JP2012114465A - Adhesive tape cutting method and adhesive tape pasting device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive tape cutting method which allows for enhancement of the cutting accuracy of a supporting adhesive tape that adhesion holds the semiconductor wafer of a ring frame.SOLUTION: In a state where the reference surface 62 on the distal end side of a cutter holder 43 holding a cutter blade 42 is in contact with the surface of the base material (b) of a supporting adhesive tape DT, the supporting adhesive tape DT is cut while making the reference surface of the cutter holder 43 follow up the surface of the base material. At this time, the tip of the cutter blade 42 is made to pass through the verge of the adhesion interface to a ring frame (f) without penetrating an adhesive layer (a).

Description

本発明は、支持用の粘着テープを貼り付けてリングフレームに半導体ウエハを保持し、リングフレームの形状に沿ってカッタ刃を走査して粘着テープを切断する粘着テープ切断方法およびこれを用いた粘着テープ貼付け装置に関し、特に粘着テープの切断効率を向上させる技術に関する。   The present invention relates to an adhesive tape cutting method for attaching a supporting adhesive tape, holding a semiconductor wafer on a ring frame, and cutting the adhesive tape by scanning a cutter blade along the shape of the ring frame, and an adhesive using the same. More particularly, the present invention relates to a technique for improving the cutting efficiency of an adhesive tape.

表面にパターンが形成された半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という)は、その裏面研磨(バックグラインド)により薄型化される。このバックグラインド処理の施されたウエハは、半導体ウエハをリングフレームに保持するマウント装置に搬送され、支持用の粘着テープを介してリングフレームに接着保持される。このとき、リングフレームと、その中央に位置するウエハとに亘って貼り付けら帯状の粘着テープに自由回転の円板状のカッタ刃を押圧し、リングフレームの形状に沿って粘着テープを切断している。
特開昭62−174940号公報
A semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as “wafer”) having a pattern formed on the surface is thinned by backside polishing (back grinding). The wafer subjected to the back grinding process is conveyed to a mounting device that holds the semiconductor wafer on the ring frame, and is bonded and held on the ring frame via a supporting adhesive tape. At this time, a disk-shaped cutter blade that is freely rotated is pressed against a band-shaped adhesive tape that is stuck across the ring frame and the wafer located at the center thereof, and the adhesive tape is cut along the shape of the ring frame. ing.
Japanese Patent Laid-Open No. 62-174940

従来手段によって粘着テープを切断する場合、カッタ刃が粘着テープを切断するとき、粘着テープを切断したカッタ刃の刃先が粘着テープを貫通してリングフレームのテープ貼付け面に押圧された状態で接触しながら切断走査されるので磨耗しやすい。そのため、カッタ刃の使用寿命が短くなり、頻繁に交換しなければならないといった問題がある。   When cutting the adhesive tape by conventional means, when the cutter blade cuts the adhesive tape, the cutting edge of the cutter blade from which the adhesive tape has been cut penetrates the adhesive tape and comes into contact with the tape attachment surface of the ring frame. However, since it is cut and scanned, it is easily worn. Therefore, there is a problem that the service life of the cutter blade is shortened and must be frequently replaced.

また、粘着テープ切断時にカッタ刃の接触によってリングフレームのテープ貼付け面に切欠き溝が形成される。このようなリングフレームが再利用される場合、リングフレームに再び貼り付けた粘着テープを切断するとき、カッタ刃の先端がリングフレームの表面に形成された切欠き溝に嵌り込み、設定走査経路と異なる経路を通る。その結果、切断開始位置と終了位置とが一致せず、粘着テープをリングフレーム形状に切り落とすことのできない切断不良が発生するといった問題がある。   Moreover, a notch groove is formed in the tape attachment surface of the ring frame by the contact of the cutter blade when cutting the adhesive tape. When such a ring frame is reused, when cutting the adhesive tape affixed to the ring frame again, the tip of the cutter blade fits into a notch groove formed on the surface of the ring frame, Take a different route. As a result, the cutting start position and the end position do not coincide with each other, and there is a problem in that a cutting failure occurs in which the adhesive tape cannot be cut into a ring frame shape.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、半導体ウエハをリングフレームに保持する支持用の粘着テープの切断効率を向上させることのできる粘着テープ切断方法およびこれを用いた粘着テープ貼付け装置を提供することを主たる目的としている。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an adhesive tape cutting method capable of improving the cutting efficiency of a support adhesive tape for holding a semiconductor wafer on a ring frame, and an adhesive tape using the same The main purpose is to provide a pasting device.

この発明は、上記目的を達成するために次のような手段をとる。   The present invention takes the following means to achieve the above object.

すなわち、第1の発明は、リングフレームに半導体ウエハを保持する支持用の粘着テープを切断する粘着テープ切断方法であって、
カッタ刃の走査方向の前方に配備した測定手段によって前記リングフレームまでの距離を測定し、
当該測定結果に応じて駆動手段を操作し、当該カッタ刃を装着したカッタホルダの長孔からの突き出し長さを、当該カッタホルダの基端側の基準面から前記リングフレームに貼り付けた粘着テープに突き刺したカッタ刃の先端までの距離として調整し、
前記基端面を粘着テープに対して非接触状態でリングフレームからカッタ刃の先端までの距離を一定に保ちつつ、当該先端を粘着テープの粘着層とリングフレームとの接着界面に近接させて粘着テープをリングフレームの形状に沿って切断する
ことを特徴とする。
That is, the first invention is an adhesive tape cutting method for cutting an adhesive tape for supporting holding a semiconductor wafer on a ring frame,
Measure the distance to the ring frame by the measuring means arranged in the scanning direction of the cutter blade,
The drive means is operated according to the measurement result, and the protruding length from the long hole of the cutter holder to which the cutter blade is attached is pierced into the adhesive tape attached to the ring frame from the reference surface on the base end side of the cutter holder. Adjust the distance to the tip of the cutter blade,
While maintaining the distance from the ring frame to the tip of the cutter blade in a state where the base end surface is not in contact with the adhesive tape, the tip is brought close to the adhesive interface between the adhesive layer of the adhesive tape and the ring frame. Is cut along the shape of the ring frame.

(作用・効果) この方法によれば、粘着テープを切断する過程で測定手段によってリングフレームまでの距離が測定され、当該結果に基づいてカッタホルダの長孔からのカッタ刃の突き出しが調整され、リングフレームからカッタ刃の刃先までの距離が一定に保たれているので、粘着テープ切断時にカッタ刃の刃先がリングフレームのテープ貼付け面と接触するときの押圧による負荷を低減することができる。すなわち、リングフレームと粘着テープとの接着界面に近接する粘着層の部位にカッタ刃の先端が位置する距離を保ちながら粘着テープを切断すれば、リングフレームとの接触なしに粘着テープを切断することができる。したがって、カッタ刃の使用寿命を長くすることができ、交換頻度を低減させて作業効率の向上を図ることができる。   (Function / Effect) According to this method, the distance to the ring frame is measured by the measuring means in the process of cutting the adhesive tape, and the projection of the cutter blade from the long hole of the cutter holder is adjusted based on the result, and the ring Since the distance from the frame to the blade edge of the cutter blade is kept constant, it is possible to reduce a load caused by pressing when the blade edge of the cutter blade contacts the tape attachment surface of the ring frame when cutting the adhesive tape. That is, if the adhesive tape is cut while maintaining the distance at which the tip of the cutter blade is located at the part of the adhesive layer close to the adhesive interface between the ring frame and the adhesive tape, the adhesive tape can be cut without contact with the ring frame. Can do. Therefore, the service life of the cutter blade can be extended, the replacement frequency can be reduced, and the working efficiency can be improved.

また、リングフレームとの接触がなくなれば、リングフレームに切欠き溝や損傷を与えないので、切欠き溝に刃先が嵌り込んで切断走査経路が変更されることがない。その結果切断開始位置と終了位置とが重なり合い、切断不良が発生しない。   Further, if there is no contact with the ring frame, the ring frame is not damaged or damaged, so that the cutting edge does not fit into the notch groove and the cutting scanning path is not changed. As a result, the cutting start position and the end position overlap, and no cutting failure occurs.

