JP2012113641A - Input device, and method of manufacturing input device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an input device that can effectively improve adhesion without increasing, especially, the distance between a pair of base materials, and a method of manufacturing the input device.SOLUTION: The input device includes a pair of transparent base materials which are disposed opposite each other across a space, transparent conductive layers which are formed in input regions 20 of opposite surfaces of the pair of transparent base materials respectively, wiring layers which are formed in non-input regions 21 at outer peripheries of the input regions 20 respectively, and an adhesive layer for bonding the pair of transparent base materials together. Dotted insulating members 36 are formed in a non-input region 21 of at least one transparent base material. The pair of transparent base materials are bonded together with the adhesive layer interposed over the wiring layers and the dotted insulating member 36, and a step part between the one transparent base material and wiring layer is filled with the adhesive layer.

Description

本発明は入力装置及び入力装置の製造方法に関し、特に粘着層を介して1対の基材が接着される入力装置及び入力装置の製造方法に関する。   The present invention relates to an input device and an input device manufacturing method, and more particularly to an input device in which a pair of base materials are bonded via an adhesive layer and an input device manufacturing method.

現在、携帯用の電子機器などの表示部として、表示画像のメニュー項目やオブジェクトを直接、指などで操作して座標入力を行うための透光型入力装置が用いられている。このような入力装置として種々の方式が挙げられるが、例えば特許文献1には抵抗膜式の入力装置が記載されている。   Currently, as a display unit of a portable electronic device or the like, a translucent input device for inputting coordinates by directly operating a menu item or object of a display image with a finger or the like is used. As such an input device, various methods can be mentioned. For example, Patent Document 1 describes a resistance film type input device.

このような抵抗膜式入力装置は、1対の基材が空間を設けて対向するように配置されている。1対の基材の対向する面の入力領域には透明電極層が形成され、また、入力領域を囲む非入力領域には透明電極層と外部の回路とを接続するための配線層が形成されている。1対の基材は、配線層に跨がって非入力領域に積層された粘着層を介して貼り合わされている。   Such a resistance film type input device is arranged so that a pair of base materials face each other with a space provided. A transparent electrode layer is formed in the input region on the opposing surface of the pair of base materials, and a wiring layer for connecting the transparent electrode layer and an external circuit is formed in the non-input region surrounding the input region. ing. The pair of base materials are bonded to each other via an adhesive layer that is stacked on the non-input region across the wiring layer.

しかしながら、基材と粘着層との密着性が不十分の場合、基材間にわずかな隙間が生じてしまい、一対の基材に挟まれた空間と外部との通気孔が形成される。このような通気孔が形成されると、外部の環境変化(高温、高湿)の影響により入力装置の性能が低下する可能性がある。また、入力装置の内部と外部で圧力差が生じると基材間のギャップを維持できなくなりニュートンリングが発生する等の問題が生じる。   However, when the adhesiveness between the base material and the adhesive layer is insufficient, a slight gap is generated between the base materials, and a ventilation hole between the space sandwiched between the pair of base materials and the outside is formed. If such a vent is formed, the performance of the input device may be deteriorated due to the influence of external environmental changes (high temperature and high humidity). In addition, when a pressure difference is generated between the inside and the outside of the input device, there is a problem that a gap between the base materials cannot be maintained and Newton rings are generated.

図13は、第1の従来例を示す入力装置101の断面図であり、特許文献1に記載の発明である。なお、図13においては上部基材131の詳細な構成については省略して示している。第1の従来例においては、配線層140と下部透明基材130とで形成された段差を第1の絶縁層137で埋めるとともに、第1の絶縁層137の表面から配線層140の表面にかけて第2の絶縁層139が積層されている。この様な構成とすることにより、第2の絶縁層139表面の平坦性が向上し、第2の絶縁層139の表面に設けられる粘着層161と第2の絶縁層139との間の密着性を効果的に向上できる。   FIG. 13 is a cross-sectional view of the input device 101 showing the first conventional example, and is an invention described in Patent Document 1. In FIG. In FIG. 13, the detailed configuration of the upper base 131 is omitted. In the first conventional example, the step formed by the wiring layer 140 and the lower transparent base material 130 is filled with the first insulating layer 137, and the first insulating layer 137 extends from the surface of the first insulating layer 137 to the surface of the wiring layer 140. Two insulating layers 139 are stacked. With such a structure, the flatness of the surface of the second insulating layer 139 is improved, and the adhesion between the adhesive layer 161 provided on the surface of the second insulating layer 139 and the second insulating layer 139 is improved. Can be improved effectively.

また、図14は、第2の従来例の入力装置201の断面図であり、特許文献2において開示されている発明である。図14は、対向する第1の配線層240と第2の配線層241の端部付近の断面を示している。第2の従来例においては、スクリーン印刷により第1の配線層240及び第2の配線層241を形成し、それぞれの端部に隣接して第1の構造層240aと第2の構造層241aとを形成する。第1の構造層240aは第1の配線層240の端部から離れていくに従って厚みが小さくなるように形成されている。第2の構造層241aについても同様に形成される。上部基材230と下部基材231とを、第1の構造層240aと第2の構造層241aとが係合するように粘着層261を介して積層される。このような構造により、配線層と基材表面との段差部を緩和することができ、粘着層261と上部基材230、及び粘着層261と下部基材231との間の隙間の発生を低減している。   FIG. 14 is a cross-sectional view of the input device 201 of the second conventional example, which is an invention disclosed in Patent Document 2. FIG. 14 shows a cross section near the end portions of the first wiring layer 240 and the second wiring layer 241 facing each other. In the second conventional example, the first wiring layer 240 and the second wiring layer 241 are formed by screen printing, and the first structural layer 240a and the second structural layer 241a are adjacent to the respective end portions. Form. The first structure layer 240a is formed so that the thickness decreases as the distance from the end of the first wiring layer 240 increases. The second structural layer 241a is formed in the same manner. The upper base material 230 and the lower base material 231 are laminated via the adhesive layer 261 so that the first structural layer 240a and the second structural layer 241a are engaged. With such a structure, a step portion between the wiring layer and the base material surface can be relaxed, and generation of a gap between the adhesive layer 261 and the upper base material 230 and between the adhesive layer 261 and the lower base material 231 is reduced. is doing.

