JP2012116113A - 保護フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】紫外線照射後も、透過率、水蒸気ガスバリア性、接着性に総合的に優れた保護フィルムを提供する。
【解決手段】水蒸気ガスバリアフィルム1と、有機系紫外線吸収剤含有層２と、フッ素樹脂フィルム３とを、該順に有し、前記有機系紫外線吸収剤含有層２に、トリアジン環構造であって、特定の置換基を有する有機系紫外線吸収剤を含む、太陽電池あるいは耐候性を必要とする素子等を保護する保護フィルム。
【選択図】図１

Description

本発明は、太陽電池等、耐候性を必要とする素子等を保護するための保護フィルムに関する。

太陽電池モジュール用の保護シートが検討されている。例えば、特許文献１には、基材シートの光照射面の反対側の面に、ガスバリアシートと、紫外線吸収性化合物を含有する樹脂層が積層されている太陽電池モジュール用表面保護シートが開示されている。また、特許文献２には、合成樹脂フィルムの少なくとも片面に酸化珪素系薄膜層および紫外線遮断層を設けた保護フィルムが開示されている。

特開２００７−１７３４４９号公報 特開平４−９９２６３号公報

ここで、本発明者が検討を行ったところ、特許文献１のように樹脂層を最表層とすると、紫外線照射後の保護シートの透過率や湿熱後の保護シートの透過率が著しく劣ることが分かった。特に、樹脂フィルム自身の耐候性が低い場合、樹脂フィルム自身が紫外線暴露によって黄変、白化、強度低下などを生じ、長期間の暴露経時に耐えられなくなることが分かった。
一方、特許文献２に記載のように、合成樹脂フィルムの少なくとも片面に酸化珪素系薄膜層および紫外線遮断層を設けた保護フィルムでは、高温高湿条件下でのガスバリア性が劣ることが分かった。また、紫外線遮蔽率が十分ではなく、屋外のような暴露条件下で保護することが十分ではなかった。
本発明は、上記問題を解決することを目的としたものであって、紫外線照射後も、透過率、水蒸気ガスバリア性、接着性に総合的に優れた保護フィルムを提供することを目的とする。

かかる状況のもと、本願発明者が鋭意検討を行った結果、保護フィルムの積層順序を、水蒸気ガスバリアフィルム、有機系紫外線吸収剤含有層、フッ素樹脂フィルムの順にし、かつ、有機系紫外線吸収剤含有層に、特定の置換基を有するトリアジン環構造を有する紫外線吸収剤を含有させることによって、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成させるに至った。具体的には、以下の手段により、上記課題は達成された。

（１）水蒸気ガスバリアフィルムと、有機系紫外線吸収剤含有層と、フッ素樹脂フィルムとを、該順に有し、前記有機系紫外線吸収剤含有層に、下記一般式（１）または（２）で表される有機系紫外線吸収剤を含む保護フィルム。
一般式（１）

［Ｒ^1a、Ｒ^1b、Ｒ^1c、Ｒ^1d、Ｒ^1eは、互いに独立して、水素原子、又はＯＨを除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^1f、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1jは、互いに独立して、水素原子又はＯＨを除く１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ、Ｒ^1pは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］
一般式（２）

［Ｒ^1a、Ｒ^1c及びＲ^1eは、水素原子を表す。Ｒ^1b及びＲ^1dは、互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ及びＲ^1pは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］
（２）水蒸気ガスバリアフィルムと有機系紫外線吸収剤含有層とが隣接している、（１）に記載の保護フィルム。
（３）有機系紫外線吸収剤含有層とフッ素樹脂フィルムとが隣接している、（１）または（２）に記載の保護フィルム。
（４）水蒸気ガスバリアフィルムと有機系紫外線吸収剤含有層とが隣接しており、かつ、有機系紫外線吸収剤含有層とフッ素樹脂フィルムとが隣接している、（１）または（２）に記載の保護フィルム。
（５）有機系紫外線吸収剤含有層が、接着剤を含む、（１）〜（４）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（６）一般式（１）で表される紫外線吸収剤における１価の置換基が、１価の置換基が、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基であり、置換基を有する場合の置換基がハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、チオシアネート基、又はアルキルスルホニル基であることを特徴とする、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（７）一般式（１）で表される紫外線吸収剤におけるＲ^1cが、ハメット則のσｐ値が正である置換基であることを特徴とする、（１）〜（６）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（８）一般式（２）で表される紫外線吸収剤における１価の置換基が、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基であり、置換基を有する場合の置換基がハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、チオシアネート基、又はアルキルスルホニル基であることを特徴とする、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（９）一般式（２）で表される紫外線吸収剤におけるハメット則のσｐ値が、０．１〜１．２の範囲であることを特徴とする、（１）〜（５）および（８）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（１０）水蒸気ガスバリアフィルムが、少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層が交互に積層した積層体を含む、（１）〜（９）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（１１）無機層が、珪素およびアルミの少なくとも１種と、酸素および窒素の少なくとも１種を含むことを特徴とする、（１０）に記載の保護フィルム。
（１２）有機層が、（メタ）アクリレートを含む重合性組成物を硬化してなる層である、（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（１３）太陽電池の保護シート用部材である、（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（１４）太陽電池のフロントシート用である、（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の保護フィルム。
（１５）（１）〜（１４）のいずれか１項に記載の保護フィルムを含む、太陽電池素子。

本発明により、紫外線照射後も、透過率、水蒸気ガスバリア性、接着性に総合的に優れた保護フィルムを提供することが可能になった。

図１は、本発明の保護フィルムの構成を示す概略図である。 図２は、太陽電池素子の構成の一例を示す概略図である。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。

本発明の保護フィルムは、水蒸気ガスバリアフィルムと、有機系紫外線吸収剤含有層と、フッ素樹脂フィルムとを該順に有することを特徴とする。以下、図１に従って、本発明の構成を説明する。しかしながら、本発明はこれらに限定されるものではないことは言うまでもない。
図１は、本発明の保護フィルムの概略図であって、１は水蒸気ガスバリアフィルムを、２は有機系紫外線吸収剤含有層を、３はフッ素樹脂フィルムをそれぞれ示している。本実施形態では、水蒸気ガスバリアフィルム１と有機系紫外線吸収剤含有層２は隣接しているが、隣接していなくてもよい。また、有機系紫外線吸収剤含有層２とフッ素樹脂フィルム３も隣接していてもよいが、隣接していなくてもよい。本発明では、これらの３層が互いに隣接しており、かつ、有機系紫外線吸収剤含有層が、接着層としての役割も果たす構成が好ましい。このような構成とすることにより、構成層の数を減らすことが可能になる。水蒸気ガスバリアフィルム１と有機系紫外線吸収剤含有層２の間および／または有機系紫外線吸収剤含有層２とフッ素樹脂フィルム３の間に設けられる他の層としては、易接着層が挙げられる。
以下、水蒸気ガスバリアフィルム、有機系紫外線吸収剤含有層、フッ素樹脂フィルムの詳細について説明する。

水蒸気ガスバリアフィルム
本発明の保護シートに用いられる水蒸気ガスバリアフィルムは、水蒸気ガスバリア性を有するフィルムである限り特に定めるものではなく、２層以上の積層体であってもよい。

本発明の水蒸気ガスバリアフィルムの好ましい一例は、少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層が交互に積層した積層体であり、好ましくは、少なくとも２層の有機層と、少なくとも２層の無機層とが交互に積層した構造である。このような構成とすることにより、高い水蒸気バリア性を確保することが可能になる。

（有機層）
本発明における有機層は、具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他有機珪素化合物（有機シランガスを原料としてＣＶＤ法で作製される炭化珪素や酸化炭化珪素等）の層である。有機層は単独の材料からなっていても混合物からなっていてもよい。２層以上の有機層を積層してもよい。この場合、各層が同じ組成であっても異なる組成であってもよい。また、米国公開特許２００４−４６４９７号明細書に開示してあるように無機層との界面が明確で無く、組成が膜厚方向で連続的に変化する層であってもよい。
有機層は、（メタ）アクリレート重合体であることが好ましい。（メタ）アクリレート重合体とは（メタ）アクリレートモノマーを主成分とする重合性組成物を重合して得られうる重合体のことを意味する。

本発明に好ましく用いられる（メタ）アクリレートモノマーを主成分とする重合性組成物は、（メタ）アクリレートモノマーは１種類でも数種の混合物であっても良い。（メタ）アクリレートモノマーの分子量は、２００〜２０００であることが好ましく、４００〜１０００であることがより好ましい。

以下に、（メタ）アクリレートモノマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（酸性モノマー）
本発明で用いる重合性組成物には、酸性モノマーが含まれていても良い。酸性モノマーを含めることにより、層間密着性が向上する。酸性モノマーとは、カルボン酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸等の酸性基を含有するモノマーをいう。本発明で用いる酸性モノマーは、カルボン酸基またはリン酸基を含有するモノマーが好ましく、カルボン酸基またはリン酸基を含有する（メタ）アクリレートがより好ましく、リン酸エステル基を有する（メタ）アクリレートがさらに好ましい。