第2の発明は、半導体ウエハを支持用の粘着テープを介してリングフレームに貼付け保持する粘着テープ貼付け装置であって、
前記半導体ウエハ保持するウエハ保持手段と、
前記ウエハ保持手段によって保持された半導体ウエハと対向して前記リングフレームを保持するフレーム保持手段と、
前記リングフレームに向けて帯状の支持用の粘着テープを供給するテープ供給手段と、
貼付け手段を前記粘着テープの非粘着面に押圧しながら移動させて前記リングフレームに前記半導体ウエハを貼付け保持する貼付け手段と、
カッタ刃の走査方向の前方に配備した測定手段によって前記リングフレームまでの距離を測定し、当該測定結果に応じて駆動手段を操作し、当該カッタ刃を装着したカッタホルダの長孔からの突き出し長さを、当該リングフレームからリングフレームに貼り付けた粘着テープに突き刺したカッタ刃の先端までの距離とし、当該カッタホルダの基端側の基端面を粘着テープに対して非接触状態で一定に保ちつつ、当該先端を粘着テープの粘着層とリングフレームとの接着界面に近接させて粘着テープをリングフレームの形状に沿って切断する切断機構と、
切断後の不要な粘着テープを剥離する剥離手段と、
を備えたことを特徴とする。
2nd invention is the adhesive tape sticking apparatus which sticks and hold | maintains a semiconductor wafer on a ring frame via the adhesive tape for support,
Wafer holding means for holding the semiconductor wafer;
Frame holding means for holding the ring frame opposite to the semiconductor wafer held by the wafer holding means;
A tape supply means for supplying a strip-like support adhesive tape toward the ring frame;
Affixing means for adhering and holding the semiconductor wafer on the ring frame by moving the affixing means against the non-adhesive surface of the adhesive tape,
The distance to the ring frame is measured by measuring means arranged in the scanning direction of the cutter blade, the drive means is operated according to the measurement result, and the protruding length from the long hole of the cutter holder equipped with the cutter blade Is the distance from the ring frame to the tip of the cutter blade stabbed into the adhesive tape affixed to the ring frame, and the base end surface on the base end side of the cutter holder is kept constant in a non-contact state with respect to the adhesive tape, A cutting mechanism for cutting the adhesive tape along the shape of the ring frame by bringing the tip close to the adhesive interface between the adhesive layer of the adhesive tape and the ring frame;
Peeling means for peeling off the unnecessary adhesive tape after cutting;
It is provided with.

(作用・効果) この構成によれば、リングフレームと半導体ウエハとに亘って貼り付けた支持用の粘着テープに突き刺されたカッタ刃の刃先からリングフレームまでの距離を、一定保持した状態で粘着テープをリングフレームの形状に沿って切断することができる。すなわち、第1の方法発明を好適に実現することができる。   (Operation / Effect) According to this configuration, the distance from the blade edge of the cutter blade stuck to the supporting adhesive tape attached between the ring frame and the semiconductor wafer to the ring frame is kept constant. The tape can be cut along the shape of the ring frame. That is, the first method invention can be suitably realized.

この発明に係る粘着テープ切断方法およびこれを用いた粘着テープ貼付け装置によれば、粘着テープに突き刺したカッタ刃の長さを一定に保って粘着テープが切断されるので、リングフレームの粘着テープ貼付け面へのカッタ刃の接触を回避させることができる。すなわち、カッタ刃の刃先の磨耗を低減させてカッタ刃の交換頻度を低下させることができ、ひいては粘着テープの切断効率の向上を図ることができる。   According to the adhesive tape cutting method and the adhesive tape application apparatus using the same according to the present invention, the adhesive tape is cut while keeping the length of the cutter blade stabbed into the adhesive tape constant. Contact of the cutter blade to the surface can be avoided. That is, it is possible to reduce wear of the cutting edge of the cutter blade and reduce the replacement frequency of the cutter blade, and to improve the cutting efficiency of the adhesive tape.

本発明の実施例に係る半導体ウエハマウント装置の全体を示す斜視図である。1 is a perspective view illustrating an entire semiconductor wafer mounting apparatus according to an embodiment of the present invention. テープ切断機構の正面図である。It is a front view of a tape cutting mechanism. テープ切断機構の要部の斜視図である。It is a perspective view of the principal part of a tape cutting mechanism. テープ切断機構の要部の平面図である。It is a top view of the principal part of a tape cutting mechanism. カッタ刃の先端を拡大した斜視図である。It is the perspective view which expanded the front-end | tip of the cutter blade. 支持用粘着テープにカッタ刃を突き刺した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which stabbed the cutter blade in the adhesive tape for support. 実施例装置の支持用粘着テープを切断する動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing which cut | disconnects the adhesive tape for a support of an Example apparatus. 実施例装置の支持用粘着テープを切断する動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing which cut | disconnects the adhesive tape for a support of an Example apparatus. 実施例装置の支持用粘着テープを切断する動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing which cut | disconnects the adhesive tape for a support of an Example apparatus. 実施例装置の支持用粘着テープを切断する動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing which cut | disconnects the adhesive tape for a support of an Example apparatus. 実施例装置の支持用粘着テープを切断する動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing which cut | disconnects the adhesive tape for a support of an Example apparatus. 実施例装置の支持用粘着テープを切断する動作説明図である。It is operation | movement explanatory drawing which cut | disconnects the adhesive tape for a support of an Example apparatus.

以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1は、この発明の一実施例に係り、半導体ウエハマウント装置の全体構成を示した破断斜視図である。   FIG. 1 is a cutaway perspective view showing an overall configuration of a semiconductor wafer mounting apparatus according to an embodiment of the present invention.

本実施例の半導体ウエハマウント装置1は、バックグラインド処理を施したウエハWを多段に収納するカセットCが装填されるウエハ供給部2と、ロボットアーム4と押圧機構5とを備えたウエハ搬送機構3と、ウエハWの位置合わせをするアライメントステージ7と、アライメントステージ7に載置されたウエハWに向けて紫外線を照射する紫外線照射ユニット14と、ウエハWを吸着保持するチャックテーブル15と、リングフレームfが多段に収納されたリングフレーム供給部16と、リングフレームfをダイシング用テープである支持用粘着テープDTに移載するリングフレーム搬送機構17と、支持用粘着テープDTをリングフレームfの裏面から貼り付けるテープ処理部18と、支持用粘着テープDTが貼り付けられたリングフレームfを昇降移動させるリングフレーム昇降機構26と、支持用粘着テープDTが貼り付けられたリングフレームfにウエハWを貼り合わせて一体化したマウントフレームMFを作製するマウントフレーム作製部27と、作製されたマウントフレームMFを搬送する第1マウントフレーム搬送機構29と、ウエハWの表面に貼り付けられた保護テープPTを剥離する剥離機構30と、剥離機構30で保護テープPTが剥離されたマウントフレームMFを搬送する第2マウントフレーム搬送機構35と、マウントフレームMFの方向転換および搬送を行なうターンテーブル36と、マウントフレームMFを多段に収納するマウントフレーム回収部37とから構成されている。   A semiconductor wafer mounting apparatus 1 of this embodiment includes a wafer transfer mechanism including a wafer supply unit 2 in which cassettes C for storing wafers W subjected to back grinding are loaded in multiple stages, a robot arm 4 and a pressing mechanism 5. 3, an alignment stage 7 for aligning the wafer W, an ultraviolet irradiation unit 14 for irradiating the wafer W placed on the alignment stage 7 with ultraviolet rays, a chuck table 15 for attracting and holding the wafer W, and a ring A ring frame supply unit 16 in which frames f are stored in multiple stages, a ring frame transport mechanism 17 for transferring the ring frame f to a supporting adhesive tape DT that is a dicing tape, and a supporting adhesive tape DT for the ring frame f. The ring processing unit 18 attached from the back side and the ring tape to which the supporting adhesive tape DT is attached A ring frame raising / lowering mechanism 26 for moving the frame f up and down, a mount frame producing unit 27 for producing a mount frame MF by integrating the wafer W on the ring frame f to which the supporting adhesive tape DT is attached, The first mount frame transport mechanism 29 that transports the manufactured mount frame MF, the peeling mechanism 30 that peels off the protective tape PT attached to the surface of the wafer W, and the mount from which the protective tape PT is peeled off by the peeling mechanism 30 A second mount frame transport mechanism 35 that transports the frame MF, a turntable 36 that changes the direction and transport of the mount frame MF, and a mount frame collection unit 37 that stores the mount frames MF in multiple stages.

ウエハ供給部2には図示しないカセット台が備えられており、このカセット台に保護テープPTがパターン面(以下、適宜に「表面」という)に貼り付けられたウエハWを多段に収納したカセットCが載置されるようになっている。このとき、ウエハWはパターン面を上向きにした水平姿勢を保っている。   The wafer supply unit 2 is provided with a cassette table (not shown), and a cassette C in which wafers W each having a protective tape PT affixed to a pattern surface (hereinafter referred to as “surface” as appropriate) is stored in multiple stages. Is to be placed. At this time, the wafer W maintains a horizontal posture with the pattern surface facing upward.

ウエハ搬送機構3は、図示しない駆動機構によって旋回および昇降移動するように構成されている。つまり、後述するロボットアーム4のウエハ保持部や、押圧機構5に備わった押圧プレート6の位置調整を行なうとともに、ウエハWをカセットCからアライメントステージ7に搬送するようになっている。   The wafer transfer mechanism 3 is configured to turn and move up and down by a drive mechanism (not shown). That is, the position of a wafer holding portion of the robot arm 4 described later and the pressing plate 6 provided in the pressing mechanism 5 is adjusted, and the wafer W is transferred from the cassette C to the alignment stage 7.