特願2010−110066号公報Japanese Patent Application No. 2010-110066 特開2009−266025号公報JP 2009-266025 A 特開2010−033310号公報JP 2010-033310 A

しかしながら、図13に示す第1の従来例においては、第1絶縁層137と第2の絶縁層139との2層構造であるため、上部基材131と下部基材130との基材間距離が大きくなってしまう。抵抗膜式の入力装置は、入力面を構成するフィルム状の上部基材131を押圧操作し変形させることにより、位置情報を入力する動作方式である。そのため、上部基材131と下部基材130との距離が大きくなると、入力荷重が大きくなり快適な操作感が得られない。また、入力操作時の上部基材131の変形量が大きくなるため、繰り返しの入力操作により上部基材131の耐久性が低下し易くなるという問題がある。   However, since the first conventional example shown in FIG. 13 has a two-layer structure of the first insulating layer 137 and the second insulating layer 139, the distance between the upper substrate 131 and the lower substrate 130 is different. Will become bigger. The resistance film type input device is an operation method for inputting position information by pressing and deforming a film-like upper base material 131 constituting an input surface. Therefore, when the distance between the upper base material 131 and the lower base material 130 is increased, the input load is increased and a comfortable operation feeling cannot be obtained. In addition, since the amount of deformation of the upper base member 131 at the time of input operation increases, there is a problem that the durability of the upper base member 131 tends to decrease due to repeated input operations.

また、第1の従来例の入力装置101の製造方法は、第1の絶縁層137と隣接する配線層140との間に微少の隙間を設け、その隙間を第2の絶縁層139により埋める工程が必要である。したがって、第1の絶縁層137の形成に高い位置精度を要し、また、工程も多くなるため製造コストの増加につながる。   In addition, in the method of manufacturing the input device 101 of the first conventional example, a process of providing a minute gap between the first insulating layer 137 and the adjacent wiring layer 140 and filling the gap with the second insulating layer 139. is required. Therefore, the formation of the first insulating layer 137 requires high positional accuracy, and the number of processes increases, leading to an increase in manufacturing cost.

図14に示す第2の従来例の入力装置201においては、第1の構造層240a及び第2の構造層241aをスクリーン印刷によって形成している。また特許文献2には、複数の構造体により第1の構造層240aを形成し断続的に高さを変化させる構成も記載されている。しかしながら、スクリーン印刷で形成した場合、端部のだれや、サドル現象などが発生するため、精度良く構造層の形状を制御することは困難であった。そのため、第1の構造層240aと粘着層261、及び第2の構造層241aと粘着層261との間に微少な隙間が発生してしまうという問題がある。   In the input device 201 of the second conventional example shown in FIG. 14, the first structural layer 240a and the second structural layer 241a are formed by screen printing. Patent Document 2 also describes a configuration in which the first structure layer 240a is formed by a plurality of structures and the height is intermittently changed. However, when it is formed by screen printing, it is difficult to control the shape of the structural layer with high accuracy because of the occurrence of drooping at the edges or a saddle phenomenon. Therefore, there is a problem that a minute gap is generated between the first structural layer 240a and the adhesive layer 261, and between the second structural layer 241a and the adhesive layer 261.

また、特許文献3に示す入力装置においては、スクリーン印刷法などにより配線層の両側面にスペーサ層を配置して、平坦性を向上させる構成が開示されている。しかしながら、配線層の側面に密着させてスペーサ層を精度良く形成する事は、スクリーン印刷法では困難であり、配線層の上にスペーサ層の一部が乗り上げて形成される、あるいは配線層とスペーサ層との間に隙間が生じる場合がある。このような配線層とスペーサとで形成される段差や隙間を粘着層により吸収することは困難であり、密着性が十分に得られない。   In addition, the input device disclosed in Patent Document 3 discloses a configuration in which spacer layers are arranged on both side surfaces of a wiring layer by screen printing or the like to improve flatness. However, it is difficult to form the spacer layer with good contact with the side surface of the wiring layer by the screen printing method, and a part of the spacer layer is formed on the wiring layer, or the wiring layer and the spacer are formed. There may be a gap between the layers. It is difficult for the adhesive layer to absorb the steps and gaps formed by such wiring layers and spacers, and sufficient adhesion cannot be obtained.

本発明は、上記課題を解決し、基材間の距離を増大させることなく、1対の基材間の密着性を効果的に向上させることが可能な入力装置及び入力装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above problems and provides an input device and an input device manufacturing method capable of effectively improving the adhesion between a pair of substrates without increasing the distance between the substrates. The purpose is to do.

本発明の入力装置は、空間を設けて対向配置された1対の透明基材と、前記1対の透明基材の対向する面の入力領域にそれぞれ形成された透明導電層と、前記入力領域の外周の非入力領域にそれぞれ形成された配線層と、前記1対の透明基材を接着する粘着層を有し、少なくとも一方の前記透明基材の非入力領域においてドット状絶縁部材が形成され、前記1対の透明基材が、前記配線層及び前記ドット状絶縁部材に亘って前記粘着層を介し接着されるとともに、前記一方の透明基材と前記配線層との段差部が前記粘着層により充填されている事を特徴とする。   The input device according to the present invention includes a pair of transparent base materials arranged to face each other with a space, a transparent conductive layer formed in an input region on an opposing surface of the pair of transparent base materials, and the input region Each having a wiring layer formed in a non-input area on the outer periphery of the substrate and an adhesive layer that adheres the pair of transparent substrates, and a dot-like insulating member is formed in the non-input area of at least one of the transparent substrates. The pair of transparent base materials are bonded via the adhesive layer across the wiring layer and the dot-shaped insulating member, and a step portion between the one transparent base material and the wiring layer is the adhesive layer. It is characterized by being filled with.

本発明によれば、非入力領域に形成したドット状絶縁部材のアンカー効果により、粘着層と基材との間の密着性を向上することができる。また、配線層及びドット状絶縁部材に亘って粘着層を介して1対の基材を積層する簡単な構成によって、基材間の密着性を向上できることから、一対の基材間の距離を増大させることなく密着性を効果的に向上させることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness between an adhesion layer and a base material can be improved according to the anchor effect of the dot-shaped insulating member formed in the non-input area | region. In addition, the simple structure of laminating a pair of substrates over the wiring layer and the dot-like insulating member via the adhesive layer can improve the adhesion between the substrates, thereby increasing the distance between the pair of substrates. Adhesiveness can be effectively improved without making it.

本発明の入力装置は、前記段差部に前記ドット状絶縁部材が形成されていることが好ましい。これによれば、配線層と基材との段差部においても空隙が発生する事を防ぎ、確実に一対の基材間の密着性を向上することが可能となる。   In the input device of the present invention, it is preferable that the dot-shaped insulating member is formed at the stepped portion. According to this, it is possible to prevent the generation of voids at the step portion between the wiring layer and the base material, and to reliably improve the adhesion between the pair of base materials.