以下に、本発明で好ましく用いられる酸性モノマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

（その他の重合性成分、ポリマー）
本発明で用いる（メタ）アクリレートモノマーを主成分とする重合性組成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、（メタ）アクリレート以外のモノマー（例えば、スチレン誘導体、無水マレイン酸誘導体、エポキシ化合物、オキセタン誘導体など）や、各種のポリマー（例えば、ポリエステル、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル等）を含んでも良い。

（重合開始剤）
本発明における（メタ）アクリレートモノマーを主成分とする重合性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤を用いる場合、その含量は、重合性化合物の合計量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。このような組成とすることにより、活性成分生成反応を経由する重合反応を適切に制御することができる。光重合開始剤の例としては、例えば、特開２０１０−２３４７９１号公報の段落番号００２８に記載のものを採用できる。

本発明における有機層の厚さは特に定めるものではないが、通常、１層につき、１００〜５０００ｎｍであり、より好ましくは、２００〜２０００ｎｍである。また、有機層を２層以上有する場合、それぞれの有機層は同一の層であっても、異なる層であってもよい。

有機層の形成方法は、特に定めるものではないが、例えば、特開２０１０−２３４７９１号公報の段落番号００２９および００３０の記載を採用できる。

（無機層）
無機層は無機物で構成されガスバリア性を有する層であれば、特に制限はない。無機物としては、典型的には、ホウ素、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、亜鉛、スズの酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物、水素化物等が挙げられる。これらは純物質でもよいし、複数組成からなる混合物や傾斜材料層でもよい。これらのうち、珪素およびアルミの少なくとも１種と、酸素および窒素の少なくとも１種を含むことが好ましく、アルミニウムの酸化物、窒化物若しくは酸窒化物、または珪素の酸化物、窒化物若しくは酸窒化物が好ましい。好ましい無機物の混合物もまた好ましい。
無機層の形成方法としては、目的の薄膜を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、ゾル−ゲル法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などが適しており、具体的には特許登録第３４００３２４号公報、特開２００２−３２２５６１号公報、特開２００２−３６１７７４号公報記載の形成方法を採用することができる。特に、珪素の化合物を成膜する場合、誘導結合プラズマＣＶＤ、電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマを用いたＰＶＤまたはＣＶＤのいずれかの形成方法を採用するのが好ましく、誘導結合プラズマＣＶＤによる形成方法を採用するのが最も好ましい。誘導結合プラズマＣＶＤや電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマとを用いたＣＶＤ（ＥＣＲ−ＣＶＤ）は、例えば、化学工学会、ＣＶＤハンドブック、p.２８４（１９９１）に記載の方法にて実施することができる。また、電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマとを用いたＰＶＤ（ＥＣＲ−ＰＶＤ）は、例えば、小野他、Jpn.J.Appl.Phys.２３、No.8、L５３４（１９８４）に記載の方法にて実施することができる。前記ＣＶＤを用いる場合の原料としては、珪素供給源としてシラン等のガスソースや、ヘキサメチルジシラザン等の液体ソースを用いることができる。
本発明により形成される無機層の平滑性は、１μｍ角の平均粗さ（Ｒａ値）として１ｎｍ未満であることが好ましく、０．５ｎｍ以下がより好ましい。このため、無機層の成膜はクリーンルーム内で行われることが好ましい。クリーン度はクラス１００００以下が好ましく、クラス１０００以下がより好ましい。

無機層の厚みに関しては特に限定されないが、１層に付き、通常、５〜５００ｎｍの範囲内であり、好ましくは１０〜２００ｎｍである。無機層は複数のサブレイヤーから成る積層構造であってもよい。この場合、各サブレイヤーが同じ組成であっても異なる組成であってもよい。また、上述したとおり、米国公開特許２００４−４６４９７号明細書に開示してあるように有機層との界面が明確で無く、組成が膜厚方向で連続的に変化する層であってもよい。

（有機層と無機層の積層）
有機層と無機層の積層は、所望の層構成に応じて有機層と無機層を順次繰り返し製膜することにより行うことができる。無機層を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などの真空製膜法で形成する場合、有機層も前記フラッシュ蒸着法のような真空製膜法で形成することが好ましい。バリア層を製膜する間、途中で大気圧に戻すことなく、常に１０００Ｐａ以下の真空中で有機層と無機層を積層することが特に好ましい。圧力は１００Ｐａ以下であることがより好ましく、５０Ｐａ以下であることがより好ましく、２０Ｐａ以下であることがさらに好ましい。
特に、本発明は、少なくとも２層の有機層と少なくとも２層の無機層を交互に積層した層構成を有することがさらに好ましい。交互積層は、支持体側から有機層／無機層／有機層／無機層の順に積層していても、無機層／有機層／無機層／有機層の順に積層していても良い。

本発明の水蒸気ガスバリアフィルムは、上記積層体をプラスチックフィルムの上に積層したものであってもよい。プラスチックフィルムの詳細については、例えば、特開２０１０−２３４７９１号公報の段落番号００３９および００４３の記載を採用できる。
プラスチックフィルムの厚みに関して特に制限がないが、典型的には１〜８００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。

また、本発明の保護フィルムに用いられる水蒸気ガスバリアフィルムは、水蒸気ガスバリア性樹脂フィルムであってもよい。このような水蒸気ガスバリア性樹脂フィルムとしては、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、エチレン・四フッ化エチレン共重合体、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体が好ましい例として挙げられる。
これらの水蒸気ガスバリア性樹脂フィルムの厚さは、本発明における樹脂フィルムの厚みは、５μｍ〜１０００μｍが好ましく、１０μｍ〜５００μｍであることがより好ましい。

有機系紫外線吸収剤含有層
本発明の有機系紫外線吸収層は、一般式（１）または（２）で表される有機系紫外線吸収剤を含むことを特徴とする。有機系紫外線吸収剤は多数知られているが、本発明の紫外線吸収剤を用いることにより、透過率、水蒸気ガスバリア性、接着性に総合的に優れた保護フィルムを提供することが可能になる。
有機系紫外線吸収剤含有層は、通常、有機系紫外線吸収剤に加えて、接着剤を含む。
有機系紫外線吸収剤は、波長３００〜４００ｎｍ間の紫外線吸収剤の極小吸収波長が乾燥膜厚１０μｍで吸光度が０．１〜７になるような配合割合で配合されることが好ましく、吸光度が０．２ 〜５になるような配合割合で配合されることがより好ましい。
有機系紫外線吸収剤は、通常、接着剤の、０．１〜５０重量％の範囲で含まれることが好ましく、０．５〜３０重量％の範囲で含まれることがより好ましい。
本発明における有機系紫外線吸収剤含有層は、有機系紫外線吸収剤とバインダー以外の成分を含んでいてもよいが、本発明における有機系紫外線吸収剤含有層は、その成分の９０重量％以上が、有機系紫外線吸収剤と接着剤で構成されることが好ましく、９５重量％以上が、有機系紫外線吸収剤と接着剤である構成されることがより好ましい。
有機系紫外線吸収剤含有層の厚さは、特に定めるものではないが、例えば、０．１〜３０μｍであり、好ましくは、０．２〜２０μｍであり、より好ましくは０．５〜１０μｍである。
有機系紫外線吸収層は、単層であってもよいし、必要に応じ２層以上であってもよい。通常は、単層である。

次に、一般式（１）または（２）で表される有機系紫外線吸収剤について説明する。

一般式（１）で表される紫外線吸収剤
一般式（１）

［Ｒ^1a、Ｒ^1b、Ｒ^1c、Ｒ^1d、Ｒ^1eは、互いに独立して、水素原子又はＯＨを除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^1f、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1jは、互いに独立して、水素原子又はＯＨを除く１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ、Ｒ^1pは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］

Ｒ^1a、Ｒ^1b、Ｒ^1c、Ｒ^1d、Ｒ^1eは、互いに独立して、水素原子又はＯＨを除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。
Ｒ^1a、Ｒ^1b、Ｒ^1c、Ｒ^1d、Ｒ^1eが表す置換基のうち１〜３個がハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが好ましく、１〜２個がハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましい。
また、Ｒ^1a、Ｒ^1c、Ｒ^1eのうち少なくとも１つが、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが好ましく、Ｒ^1cがハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましい。
Ｒ^1cがハメット則のσｐ値が正である置換基であり、Ｒ^1a、Ｒ^1b、Ｒ^1d、Ｒ^1eは水素原子を表すことがより好ましい。
Ｒ^1cがハメット則のσｐ値が正である置換基を表す場合、電子求引性基によりＬＵＭＯが安定化されるため、励起寿命が短くなり、耐光性が向上するため好ましい。

前記一般式（１）における１価の置換基（以下Ａとする）としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、置換スルホアミノ基）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、イミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換又は無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、チオシアネート基、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、炭素数６〜２０のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）などを挙げることができる。
また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。その際、置換基の例としては、上述の１価の置換基Ａを挙げることができる。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。

置換基同士で結合して形成される環としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピリダジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、フラン環、チオフェン環、セレノフェン環、シロール環、ゲルモール環、ホスホール環等が挙げられる。

前記一般式（１）における１価の置換基としては、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基が好ましく、ＯＲ^U（Ｒ^uは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、アルキル基、アミド基がより好ましく、ＯＲ^u、アルキル基が更に好ましい。
Ｒ^uは、水素原子又は１価の置換基を表し、１価の置換基としては前記置換基Ａを挙げることができる。中でも炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基を表すことが好ましい。炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基が更に好ましく、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシル、ｔ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ｔ−オクチル、ｉ−オクチルを挙げることができ、メチル又はエチルが好ましく、メチルが特に好ましい。