ウエハ搬送機構3のロボットアーム4は、その先端に図示しない馬蹄形をしたウエハ保持部を備えている。また、ロボットアーム4は、カセットCに多段に収納されたウエハW同士の間隙をウエハ保持部が進退可能に構成されている。なお、ロボットアーム先端のウエハ保持部には吸着孔が設けられており、ウエハWを裏面から真空吸着して保持するようになっている。   The robot arm 4 of the wafer transfer mechanism 3 is provided with a horseshoe-shaped wafer holder (not shown) at its tip. Further, the robot arm 4 is configured such that the wafer holding unit can advance and retreat through the gap between the wafers W stored in multiple stages in the cassette C. The wafer holding part at the tip of the robot arm is provided with a suction hole so that the wafer W is vacuum-sucked from the back side and held.

ウエハ搬送機構3の押圧機構5は、その先端にウエハWと略同形状をした円形の押圧プレート6を備えており、この押圧プレート6がアライメントステージ7に載置されたウエハWの上方に移動するように、アーム部分が進退可能に構成されている。なお、押圧プレート6の形状は、円形に限定されるものではなく、ウエハWに発生している反りを矯正できる形状であればよい。例えば、ウエハWの反り部分に棒状物などの先端を押圧するようにしてもよい。   The pressing mechanism 5 of the wafer transport mechanism 3 includes a circular pressing plate 6 having substantially the same shape as the wafer W at the tip thereof, and the pressing plate 6 moves above the wafer W placed on the alignment stage 7. Thus, the arm portion is configured to be able to advance and retract. The shape of the pressing plate 6 is not limited to a circular shape, and may be any shape that can correct the warp occurring on the wafer W. For example, the tip of a bar or the like may be pressed against the warped portion of the wafer W.

また、押圧機構5は、後述するアライメントステージ7の保持テーブルにウエハWが載置されたときに、吸着不良が発生した場合に作動するようになっている。具体的には、ウエハWに反りが発生してウエハWを吸着保持できないとき、押圧プレート6がウエハWの表面を押圧し、反りを矯正して平面状態にする。この状態で保持テーブルがウエハWを裏面から真空吸着するようになっている。   Further, the pressing mechanism 5 operates when a suction failure occurs when the wafer W is placed on the holding table of the alignment stage 7 described later. Specifically, when the wafer W is warped and the wafer W cannot be sucked and held, the pressing plate 6 presses the surface of the wafer W, corrects the warpage, and makes the surface flat. In this state, the holding table vacuum-sucks the wafer W from the back surface.

アライメントステージ7は、載置されたウエハWをその周縁に備えられたオリエンテーションフラットやノッチなどに基づいて位置合わせを行なうとともに、ウエハWの裏面全体を覆って真空吸着する保持テーブルを備えている。   The alignment stage 7 includes a holding table that aligns the mounted wafer W on the basis of an orientation flat, a notch or the like provided on the periphery thereof, and covers the entire back surface of the wafer W by vacuum suction.

また、アライメントステージ7は、押圧プレート6により反りを矯正された状態でウエハWを保持テーブルに吸着する。   The alignment stage 7 sucks the wafer W onto the holding table in a state where the warp is corrected by the pressing plate 6.

さらに、アライメントステージ7は、ウエハWを載置して位置合わせを行なう初期位置と、後述するテープ処理部18の上方に多段に配備されたチャックテーブル15とリングフレーム昇降機構26との中間位置とにわたってウエハWを吸着保持した状態で搬送移動できるように構成されている。   Further, the alignment stage 7 has an initial position where the wafer W is placed and aligned, and an intermediate position between the chuck table 15 and the ring frame elevating mechanism 26 arranged in multiple stages above the tape processing unit 18 described later. The wafer W is configured to be transported and moved with the wafer W being sucked and held.

紫外線照射ユニット14は、初期位置にあるアライメントステージ7の上方に位置している。紫外線照射ユニット14は、ウエハWの表面に貼り付けられた紫外線硬化型粘着テープである保護テープPTに向けて紫外線を照射する。つまり、紫外線の照射によって保護テープPTの接着力を低下させるようになっている。   The ultraviolet irradiation unit 14 is located above the alignment stage 7 in the initial position. The ultraviolet irradiation unit 14 irradiates ultraviolet rays toward the protective tape PT which is an ultraviolet curable adhesive tape attached to the surface of the wafer W. That is, the adhesive strength of the protective tape PT is reduced by irradiation with ultraviolet rays.

チャックテーブル15は、ウエハWの表面を覆って真空吸着できるようにウエハWと略同一形状の円形をしており、図示しない駆動機構によって、テープ処理部18の上方の待機位置からウエハWをリングフレームfに貼り合わせる位置にわたって昇降移動するようになっている。   The chuck table 15 has a circular shape that is substantially the same shape as the wafer W so as to cover the surface of the wafer W and can be vacuum-sucked. The chuck table 15 rings the wafer W from a standby position above the tape processing unit 18 by a drive mechanism (not shown). It moves up and down over the position where it is attached to the frame f.

つまり、チャックテーブル15は、保持テーブルによって反りを矯正されて平面状態に保持されたウエハWと当接し、吸着保持するようになっている。   That is, the chuck table 15 is in contact with the wafer W which has been warped by the holding table and held in a flat state, and is held by suction.

また、チャックテーブル15は、後述する支持用粘着テープDTが裏面から貼り付けられたリングフレームfを吸着保持するリングフレーム昇降機構26の開口部に収まってウエハWがリングフレームfの中央の支持用粘着テープDTに近接する位置まで降下するようになっている。   Further, the chuck table 15 is accommodated in an opening of a ring frame lifting mechanism 26 that sucks and holds a ring frame f to which a support adhesive tape DT described later is attached from the back surface, and the wafer W is used for supporting the center of the ring frame f. It descends to a position close to the adhesive tape DT.

このとき、チャックテーブル15とリングフレーム昇降機構26とは、図示しない保持機構によって保持されている。なお、チャックテーブル15は、本発明のウエハ保持手段に相当し、リングフレーム昇降機構26は、フレーム保持手段に相当する。   At this time, the chuck table 15 and the ring frame elevating mechanism 26 are held by a holding mechanism (not shown). The chuck table 15 corresponds to the wafer holding means of the present invention, and the ring frame lifting mechanism 26 corresponds to the frame holding means.

リングフレーム供給部16は底部に滑車が設けられたワゴン状のものであって、装置本体内に装填されるようになっている。また、その上部が開口して内部に多段に収納されているリングフレームfをスライド上昇させて送り出すようになっている。   The ring frame supply unit 16 has a wagon shape with a pulley provided at the bottom, and is loaded into the apparatus main body. The ring frame f accommodated in multiple stages inside is opened and slid up and sent out.

リングフレーム搬送機構17は、リングフレーム供給部16に収納されているリングフレームfを上側から1枚ずつ順番に真空吸着し、図示しないアライメントステージと、支持用粘着テープDTを貼り付ける位置とにリングフレームfを順番に搬送するようになっている。また、リングフレーム搬送機構17は、支持用粘着テープDTの貼付の際、支持用粘着テープDTの貼付位置でリングフレームfを保持する保持機構としても作用している。   The ring frame transport mechanism 17 vacuum-sucks the ring frames f housed in the ring frame supply unit 16 one by one from the upper side in order, and places the ring frame at an alignment stage (not shown) and a position where the supporting adhesive tape DT is attached. The frames f are conveyed in order. The ring frame transport mechanism 17 also functions as a holding mechanism that holds the ring frame f at the attaching position of the supporting adhesive tape DT when the supporting adhesive tape DT is attached.

テープ処理部18は、支持用粘着テープDTを供給するテープ供給部19、支持用粘着テープDTにテンションをかける引張機構20、支持用粘着テープDTをリングフレームfに貼り付ける貼付ユニット21、リングフレームfに貼り付けられた支持用粘着テープDTを切断するテープ切断機構24、テープ切断機構24によって切断された後の不要なテープをリングフレームfから剥離する剥離ユニット23、および切断後の不要な残存テープを回収するテープ回収部25を備えている。なお、テープ供給部19は、本発明のテープ供給手段に、貼付けユニットは、貼付け手段に、テープ切断機構24は、切断機構に、剥離ユニット23は剥離手段にそれぞれ相当する。   The tape processing unit 18 includes a tape supply unit 19 that supplies the supporting adhesive tape DT, a tension mechanism 20 that applies tension to the supporting adhesive tape DT, a pasting unit 21 that attaches the supporting adhesive tape DT to the ring frame f, a ring frame a tape cutting mechanism 24 for cutting the supporting adhesive tape DT affixed to f, a peeling unit 23 for peeling unnecessary tape after being cut by the tape cutting mechanism 24 from the ring frame f, and unnecessary remaining after cutting A tape collecting unit 25 for collecting the tape is provided. The tape supply unit 19 corresponds to the tape supply means of the present invention, the sticking unit corresponds to the sticking means, the tape cutting mechanism 24 corresponds to the cutting mechanism, and the peeling unit 23 corresponds to the peeling means.