本発明の入力装置は、前記非入力領域において、前記配線層は複数の配線部を有して前記入力領域を囲むように形成され、対向する前記複数の配線部の隙間に前記ドット状絶縁部材が形成されていることが好適である。これによれば、対向する配線部の隙間においても、基材と粘着層との間の空隙の発生を防ぐことができ、一対の基材間の密着性及び密閉性を効果的に向上することが可能となる。   In the input device according to the present invention, in the non-input region, the wiring layer has a plurality of wiring portions and is formed so as to surround the input region, and the dot-shaped insulating member is formed in a gap between the plurality of wiring portions facing each other. Is preferably formed. According to this, even in the gap between the facing wiring parts, it is possible to prevent the generation of a gap between the base material and the adhesive layer, and to effectively improve the adhesion and sealing performance between the pair of base materials. Is possible.

また、本発明の入力装置は、前記配線部の端部が前記ドット状絶縁部材の一部に跨がって積層されていることが好ましい。これによれば、ドット状絶縁部材のアンカー効果により密着性が向上するとともに、ドット状絶縁部材により配線部と透明基材との段差部が緩やかに形成されるため、段差部における密着性及び密閉性が確実に向上する事が可能となる。   In the input device of the present invention, it is preferable that an end portion of the wiring portion is stacked over a part of the dot-shaped insulating member. According to this, the adhesion is improved by the anchor effect of the dot-shaped insulating member, and the stepped portion between the wiring portion and the transparent substrate is gently formed by the dot-shaped insulating member. The reliability can be improved with certainty.

本発明の入力装置は、一方の前記透明基材における前記複数の配線部の前記隙間と対向して、他方の前記透明基材に前記配線層が形成されていることが好ましい。これによれば、複数の配線部の隙間において密着性及び密閉性を効果的に向上させる事ができる。   In the input device of the present invention, it is preferable that the wiring layer is formed on the other transparent base so as to face the gaps of the plurality of wiring portions in one of the transparent bases. According to this, adhesiveness and sealing performance can be effectively improved in the gaps between the plurality of wiring portions.

本発明の入力装置は、前記ドット状絶縁部材が複数並設されており、前記粘着層と対向する凹凸面を形成することが好ましい。これによれば、ドット状絶縁部材によるアンカー効果がより大きくなるため、一対の基材間の密着性を確実に向上させることが可能となる。   In the input device of the present invention, it is preferable that a plurality of the dot-like insulating members are provided side by side, and an uneven surface facing the adhesive layer is formed. According to this, since the anchor effect by a dot-shaped insulating member becomes larger, it becomes possible to improve the adhesiveness between a pair of base materials reliably.

本発明の入力装置の製造方法は、一方の面に透明導電層が形成された透明基材の入力領域にドットスペーサを形成する工程と、前記入力領域の外周の非入力領域にドット状絶縁部材を形成する工程と、前記非入力領域に複数の配線部からなる配線層を形成する工程と、前記非入力領域の前記配線層及び前記ドット状絶縁部材に亘って前記粘着層を積層する工程と、を含むことを特徴とする。これによれば、非入力領域に形成したドット状絶縁部材のアンカー効果により、粘着層と基材間の密着性を向上することができる。また、配線層及びドット状絶縁部材に亘って粘着層を介して1対の基材を積層する簡単な構成によって、基材間の密着性を向上できることから、基材間の距離を増大させることなく密着性を効果的に向上させることができる。   The method of manufacturing an input device according to the present invention includes a step of forming a dot spacer in an input region of a transparent base material having a transparent conductive layer formed on one surface, and a dot-like insulating member in a non-input region on the outer periphery of the input region. Forming a wiring layer comprising a plurality of wiring portions in the non-input area, and laminating the adhesive layer across the wiring layer and the dot-like insulating member in the non-input area; , Including. According to this, the adhesion between the adhesive layer and the substrate can be improved by the anchor effect of the dot-like insulating member formed in the non-input area. Moreover, since the adhesiveness between base materials can be improved by the simple structure which laminates | stacks a pair of base material through an adhesion layer over a wiring layer and a dot-shaped insulating member, the distance between base materials is increased. The adhesion can be effectively improved.

本発明の入力装置の製造方法は、前記ドットスペーサと前記ドット状絶縁部材とが同一の工程で形成されることが好適である。これによれば、基材間の密着性を効果的に向上させるとともに、入力装置の製造工程を簡略化できるためコスト削減が可能である。   In the method for manufacturing an input device according to the present invention, it is preferable that the dot spacer and the dot-shaped insulating member are formed in the same process. According to this, the adhesiveness between the base materials can be improved effectively, and the manufacturing process of the input device can be simplified, so that the cost can be reduced.

本発明の入力装置の製造方法は、前記非入力領域において、前記複数の配線部が対向する隙間を有するように前記配線層を形成する配線領域が設けられ、前記隙間に位置するように前記ドット状絶縁部材を形成する工程を含むことが好ましい。これによれば、対向する配線部の隙間にドット状絶縁部材を形成する事ができるため、対向する配線部の隙間においても、基材と粘着層との間の空隙の発生を防ぐことができ、一対の基材間の密着性及び密閉性を効果的に向上することが可能となる。   In the input device manufacturing method of the present invention, in the non-input region, a wiring region for forming the wiring layer is provided such that the plurality of wiring portions have a gap facing each other, and the dot is positioned in the gap. It is preferable to include a step of forming a shaped insulating member. According to this, since the dot-like insulating member can be formed in the gap between the facing wiring portions, it is possible to prevent the occurrence of a gap between the base material and the adhesive layer even in the gap between the facing wiring portions. It becomes possible to effectively improve the adhesion and sealing between the pair of substrates.

また、本発明の入力装置の製造方法は、前記非入力領域において、前記配線層を形成する配線領域を設定するとともに、前記配線領域と前記配線領域外方の前記非入力領域とに跨がって前記ドット状絶縁部材を形成する工程を含むことが好適である。これによれば、ドット状絶縁部材のアンカー効果により密着性が向上するとともに、ドット状絶縁部材により配線部と透明基材との段差部が緩やかに形成されるため、段差部における密着性及び密閉性が確実に向上する事が可能となる。   In the input device manufacturing method according to the present invention, in the non-input area, a wiring area for forming the wiring layer is set and straddles the non-input area outside the wiring area. It is preferable to include a step of forming the dot-shaped insulating member. According to this, the adhesion is improved by the anchor effect of the dot-shaped insulating member, and the stepped portion between the wiring portion and the transparent substrate is gently formed by the dot-shaped insulating member. The reliability can be improved with certainty.