前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤において、Ｒ¹ⁿが１価の置換基を表すことが好ましく、Ｒ¹ⁿがＯＲ^uを表すことがより好ましい。Ｒ¹ⁿがＯＲ^Uを表し、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ^1pがいずれも水素原子を表すことが更に好ましい。モル吸光係数が大きくなり、遮蔽効果が増すためである。

前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、好ましくは、σ_p値が０．１〜１．２の電子求引性基である。σ_p値が０．１以上の電子求引性基の具体例としては、ＣＯＯＲ^r（Ｒ^rは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、ＣＯＮＲ^s ₂（Ｒ^sは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、ＣＮ、ハロゲン原子、ＮＯ₂、ＳＯ₂Ｒ^t（Ｒ^tは、水素原子又は１価の置換基を表す。）、ＳＯ₃Ｍ（Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す。）、アシル基、ホルミル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ホスホリル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、カルボキシ基（又はその塩）、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基（例えばＣＦ₃）、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、アシルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σ_p値が０．２以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アゾ基、セレノシアネート基などが挙げられる。ハメットのσｐ値については、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．；Ｌｅｏ，Ａ．；Ｔａｆｔ，Ｒ．Ｗ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９１，９１，１６５−１９５に詳しく記載されている。

前記一般式（１）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、より好ましくは、ＣＯＯＲ^r、ＣＯＮＲ^s ₂、ＣＮ、ＣＦ₃、ハロゲン原子、ＮＯ₂、ＳＯ₂Ｒ^t、ＳＯ₃Ｍである［Ｒ^r、Ｒ^sは、それぞれ独立に水素原子又は１価の置換基を表す。Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す］。この中でもＣＯＯＲ^r又はＣＮがより好ましく、ＣＯＯＲ^r、であることが更に好ましい。優れた耐光性と溶解性を有するためである。
Ｒ^rとしては水素原子又は１価の置換基を表し、１価の置換基としては前記置換基Ａを挙げることができる。中でも炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基が好ましく、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましい。炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシル、ｔ−ヘキシル、ｔ−オクチル、ｉ−オクチル、ｎ−オクチルを挙げることができ、メチル又はエチルが好ましく、メチルが特に好ましい。
前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤において、Ｒ^1cがＣＯＯＲ^r、ＣＯＮＲ^s ₂、ＣＮ、ＣＦ₃、ハロゲン原子、ＮＯ₂、ＳＯ₂Ｒ^t、ＳＯ₃Ｍのいずれかであることが好ましくＣＯＯＲ^r又はＣＮであることがより好ましい。耐光性の観点からはＲ^1cはＣＮであることが好ましい。

また、本発明において、Ｒ^1f、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ、Ｒ^1pのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^1f、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1jのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^1hが前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが更に好ましい。
Ｒ^1c及びＲ^1hが共に前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが特に好ましい。
優れた耐光性を有するためである。

前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤はｐＫａが−５．０〜−７．０の範囲であることが好ましい。更に−５．２〜−６．５の範囲であることがより好ましく、−５．４〜−６．０の範囲であることが特に好ましい。

前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。
なお、下記の具体例中Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表し、−Ｃ₆Ｈ₁₃はｎ−ヘキシルを表す。

前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明の化合物に含まれる。

前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤は、同位元素（例えば、²Ｈ、³Ｈ、¹³Ｃ、¹⁵Ｎ、¹⁷Ｏ、¹⁸Ｏなど）を含有していてもよい。

前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤は、任意の方法で合成することができる。
例えば、公知の特許文献や非特許文献、例えば、特開平７−１８８１９０号公報、特開平１１−３１５０７２号公報、特開２００１−２２０３８５号公報、「染料と薬品」第４０巻１２号（１９９５）の３２５〜３３９ページなどを参考にして合成できる。具体的には、例示化合物（１９）は４−メトキシサリチルアミドと３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイルクロリドとベンズアミジン塩酸塩とを反応させることにより合成できる。

本発明で用いる紫外線吸収剤は、一般式（１）で表される紫外線吸収剤からなる。本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は特定の位置にハメット則のσｐ値が正である置換基を有するため、電子求引性基によりＬＵＭＯが安定化されるため、励起寿命が短くなり、優れた耐光性を有するという特徴を有する。紫外線吸収剤として用いた際にも、既知のトリアジン系化合物を用いた場合は、長時間使用した場合は分解して黄変するなど悪影響を及ぼす。
それに対して、本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は優れた耐光性を有するため長時間使用した場合でも分解せず黄変することがないとう効果が得られる。

前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、一種のみ用いてもよく、二種以上を併用することもできる。
本発明で用いる紫外線吸収剤の使用形態は、いずれでも良い。例えば、液体分散物、溶液、樹脂組成物などが挙げられる。
本発明で用いる紫外線吸収剤の極大吸収波長は、特に限定されないが、好ましくは２５０〜４００ｎｍであり、より好ましくは２８０〜３８０ｎｍである。半値幅は好ましくは２０〜１００ｎｍであり、より好ましくは４０〜８０ｎｍである。

本発明において規定される極大吸収波長及び半値幅は、当業者が容易に測定することができる。測定方法に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座７分光ＩＩ」（丸善，１９９２年）１８０〜１８６ページなどに記載されている。具体的には、適当な溶媒に試料を溶解し、石英製又はガラス製のセルを用いて、試料用と対照用の２つのセルを使用して分光光度計によって測定される。用いる溶媒は、試料の溶解性と合わせて、測定波長領域に吸収を持たないこと、溶質分子との相互作用が小さいこと、揮発性があまり著しくないこと等が要求される。上記条件を満たす溶媒であれば、任意のものを選択することができる。本発明においては、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）を溶媒に用いて測定を行うこととする。

本発明における化合物の極大吸収波長及び半値幅は、酢酸エチルを溶媒として、濃度約５×１０^-5ｍｏｌ・ｄｍ^-3の溶液を調製し、光路長１０ｍｍの石英セルを使用して測定した値を使用する。

スペクトルの半値幅に関しては、例えば日本化学会編「第４版実験化学講座３ 基本操作ＩＩＩ」（丸善、１９９１年）１５４ページなどに記載がある。なお、上記成書では波数目盛りで横軸を取った例で半値幅の説明がなされているが、本発明における半値幅は波長目盛りで軸を取った場合の値を用いることとし、半値幅の単位はｎｍである。具体的には、極大吸収波長における吸光度の１／２の吸収帯の幅を表し、吸収スペクトルの形を表す値として用いられる。半値幅が小さいスペクトルはシャープなスペクトルであり、半値幅が大きいスペクトルはブロードなスペクトルである。ブロードなスペクトルを与える紫外線吸収化合物は、極大吸収波長から長波側の幅広い領域にも吸収を有するので、黄色味着色がなく長波紫外線領域を効果的に遮蔽するためには、半値幅が小さいスペクトルを有する紫外線吸収化合物の方が好ましい。

時田澄男著「化学セミナー９ カラーケミストリー」（丸善、１９８２年）１５４〜１５５ページに記載されているように、光の吸収の強さすなわち振動子強度はモル吸光係数の積分に比例し、吸収スペクトルの対称性がよいときは、振動子強度は極大吸収波長における吸光度と半値幅の積に比例する（但しこの場合の半値幅は波長目盛りで軸を取った値である）。このことは遷移モーメントの値が同じとした場合、半値幅が小さいスペクトルを有する化合物は極大吸収波長における吸光度が大きくなることを意味している。このような紫外線吸収化合物は少量使用するだけで極大吸収波長周辺の領域を効果的に遮蔽できるメリットがあるが、波長が極大吸収波長から少し離れると急激に吸光度が減少するために、幅広い領域を遮蔽することができない。

紫外線吸収剤は、極大吸収波長におけるモル吸光係数が２００００以上であることが好ましく、３００００以上であることがより好ましく、５００００以上であることが特に好ましい。２００００以上であれば、紫外線吸収剤の質量当たりの吸収効率が十分得られるため、紫外線領域を完全に吸収するための紫外線吸収剤の使用量を低減できる。これは皮膚刺激性や生体内への蓄積を防ぐ観点、及びブリードアウトが生じにくい点から好ましい。極なお、モル吸光係数については、例えば日本化学会編「新版実験化学講座９ 分析化学［ＩＩ］」（丸善、１９７７年）２４４ページなどに記載されている定義を用いたものであり、上述した極大吸収波長及び半値幅を求める際に合わせて求めることができる。

本発明で用いる紫外線吸収剤は、紫外線吸収剤が分散媒体に分散された分散物の状態でも使用できる。本発明で用いる紫外線吸収剤を分散する媒体はいずれのものであってもよい。例えば、水、有機溶剤、樹脂、樹脂の溶液などが挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、組み合わせて使用してもよい。

一般式（２）で表される紫外線吸収剤
一般式（２）

［Ｒ^1a、Ｒ^1c及びＲ^1eは、水素原子を表す。Ｒ^1b及びＲ^1dは、互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ及びＲ^1pは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］