引張機構20は、支持用粘着テープDTを幅方向の両端から挟み込んで、テープ幅方向にテンションをかけるようになっている。つまり、柔らかい支持用粘着テープDTを用いると、テープ供給方向に加わるテンションによって、その供給方向に沿って支持用粘着テープDTの表面に縦皺が発生してしまう。この縦皺を回避してリングフレームfに支持用粘着テープDTを均一に貼り付けるために、テープ幅方向側からテンションをかけている。   The tension mechanism 20 sandwiches the supporting adhesive tape DT from both ends in the width direction and applies tension in the tape width direction. That is, when the soft support adhesive tape DT is used, vertical tension occurs on the surface of the support adhesive tape DT along the supply direction due to the tension applied in the tape supply direction. In order to avoid this vertical wrinkle and to apply the supporting adhesive tape DT uniformly to the ring frame f, tension is applied from the tape width direction side.

貼付ユニット21は、支持用粘着テープDTの上方に保持されたリングフレームfの斜め下方(図1では左斜め下)の待機位置に配備されている。この貼付ユニット21に設けられた貼付ローラ22は、支持用粘着テープDTの貼付位置にリングフレーム搬送機構17によってリングフレームfが搬送および保持され、テープ供給部19からの支持用粘着テープDTの供給が開始されると同時に、テープ供給方向の右側の貼付開始位置に移動する。   The affixing unit 21 is disposed at a standby position diagonally below (lower left diagonal in FIG. 1) of the ring frame f held above the supporting adhesive tape DT. The sticking roller 22 provided in the sticking unit 21 transports and holds the ring frame f by the ring frame transport mechanism 17 at the sticking position of the supporting adhesive tape DT, and supplies the supporting adhesive tape DT from the tape supply unit 19. At the same time as the movement starts, it moves to the right sticking start position in the tape supply direction.

貼付開始位置に到達した貼付ローラ22は、上昇して支持用粘着テープDTをリングフレームfに押圧して貼り付け、貼付開始位置から待機位置方向に転動して支持用粘着テープDTを押圧しながらリングフレームfに貼り付けるようになっている。なお、貼付けローラ22は、本発明の貼付け部材に相当する。   The affixing roller 22 that has reached the affixing start position rises and presses the supporting adhesive tape DT against the ring frame f, and rolls from the affixing start position toward the standby position to press the supporting adhesive tape DT. However, it is attached to the ring frame f. The pasting roller 22 corresponds to the pasting member of the present invention.

剥離ユニット23は、後述するテープ切断機構24によって切断された支持用粘着テープDTの不要な部分をリングフレームfから剥離するようになっている。具体的には、リングフレームfへの支持用粘着テープDTの貼り付けおよび切断が終了すると、引張機構20による支持用粘着テープDTの保持が開放される。次いで、剥離ユニット23が、リングフレームf上をテープ供給部19側に向かって移動し、切断後の不要な支持用粘着テープDTを剥離する。   The peeling unit 23 peels an unnecessary portion of the supporting adhesive tape DT cut by the tape cutting mechanism 24 described later from the ring frame f. Specifically, when the attaching and cutting of the supporting adhesive tape DT to the ring frame f are completed, the holding of the supporting adhesive tape DT by the tension mechanism 20 is released. Next, the peeling unit 23 moves on the ring frame f toward the tape supply unit 19 and peels off the unnecessary supporting adhesive tape DT after cutting.

テープ切断機構24は、リングフレームfが載置された支持用粘着テープDTの下方に配備されている。支持用粘着テープDTが貼付ユニット21によってリングフレームfに貼り付けられると、引張機構20による支持用粘着テープDTの保持が開放され、このテープ機構24が上昇する。上昇したテープ切断機構24は、リングフレームfに沿って支持用粘着テープDTを切断するようになっている。以下、テープ切断機構24の具体的な構成について説明する。   The tape cutting mechanism 24 is disposed below the supporting adhesive tape DT on which the ring frame f is placed. When the supporting adhesive tape DT is attached to the ring frame f by the attaching unit 21, the holding of the supporting adhesive tape DT by the tension mechanism 20 is released, and the tape mechanism 24 is raised. The raised tape cutting mechanism 24 cuts the supporting adhesive tape DT along the ring frame f. Hereinafter, a specific configuration of the tape cutting mechanism 24 will be described.

テープ切断機構24は、図2および図3に示すように、駆動昇降可能な可動台40に、リングフレームfの中心上に位置する縦軸心X周りに駆動旋回可能に一対の支持アーム41が並列装備されるとともに、この支持アーム41の遊端側に備えたカッタユニット44に、刃先を上向きにしたカッタ刃42がカッタホルダ43に装着され、支持アーム41が縦軸心X周りに旋回することでカッタ刃42がリングフレームfのテープ貼付け面に沿って走行して支持用粘着テープDTを切り抜くよう構成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the tape cutting mechanism 24 has a pair of support arms 41 on a movable base 40 that can be driven up and down, and capable of driving and turning about a longitudinal axis X located on the center of the ring frame f. The cutter unit 44 provided in parallel with the cutter unit 44 provided on the free end side of the support arm 41 is mounted with the cutter blade 42 with the blade tip facing upward on the cutter holder 43, and the support arm 41 rotates around the longitudinal axis X. Thus, the cutter blade 42 is configured to travel along the tape application surface of the ring frame f to cut out the supporting adhesive tape DT.

可動台40は、図2および図4に示すように、モータ45の回転軸46と3節のリンク機構47と連結されており、モータ45の正逆回転駆動により縦レール48に沿って昇降されるようになっている。また、この可動台40の遊端部にモータ49が配備されており、軸受50を介してモータ49の回転軸51が支持部材52と連結している。この支持部材52の側端部に、支持アーム41が水平方向スライド調節可能に貫通支持されており、支持アーム41のスライド調節によってカッタ刃42からモータ45の回転軸心Xまでの距離、つまり、カッタ刃42の旋回半径をリングフレーム径に対応して変更調節することが可能となっている。   As shown in FIGS. 2 and 4, the movable base 40 is connected to the rotary shaft 46 of the motor 45 and the three-link mechanism 47, and is moved up and down along the vertical rail 48 by the forward / reverse rotational drive of the motor 45. It has become so. A motor 49 is provided at the free end of the movable table 40, and a rotating shaft 51 of the motor 49 is connected to the support member 52 via a bearing 50. A support arm 41 is supported by a side end portion of the support member 52 so as to be horizontally slidable, and the distance from the cutter blade 42 to the rotation axis X of the motor 45 by the slide adjustment of the support arm 41, that is, The turning radius of the cutter blade 42 can be changed and adjusted in accordance with the ring frame diameter.

支持アーム41の遊端部には支持ブラケット53が固定されており、この支持ブラケット53の縦レール54に沿ってカッタユニット44をスライド移動可能にするユニット可動台55を備えている。支持ブラケット53の端部には水平ブラケット56が装着されており、カッタ刃42を突き上げる方向に弾性付勢するようにユニット可動台55と水平ブラケット56とがバネ57によって連結されている。   A support bracket 53 is fixed to the free end portion of the support arm 41, and a unit movable base 55 that allows the cutter unit 44 to slide along the vertical rail 54 of the support bracket 53 is provided. A horizontal bracket 56 is attached to the end of the support bracket 53, and the unit movable base 55 and the horizontal bracket 56 are connected by a spring 57 so as to be elastically biased in the direction in which the cutter blade 42 is pushed up.

カッタホルダ43は、円筒状の本体をユニット可動台55の一端で連結されたブラケット58に装着されている。この本体の内周壁に形成されたネジ溝にネジ軸60が螺入されている。このネジ軸60の先端部分にベアリングを介して連結された装着ブロックにカッタ刃42が固定装着されており、図5に示すように、カッタホルダ43の先端に形成された略カッタ刃形状の長孔61からカッタ刃42を進退させて突き出し長さが調整されるように構成されている。このカッタホルダ43のカッタ刃42の突き出る側の基準面62は扁平面になっている。さらに、ネジ軸60の他端側には、図2に示すように、連結ロッド63を介してパルスモータ64と連結されている。つまり、パルスモータ64の正逆転駆動に連動してカッタホルダ43の長孔61から突き出るカッタ刃42の長さが調整可能に構成されている。   The cutter holder 43 is attached to a bracket 58 in which a cylindrical main body is connected to one end of the unit movable base 55. A screw shaft 60 is screwed into a screw groove formed on the inner peripheral wall of the main body. A cutter blade 42 is fixedly attached to a mounting block connected to the tip portion of the screw shaft 60 via a bearing. As shown in FIG. 5, a long hole having a substantially cutter blade shape formed at the tip of the cutter holder 43. The protrusion length is adjusted by moving the cutter blade 42 forward and backward from 61. The reference surface 62 of the cutter holder 43 on the side where the cutter blade 42 protrudes is a flat surface. Furthermore, the other end side of the screw shaft 60 is connected to a pulse motor 64 via a connecting rod 63 as shown in FIG. That is, the length of the cutter blade 42 protruding from the long hole 61 of the cutter holder 43 in conjunction with the forward / reverse drive of the pulse motor 64 can be adjusted.