本発明の入力装置の製造方法は、前記非入力領域において、前記ドット状絶縁部材を複数並設する事が好ましい。これによれば、ドット状絶縁部材によるアンカー効果がより大きくなるため、一対の基材間の密着性を確実に向上させることが可能となる。   In the input device manufacturing method according to the present invention, it is preferable that a plurality of the dot-shaped insulating members are arranged in parallel in the non-input region. According to this, since the anchor effect by a dot-shaped insulating member becomes larger, it becomes possible to improve the adhesiveness between a pair of base materials reliably.

本発明の入力装置の製造方法は、前記ドットスペーサと前記ドット状絶縁部材とをアクリル系樹脂材料により形成することが好ましい。   In the method for manufacturing an input device according to the present invention, it is preferable that the dot spacers and the dot-shaped insulating members are formed of an acrylic resin material.

本発明の入力装置の製造方法は、前記ドット状絶縁部材を印刷法により形成する事が好ましい。これによれば、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法などの印刷法により、容易にドット状絶縁部材を形成することができる。   In the manufacturing method of the input device of the present invention, it is preferable that the dot-shaped insulating member is formed by a printing method. According to this, the dot-shaped insulating member can be easily formed by a printing method such as a screen printing method or an ink jet printing method.

本発明の入力装置の製造方法は、前記ドット状絶縁部材を紫外線硬化型樹脂により形成する事が好ましい。これによれば、熱を加えること無くドット状絶縁部材を硬化することができるため、短時間で製造する事が可能となる。また、硬化時の残留応力が少ないため、基材の反りの発生を抑えることが可能となる。   In the method for manufacturing an input device according to the present invention, it is preferable that the dot-shaped insulating member is formed of an ultraviolet curable resin. According to this, since the dot-shaped insulating member can be cured without applying heat, it can be manufactured in a short time. Moreover, since there is little residual stress at the time of hardening, it becomes possible to suppress generation | occurrence | production of the curvature of a base material.

本発明の入力装置及び入力装置の製造方法によれば、非入力領域に形成したドット状絶縁部材のアンカー効果により、粘着層と基材との間の密着性を向上させることができる。また、ドット状絶縁部材のアンカー効果により、多層の絶縁層を設ける必要がないため、一対の基材間の距離を増大させることなく密着性を効果的に向上させることができる。   According to the input device and the manufacturing method of the input device of the present invention, the adhesion between the adhesive layer and the substrate can be improved by the anchor effect of the dot-like insulating member formed in the non-input area. In addition, due to the anchor effect of the dot-like insulating member, it is not necessary to provide a multi-layered insulating layer, so that the adhesion can be effectively improved without increasing the distance between the pair of base materials.

本発明の実施形態における入力装置の斜視図である。It is a perspective view of the input device in the embodiment of the present invention. 図1のII−II線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the II-II line | wire of FIG. 本実施形態の入力装置における第1透明基材の平面図である。It is a top view of the 1st transparent substrate in the input device of this embodiment. 図3の領域A付近の第1透明基材の部分拡大平面図である。FIG. 4 is a partially enlarged plan view of a first transparent base material in the vicinity of a region A in FIG. 3. 本実施形態の入力装置における、図4のV−V線に対応する位置で切断した部分拡大断面図である。FIG. 5 is a partial enlarged cross-sectional view taken along a line corresponding to line VV in FIG. 4 in the input device according to the present embodiment. 本実施形態の第1の変形例を示す、第1透明基材の部分拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view of the 1st transparent substrate showing the 1st modification of this embodiment. 第1の変形例における、図6のVII−VII線に対応する位置で切断した入力装置の部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of the input device cut in the 1st modification in the position corresponding to the VII-VII line of Drawing 6. 本実施形態の第2の変形例を示す、第1透明基材の部分拡大平面図である。It is a partial enlarged plan view of the 1st transparent substrate showing the 2nd modification of this embodiment. 本実施形態の第3の変形例の入力装置における、第2透明基材の平面図である。It is a top view of the 2nd transparent substrate in the input device of the 3rd modification of this embodiment. 図9の領域B付近の第2透明基材の部分拡大平面図である。FIG. 10 is a partially enlarged plan view of a second transparent base material in the vicinity of a region B in FIG. 9. 第3の変形例の入力装置における、図10のXI−XI線に対応する位置で切断した入力装置の部分拡大断面図である。FIG. 11 is a partial enlarged cross-sectional view of an input device cut at a position corresponding to the line XI-XI in FIG. 10 in an input device of a third modified example. 本実施形態の入力装置の製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the input device of this embodiment. 第1の従来例を示す、入力装置の部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of an input device which shows the 1st conventional example. 第2の従来例を示す、入力装置の部分拡大断面図である。It is a partial expanded sectional view of an input device which shows the 2nd conventional example.

図1には本発明の入力装置1の斜視図を示す。また、図2には、図1のII−II線で切断した入力装置1の断面図を示す。   FIG. 1 shows a perspective view of an input device 1 of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of the input device 1 taken along the line II-II in FIG.

このような入力装置1は、液晶表示パネルやエレクトロルミネッセンスパネル等の表示装置の表示画面上に重ねて配置されて、携帯電話機や携帯用情報端末等の携帯機器、ゲーム装置、カメラ、ビデオ撮影装置など各種電子機器の表示部に搭載される。操作者は、入力装置1を通して表示装置の画像を視認することができ、表示された様々な情報について、直接表示画面上を指などで触れることにより入力操作を行うことが可能である。   Such an input device 1 is arranged so as to overlap a display screen of a display device such as a liquid crystal display panel or an electroluminescence panel, and is a portable device such as a mobile phone or a portable information terminal, a game device, a camera, or a video photographing device. It is mounted on the display part of various electronic devices. An operator can visually recognize an image on the display device through the input device 1 and can perform various input operations by directly touching the displayed screen with a finger or the like on various displayed information.

図1に示すように、本発明の入力装置1は、第1透明基材30と第2透明基材31が第1粘着層60を介し積層され、第2透明基材31の入力面側には表面部材50が第2粘着層61を介して積層されている。また、入力装置1は窓状の入力領域20と、入力領域20の外周を囲む非入力領域21を有している。   As shown in FIG. 1, in the input device 1 of the present invention, the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 are laminated via the first adhesive layer 60, and the second transparent base material 31 is placed on the input surface side. The surface member 50 is laminated via the second adhesive layer 61. The input device 1 also has a window-shaped input area 20 and a non-input area 21 that surrounds the outer periphery of the input area 20.