一般式（２）で表される紫外線吸収剤は、Ｒ^1a、Ｒ^1c及びＲ^1eが水素原子を表し、かつ、Ｒ^1b及びＲ^1dは、互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、Ｒ^1b及びＲ^1dの少なくとも１つが、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことにより、電子求引性基によりＬＵＭＯが安定化されるため、励起寿命が短くなる。また、化合物構造の対称性がくずれることとなり、優れた耐光性及び溶媒に対する高溶解性を有する。

前記一般式（２）における１価の置換基（以下Ａとする）としては、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素数１〜２０のアルキル基（例えばメチル、エチル）、炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル）、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、置換又は無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）、アルキルカルボニル基（例えばアセチル）、アリールカルボニル基（例えばベンゾイル）、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（例えばアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、置換スルホアミノ）、アシルアミノ基（例えばアセトアミド、エトキシカルボニルアミノ）、スルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド）、イミド基（例えばスクシンイミド、フタルイミド）、イミノ基（例えばベンジリデンアミノ）、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えばメトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、スルホ基、置換又は無置換のスルファモイル基（例えばスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ）、チオシアネート基、アルキルスルホニル基（例えばメタンスルホニル）、アリールスルホニル基（例えばベンゼンスルホニル）、炭素数６〜２０のヘテロ環基（例えばピリジル、モルホリノ）などを挙げることができる。
また、置換基は更に置換されていても良く、置換基が複数ある場合は、同じでも異なっても良い。その際、置換基の例としては、上述の１価の置換基Ａを挙げることができる。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。

置換基同士で結合して形成される環としては、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピリダジン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、フラン環、チオフェン環、セレノフェン環、シロール環、ゲルモール環、ホスホール環等が挙げられる。

前記一般式（２）における１価の置換基としては、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基であり、置換基を有する場合の置換基がハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、チオシアネート基、又はアルキルスルホニル基が挙げられる。

Ｒ^1b及びＲ^1dは、互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。
Ｒ^1b及びＲ^1dの少なくとも１つが、ハメット則のσｐ値が正である置換基であることにより、耐光性に優れるだけでなく、溶媒に対する溶解性及び耐熱性にも優れた効果を示す。
溶剤溶解性とは、酢酸エチル、メチルエチルケトン、トルエンなどの有機溶剤への溶解性を意味し、酢酸エチル、メチルエチルケトン、トルエンなどの有機溶剤に対し、１０質量％以上溶解することが好ましく、３０質量％以上溶解することがより好ましい。

前記一般式（２）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、好ましくは、σ_p値が０．１〜１．２の電子求引性基であり、さらに好ましくは、０．３〜１．２の電子求引性基である。σ_p値が０．１以上の電子求引性基の具体例としては、ＣＯＯＲ^r（Ｒ^rは、水素原子又は１価の置換基を表し、水素原子、アルキル基が挙げられ、好ましくはアルキル基である。）、ＣＯＮＲ^s ₂（Ｒ^sは、水素原子又は１価の置換基を表し、例えば、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のヘテロ環基が挙げられ、好ましくは水素原子である。）、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ₃Ｍ（Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す。）、アシル基、ホルミル基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ホスホリル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、カルボキシ基（又はその塩）、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキル基（例えばＣＦ₃）、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルコキシ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアリールオキシ基、アシルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルアミノ基、少なくとも２つ以上のハロゲン原子で置換されたアルキルチオ基、σ_p値が０．２以上の他の電子求引性基で置換されたアリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アゾ基、セレノシアネート基などが挙げられる。ハメットのσｐ値については、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．；Ｌｅｏ，Ａ．；Ｔａｆｔ，Ｒ．Ｗ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．１９９１，９１，１６５−１９５に詳しく記載されている。

前記一般式（２）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、より好ましくは、ＣＯＯＲ^r、ＣＯＮＲ^s ₂、シアノ基、ＣＦ₃、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ₃Ｍである［Ｒ^r、Ｒ^sは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。Ｍは、水素原子又はアルカリ金属を表す］。１価の置換基としては前記置換基Ａを挙げることができる。前記一般式（２）におけるハメット則のσｐ値が正である置換基として、より好ましくは、ＣＯＯＲ^r又はシアノ基であり、ＣＯＯＲ^rであることが更に好ましい。ハメット則のσｐ値が正である置換基がシアノ基である場合、優れた耐光性を示すためである。また、ハメット則のσｐ値が正である置換基がＣＯＯＲ^rである場合、優れた溶解性を示するめである。
Ｒ^rは水素原子又はアルキル基を表すことが好ましく、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましく、炭素数１〜１５の直鎖又は分岐鎖アルキル基が更に好ましい。

Ｒ^rは、溶媒に対する溶解性の観点からは、炭素数５〜１５の分岐鎖アルキル基がより好ましい。
分岐鎖アルキル基は２級炭素原子又は３級炭素原子を有し、２級炭素原子又は３級炭素原子を１〜５個含むことが好ましく、１〜３個含むことが好ましく、１又は２個含むことが好ましく、２級炭素原子及び３級炭素原子を１又は２個含むことがより好ましい。また、不斉炭素を１〜３個含むことが好ましい。
Ｒ^rは、溶媒に対する溶解性の観点からは、２級炭素原子及び３級炭素原子を１又は２個含み、不斉炭素を１又は２個含む炭素数５〜１５の分岐鎖アルキル基であることが特に好ましい。
これは、化合物構造の対称性がくずれ、溶解性が向上するためである。

一方、紫外線吸収能の観点からは、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基がより好ましい。
炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｉ−ヘキシル、ｔ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ｔ−オクチル、ｉ−オクチルを挙げることができ、メチル又はエチルが好ましく、メチルが特に好ましい。

また、本発明において、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ及びＲ^1pが１価の置換基を表す場合は、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ及びＲ^1pのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ及びＲ^1jのうち少なくとも１つが、前記ハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基を表すことがより好ましく、Ｒ^1hが前記ハメット則のσｐ値が正である置換基を表すことが更に好ましい。Ｒ^1b又はＲ^1d、及びＲ^1hが前記ハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基を表すことが特に好ましい。優れた耐光性を有するためである。
本発明において、Ｒ^1h又はＲ¹ⁿがそれぞれ独立に水素原子、ＣＯＯＲ^r、ＣＯＮＲ^s ₂、シアノ基、ＣＦ₃、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ₃Ｍのいずれかであることが好ましく、Ｒ^1h又はＲ¹ⁿが水素原子であることがより好ましく、Ｒ^1h及びＲ¹ⁿが水素原子であることが更に好ましく、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ及びＲ^1pが水素原子を表すことが特に好ましい。優れた耐光性を示すためである。

前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤において、Ｒ^1b又はＲ^1d、がハメット則のσｐ値が正（好ましくは０．１〜１．２）である置換基であって、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ及びＲ^1pは水素原子を表すことが好ましく、Ｒ^1b又はＲ^1d、がＣＯＯＲ^r、ＣＯＮＲ^s ₂、シアノ基、ＣＦ₃、ハロゲン原子、ニトロ基、ＳＯ₃Ｍのいずれかであって、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ及びＲ^1pは水素原子であることがより好ましい。優れた耐光性を示すためである。

前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤はｐＫａが−５．０〜−７．０の範囲であることが好ましい。更に−５．２〜−６．５の範囲であることがより好ましく、−５．４〜−６．０の範囲であることが特に好ましい。

前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤の具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されない。
なお、下記の具体例中Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表し、−Ｃ₆Ｈ₁₃はｎ−ヘキシルを表す。

前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤は、構造とその置かれた環境によって互変異性体を取り得る。本発明においては代表的な形の一つで記述しているが、本発明の記述と異なる互変異性体も本発明の化合物に含まれる。

前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤は、同位元素（例えば、²Ｈ、³Ｈ、¹³Ｃ、¹⁵Ｎ、¹⁷Ｏ、¹⁸Ｏなど）を含有していてもよい。

前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤は、任意の方法で合成することができる。例えば、公知の特許文献や非特許文献、例えば、特開平７−１８８１９０号公報、特開平１１−３１５０７２、特開２００１−２２０３８５号公報、「染料と薬品」第４０巻１２号（１９９５）の３２５〜３３９ページなどを参考にして合成できる。具体的には、例示化合物（１６）はサリチルアミドと3,5-ビス(トリフルオロメチル)ベンゾイル クロリドと２−ヒドロキシベンズアミジン塩酸塩とを反応させることにより合成できる。また、サリチルアミドとサリチル酸と３,５-ビス(トリフルオロメチル)ベンズアミジン塩酸塩とを反応させることによっても合成できる。
その他については、一般式（１）で表される紫外線吸収剤の記載を参酌できる。

接着剤
本発明では、紫外線（ＵＶ）硬化型接着剤または熱硬化型接着剤を好ましく用いることができ、紫外線硬化型接着剤がより好ましい。接着剤の種類は特に定めるものではないが、ＵＶ硬化型接着剤としては、エポキシ系、アクリレート系、ウレタン系が好ましい例として挙げられ、ウレタン系がより好ましい。熱硬化型接着剤としては、エポキシ系、アクリレート系、ウレタン系が好ましい例として挙げられ、ウレタン系がより好ましい。

フッ素樹脂フィルム
本発明で用いるフッ素樹脂フィルムは、特に定めるものはないが、好ましくは透明フッ素樹脂フィルムである。透明フッ素樹脂フィルムを用いると、保護フィルムのヘイズを低くすることができるため、太陽電池のフロントシートとして好ましく用いることができる。ここで、透明とは、例えば、全光線透過率で８０％以上のことをいう。