テープ切断機構24の近傍にカッタホルダ43の基準面62から突き出たカッタ刃42の長さを測定する接触式の変位センサ65が配備されている。この変位センサ65は、支柱66に備わったロボットアーム67の先端のブラケット68に装着されている。このロボットアーム67は、シリンダの伸縮動作に連動してカッタ刃42の先端に変位センサ65が対向する測定位置と、カッタ刃42の旋回走査軌道から外れた待機位置とにわった伸縮移動するように構成されている。また、ロボットアーム67の先端のブラケット68が、測定位置で上下に昇降可能に構成されている。   A contact type displacement sensor 65 for measuring the length of the cutter blade 42 protruding from the reference surface 62 of the cutter holder 43 is provided in the vicinity of the tape cutting mechanism 24. The displacement sensor 65 is attached to a bracket 68 at the tip of the robot arm 67 provided in the support column 66. The robot arm 67 extends and contracts in conjunction with the measurement position where the displacement sensor 65 faces the tip of the cutter blade 42 and the standby position deviated from the turning scanning trajectory of the cutter blade 42 in conjunction with the expansion and contraction of the cylinder. It is configured. In addition, the bracket 68 at the tip of the robot arm 67 is configured to be movable up and down at the measurement position.

なお、パルスモータ64は、本発明の駆動手段に相当し、変位センサ65は、測定手段に相当する。測定手段としては、変位センサ65に限定されるものではなく、カッタホルダ43から突き出たカッタ刃42の長さが測定できるものであれば接触式や非接触式のセンサのいずれであってもよい。   The pulse motor 64 corresponds to the driving means of the present invention, and the displacement sensor 65 corresponds to the measuring means. The measuring means is not limited to the displacement sensor 65 and may be either a contact type sensor or a non-contact type sensor as long as the length of the cutter blade 42 protruding from the cutter holder 43 can be measured.

リングフレーム昇降機構26は、リングフレームfに支持用粘着テープDTを貼り付ける位置の上方の待機位置にある。このリングフレーム昇降機構26は、リングフレームfに支持用粘着テープDTの貼付処理が終了すると降下し、リングフレームfを吸着保持する。このとき、リングフレームfを保持していたリングフレーム搬送機構17は、リングフレーム供給部16の上方の初期位置に戻る。   The ring frame elevating mechanism 26 is in a standby position above the position where the supporting adhesive tape DT is attached to the ring frame f. The ring frame elevating mechanism 26 descends when the attaching process of the supporting adhesive tape DT to the ring frame f is completed, and holds the ring frame f by suction. At this time, the ring frame transport mechanism 17 holding the ring frame f returns to the initial position above the ring frame supply unit 16.

また、リングフレーム昇降機構26はリングフレームfを吸着保持すると、ウエハWとの貼り合わせ位置へと上昇する。このとき、ウエハWを吸着保持したチャックテーブル15もウエハWの貼り合わせ位置まで降下する。   Further, when the ring frame elevating mechanism 26 sucks and holds the ring frame f, the ring frame elevating mechanism 26 moves up to the bonding position with the wafer W. At this time, the chuck table 15 holding the wafer W by suction is also lowered to the bonding position of the wafer W.

マウントフレーム作製部27は、周面が弾性変形可能な貼付ローラ28を備えている。貼付ローラ28は、リングフレームfの裏面に貼り付けられている支持用粘着テープDTの非接着面を押圧しながら転動するようになっている。   The mount frame manufacturing unit 27 includes a sticking roller 28 whose peripheral surface is elastically deformable. The affixing roller 28 rolls while pressing the non-adhesive surface of the supporting adhesive tape DT affixed to the back surface of the ring frame f.

第1マウントフレーム搬送機構29は、リングフレームfとウエハWとが一体形成されたマウントフレームMFを真空吸着して剥離機構30の図示しない剥離テーブルに移載するようになっている。   The first mount frame transport mechanism 29 is configured to vacuum-suck the mount frame MF integrally formed with the ring frame f and the wafer W and transfer the mount frame MF to a peeling table (not shown) of the peeling mechanism 30.

剥離機構30は、ウエハWを載置して移動させる剥離テーブル、剥離用接着テープ類(以下、単に「剥離テープ」という)Tsを供給するテープ供給部31、剥離テープTsの貼り付けおよび剥離を行なう剥離ユニット32、および剥離された剥離テープTsと保護テープPTを回収するテープ回収部34とから構成されている。ここで、剥離機構30のうち剥離テーブルを除く構成は、装置本体に位置固定状態に装備されている。   The peeling mechanism 30 includes a peeling table for placing and moving the wafer W, a tape supply unit 31 for supplying peeling adhesive tapes (hereinafter simply referred to as “peeling tape”) Ts, and attaching and peeling of the peeling tape Ts. It comprises a peeling unit 32 to be performed, and a tape collecting unit 34 for collecting the peeled peeling tape Ts and the protective tape PT. Here, the structure excluding the peeling table in the peeling mechanism 30 is mounted in a fixed position on the apparatus main body.

テープ供給部31は、原反ローラから導出した剥離テープTsをガイドローラを介して剥離ユニット32の下端部に案内供給するようになっている。   The tape supply unit 31 guides and supplies the peeling tape Ts derived from the original fabric roller to the lower end portion of the peeling unit 32 via a guide roller.

テープ回収部34は、両剥離ユニット32の下端部から送り出された剥離テープTsをモータ駆動される送りローラおよびガイドローラを介して上方に導いて巻き取り回収するようになっている。   The tape collecting unit 34 is configured to guide the peeling tape Ts fed from the lower end portions of the two peeling units 32 upward through a motor-driven feed roller and a guide roller to wind and collect the tape.

剥離ユニット32には、剥離プレート33を備えている。この剥離プレート33は、剥離テーブルによって搬送されてきたウエハW(マウントフレームMFにダイシングテープDTを介して貼り付けられたウエハW)のパターン面に貼り付けられた保護テープPTの表面を押圧しながら移動する。このとき、剥離プレート33は、剥離テープTsの非粘着面を押圧しながら保護テープPTに剥離テープTsを貼り付けるとともに、剥離テープTsと保護テープPTとを一体にして剥離するようになっている。なお、剥離テープTsは、ウエハWの径よりも幅狭のものが利用される。   The peeling unit 32 includes a peeling plate 33. The release plate 33 presses the surface of the protective tape PT attached to the pattern surface of the wafer W (wafer W attached to the mount frame MF via the dicing tape DT) conveyed by the release table. Moving. At this time, the peeling plate 33 attaches the peeling tape Ts to the protective tape PT while pressing the non-adhesive surface of the peeling tape Ts, and peels the peeling tape Ts and the protective tape PT together. . As the peeling tape Ts, a tape having a width smaller than the diameter of the wafer W is used.

第2マウントフレーム搬送機構35は、剥離機構30から払い出されたマウントフレームMFを真空吸着してターンテーブル36に移載するようになっている。   The second mount frame transport mechanism 35 is configured to vacuum-suck the mount frame MF delivered from the peeling mechanism 30 and transfer it to the turntable 36.

ターンテーブル36は、マウントフレームMFの位置合わせおよびマウントフレーム回収部37への収納を行なうように構成されている。つまり、第2マウントフレーム搬送機構35によってターンテーブル36上にマウントフレームMFが載置されると、ウエハWのオリエンテーションフラットや、リングフレームfの位置決め形状などに基づいて位置合わせを行なう。またマウントフレーム回収部37へのマウントフレームMFの収納方向を変更するために、ターンテーブル36は旋回するようになっている。また、ターンテーブル36は、収納方向が定まるとマウントフレームMFを図示しないプッシャーによって押出してマウントフレーム回収部37にマウントフレームMFを収納するようになっている。   The turntable 36 is configured to align the mount frame MF and store it in the mount frame collection unit 37. That is, when the mount frame MF is placed on the turntable 36 by the second mount frame transport mechanism 35, alignment is performed based on the orientation flat of the wafer W, the positioning shape of the ring frame f, and the like. In order to change the direction in which the mount frame MF is stored in the mount frame collection unit 37, the turntable 36 is turned. Further, when the storage direction is determined, the turntable 36 pushes out the mount frame MF with a pusher (not shown) and stores the mount frame MF in the mount frame collection part 37.

マウントフレーム回収部37は、図示しない昇降可能な載置テーブルに載置されている。つまり、載置テーブルが昇降移動することによって、プッシャーによって押出されたマウントフレームMFをマウントフレーム回収部37の任意の段に収納できるようになっている。   The mount frame collection unit 37 is placed on a mountable table (not shown). In other words, the mount frame MF pushed out by the pusher can be stored in an arbitrary stage of the mount frame collection unit 37 by moving the mounting table up and down.