図2に示すように、第1透明基材30と第2透明基材31とは空間を設けて対向するように配置されている。第1透明基材30及び第2透明基材31の対向する面の入力領域20には、それぞれ第1透明導電層32及び第2透明導電層33が形成されている。また、第1透明基材30と第2透明基材31の対向する面の非入力領域21には、それぞれ第1配線層40及び第2配線層41が形成されている。第1透明基材30と第2透明基材とは、非入力領域21において第1粘着層60を介し貼り合わされている。   As shown in FIG. 2, the first transparent substrate 30 and the second transparent substrate 31 are arranged so as to face each other with a space. A first transparent conductive layer 32 and a second transparent conductive layer 33 are formed in the input regions 20 on the opposing surfaces of the first transparent substrate 30 and the second transparent substrate 31, respectively. A first wiring layer 40 and a second wiring layer 41 are formed in the non-input areas 21 on the opposing surfaces of the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31, respectively. The first transparent base material 30 and the second transparent base material are bonded to each other via the first adhesive layer 60 in the non-input area 21.

入力面側に配置された第2透明基材31は、入力操作により変形可能なフィルム状の材料であり、PET(ポリエチレンテレフタレート)等の透明樹脂材料を用いる。第2透明基材31の厚みは100μmから200μm程度、例えば厚み188μmで形成される。また、第1透明基材30は、透明な樹脂で形成され、例えばPC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PMMA(ポリメタクリル酸メチル樹脂)等の材料を用い、厚みが0.5mmから1.5mm、例えば1.0mm程度で形成されればよい。   The 2nd transparent base material 31 arrange | positioned at the input surface side is a film-form material which can be deform | transformed by input operation, and uses transparent resin materials, such as PET (polyethylene terephthalate). The thickness of the second transparent substrate 31 is about 100 μm to 200 μm, for example, a thickness of 188 μm. Further, the first transparent substrate 30 is formed of a transparent resin, for example, using a material such as PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate), PMMA (polymethyl methacrylate resin), The thickness may be 0.5 to 1.5 mm, for example, about 1.0 mm.

第1透明導電層32及び第2透明導電層33はいずれも、可視光領域で透光性を有するITO(Indium Tin Oxide)、SnO、ZnO等の透明導電材料であり、スパッタ法や蒸着法により形成される。本実施形態では第1透明導電層32及び第2透明導電層33としてITOを用い、その厚みはいずれも0.01μmから0.05μm、例えば0.02μm程度で形成される。 Each of the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 33 is a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide), SnO 2 , ZnO or the like having translucency in the visible light region. It is formed by. In the present embodiment, ITO is used as the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 33, and the thickness thereof is 0.01 μm to 0.05 μm, for example, about 0.02 μm.

第1配線層40及び第2配線層41は、銅または銀などの導電性材料を含む導電性ペーストを用いスクリーン印刷法やインクジェット印刷法等の印刷法で形成される。また、印刷法以外にも透明導電層と同様に、スパッタ法または蒸着法により薄膜で形成することも可能である。   The first wiring layer 40 and the second wiring layer 41 are formed by a printing method such as a screen printing method or an ink jet printing method using a conductive paste containing a conductive material such as copper or silver. In addition to the printing method, it is also possible to form a thin film by sputtering or vapor deposition as in the case of the transparent conductive layer.

また、第2透明基材31の入力面側には、第2粘着層61を介し表面部材50が積層されている。表面部材50は、フィルム状の柔軟な加飾シート51と、加飾シート51の非入力領域21に形成された加飾層52を有し構成される。加飾シート51は透光性を有するPET(ポリエチレンテレフタレート)等の樹脂材料からなる。また、加飾層52は印刷により形成され、第1配線層40及び第2配線層41と平面的に重なるように配置される。   Further, the surface member 50 is laminated on the input surface side of the second transparent base material 31 via the second adhesive layer 61. The surface member 50 includes a film-like flexible decorative sheet 51 and a decorative layer 52 formed in the non-input area 21 of the decorative sheet 51. The decorative sheet 51 is made of a resin material such as PET (polyethylene terephthalate) having translucency. The decorative layer 52 is formed by printing, and is disposed so as to overlap the first wiring layer 40 and the second wiring layer 41 in a planar manner.

第1粘着層60及び第2粘着層61は、可視光を透過するアクリル系樹脂からなる粘着テープを用いることができる。第1粘着層60及び第2粘着層61は、各配線層や加飾層52によって形成される段差を吸収して、入力装置1の入力面が平坦になるように接着可能な粘弾性を有する材料、厚みのものを用いる。第1粘着層60には厚み約25μm、第2粘着層61には約50μmの厚みの粘着テープをそれぞれ用いた。   For the first adhesive layer 60 and the second adhesive layer 61, an adhesive tape made of an acrylic resin that transmits visible light can be used. The first adhesive layer 60 and the second adhesive layer 61 have viscoelasticity that can be bonded so that the input surface of the input device 1 becomes flat by absorbing the steps formed by the wiring layers and the decorative layer 52. Use material and thickness. An adhesive tape having a thickness of about 25 μm was used for the first adhesive layer 60 and an adhesive tape having a thickness of about 50 μm was used for the second adhesive layer 61.

入力面を構成する第2透明基材31及び加飾シート51は柔軟なフィルム状の材料であり、押圧操作により変形可能な材料である。入力装置1の入力操作時に、入力面を指またはペン形状の入力器具により押圧動作すると、その箇所で第1透明導電層32と第2透明導電層33とが接触する。第1透明導電層32及び第2透明導電層33にはそれぞれ、電圧が印加されており、入力操作した箇所で導電層同士が接触することによって電圧値が変化する。本発明の入力装置1は、この電圧値の変化によって入力位置情報を読み取ることが可能な抵抗膜式タッチパネルを構成する。   The 2nd transparent base material 31 and the decorating sheet | seat 51 which comprise an input surface are flexible film-like materials, and are a material which can deform | transform by press operation. When the input surface is pressed with a finger or a pen-shaped input device during the input operation of the input device 1, the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 33 are in contact with each other. A voltage is applied to each of the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 33, and the voltage value changes when the conductive layers come into contact with each other at the place where the input operation is performed. The input device 1 of the present invention constitutes a resistive touch panel that can read input position information by changing the voltage value.