本願発明におけるフッ素樹脂フィルムは、フッ素樹脂を主成分とする樹脂フィルムである。フッ素樹脂フィルムを構成するフッ素系樹脂としては、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンとのコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンとのコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレン又はプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等が挙げられる。これらのフッ素系樹脂の中でも、強度、耐熱性、耐候性等に優れるポリフッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）やテトラフルオロエチレンとエチレン又はプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）が特に好ましい。

本願発明のフッ素樹脂フィルムは、フッ素樹脂以外の成分を含んでいても良いが、その成分の５０重量％以上が、フッ素系樹脂によって構成されることが好ましい。また、本願発明のフッ素樹脂フィルムは、実質的に微粒子を含まないこと態様とすることができる。ここで、実質的とは、例えば、意図的に添加される成分としては含まないことをいい、不純物等の成分までも排除するものではないことを意味する。例えば、９９重量％以上がこれらの成分で構成されることをいう。本願発明では、このように、フッ素樹脂フィルムに微粒子を含めなくても、耐光性を高めることができるので、耐傷性が問題となる場合においても、好ましく用いることができる。
また、フッ素樹脂フィルムは、所望により着色又は蒸着されていてもよく、また紫外線吸収剤を含んでいてもよいが、実質的に含んでいなくても、本発明の目的を達成することができる。さらに、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法はフッ素樹脂フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。
本発明におけるフッ素樹脂フィルムの厚みは、５μｍ〜１０００μｍが好ましく、１０μｍ〜５００μｍであることがより好ましい。すなわち、本発明におけるフィルムには、厚さが２５０μｍ未満のフィルムも、厚さが２５０μｍ以上のシートの両方を含む趣旨である。
このような厚さとすることにより、寸法安定性の向上とフィルムのクニックが起こりにくくなり、バリア能の安定した太陽電池用保護シートを供給できるようになる。

（太陽電池）
本発明の太陽電池は、太陽光を電気に変換するシステムをいう。その構造の一例を図２に示す。すなわち、太陽光が入射する側からフロントシート層７、充填接着樹脂層８、太陽電池素子要部９、充填接着樹脂層１０、バックシート層１１が基本構成になる。本発明の保護フィルムは、好ましくはフロントシート層に用いられる。フロントシート層に用いられる場合、図１の矢印側が、太陽光が照射される側となる。もちろん、バックシート層に用いても良い。この太陽電池は、住宅の屋根に組み込まれたり、農池、牧場、排水や下水処理施設、火山や温泉地域、ビルや塀に設置されるものや電子部品に用いられるものもある。該太陽電池モジュールは採光型やシースルー型等と呼ばれる光を透過し窓や高速道路、鉄道等の防音壁に用いられるものもある。本発明では、特にフレキシブルなタイプとすることができる。

本発明の保護フィルムが好ましく用いられる太陽電池としては、特に制限はないが、例えば、単結晶シリコン系太陽電池、多結晶シリコン系太陽電池、シングル接合型、またはタンデム構造型等で構成されるアモルファスシリコン系太陽電池、ガリウムヒ素（ＧａＡｓ）やインジウム燐（ＩｎＰ）等のＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体太陽電池、カドミウムテルル（ＣｄＴｅ）等のＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池、銅/インジウム/セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅/インジウム/ガリウム/セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池、色素増感型太陽電池、有機太陽電池等が挙げられる。中でも、本発明においては、上記太陽電池が、銅/インジウム/セレン系（いわゆる、ＣＩＳ系）、銅/インジウム/ガリウム/セレン系（いわゆる、ＣＩＧＳ系）、銅/インジウム/ガリウム/セレン/硫黄系（いわゆる、ＣＩＧＳＳ系）等のＩ−ＩＩＩ−ＶＩ族化合物半導体太陽電池であることが好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

合成例
（例示化合物（１）の合成）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン（１，８−ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ−７−ｅｎｅ））３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ａを３６．０ｇ得た（収率９１％）。

合成中間体Ａ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸８．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｂを１７．１ｇ得た（収率９０％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．８ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｂ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（１）を６．１ｇ得た（収率９２％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４１４（Ｍ＋）¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ６．５５−６．５６（１Ｈ），δ６．６２−６．６４（１Ｈ），δ７．５８−７．６５（３Ｈ），δ８．２２−８．２４（２Ｈ），δ８．６２−８．６５（３Ｈ），δ８．７１（２Ｈ），δ１３．３９（１Ｈ）λｍａｘ（極大吸収波長）＝３４１ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（２）の合成）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−シアノベンゾイル クロリド１９．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｃを３１．２ｇ得た（収率８８％）。

合成中間体Ｃ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｄを１６．５ｇ得た（収率８８％）。

ベンズアミジン塩酸塩３．１ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．８ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｄ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（２）を６．３ｇ得た（収率９３％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３８１（Ｍ＋）¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ６．５５−６．５６（１Ｈ），δ６．６２−６．６４（１Ｈ），δ７．５８−７．６２（３Ｈ），δ７．６５−７．６９（２Ｈ），δ８．６０−８．６２（３Ｈ），δ８．７６（２Ｈ），δ１３．２６（１Ｈ）λｍａｘ＝３４２ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（３）の合成）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（トリフルオロメチル）ベンゾイルクロリド２４．９ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｅを３７．５ｇ得た（収率９２％）。

合成中間体Ｅ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸８．８ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｆを１７．０ｇ得た（収率９０％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．８ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．３ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｆ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（３）を６．０ｇ得た（収率９２％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４２４（Ｍ＋）¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ６．５６−６．５７（１Ｈ），δ６．６２−６．６５（１Ｈ），δ７．５８−７．６６（３Ｈ），δ７．８２−７．８５（２Ｈ），δ８．６２−８．６４（３Ｈ），δ８．７６（２Ｈ），δ１３．３５（１Ｈ）λｍａｘ＝３４２ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（４）の合成）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−クロロベンゾイルクロリド２０．９ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｇを３５．０ｇ得た（収率９６％）。

合成中間体Ｇ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．６ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｈを１７．１ｇ得た（収率９１％）。

ベンズアミジン塩酸塩３．０ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．７ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｈ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（４）を６．５ｇ得た（収率９６％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３９０（Ｍ＋）¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ６．５４−６．５５（１Ｈ），δ６．６１−６．６３（１Ｈ），δ７．５３−７．６７（５Ｈ），δ８．６０−８．６２（５Ｈ），δ１３．２６（１Ｈ）λｍａｘ＝３４０ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（５）の合成）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液にベンゾイルクロリド１６．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｉを２９．５ｇ得た（収率９１％）。

合成中間体Ｉ２５．０ｇにアセトニトリル２５０ｍＬと硫酸１３．５ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン１００ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｊを２１．１ｇ得た（収率９１％）。

塩酸４−アミジノベンズアミド３．５ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｊ４．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（５）を５．８ｇ得た（収率９２％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３９９（Ｍ＋）¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ６．５７（１Ｈ），δ６．６３−６．６５（１Ｈ），δ７．５８−７．６６（３Ｈ），δ８．００−８．０２（２Ｈ），δ８．６４−８．６６（３Ｈ），δ８．７４（２Ｈ），δ１３．４１（１Ｈ）λｍａｘ＝３４０ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（２９）の合成）
例示化合物（１）１０ｇに２−エチルヘキサノール３１．６ｇ、ＮａＯＭｅ０．１３ｇとキシレン１００ｍＬを添加し、減圧下９０℃で６時間攪拌した。この反応液に水と酢酸エチルを添加して攪拌し、分液した有機相を濃縮した。得られた残渣をヘキサン／イソプロピルアルコール（体積比で１：１０）で晶析することで例示化合物（２９）を１１．５ｇ得た（収率９３％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ５１２（Ｍ＋）

（例示化合物（３２）の合成）
例示化合物（１）１０ｇにファインオキソコール１８０Ｎ（日産化学化学工業製）９．８ｇ、ＮａＯＭｅ０．１３ｇとキシレン１００ｍＬを添加し、減圧下９０℃で６時間攪拌した。この反応液に水と酢酸エチルを添加して攪拌し、分液した有機相を濃縮した。得られた残渣をヘキサン／イソプロピルアルコール（体積比で１：１０）で晶析することで例示化合物（３２）を１５．１ｇ得た（収率９６％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ６５２（Ｍ＋）λｍａｘ＝３４０ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（６３）の合成）
４−メトキシサリチル酸フェニル１０．０ｇにメタノール１００ｍＬ、２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液１５．８ｇ、塩酸４−アミジノ安息香酸メチル１４．６ｇを添加した。この溶液を６０℃で５時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（６３）を１８．０ｇ得た（収率９３％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４７２（Ｍ＋）

（例示化合物（６４）の合成）
塩酸４−アミジノ安息香酸メチル４．２ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．８ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｄ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（６４）を７．５ｇ得た（収率９５％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４３９（Ｍ＋）

（例示化合物（６５）の合成）
塩酸４−アミジノベンズアミド３．６ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｂ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（６５）を６．９ｇ得た（収率９４％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４５７（Ｍ＋）

（例示化合物（７５）の合成）
サリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ４４．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２９．０ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｋを４０．０ｇ得た（収率９２％）。