次に、上述の実施例装置について一巡の動作を図1から図12を参照しながら説明する。   Next, the operation of the above-described embodiment apparatus will be described with reference to FIGS.

先ず、支持用粘着テープDTの厚みなどの初期条件が図示しない操作パネルから設定される。この初期条件の設定が完了すると、制御部70は、図7および図8に示すように、ロボットアーム67を作動させて変位センサ65をカッタ刃42と対向する測定位置に移動させる。   First, initial conditions such as the thickness of the supporting adhesive tape DT are set from an operation panel (not shown). When the setting of the initial conditions is completed, the control unit 70 operates the robot arm 67 to move the displacement sensor 65 to the measurement position facing the cutter blade 42, as shown in FIGS.

測定位置にカッタ刃42が到達すると、ブラケット68を予め設定された所定距離だけ昇降移動させて変位センサ65をカッタ刃42の先端に接触させる。このとき、変位センサ65の接触部位の変位量が測定される。測定された実測値は、制御部70に送信されて予め決めた基準値と比較演算処理される。このとき、基準値は、カッタホルダ43の基準面62を変位センサ65に接触させたときの状態から支持用粘着テープDTの厚み未満の所定値に設定されている。そして、この制御部70内での演算処理から求まる偏差に応じて、パスルモータ64の回転量が算出され、その信号がパルスモータ64に送信される。パルスモータ64は、信号に応じて回転作動し、カッタ刃42の突き出し長さが調節される。   When the cutter blade 42 reaches the measurement position, the bracket 68 is moved up and down by a predetermined distance set in advance to bring the displacement sensor 65 into contact with the tip of the cutter blade 42. At this time, the displacement amount of the contact part of the displacement sensor 65 is measured. The measured actual value is transmitted to the control unit 70 and subjected to a comparison calculation process with a predetermined reference value. At this time, the reference value is set to a predetermined value less than the thickness of the supporting adhesive tape DT from the state in which the reference surface 62 of the cutter holder 43 is in contact with the displacement sensor 65. Then, the amount of rotation of the pulse motor 64 is calculated according to the deviation obtained from the arithmetic processing in the control unit 70, and the signal is transmitted to the pulse motor 64. The pulse motor 64 rotates in response to the signal, and the protruding length of the cutter blade 42 is adjusted.

なお、本実施例では、カッタ刃42の突き出し長さとして、図6に示すように、カッタホルダ43の基準面62が支持用粘着テープDTの非粘着面である基材bの表面に接触した状態で、その刃先が粘着層aとリングフレームfとの接着界面に近接する距離に設定されている。換言すれば、カッタ刃42の先端が粘着層aを貫通しきらない間際の位置にあるように設定される。   In this embodiment, as the protruding length of the cutter blade 42, as shown in FIG. 6, the reference surface 62 of the cutter holder 43 is in contact with the surface of the base material b which is the non-adhesive surface of the supporting adhesive tape DT. Thus, the distance between the blade edge and the adhesion interface between the adhesive layer a and the ring frame f is set. In other words, the cutter blade 42 is set so that the tip of the cutter blade 42 is at a position just before the adhesive layer a can be completely penetrated.

以上でテープ切断機構24のセッティングが完了し、支持用粘着テープDTを介してウエハWをリングフレームfに保持するマウントフレームMFの作成処理が以下の通りに実行される。   Thus, the setting of the tape cutting mechanism 24 is completed, and the process of creating the mount frame MF that holds the wafer W on the ring frame f via the supporting adhesive tape DT is executed as follows.

ロボットアーム4のウエハ保持部がカセットCの隙間に挿入される。ウエハWは下方から吸着保持されて1枚ずつ取り出される。取り出されたウエハWは、アライメントステージ7に搬送される。   The wafer holding part of the robot arm 4 is inserted into the gap of the cassette C. The wafers W are sucked and held from below and taken out one by one. The extracted wafer W is transferred to the alignment stage 7.

ロボットアーム4によってウエハWが保持テーブルに載置され、裏面から吸着保持される。このとき、図示しない圧力計によってウエハWの吸着レベルが検出され、正常動作時の圧力値に関連して予め定められた基準値と比較される。   The wafer W is placed on the holding table by the robot arm 4 and sucked and held from the back surface. At this time, the suction level of the wafer W is detected by a pressure gauge (not shown) and compared with a reference value determined in advance in relation to the pressure value during normal operation.

吸着異常が検知された場合は、押圧プレート6によりウエハWが表面から押圧され、反りの矯正された平面状態でウエハWが吸着保持される。また、ウエハWは、オリエンテーションフラットやノッチに基づいて位置合わせが行なわれる。   When the suction abnormality is detected, the wafer W is pressed from the surface by the pressing plate 6, and the wafer W is sucked and held in a flat state in which the warp is corrected. The wafer W is aligned based on the orientation flat or notch.

アライメントステージ7上で位置合わせが終了すると、紫外線照射ユニット14によってウエハWの表面に紫外線が照射される。   When the alignment on the alignment stage 7 is completed, the ultraviolet irradiation unit 14 irradiates the surface of the wafer W with ultraviolet rays.

ウエハWは、紫外線の照射処理が施されると、保持テーブルに吸着保持されたままアライメントステージ7ごと次のマウントフレーム作製部27へと搬送される。つまり、アライメントステージ7は、チャックテーブル15とリングフレーム昇降機構26との中間位置に移動する。   When the ultraviolet irradiation process is performed, the wafer W is transferred to the next mount frame manufacturing unit 27 together with the alignment stage 7 while being held by suction on the holding table. That is, the alignment stage 7 moves to an intermediate position between the chuck table 15 and the ring frame lifting mechanism 26.

アライメントステージ7が所定の位置で待機すると、上方に位置するチャックテーブル15が降下し、チャックテーブル15の底面がウエハWに当接して真空吸着を開始する。チャックテーブル15の真空吸着が開始すると、保持テーブル側の吸着保持が開放され、ウエハWはチャックテーブル15に反りを矯正して平面保持した状態のまま受け取られる。ウエハWを受け渡したアライメントステージ7は、初期位置へと戻る。   When the alignment stage 7 stands by at a predetermined position, the upper chuck table 15 is lowered, and the bottom surface of the chuck table 15 comes into contact with the wafer W to start vacuum suction. When the vacuum suction of the chuck table 15 is started, the suction holding on the holding table side is released, and the wafer W is received in a state in which the chuck table 15 is held flat by correcting the warp. The alignment stage 7 that has transferred the wafer W returns to the initial position.

次に、リングフレーム供給部16に多段に収納されたリングフレームfが、リングフレーム搬送機構17によって上方から1枚ずつ真空吸着されて取り出される。取り出されたリングフレームfは、図示しないアライメントステージで位置合わせが行なわれたのち、支持用粘着テープDTの上方の支持用粘着テープ貼り付け位置に搬送される。   Next, the ring frames f stored in multiple stages in the ring frame supply unit 16 are vacuum-sucked one by one by the ring frame transport mechanism 17 and taken out. The taken-out ring frame f is aligned on an alignment stage (not shown) and then conveyed to a support adhesive tape attaching position above the support adhesive tape DT.

リングフレームfがリングフレーム搬送機構17によって保持されて支持用粘着テープDTの貼付位置にあると、テープ供給部19から支持用粘着テープDTの供給が開始される。同時に貼付ローラ22が貼付開始位置に移動する。   When the ring frame f is held by the ring frame transport mechanism 17 and is at the attaching position of the supporting adhesive tape DT, the supply of the supporting adhesive tape DT from the tape supply unit 19 is started. At the same time, the sticking roller 22 moves to the sticking start position.

貼付開始位置に貼付ローラ22が到達すると、支持用粘着テープDTの幅方向の両端を引張機構20が保持し、テープ幅方向にテンションをかける。   When the application roller 22 reaches the application start position, the tension mechanism 20 holds both ends in the width direction of the supporting adhesive tape DT, and tension is applied in the tape width direction.

次いで貼付ローラ22が上昇し、図9および図810に示すように、支持用粘着テープDTをリングフレームfの端部に押圧して貼り付ける。リングフレームfの端部に支持用粘着テープDTを貼り付けると、貼付ローラ22は待機位置であるテープ供給部19側に向かって転動する。このとき、貼付ローラ22は、支持用粘着テープDTを非接着面から押圧しながら転動し、リングフレームfに支持用粘着テープDTを貼り付けてゆく。貼付ローラ22が貼付位置の終端に到達すると、引張機構20による支持用粘着テープDTの保持が開放される。   Next, as shown in FIGS. 9 and 810, the affixing roller 22 is raised, and the supporting adhesive tape DT is pressed and affixed to the end of the ring frame f. When the supporting adhesive tape DT is affixed to the end of the ring frame f, the affixing roller 22 rolls toward the tape supply unit 19 side which is the standby position. At this time, the affixing roller 22 rolls while pressing the supporting adhesive tape DT from the non-adhesive surface, and affixes the supporting adhesive tape DT to the ring frame f. When the sticking roller 22 reaches the end of the sticking position, the holding of the supporting adhesive tape DT by the tension mechanism 20 is released.