また、本実施形態では第1透明基材30として厚みは0.5mmから1.5mm、例えば1.0mm程度の樹脂基材を用いたが、これに限らず、フィルム状の樹脂材料を用いてもよい。この場合、第1透明基材30の下部に支持体となる透明基材を貼り合わせて入力装置1を構成する。   In the present embodiment, a resin substrate having a thickness of 0.5 mm to 1.5 mm, for example, about 1.0 mm is used as the first transparent substrate 30. However, the present invention is not limited thereto, and a film-like resin material is used. Also good. In this case, the input device 1 is configured by pasting a transparent base material serving as a support to the lower portion of the first transparent base material 30.

次に、第1透明基材30の構成について詳細に説明する。図3には、第1透明導電膜32及び第1配線層40が表面に形成された第1透明基材30の平面図を示す。また、図4には、図3の2点鎖線で囲んだ領域A付近の部分拡大平面図を示す。図5には、本実施形態の入力装置1について、図4のV−V線に対応する箇所で切断した部分拡大断面図を示す。   Next, the configuration of the first transparent substrate 30 will be described in detail. In FIG. 3, the top view of the 1st transparent base material 30 in which the 1st transparent conductive film 32 and the 1st wiring layer 40 were formed in the surface is shown. FIG. 4 is a partially enlarged plan view of the vicinity of the region A surrounded by the two-dot chain line in FIG. FIG. 5 shows a partially enlarged cross-sectional view of the input device 1 of the present embodiment, cut at a location corresponding to the line VV in FIG.

図3に示すように、第1透明基材30表面の入力領域20には第1透明導電層32が形成されている。また、入力領域20の外周に位置する非入力領域21には、入力領域20を囲むように複数の配線部から構成される第1配線層40が形成されている。   As shown in FIG. 3, a first transparent conductive layer 32 is formed in the input region 20 on the surface of the first transparent substrate 30. Further, in the non-input area 21 positioned on the outer periphery of the input area 20, a first wiring layer 40 composed of a plurality of wiring portions is formed so as to surround the input area 20.

X1側配線部40aは、入力領域20のX1側の非入力領域21に配置され、Y1−Y2方向に延出して形成される。X2側配線部40bは、同様に入力領域20のX2側の非入力領域21にY1−Y2方向に延出して形成される。X1側配線部40a及びX2側配線部40bは、第1透明導電層32と電気的に接続された状態で形成される。   The X1-side wiring section 40a is disposed in the non-input area 21 on the X1 side of the input area 20, and is formed to extend in the Y1-Y2 direction. Similarly, the X2-side wiring portion 40b is formed in the non-input area 21 on the X2 side of the input area 20 so as to extend in the Y1-Y2 direction. The X1-side wiring portion 40a and the X2-side wiring portion 40b are formed in a state of being electrically connected to the first transparent conductive layer 32.

接続部40d、40fは、外部のフレキシブルプリント基板等と接続するための端子であり、X1側配線部40aのY1側の端部と接続部40dとはY1側配線部40cにより接続され、X2側配線部40bのY1側の端部と接続部40fとはY1側配線部40eにより接続される。   The connecting portions 40d and 40f are terminals for connecting to an external flexible printed circuit board or the like. The Y1 side end of the X1 side wiring portion 40a and the connecting portion 40d are connected by the Y1 side wiring portion 40c, and the X2 side The Y1 side end of the wiring part 40b and the connection part 40f are connected by the Y1 side wiring part 40e.

そして、入力領域20のY2側に位置する非入力領域21には、X1−X2方向に延出するY2側ダミー配線部40gが形成されている。図3では、Y2側ダミー配線部40gはX1側配線部40aのY2側端部と接続して一体に形成されているが、これに限らず、Y2側ダミー配線部40gを別体で形成してもよい。Y2側ダミー配線部40gは、第1透明基材30と第2透明基材31とを積層した時に、基材間の距離が入力領域20の周囲にわたって一定となるように設けられている。Y2側ダミー配線部40gが形成されない場合、入力領域20のY2側方向の基材間距離が小さくなってしまい、ニュートンリング等の不具合が発生し易くなる。   In the non-input area 21 located on the Y2 side of the input area 20, a Y2-side dummy wiring portion 40g extending in the X1-X2 direction is formed. In FIG. 3, the Y2 side dummy wiring portion 40g is formed integrally with the Y2 side end portion of the X1 side wiring portion 40a. However, the present invention is not limited to this, and the Y2 side dummy wiring portion 40g is formed separately. May be. The Y2-side dummy wiring portion 40g is provided so that the distance between the base materials is constant over the periphery of the input region 20 when the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 are stacked. When the Y2-side dummy wiring portion 40g is not formed, the distance between the base materials in the Y2-side direction of the input region 20 becomes small, and problems such as Newton rings are likely to occur.

本実施形態の入力装置1においては、第1透明基材30の非入力領域21において第1配線層40が形成されていない部分に、複数のドット状絶縁部材36が並設されている。ドット状絶縁部材36は、例えばアクリル系の紫外線硬化型樹脂を用い、直径は20μmから100μm程度、例えば約50μmに形成し、その高さは5μmから30μm、例えば約10μmで形成した。   In the input device 1 of the present embodiment, a plurality of dot-like insulating members 36 are juxtaposed in a portion where the first wiring layer 40 is not formed in the non-input region 21 of the first transparent base material 30. The dot-shaped insulating member 36 is made of, for example, an acrylic ultraviolet curable resin, has a diameter of about 20 μm to 100 μm, for example, about 50 μm, and a height of 5 μm to 30 μm, for example, about 10 μm.