合成中間体Ｋ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．４ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｌを１８．２ｇ得た（収率９７％）。

ベンズアミジン塩酸塩３．１ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．８ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｌ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（７５）を６．４ｇ得た（収率９４％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３８４（Ｍ＋）

（例示化合物（８０）の合成）
２−ヒドロキシ−４−メチルベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ４０．３ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２５．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｍを３６．３ｇ得た（収率８９％）。

合成中間体Ｍ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．１ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｎを１７．６ｇ得た（収率９３％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．９ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．７ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｎ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（８０）を６．３ｇ得た（収率９４％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３９８（Ｍ＋）

（例示化合物（８１）の合成）
２−ヒドロキシ−４−（トリフルオロメチル）ベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ２９．７ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル１９．４ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｏを３４．１ｇ得た（収率９５％）。

合成中間体Ｏ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸６．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｐを１８．４ｇ得た（収率９７％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．３ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｐ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（８１）を５．９ｇ得た（収率９１％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４５２（Ｍ＋）

（例示化合物（９０）の合成）
２−ヒドロキシ−５−メトキシベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｑを３８．０ｇ得た（収率９６％）。

合成中間体Ｑ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸８．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｒを１８．１ｇ得た（収率９６％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．８ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｒ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（９０）を６．２ｇ得た（収率９３％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４１４（Ｍ＋）

（例示化合物（９３）の合成）
２−ヒドロキシ−５−クロロベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３５．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３．１ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｓを３８．１ｇ得た（収率９８％）。

合成中間体Ｓ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．０ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｔを１８．３ｇ得た（収率９７％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．５ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．３ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｔ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（９３）を６．１ｇ得た（収率９２％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４１８（Ｍ＋）

（例示化合物（９６）の合成）
２−ヒドロキシ−３−メトキシベンズアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２３．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｕを３７．８ｇ得た（収率９５％）。

合成中間体Ｕ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸８．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｖを１７．７ｇ得た（収率９４％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．８ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｖ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（９６）を６．５ｇ得た（収率９８％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４１４（Ｍ＋）

（例示化合物（１０７）の合成）
３−ヒドロキシ−２−ナフトアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３２．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に４−（クロロホルミル）安息香酸メチル２１．２ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｗを３５．１ｇ得た（収率９４％）。

合成中間体Ｗ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．１ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｘを１７．９ｇ得た（収率９４％）。

ベンズアミジン塩酸塩２．３ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．０ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｘ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（１０７）を６．１ｇ得た（収率９４％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ４３４（Ｍ＋）

（例示化合物（１７）の合成）
４−メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に３−シアノベンゾイル クロリド１９．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと３５％塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｙを３４．５ｇ得た（収率９７％）。

合成中間体Ｙ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸９．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｚを１６．７ｇ得た（収率８９％）。

ベンズアミジン塩酸塩３．１ｇにメタノール１００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．８ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｚ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（１７）を６．５ｇ得た（収率９６％）。
ＭＳ：ｍ／ｚ ３８１（Ｍ＋）λｍａｘ＝３４３ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−２）の調製）
サリチル酸３００ｇをトルエン６００ｍＬに懸濁させ、塩化チオニル２５８ｇとＤＭＦ７ｍＬを加え、５０℃で２時間攪拌した（溶液Ａ）。サリチルアミド２９９．０ｇにアセトニトリル９００ｍＬとＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン（１，８−ｄｉａｚａｂｉｃｙｃｌｏ［５．４．０］ｕｎｄｅｃ−７−ｅｎｅ））６６０ｇを添加し溶解させた溶液に、調製した溶液Ａを５℃条件下で滴下し、その後、室温下で２４時間攪拌した。この反応液に３５％塩酸３００ｍＬを添加し、室温で２時間攪拌した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ａを５０４ｇ得た（収率９０％）。

合成中間体Ａ１４０ｇにトルエン１４００ｍＬとｐ−トルエンスルホン酸一水和物１０．５ｇを添加し、１５０℃で６時間攪拌した。６０℃まで冷却後、この反応液にトリエチルアミン１４ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｂを１２２ｇ得た（収率９４％）。

イソフタロニトリル４０１ｇにメタノール８０００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３０９ｇを加え、室温で３時間攪拌した。この反応液に塩化アンモニウム４２８ｇを加え、室温で２４時間攪拌した。この反応液をロータリーエバポレーターで濃縮し、得られた固体をメタノールと酢酸エチルで洗浄して、水で再結晶することにより合成中間体Ｃを３１０ｇ得た（収率５５％）。

合成中間体Ｃ４２ｇにメタノール１０００ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液４４ｇを加えた。この懸濁液に室温下で合成中間体Ｂを５０ｇ添加し、室温で２時間、６０℃で２時間攪拌した。この反応液に３５％塩酸２ｍＬを加え、得られた固体をメタノールと水で洗浄することにより例示化合物（ｍ−２）を７４ｇ得た（収率９６％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ３６７（Ｍ＋）
λｍａｘ＝３５５ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−１）の調製）
例示化合物（ｍ−２）１００ｇにメタノール１０００ｍＬを加え、６０℃で塩化水素ガスを２４時間バブリングしながら攪拌した。室温まで冷却後、得られた固体をメタノールと水で洗浄することにより例示化合物（ｍ−１）を９９ｇ得た（収率９１％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４００（Ｍ＋）
λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−３）の調製）
サリチルアミド２００．０ｇにアセトニトリル８００ｍＬとＤＢＵ４４４．０ｇを添加し溶解させた。この溶液に３-（トリフルオロメチル）ベンゾイルクロリド３０３．９ｇ
を添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水２０００ｍＬと塩酸２００ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｄを４２８．３ｇ得た（収率９５％）。

合成中間体Ｄ３４．０ｇにアセトニトリル２４０ｍＬと硫酸２０．２ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン１５０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｅを３４．８ｇ得た（収率９４％）。

（Ｘ−２の合成）
３つ口フラスコに、アセトキシム３９．５ｇ（１．１モル当量）、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）６００ｍＬ、カリウム-t-ブトキシド６０．６ｇ（１．１モル当量
）を入れて室温で３０分攪拌した。その後、内温を０℃とし、そこへ化合物（Ｘ−１）６０ｇ（１．０モル当量）をゆっくり滴下した。滴下後、内温を２５℃まで昇温し、その温度で１時間攪拌した。
反応混合物を塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルで抽出・分液操作を行い、得られた有機相に飽和食塩水を加えて洗浄し分液した。こうして得られた有機相を、ロータリーエバポレータで濃縮して得られた残留物を化合物（Ｘ−２）の粗生成物として得た。

（Ｘ−３の合成）
３つ口フラスコに、上記で得られた化合物（Ｘ−２）の組成生物を全量を入れ、エタノール７００ｍＬと１Ｍの塩酸水５００ｍＬを加えて、反応混合物を内温８０℃まで昇温しその温度で３時間攪拌した。
反応混合物を内温２５℃まで冷却し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルで抽出・分液操作を行い、得られた有機相に飽和食塩水を加えて洗浄し分液した。こうして得られた有機相を、ロータリーエバポレータで濃縮して得られた残留物を化合物（Ｘ−３）の粗生成物として得た。

（Ｘ−４の合成）
３つ口フラスコに、フラスコ内を窒素ガスで満たした後に１０％Ｐｄ−Ｃ（和光純薬工業社製）を６．５ｇ添加し、エタノールを２，０００ｍＬ、上記で得られた化合物（Ｘ−３）の組成生物を全量加えて加熱・還流した。そこへギ酸５５ｍＬ（３モル当量）をゆっくり滴下し、この温度で５時間攪拌した。その後反応混合物を内温２５℃まで冷却し、セライトろ過を行い炉別した母液に１，５−ナフタレンジスルホン酸を１０５ｇ加えて、内温を７０℃まで昇温し、３０分攪拌した。その後、徐々に室温まで冷却して結晶を濾別し化合物（Ｘ−４）を１００ｇ得た。収率は化合物（Ｘ−１）を出発物質として７２％であった。得られた結晶は、淡茶色であった。
¹Ｈ ＮＭＲ（重ＤＭＳＯ）：δ６．９５−６．９８（１Ｈ）、δ７．０２−７．０４（１Ｈ）、δ７．４０−７．５１（３Ｈ）、δ７．９０−７．９５（１Ｈ）、δ８．７５（１Ｈ）、δ８．８５−８．８８（２Ｈ）、δ９．０３（２Ｈ）、δ１０．８９（１Ｈ）

化合物（Ｘ−４）６．８ｇにメタノール５０ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液４．６ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｅ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、３５％塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（ｍ−３）を６．７ｇ得た（収率９５％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４０９（Ｍ＋）

（例示化合物（ｍ−１０）の調製）
例示化合物（ｍ−１）５０ｇにエタノール２５００ｍＬ、１０％水酸化カリウムエタノール溶液を２０００ｍＬと水５００ｍＬを加え、室温で２４時間攪拌した。３５％塩酸を３００ｍＬ添加し、得られた固体をメタノールと水で洗浄して例示化合物（ｍ−１０）を４６ｇ得た（収率９５％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ３８６（Ｍ＋）

