基板の一面上の各チップ部に、前記除電パターンを形成する工程と、
ワーク基板の一面上の外枠部に、各除電パターンに電気的に接続され、導電性を有する外枠除電パターンを形成する工程と、
ワーク基板の他面上の各チップ部に前記カラーフィルタ部を形成する工程と、を備えた
ことを特徴とする多面付けワーク基板の製造方法。
In the manufacturing method of the multi-surface mounting work board in which the color filter integrated touch panel sensor according to claim 1 is assigned a plurality,
The work substrate has one surface and the other surface, and the one surface and the other surface of the multi-sided work substrate include a plurality of chip portions on which the color filter integrated touch panel sensor is formed, and an outer frame portion surrounding each chip portion. Partitioned,
The manufacturing method of the multi-sided work substrate is:
Preparing a work substrate;
Forming the touch panel sensor part on each chip part on one surface of the work substrate;
Forming the static elimination pattern on each chip portion on one surface of the work substrate; and
Forming an electrically conductive outer frame neutralization pattern electrically connected to each static elimination pattern on the outer frame portion on one surface of the work substrate;
And a step of forming the color filter portion on each chip portion on the other surface of the work substrate.
前記電極パターンは、x方向にx接続部を介して接続された複数のx電極単位と、x電極単位間に位置し、y方向にy接続部を介して接続された複数のy電極単位と、を有し、
前記x接続部および前記y接続部は、前記基材の法線方向から見て重なり合うよう配置されており、
前記x接続部と前記y接続部との間には、絶縁層が介在されており、
前記タッチパネルセンサ部を形成する工程は、
前記ワーク基板の一面上に透明電極材料を設ける工程と、
設けられた透明電極材料をパターニングして、前記x電極単位、前記y電極単位および前記x接続部を形成する工程と、
x方向接続部上に前記絶縁層を形成する工程と、
前記ワーク基板の一面上に導電性材料を設ける工程と、
設けられた導電性材料をパターニングして、前記y接続部を形成する工程と、を含み、
前記外枠除電パターンおよび前記除電パターンは、前記透明電極材料をパターニングする際に前記x電極単位、前記y電極単位および前記x接続部と同時に形成される透明電極材料層と、前記導電性材料をパターニングする際に前記y接続部と同時に前記透明電極材料層上に形成される導電性材料層と、を含むことを特徴とする請求項9に記載の多面付けワーク基板の製造方法。
The electrode pattern includes a plurality of x electrode units connected in the x direction via x connection parts, and a plurality of y electrode units located between the x electrode units and connected in the y direction via y connection parts. Have
The x connection portion and the y connection portion are arranged so as to overlap each other when viewed from the normal direction of the base material,
An insulating layer is interposed between the x connection portion and the y connection portion,
The step of forming the touch panel sensor unit includes:
Providing a transparent electrode material on one surface of the work substrate;
Patterning the provided transparent electrode material to form the x electrode unit, the y electrode unit, and the x connection part;
forming the insulating layer on the x-direction connecting portion;
Providing a conductive material on one surface of the work substrate;
Patterning the provided conductive material to form the y connection part, and
The outer frame static elimination pattern and the static elimination pattern include the transparent electrode material layer formed simultaneously with the x electrode unit, the y electrode unit and the x connection portion when patterning the transparent electrode material, and the conductive material. The method for manufacturing a multi-faced work substrate according to claim 9, further comprising: a conductive material layer formed on the transparent electrode material layer simultaneously with the y connection portion when patterning.
前記電極パターンは、x方向にx接続部を介して接続された複数のx電極単位と、x電極単位間に位置し、y方向にy接続部を介して接続された複数のy電極単位と、を有し、
前記x接続部および前記y接続部は、前記基材の法線方向から見て重なり合うよう配置されており、
前記x接続部と前記y接続部との間には、絶縁層が介在されており、
前記タッチパネルセンサ部を形成する工程は、
前記ワーク基板の一面上に導電性材料を設ける工程と、
設けられた導電性材料をパターニングして、前記y接続部を形成する工程と、前記y接続部上に前記絶縁層を形成する工程と、
前記ワーク基板の一面上に透明電極材料を設ける工程と、
設けられた透明電極材料をパターニングして、前記x電極単位、前記y電極単位および前記x接続部を形成する工程と、を含み、
前記外枠除電パターンおよび前記除電パターンは、前記導電性材料をパターニングする際に前記y接続部と同時に形成される導電性材料層と、前記透明電極材料をパターニングする際に前記x電極単位、前記y電極単位および前記x接続部と同時に前記導電性材料層上に形成される透明電極材料層と、を含むことを特徴とする請求項9に記載の多面付けワーク基板の製造方法。
The electrode pattern includes a plurality of x electrode units connected in the x direction via x connection parts, and a plurality of y electrode units located between the x electrode units and connected in the y direction via y connection parts. Have
The x connection portion and the y connection portion are arranged so as to overlap each other when viewed from the normal direction of the base material,
An insulating layer is interposed between the x connection portion and the y connection portion,
The step of forming the touch panel sensor unit includes:
Providing a conductive material on one surface of the work substrate;
Patterning a provided conductive material to form the y-connection part; forming the insulating layer on the y-connection part;
Providing a transparent electrode material on one surface of the work substrate;
Patterning the provided transparent electrode material to form the x electrode unit, the y electrode unit, and the x connection part, and
The outer frame static elimination pattern and the static elimination pattern include a conductive material layer formed simultaneously with the y connection portion when patterning the conductive material, and the x electrode unit when patterning the transparent electrode material, The transparent electrode material layer formed on the said electroconductive material layer simultaneously with a y electrode unit and the said x connection part, The manufacturing method of the multi-sided work board | substrate of Claim 9 characterized by the above-mentioned.
前記除電パターンの前記先細領域の前記先端部は、前記透明電極材料層と前記導電性材料層との間に介在され、前記絶縁層と同時に前記絶縁層と同一の材料から形成される先端部用絶縁層をさらに含むことを特徴とする請求項10または11に記載の多面付けワーク基板の製造方法。   The tip portion of the tapered region of the static elimination pattern is interposed between the transparent electrode material layer and the conductive material layer, and is for the tip portion formed of the same material as the insulating layer simultaneously with the insulating layer. The method for manufacturing a multi-sided work substrate according to claim 10 or 11, further comprising an insulating layer. 各チップ部内に設けられた保護層上に帯電防止膜を形成する工程をさらに備え、
前記帯電防止膜の表面抵抗は、前記保護層の表面抵抗よりも小さく、かつ前記電極パターンの表面抵抗および前記導電パターンの表面抵抗よりも大きくなっていることを特徴とする請求項9乃至12のいずれかに記載の多面付けワーク基板の製造方法。
Further comprising a step of forming an antistatic film on a protective layer provided in each chip part;
13. The surface resistance of the antistatic film is smaller than the surface resistance of the protective layer and larger than the surface resistance of the electrode pattern and the surface resistance of the conductive pattern. The manufacturing method of the multi-surfaced work board | substrate in any one.
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