同時にテープ切断機構24が上昇し、図11に示すように、支持用粘着テープDTにカッタ刃42を突き刺す。つまり、図6に示すように、カッタホルダ43の基準面62を支持用粘着テープDTを構成する基材bの表面に接触させつつ、カッタ刃42の刃先が粘着層aを貫通する間際まで突き刺し固定する。この状態でモータ45を回転駆動させて支持アーム41を縦軸心X周りに回転させることにより、カッタホルダ43の基準面62が支持用粘着テープDTの表面に追従してカッタ刃42の切断部位を一定の長さに保ちながら粘着層aを貫通させることなくリングフレームfの形状に沿って支持用粘着テープDTを切断する。支持用粘着テープDTの切断が終了すると、図12に示すように、剥離ユニット23がテープ供給部19側に向かって移動し、不要な支持用粘着テープDTを剥離する。   At the same time, the tape cutting mechanism 24 is raised, and the cutter blade 42 is pierced into the supporting adhesive tape DT as shown in FIG. That is, as shown in FIG. 6, the reference surface 62 of the cutter holder 43 is brought into contact with the surface of the base material b constituting the supporting adhesive tape DT, and is stuck and fixed until just before the cutting edge of the cutter blade 42 penetrates the adhesive layer a. To do. In this state, the motor 45 is driven to rotate and the support arm 41 is rotated about the longitudinal axis X, whereby the reference surface 62 of the cutter holder 43 follows the surface of the support adhesive tape DT and the cutting portion of the cutter blade 42 is changed. The supporting pressure-sensitive adhesive tape DT is cut along the shape of the ring frame f without penetrating the pressure-sensitive adhesive layer a while maintaining a certain length. When the cutting of the supporting adhesive tape DT is completed, as shown in FIG. 12, the peeling unit 23 moves toward the tape supply unit 19 and peels off the unnecessary supporting adhesive tape DT.

次いでテープ供給部19が作動して支持用粘着テープDTを繰り出すとともに、切断された不要部分のテープは、テープ回収部25へと送り出される。ことのとき、貼付ローラ22は、次のリングフレームfに支持用粘着テープDTを貼り付けるように、貼付開始位置に移動する。   Next, the tape supply unit 19 is operated to feed out the supporting adhesive tape DT, and the cut unnecessary portion of the tape is sent out to the tape collecting unit 25. At that time, the sticking roller 22 moves to the sticking start position so as to stick the supporting adhesive tape DT to the next ring frame f.

支持用粘着テープDTが貼り付けられたリングフレームfは、リングフレーム昇降機構26によってフレーム部が吸着保持されて上方へ移動する。このとき、チャックテーブル15も降下する。つまり、チャックテーブル15とリングフレーム昇降機構26とは、互いにウエハWを貼り合わせる位置まで移動する。   The ring frame f to which the supporting adhesive tape DT is attached moves upward while the frame portion is sucked and held by the ring frame lifting mechanism 26. At this time, the chuck table 15 is also lowered. That is, the chuck table 15 and the ring frame elevating mechanism 26 move to a position where the wafer W is bonded to each other.

各機構15、26が所定位置に到達すると、それぞれが図示しない保持機構によって保持される。次いで、貼付ローラ28が、支持用粘着テープDTの貼付開始位置に移動し、リングフレームf底面に貼り付けられている支持用粘着テープDTの非接着面を押圧しながら転動し、支持用粘着テープDTをウエハWに貼り付けてゆく。その結果、リングフレームfとウエハWとが一体化されたマウントフレームMFが作製される。   When each mechanism 15 and 26 reaches a predetermined position, each mechanism is held by a holding mechanism (not shown). Next, the sticking roller 28 moves to the sticking start position of the supporting adhesive tape DT, rolls while pressing the non-adhesive surface of the supporting adhesive tape DT attached to the bottom surface of the ring frame f, and supports adhesive. The tape DT is attached to the wafer W. As a result, a mount frame MF in which the ring frame f and the wafer W are integrated is manufactured.

マウントフレームMFが作製されると、チャックテーブル15とリングフレーム昇降機構26とは、上方に移動する。このとき、図示しない保持テーブルがマウントフレームMFの下方に移動し、マウントフレームMFがこの保持テーブルに載置される。載置されたマウントフレームMFは、第1マウントフレーム搬送機構29によって吸着保持され、剥離テーブルに移載される。   When the mount frame MF is manufactured, the chuck table 15 and the ring frame lifting mechanism 26 move upward. At this time, a holding table (not shown) moves below the mount frame MF, and the mount frame MF is placed on the holding table. The mounted mount frame MF is sucked and held by the first mount frame transport mechanism 29 and transferred to the peeling table.

マウントフレームMFが載置された剥離テーブルは、剥離ユニット32の下方に向かって移動する。マウントフレームMFが剥離ユニット32の下方に到達すると、剥離プレート33がテープ供給部31から供給される剥離テープTsをウエハWの表面の保護テープPTに押圧しながら貼り付けてゆく。剥離プレート33は剥離テープTsの貼り付けと同時に、貼り付けた剥離テープTsを剥離しながら保護テープPTを一緒にウエハWの表面から剥離してゆく。   The peeling table on which the mount frame MF is mounted moves toward the lower side of the peeling unit 32. When the mount frame MF reaches the lower side of the peeling unit 32, the peeling plate 33 sticks the peeling tape Ts supplied from the tape supply unit 31 while pressing it against the protective tape PT on the surface of the wafer W. The peeling plate 33 peels off the protective tape PT from the surface of the wafer W together with the peeling tape Ts while peeling the attached peeling tape Ts.

保護テープPTの剥離処理が終了したマウントフレームMFは、剥離テーブルによって第2マウントフレーム搬送機構35の待機位置まで移動する。   The mount frame MF that has completed the peeling process of the protective tape PT moves to the standby position of the second mount frame transport mechanism 35 by the peeling table.

そして、剥離機構30から払い出されたマウントフレームMFは、第2マウントフレーム搬送機構35によってターンテーブル36に移載される。移載されたマウントフレームMFは、オリエンテーションフラットやノッチによって位置合わせが行なわれるとともに、収納方向の調節が行なわれる。位置合わせおよび収納方向が定まるとマウントフレームMFは、プッシャーによって押出されてマウントフレーム回収部37に収納される。   Then, the mount frame MF paid out from the peeling mechanism 30 is transferred to the turntable 36 by the second mount frame transport mechanism 35. The transferred mount frame MF is aligned by an orientation flat or a notch, and the accommodation direction is adjusted. When the alignment and the storage direction are determined, the mount frame MF is pushed out by the pusher and stored in the mount frame collection unit 37.

以上で一巡の動作が終了する。なお、テープ切断機構24において支持用粘着テープDTを所定枚数切断するごとに、変位センサ65によりカッタホルダ43からの突き出たカッタ刃42の長さを測定する。このとき、実測値と基準値の比較演算により偏差が生じている場合、パルスモータ64を作動させてカッタ刃42の突き出し長さを一定となるように調節する。   This completes one round of operation. Each time the support adhesive tape DT is cut by the tape cutting mechanism 24, the length of the cutter blade 42 protruding from the cutter holder 43 is measured by the displacement sensor 65. At this time, if there is a deviation due to the comparison between the actual measurement value and the reference value, the pulse motor 64 is operated to adjust the protruding length of the cutter blade 42 to be constant.

以上のように、支持用粘着テープDTにカッタ刃42を突き刺してリングフレームfの形状に沿って旋回走査させながら切断するとき、支持用粘着テープDTの基材bの表面にカッタホルダ43の基準面62を接触させて追従させることにより、カッタ刃42の刃先が粘着層aを貫通することなく接着界面の間際を通過しながら切断させることができる。したがって、リングフレームfのテープ貼付け面にカッタ刃42が接触しないので、カッタ刃42の使用寿命を長くすることができ、ひいてはカッタ刃42の交換頻度を低減できるので作業効率の向上を図ることができる。   As described above, when the cutter blade 42 is pierced into the support adhesive tape DT and cut while being swung and scanned along the shape of the ring frame f, the reference surface of the cutter holder 43 is placed on the surface of the base material b of the support adhesive tape DT. By making the contact 62 follow, the cutting edge of the cutter blade 42 can be cut while passing through the adhesive interface without passing through the adhesive layer a. Therefore, since the cutter blade 42 does not contact the tape attachment surface of the ring frame f, the service life of the cutter blade 42 can be extended, and as a result, the replacement frequency of the cutter blade 42 can be reduced, so that the working efficiency can be improved. it can.