（例示化合物（ｍ−１８））
例示化合物（ｍ−１９）と同様の調製法で、原料の１−ヘキサノールを１−ブタノールに変更して例示化合物（ｍ−１８）を合成した。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ１．０３−１．０７（３Ｈ），δ１．５５−１．８７（４Ｈ），δ４．４１−４．４５（２Ｈ），δ７．０４−７．１２（４Ｈ），δ７．５３−７．５８（２Ｈ），δ７．６８−７．７３（１Ｈ），δ８．３４−８．３６（１Ｈ），δ８．５４−８．５６（２Ｈ），δ８．６２−８．６４（１Ｈ），δ９．１５（１Ｈ），δ１２．９３（２Ｈ）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−１９）の調製）
例示化合物（ｍ−２）２５ｇに１−ヘキサノール２００ｇと硫酸１３ｇを添加し、還流条件下で１６時間攪拌した。室温まで冷却後、得られた固体をメタノールと水で洗浄して例示化合物（ｍ−１９）を２９ｇ得た（収率９０％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４７０（Ｍ＋）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−２０）の調製）
例示化合物（ｍ−２）２５ｇに２−エチルヘキサノール２００ｇと硫酸１３ｇを添加し、還流条件下で１６時間攪拌した。室温まで冷却後、得られた固体をメタノールと水で洗浄して例示化合物（ｍ−２０）を３１ｇ得た（収率９２％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４９８（Ｍ＋）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−２１）の調製）
例示化合物（ｍ−２）２５ｇに３,５,５−トリメチル−1−ヘキサノール２００ｇと硫酸１３ｇを添加し、還流条件下で１６時間攪拌した。室温まで冷却後、得られた固体をメタノールと水で洗浄して例示化合物（ｍ−２１）を３２ｇ得た（収率９１％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ５１２（Ｍ＋）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−２５）の調製）
例示化合物（ｍ−１９）と同様の調製法で、原料の１−ヘキサノールをファインオキソコール１８０Ｎに変更して例示化合物（ｍ−２５）を合成した。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ０．７２−１．８６（３５Ｈ），δ４．３０−４．３７（２Ｈ），δ７．０４−７．１０（４Ｈ），δ７．５１−７．５５（２Ｈ），δ７．６８−７．７２（１Ｈ），δ８．３２−８．３４（１Ｈ），δ８．５１−８．５３（２Ｈ），δ８．６１−８．６３（１Ｈ），δ９．１４（１Ｈ），δ１２．９１（２Ｈ）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−５８）の調製）
３-メトキシサリチルアミド２０．０ｇにアセトニトリル８０ｍＬとＤＢＵ３６．４ｇを添加し溶解させた。この溶液に３-(クロロホルミル)安息香酸メチル２３．８ｇを添加し、室温で２４時間攪拌した。この反応液に水１００ｍＬと塩酸２０ｍＬを添加し、得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｈを３６．０ｇ得た（収率９１％）。

合成中間体Ｈ２０．０ｇにアセトニトリル２００ｍＬと硫酸８．９ｇを添加し、９０℃で４時間攪拌した。この反応液にトリエチルアミン８０ｍＬを添加し、室温まで冷却した。得られた固体を濾過、水洗浄して合成中間体Ｉを１７．１ｇ得た（収率９０％）。

化合物（Ｘ−４）５．５ｇにメタノール５０ｍＬと２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液３．４ｇを添加した。この溶液に合成中間体Ｉ５．０ｇを添加し、６０℃で３時間攪拌した。この反応液を室温まで冷却した後、塩酸を０．２ｍＬ添加した。得られた固体を濾過、水とメタノールで洗浄して例示化合物（ｍ−５８）を６．３ｇ得た（収率９１％）。ＭＳ：ｍ／ｚ ４３０（Ｍ＋）

（例示化合物（ｍ−７１）の調製）
例示化合物（ｍ−３）と同様の調製法で、原料のサリチルアミドを４−メトキシサリチルアミドに変更して例示化合物（ｍ−７１）を合成した。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ３．９２（３Ｈ），δ６．５８（１Ｈ），δ６．６４−６．６６（１Ｈ），δ７．０５−７．１２（２Ｈ），δ７．５４−７．５７（１Ｈ），δ７．７４−７．７９（１Ｈ），δ７．９２−７．９４（１Ｈ），δ８．４３−８．５２（２Ｈ），δ８．６１−８．６３（１Ｈ），δ８．７３（１Ｈ），δ１２．９８（１Ｈ），δ１３．１４（１Ｈ）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−７２）の調製）
例示化合物（ｍ−３）と同様の調製法で、原料のサリチルアミドを４−メトキシサリチルアミドに変更し、３−（トリフルオロメチル）ベンゾイルクロリドを３,５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイルクロリドに変更して例示化合物（ｍ−７
２）を合成した。¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ３．９２（３Ｈ），δ６．５９（１Ｈ），δ６．６６−６．６８（１Ｈ），δ７．０７−７．１４（２Ｈ），δ７．５６−７．５９（１Ｈ），δ８．１８（１Ｈ），δ８．４０−８．４２（１Ｈ），δ８．４８（１Ｈ），δ８．８８（２Ｈ），δ１２．７６（１Ｈ），δ１２．９４（１Ｈ）λｍａｘ＝３５６ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

（例示化合物（ｍ−７３）の調製）
例示化合物（ｍ−１９）と同様の調製法で、原料の１−ヘキサノールを３,７-ジメチル-１-オクタノールに変更して例示化合物（ｍ−７３）を合成した。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ０．８４−０．８６（６Ｈ），δ１．０１−１．０３（３Ｈ），δ１．１６−１．３９（６Ｈ），δ１．４９−１．７４（４Ｈ），δ１．８６−１．９１（１Ｈ），δ４．４５（２Ｈ），δ７．０１−７．０９（４Ｈ），δ７．５１−７．５５（２Ｈ），δ７．６６−７．７０（１Ｈ），δ８．３１−８．３３（１Ｈ），δ８．５０−８．５２（２Ｈ），δ８．５９−８．６１（１Ｈ），δ９．１１（１Ｈ），δ１２．８９（２Ｈ）λｍａｘ＝３５４ｎｍ（ＥｔＯＡｃ）

また、トリアジン環構造を有する化合物として、以下の市販品の化合物を用いた。

（実施例１）
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート上に下に示した重合性化合物（合計１４重量部）と重合開始剤（チバスペシャリティケミカルズ社、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、１重量部）、２−ブタノン（１８５重量部）とからなる組成物をワイヤーバーにて塗布し、窒素１００ｐｐｍ雰囲気下、紫外線照射量０．５Ｊ／ｃｍ²で照射して硬化させ、有機ポリマー層を作製した。有機ポリマー層の膜厚は５００ｎｍであった。次に、有機ポリマー層表面に膜厚が４０ｎｍとなるようにＡｌ₂Ｏ₃を真空スパッタ（反応性スパッタリング）で製膜した。次に、このＡｌ₂Ｏ₃上に上と同様にして有機ポリマー層を形成して水蒸気ガスバリアフィルム（Ａ）を得た。
重合性化合物の組成

重合性化合物の組成
以下に示す化合物Ａ〜Ｄを以下に示す割合で用いた。

化合物Ａ：共栄社化学（株）製、ライトアクリレート１，９−ＮＤ−Ａ：５０質量％

化合物Ｂ：ダイセルサイテック（株）製、ＴＭＰＴＡ：３０質量％

化合物Ｃ：ダイセルサイテック（株）製、ＩＲＲ＝２１４Ｋ：１０質量％

化合物Ｄ：日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ、ＰＭ−２１：１０質量％

上記水蒸気ガスバリアフィルム（Ａ）と膜厚５０μｍのフッ素樹脂フィルムであるエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルム（ダイキン製、ネオフロンＥＴＦＥフィルム、ＥＦ−００５０）とを、下記表に示した紫外線吸収剤をウレタン系接着剤（三井化学製、タケラックA971）に対して２０重量部混合したものを介して積層させて、サンプル（Ｂ−１）〜（Ｂ−３５）を得た。

（コアシェル型酸化亜鉛粒子含有ブタノール分散液の調整）
コアシェル型酸化亜鉛粒子（堺化学製、Ｎａｎｏｆｉｎｅ、粒子径：２４ｎｍ、コア：粒子径２０ｎｍのＺｎＯ、シェル組成：ＳｉＯ₂／Ａｌ₂Ｏ₃、シェル厚：２ｎｍ）１０重量部にブタノール１００重量部、Ｘ−４０−９２５０を５０重量部を添加して、遊星型ボールミルにて分散することにより、コアシェル型酸化亜鉛粒子含有ブタノール分散液を得た。

上記水蒸気ガスバリアフィルム（Ａ）と膜厚５０μｍのフッ素樹脂フィルムであるエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルム（ダイキン製、ネオフロンＥＴＦＥフィルム、ＥＦ−００５０）とを、上記コアシェル型酸化亜鉛粒子含有ブタノール分散液をウレタン系接着剤に対して２０重量部混合したものを介して積層させて、サンプル（Ｂ−３６）を得た。