図5に示すように、第1透明基材30と第2透明基材31とは、第1配線層40及びドット状絶縁部材36に亘って第1粘着層60を介し接着される。図3に示すようにドット状絶縁部材36を設けたことにより、第1透明基材30の表面に微少な凸部が形成され、この凸部を覆って第1粘着層60が積層されることにより、第1透明基材30と第1粘着層60の間にいわゆるアンカー効果が生じる。これにより、効果的に基材間の密着性を向上する事が可能となる。また、ドット状絶縁部材36の高さは、第1配線層40の厚みに比べ小さく形成されており、ドット状絶縁部材36と第1粘着層60の他に部材を追加することなく、第1透明基材30と第2透明基材31とを接着することが可能であるため、基材間の距離を増大させることなく密着性を向上できる。アンカー効果を利用して密着性を効果的に向上することにより、本実施形態の入力装置1は、高温、高湿など外部の使用環境の影響や、経時変化があった場合にも第1粘着層60と第1透明基材30とが剥離せず、基材間の密着性を維持できる。さらに、基材間の距離を増大させないことから、入力装置1の操作時における入力荷重が増大することなく快適な入力動作が可能であり、また、第2透明基材31及び加飾シート51の耐久性の低下も抑えることができる。   As shown in FIG. 5, the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 are bonded via the first adhesive layer 60 across the first wiring layer 40 and the dot-like insulating member 36. As shown in FIG. 3, by providing the dot-shaped insulating member 36, a minute convex portion is formed on the surface of the first transparent substrate 30, and the first adhesive layer 60 is laminated so as to cover the convex portion. Thus, a so-called anchor effect is generated between the first transparent substrate 30 and the first adhesive layer 60. Thereby, it becomes possible to improve the adhesiveness between base materials effectively. Further, the height of the dot-like insulating member 36 is formed smaller than the thickness of the first wiring layer 40, and the first insulating member 36 and the first adhesive layer 60 can be added without adding a member. Since the transparent base material 30 and the second transparent base material 31 can be bonded, the adhesion can be improved without increasing the distance between the base materials. By effectively improving the adhesion using the anchor effect, the input device 1 according to the present embodiment can be applied to the first adhesive even when there is an influence of an external use environment such as high temperature and high humidity or a change with time. The layer 60 and the 1st transparent base material 30 do not peel, but the adhesiveness between base materials can be maintained. Furthermore, since the distance between the base materials is not increased, a comfortable input operation can be performed without increasing the input load during the operation of the input device 1, and the second transparent base material 31 and the decorative sheet 51 can be operated. A decrease in durability can also be suppressed.

図3に示すように、第1透明基材30の非入力領域21において第1配線層40の外周及び内周に、複数のドット状絶縁部材36が並設されている。これに限らず、ドット状絶縁部材36を、第1配線層40の外周または内周のどちらか一方に形成した場合でも基材間の密着性を向上することが可能である。また、第1配線層40の外周の一部、あるいは内周の一部など、ドット状絶縁部材36を形成する箇所を任意に設定する事も可能である。   As shown in FIG. 3, a plurality of dot-like insulating members 36 are arranged in parallel on the outer periphery and the inner periphery of the first wiring layer 40 in the non-input region 21 of the first transparent substrate 30. Not limited to this, even when the dot-like insulating member 36 is formed on either the outer periphery or the inner periphery of the first wiring layer 40, the adhesion between the substrates can be improved. Moreover, it is also possible to arbitrarily set a place where the dot-shaped insulating member 36 is formed, such as a part of the outer periphery or the part of the inner periphery of the first wiring layer 40.

また、図3に示したように第1配線層40が入力領域20を囲むように形成されており、第1配線層40と第1透明基材30とによって段差部が形成されている。この段差部は第1粘着層60の粘弾性により充填されるとともに、第1透明基材30と第2透明基材31とが接着されている。しかし、経時変化や、高温・高湿などの使用環境によって粘着性が低下すると、この段差部近傍で第1粘着層60が剥離し、隙間が生じる可能性がある。本実施形態の入力装置1において、ドット状絶縁部材36を段差部近傍に設けることにより、より確実に密着性を向上する事が可能となり、段差部における隙間の発生を防ぐことができる。   Further, as shown in FIG. 3, the first wiring layer 40 is formed so as to surround the input region 20, and a step portion is formed by the first wiring layer 40 and the first transparent base material 30. The step portion is filled with the viscoelasticity of the first adhesive layer 60, and the first transparent substrate 30 and the second transparent substrate 31 are bonded. However, if the adhesiveness is lowered due to a change with time or a use environment such as high temperature and high humidity, the first adhesive layer 60 may be peeled off in the vicinity of the stepped portion, and a gap may be generated. In the input device 1 according to the present embodiment, by providing the dot-shaped insulating member 36 in the vicinity of the stepped portion, it is possible to improve the adhesion more reliably and prevent the generation of a gap in the stepped portion.

図4に示すように、X1−X2方向に延出したY2側ダミー配線部40gと、Y1−Y2方向に延出したX2側配線部40bとは隙間を設けて形成されている。この部分の断面形状は、図5に示すように、対向するY2側ダミー配線部40gとX2側配線部40b、及び第1透明基材30とで凹部が形成されている。第1粘着層60を介して第1透明基材30と第2透明基材31とを貼り合わせた際に、このような凹部における第1粘着層60と第1透明基材30との密着性は、凹部の周辺の各配線部と第1粘着層60との密着性に比べ低くなる。そのため、この凹部において隙間が発生する可能性があり、入力装置1の基材間で挟まれた空間と外部とをつなげる通気孔が形成される恐れがある。   As shown in FIG. 4, the Y2-side dummy wiring portion 40g extending in the X1-X2 direction and the X2-side wiring portion 40b extending in the Y1-Y2 direction are formed with a gap. As shown in FIG. 5, the cross-sectional shape of this portion includes a concave portion formed by the opposing Y2 side dummy wiring portion 40 g, X2 side wiring portion 40 b, and first transparent base material 30. Adhesiveness between the first adhesive layer 60 and the first transparent substrate 30 in such a recess when the first transparent substrate 30 and the second transparent substrate 31 are bonded together via the first adhesive layer 60. Is lower than the adhesion between each wiring portion around the recess and the first adhesive layer 60. Therefore, there is a possibility that a gap is generated in the concave portion, and there is a possibility that a vent hole that connects the space sandwiched between the base materials of the input device 1 and the outside is formed.

本実施形態の入力装置1においては、対向する配線部間の第1透明基材30の表面にドット状絶縁部材36を設けている。ドット状絶縁部材36のアンカー効果により、凹部における第1粘着層60と第1透明基材30との間の密着性及び密閉性を確実に向上することができる。   In the input device 1 of this embodiment, the dot-shaped insulating member 36 is provided on the surface of the first transparent base material 30 between the facing wiring portions. Due to the anchor effect of the dot-like insulating member 36, the adhesion and sealing performance between the first adhesive layer 60 and the first transparent base material 30 in the recess can be reliably improved.