また、リングフレームfのテープ貼付け面に傷などがあっても、カッタ刃42の先端は、粘着層aを貫通していないので、その傷に先端が嵌り込むことがない。つまり、支持用粘着テープ切断過程でテープ貼付け面に存する傷の影響なにより切断走査経路が変更されることない。その結果、切断開始位置と終了位置とが重なり合い、支持用粘着テープを確実に切り抜くことができる。   Even if the tape attachment surface of the ring frame f has a scratch or the like, the tip of the cutter blade 42 does not penetrate the adhesive layer a, so that the tip does not fit into the scratch. That is, the cutting scanning path is not changed due to the influence of scratches on the tape application surface in the process of cutting the supporting adhesive tape. As a result, the cutting start position and the end position overlap each other, and the supporting adhesive tape can be reliably cut out.

さらに、リングフレームfに先端を接触させながら切断走査しても、先端の扁平面59によってその表面に切欠き溝を形成しない。したがって、リングフレームの再利用回数を増やすこともできる。   Further, even if the scanning is performed while the tip is in contact with the ring frame f, the notched groove is not formed on the surface by the flat surface 59 of the tip. Therefore, it is possible to increase the number of times the ring frame is reused.

この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified as follows.

(1)上記実施例では、支持用粘着テープDTの基材表面にカッタホルダ43の基準面62を接触させ、基材bの表面に追従させながら支持用粘着テープDTを切断していたが、カッタホルダ43を非接触状態にしてカッタ刃42の先端の位置が、粘着層aを貫通しない間際を通過して切断するように構成してもよい。   (1) In the above embodiment, the reference adhesive 62 of the cutter holder 43 is brought into contact with the substrate surface of the support adhesive tape DT, and the support adhesive tape DT is cut while following the surface of the substrate b. You may comprise so that 43 may be in a non-contact state and the position of the front-end | tip of the cutter blade 42 may pass through just before not penetrating the adhesion layer a.

例えば、カッタ刃42の走査方向の前方に光源や音波発生装置を配備し、リングフレームfや基材bの表面から反射して戻る反射光や音波を測定し、その結果を利用して制御部70で距離を算出する。さらに、算出結果を利用してカッタ刃42のカッタホルダ43の長孔61からの突き出し長さをパルスモータ64の回転量を操作して行なうように構成してもよい。   For example, a light source or a sound wave generator is disposed in front of the cutter blade 42 in the scanning direction, and the reflected light or sound wave reflected and returned from the surface of the ring frame f or the base material b is measured. At 70, the distance is calculated. Further, the length of the cutter blade 42 protruding from the long hole 61 of the cutter holder 43 may be configured by operating the amount of rotation of the pulse motor 64 using the calculation result.

(2)上記実施例では、カッタ刃42の突き出し長さをパルスモータ64を利用して行っていたが、さらに微調整が可能となるピエゾ素子を利用してもよい。   (2) In the above embodiment, the protruding length of the cutter blade 42 is performed using the pulse motor 64, but a piezo element that allows further fine adjustment may be used.

(3)リングフレームfの支持用粘着テープDTの貼付け面を下向きにしていたが、上下反転して支持用粘着テープDTの貼付け面を上向きにし、貼付け、切断、および剥離処理を行ってもよい。   (3) Although the affixing surface of the supporting adhesive tape DT of the ring frame f is directed downward, the affixing surface of the supporting adhesive tape DT may be turned upside down and affixing, cutting, and peeling treatment may be performed. .

(4)上記実施例では、リングフレームfとウエハWの裏面への支持用粘着テープDTの貼付けを同時に行っていたが、リングフレームfにダイシングテープDTを貼付けた後に、リングフレームfの中央にウエハWを近接させて貼付けローラによってダイシングテープDTを押圧しながら転動させて貼り付けてゆくようにしてもよい。   (4) In the above embodiment, the supporting adhesive tape DT is applied to the ring frame f and the back surface of the wafer W at the same time. However, after the dicing tape DT is applied to the ring frame f, Alternatively, the wafer W may be brought close to the dicing tape DT while being pressed by the adhering roller while being rolled and pasted.

24 … テープ切断機構
28 … 貼付けローラ
41 … 支持アーム
42 … カッタ刃
43 … カッタホルダ
44 … カッタユニット
45 … モータ
47 … リンク機構
62 … 基準面
64 … パルスモータ
65 … 変位センサ
67 … ロボットアーム
W … 半導体ウエハ
DT … 支持用粘着テープ
X … 軸心
DESCRIPTION OF SYMBOLS 24 ... Tape cutting mechanism 28 ... Sticking roller 41 ... Support arm 42 ... Cutter blade 43 ... Cutter holder 44 ... Cutter unit 45 ... Motor 47 ... Link mechanism 62 ... Reference plane 64 ... Pulse motor 65 ... Displacement sensor 67 ... Robot arm W ... Semiconductor Wafer DT… Supporting adhesive tape X… Shaft center

Claims (2)

リングフレームに半導体ウエハを保持する支持用の粘着テープを切断する粘着テープ切断方法であって、
カッタ刃の走査方向の前方に配備した測定手段によって前記リングフレームまでの距離を測定し、
当該測定結果に応じて駆動手段を操作し、当該カッタ刃を装着したカッタホルダの長孔からの突き出し長さを、当該カッタホルダの基端側の基準面から前記リングフレームに貼り付けた粘着テープに突き刺したカッタ刃の先端までの距離として調整し、
前記基端面を粘着テープに対して非接触状態でリングフレームからカッタ刃の先端までの距離を一定に保ちつつ、当該先端を粘着テープの粘着層とリングフレームとの接着界面に近接させて粘着テープをリングフレームの形状に沿って切断する
ことを特徴とする粘着テープ切断方法。
A pressure-sensitive adhesive tape cutting method for cutting a pressure-sensitive adhesive tape for supporting a semiconductor wafer on a ring frame,
Measure the distance to the ring frame by the measuring means arranged in the scanning direction of the cutter blade,
The drive means is operated according to the measurement result, and the protruding length from the long hole of the cutter holder to which the cutter blade is attached is pierced into the adhesive tape attached to the ring frame from the reference surface on the base end side of the cutter holder. Adjust the distance to the tip of the cutter blade,
While maintaining the distance from the ring frame to the tip of the cutter blade in a state where the base end surface is not in contact with the adhesive tape, the tip is brought close to the adhesive interface between the adhesive layer of the adhesive tape and the ring frame. The adhesive tape is cut along the shape of the ring frame.
半導体ウエハを支持用の粘着テープを介してリングフレームに貼付け保持する粘着テープ貼付け装置であって、
前記半導体ウエハ保持するウエハ保持手段と、
前記ウエハ保持手段によって保持された半導体ウエハと対向して前記リングフレームを保持するフレーム保持手段と、
前記リングフレームに向けて帯状の支持用の粘着テープを供給するテープ供給手段と、
貼付け手段を前記粘着テープの非粘着面に押圧しながら移動させて前記リングフレームに前記半導体ウエハを貼付け保持する貼付け手段と、
カッタ刃の走査方向の前方に配備した測定手段によって前記リングフレームまでの距離を測定し、当該測定結果に応じて駆動手段を操作し、当該カッタ刃を装着したカッタホルダの長孔からの突き出し長さを、当該リングフレームからリングフレームに貼り付けた粘着テープに突き刺したカッタ刃の先端までの距離とし、当該カッタホルダの基端側の基端面を粘着テープに対して非接触状態で一定に保ちつつ、当該先端を粘着テープの粘着層とリングフレームとの接着界面に近接させて粘着テープをリングフレームの形状に沿って切断する切断機構と、
切断後の不要な粘着テープを剥離する剥離手段と、
を備えたことを特徴とする粘着テープ貼付け装置。
An adhesive tape attaching device for attaching and holding a semiconductor wafer on a ring frame via an adhesive tape for support,
Wafer holding means for holding the semiconductor wafer;
Frame holding means for holding the ring frame opposite to the semiconductor wafer held by the wafer holding means;
A tape supply means for supplying a strip-like support adhesive tape toward the ring frame;
Affixing means for adhering and holding the semiconductor wafer on the ring frame by moving the affixing means against the non-adhesive surface of the adhesive tape,
The distance to the ring frame is measured by measuring means arranged in the scanning direction of the cutter blade, the drive means is operated according to the measurement result, and the protruding length from the long hole of the cutter holder equipped with the cutter blade Is the distance from the ring frame to the tip of the cutter blade stabbed into the adhesive tape affixed to the ring frame, and the base end surface on the base end side of the cutter holder is kept constant in a non-contact state with respect to the adhesive tape, A cutting mechanism for cutting the adhesive tape along the shape of the ring frame by bringing the tip close to the adhesive interface between the adhesive layer of the adhesive tape and the ring frame;
Peeling means for peeling off the unnecessary adhesive tape after cutting;
An adhesive tape affixing device characterized by comprising:
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