（ＣｅＯ₂微粒子含有ブタノール分散液の調整）
ＣｅＯ₂微粒子（多木化学製、ニードラールＵ−１５）をブタノール溶媒に溶媒置換を行いＣｅＯ₂微粒子のブタノール分散液を得た。得られたブタノール分散液１０重量部にブタノール１００重量部、Ｘ−４０−９２５０を５０重量部を添加して、遊星型ボールミルにて分散することにより、ＣｅＯ₂微粒子含有ブタノール分散液を得た。
上記水蒸気ガスバリアフィルム（Ａ）と膜厚５０μｍのフッ素樹脂フィルムであるエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルム（ダイキン製、ネオフロンＥＴＦＥフィルム、ＥＦ−００５０）を、上記ＣｅＯ₂微粒子含有ブタノール分散液をウレタン系接着剤に対して２０重量部混合したものを介して積層させて、サンプル（Ｂ−３７）を得た。
得られた積層フィルムは下記項目の評価を行った。

[全光線透過率]
JIS K7361-1に準じて、ヘイズメーター（日本電色工業株式会社製 NDH ５０００）を用いて、全光線透過率を測定した。

［水蒸気ガスバリア性評価］
G.NISATO、P.C.P.BOUTEN、P.J.SLIKKERVEERらSID Conference Record of the International Display Research Conference 1435-1438頁に記載の方法を用いて水蒸気透過率（ｇ／ｍ²／ｄａｙ）を測定した。このときの温度は４０℃、相対湿度は９０％とした。得られた結果は以下のように評価し、まとめた。
（評価）
１ ：１．０ｇ／ｍ²／ｄａｙ以上
２ ：０．１ｇ／ｍ²／ｄａｙ以上１．０ｇ／ｍ²／ｄａｙ未満
３ ：０．０１ｇ／ｍ²／ｄａｙ以上０．１ｇ／ｍ²／ｄａｙ未満
４ ：０．００１ｇ／ｍ²／ｄａｙ以上０．０１ｇ／ｍ²／ｄａｙ未満
５ ：０．００１ｇ／ｍ²／ｄａｙ未満

[接着力評価]
ＪＩＳ規格Ｚ０２３７に順じ、保護フィルムを１０ｍｍ×１５ｍｍのサイズに切り出し、テンシロン試験機を用いて剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎでフィルムを引き剥がし、接着力を測定した。得られた結果は以下のように評価し、まとめた。
（評価）
１：１００ｇｆ／１０ｍｍ未満
２：１００ｇｆ／１０ｍｍ以上３００ｇｆ／１０ｍｍ未満
３：３００ｇｆ／１０ｍｍ以上４００ｇｆ／１０ｍｍ未満
４：４００ｇｆ／１０ｍｍ以上５００ｇｆ／１０ｍｍ未満
５：５００ｇｆ／１０ｍｍ以上

[耐紫外線性、耐湿熱性評価]
各評価に対して、サンプル作成後の評価、およびメタリングバーチカルウェザーメーター（スガ試験機製 ＭＶ３０００）を用いて０．５３ｋＷ／ｍ²（波長：３００〜４００ｎｍ）、ブラックパネル温度６３℃、槽内湿度５０％で２０００時間、試験用サンプルに対して紫外線暴露試験を実施した後の評価を行った。および、高温高湿槽中で８５℃、８５ＲＨ％の環境下１０００時間放置してから取り出し、室温で乾燥させた後の評価を行った。

上記化合物Ａの製造元は、ＢＡＳＦ社であり、化合物Ｂの製造元は、ＢＡＳＦ社であり、ＴＩＮＵＶＩＮ ＰＳの製造元は、ＢＡＳＦ社であり、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ８１の製造元は、ＢＡＳＦ社である。

実施例２
実施例１のサンプルＢ−１、７、９、２１、２５、３２、３４および３６に対して、水蒸気ガスバリアフィルム（Ａ）と膜厚５０μｍのフッ素樹脂フィルムであるエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体フィルム（ダイキン製、ネオフロンＥＴＦＥフィルム、ＥＦ−００５０）と積層する際に使用したウレタン系接着剤をアクリル系接着剤（東洋インキ製、オリバインBPS5896）に変更した以外は実施例１と同様にして、サンプルＣ−１、７、９、２１、２５、３２、３４、３６を得た。得られたサンプルを実施例１と同様に評価した結果を表３に示した。

上記表中、「Ｆｒ」はフレッシュな状態での測定結果を示し、ＵＶは、「耐紫外線性、耐湿熱性評価」に記載の処理後のものの測定結果を示す。
上記表から明らかなとおり、本発明の紫外線吸収剤含有層を樹脂フィルムと水蒸気ガスバリアフィルムの間に設置すると、ＵＶ照射後の諸性能の劣化が抑制されることが確認された。特に、試料Ｎｏ．Ｂ−３２、Ｂ−３３のような、トリアジン環構造を有する紫外線吸収剤を用いた場合であっても、本発明の範囲外の紫外線吸収剤を用いた場合、透過率、水蒸気バリア性および接着性に著しくおとることが分かった。

実施例３ 太陽電池用フロントシートの作成
エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）樹脂フィルムを接着剤として用いて、上記実施例の構成のサンプルをフロントシートとして特開２００９−９９９７３号公報の実施例１に記載のＣＩＳ系の薄膜太陽電池を貼り合わせ、太陽電池セルを作成し、太陽電池として作動することを確認した。

本発明により、長期間の紫外線暴露に耐えうる保護フィルムを提供することができる。特に、長期間の紫外線暴露後、高温高湿度暴露後でも、水蒸気バリア性、フィルム強度、透過率などが維持できる保護フィルムを提供できる。ここで、フィルム強度とは、フィルムの接着性、フィルムの密着性、さらには屈曲した際の表面クラック耐性などを指す。

１ 水蒸気ガスバリアフィルム
２ 有機系紫外線吸収剤含有層
３ フッ素樹脂フィルム
７ フロントシート層
８ 充填接着樹脂層
９ 太陽電池素子要部
１０ 充填接着樹脂層
１１ バックシート層

Claims (15)

1. 水蒸気ガスバリアフィルムと、有機系紫外線吸収剤含有層と、フッ素樹脂フィルムとを、該順に有し、前記有機系紫外線吸収剤含有層に、下記一般式（１）または（２）で表される有機系紫外線吸収剤を含む保護フィルム。
   一般式（１）
   

   

   ［Ｒ^1a、Ｒ^1b、Ｒ^1c、Ｒ^1d、Ｒ^1eは、互いに独立して、水素原子、又はＯＨを除く１価の置換基を表し、置換基のうち少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^1f、Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1jは、互いに独立して、水素原子又はＯＨを除く１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ、Ｒ^1pは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］
   一般式（２）
   

   

   ［Ｒ^1a、Ｒ^1c及びＲ^1eは、水素原子を表す。Ｒ^1b及びＲ^1dは、互いに独立して、水素原子又はハメット則のσｐ値が正である置換基を表し、少なくとも１つは、ハメット則のσｐ値が正である置換基を表す。Ｒ^1g、Ｒ^1h、Ｒ¹ⁱ、Ｒ^1j、Ｒ^1k、Ｒ^1m、Ｒ¹ⁿ及びＲ^1pは、互いに独立して、水素原子又は１価の置換基を表す。また置換基同士で結合して環を形成しても良い。］
2. 水蒸気ガスバリアフィルムと有機系紫外線吸収剤含有層とが隣接している、請求項１に記載の保護フィルム。
3. 有機系紫外線吸収剤含有層とフッ素樹脂フィルムとが隣接している、請求項１または２に記載の保護フィルム。
4. 水蒸気ガスバリアフィルムと有機系紫外線吸収剤含有層とが隣接しており、かつ、有機系紫外線吸収剤含有層とフッ素樹脂フィルムとが隣接している、請求項１または２に記載の保護フィルム。
5. 有機系紫外線吸収剤含有層が、接着剤を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の保護フィルム。
6. 一般式（１）で表される紫外線吸収剤における１価の置換基が、１価の置換基が、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基であり、置換基を有する場合の置換基がハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、チオシアネート基、又はアルキルスルホニル基であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の保護フィルム。
7. 一般式（１）で表される紫外線吸収剤におけるＲ^1cが、ハメット則のσｐ値が正である置換基であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の保護フィルム。
8. 一般式（２）で表される紫外線吸収剤における１価の置換基が、ハロゲン原子、置換又は無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基、置換又は無置換のカルバモイル基、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換又は無置換のアリールオキシ基、置換又は無置換のスルファモイル基、チオシアネート基、又は置換又は無置換のアルキルスルホニル基であり、置換基を有する場合の置換基がハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アリールオキシ基、スルファモイル基、チオシアネート基、又はアルキルスルホニル基であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の保護フィルム。
9. 一般式（２）で表される紫外線吸収剤におけるハメット則のσｐ値が、０．１〜１．２の範囲であることを特徴とする、請求項１〜５および８のいずれか１項に記載の保護フィルム。
10. 水蒸気ガスバリアフィルムが、少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層が交互に積層した積層体を含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の保護フィルム。
11. 無機層が、珪素およびアルミの少なくとも１種と、酸素および窒素の少なくとも１種を含むことを特徴とする、請求項１０に記載の保護フィルム。
12. 有機層が、（メタ）アクリレートを含む重合性組成物を硬化してなる層である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の保護フィルム。
13. 太陽電池の保護シート用部材である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の保護フィルム。
14. 太陽電池のフロントシート用である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の保護フィルム。
15. 請求項１〜１４のいずれか１項に記載の保護フィルムを含む、太陽電池素子。

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