また、図5に示すように、複数の配線部の隙間と対向して、第2透明基材31の第2配線層41が形成されていることが好適である。こうすれば、対向するY2側ダミー配線部40gとX2側配線部40b、及び第1透明基材30とで形成された凹部周辺において、基材間のギャップを小さくできるため、密着性及び密閉性を効果的に向上させる事ができる   Further, as shown in FIG. 5, it is preferable that the second wiring layer 41 of the second transparent base material 31 is formed to face the gaps between the plurality of wiring portions. In this way, the gap between the bases can be reduced around the concave portions formed by the opposing Y2 side dummy wiring part 40g, X2 side wiring part 40b, and the first transparent base material 30, so that the adhesion and sealing properties are improved. Can be improved effectively

このように、本実施形態の入力装置1の密閉性を向上させることにより、温度、湿度等の外部の環境の影響を受けにくくなり、入力装置1の耐久性を向上させることができる。また、入力装置1の基材に挟まれた空間の圧力が小さくなることがなく、基材間のギャップを長期間維持できるため、ニュートンリングの発生を抑えることが可能となる。   Thus, by improving the airtightness of the input device 1 of this embodiment, it becomes difficult to be influenced by the external environment such as temperature and humidity, and the durability of the input device 1 can be improved. In addition, the pressure in the space sandwiched between the base materials of the input device 1 is not reduced, and the gap between the base materials can be maintained for a long period of time, so it is possible to suppress the occurrence of Newton rings.

図6は、本発明の実施形態における第1の変形例を示す、第1透明基材30の部分拡大平面図である。また、第1透明基材30と第2透明基材31とを積層した第1の変形例の入力装置1について、図6のVII−VII線に対応する位置で切断した部分拡大断面図を図7に示す。   FIG. 6 is a partially enlarged plan view of the first transparent base material 30 showing a first modification of the embodiment of the present invention. Moreover, about the input device 1 of the 1st modification which laminated | stacked the 1st transparent base material 30 and the 2nd transparent base material 31, it is a partial expanded sectional view cut | disconnected in the position corresponding to the VII-VII line of FIG. 7 shows.

図6、及び図7に示すように、第1の変形例においては、第1配線層40を構成する各配線部の対向する隙間にドット状絶縁部材36が形成され、また、対向する配線部の端部がドット状絶縁部材36の一部に跨がるように形成されている。ドット状絶縁部材36及び配線部をこの様に設けることにより、第1配線層40と第1透明基材30とで形成される段差を緩和することができる。これにより、第1配線層40と第1透明基材30との段差部において、第1粘着層60が隙間無く充填されるとともに、密着性良く第1透明基材30と第2透明基材31とが貼り合わされる。特に、図7に示すような、対向して配置された1対の配線部と第1透明基材30とで形成された凹部においては、第1粘着層60を介して貼り合わせた時に隙間が生じ易いため、本変形例のようにドット状絶縁部材36を設けることにより、密着性とともに密閉性を向上させることが可能となる。   As shown in FIGS. 6 and 7, in the first modification, dot-like insulating members 36 are formed in the opposing gaps of the respective wiring parts constituting the first wiring layer 40, and the opposing wiring parts Are formed so as to straddle part of the dot-like insulating member 36. By providing the dot-like insulating member 36 and the wiring portion in this manner, the step formed by the first wiring layer 40 and the first transparent base material 30 can be relaxed. As a result, the first adhesive layer 60 is filled without a gap in the step portion between the first wiring layer 40 and the first transparent substrate 30, and the first transparent substrate 30 and the second transparent substrate 31 have good adhesion. Are pasted together. In particular, as shown in FIG. 7, in the concave portion formed by the pair of wiring portions arranged in opposition to each other and the first transparent base material 30, there is a gap when pasted through the first adhesive layer 60. Since it is likely to occur, it is possible to improve the sealing performance as well as the adhesion by providing the dot-like insulating member 36 as in this modification.

図6、及び図7に示す第1の変形例では、対向する配線部と第1透明基材30とで形成された凹部に、ドット状絶縁部材36を形成した。これに限らず、図3及び図4に示したように、第1配線層40の外周及び内周に、複数のドット状絶縁部材36を並設してもよい。こうすれば、より確実に、基材間の密着性及び密閉性を向上できる。また、ドット状絶縁部材36を、第1配線層40の外周または内周のどちらか一方、あるいは第1配線層40の外周の一部、または内周の一部に形成した場合であっても基材間の密着性及び密閉性を向上させることが可能である。   In the first modification shown in FIGS. 6 and 7, the dot-shaped insulating member 36 is formed in the recess formed by the facing wiring portion and the first transparent base material 30. Not limited to this, as shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of dot-shaped insulating members 36 may be arranged in parallel on the outer periphery and the inner periphery of the first wiring layer 40. If it carries out like this, the adhesiveness and sealing property between base materials can be improved more reliably. Further, even when the dot-shaped insulating member 36 is formed on either the outer periphery or the inner periphery of the first wiring layer 40, a part of the outer periphery of the first wiring layer 40, or a part of the inner periphery. It is possible to improve the adhesion and sealing between the substrates.

図3から図7で示したドット状絶縁部材36は、互に間隔を持って配列されているが、このような態様に限らず、複数のドット状絶縁部材36が連接して形成されていても良い。図8は、第1の実施形態における第2の変形例を示す、第1透明基材30の部分拡大平面図である。第2の変形例においてはY2側ダミー配線部40gとX2側配線部40bとが対向する隙間の第1透明基材30表面に、複数のドット状絶縁部材36を密集するように連接して形成している。このような形態においても、複数のドット状絶縁部材36が密集した領域で微少な凸部が多数形成されるため、ドット状絶縁部材36に亘って第1粘着層60を介して基材間を接着した場合、ドット状絶縁部材36の凸部によりアンカー効果が生じ、密着性が向上する。   The dot-like insulating members 36 shown in FIG. 3 to FIG. 7 are arranged at intervals from each other. However, the present invention is not limited to such an embodiment, and a plurality of dot-like insulating members 36 are connected and formed. Also good. FIG. 8 is a partially enlarged plan view of the first transparent base material 30 showing a second modification example of the first embodiment. In the second modified example, a plurality of dot-shaped insulating members 36 are formed so as to be densely connected to the surface of the first transparent substrate 30 in the gap where the Y2-side dummy wiring portion 40g and the X2-side wiring portion 40b face each other. is doing. Even in such a configuration, a large number of minute convex portions are formed in a region where a plurality of dot-shaped insulating members 36 are densely packed, so that the substrate is interposed between the substrate via the first adhesive layer 60 across the dot-shaped insulating members 36. When bonded, an anchor effect is produced by the convex portions of the dot-like insulating member 36, and adhesion is improved.

また、対向する配線部で形成された凹部に、複数のドット状絶縁部材36を密集するように連接させると、この凹部における第1透明基材30と第2透明基材31との距離が小さくなるため、第1配線層40により形成される段差が小さくなり、より密着性および密閉性を向上させることが可能となる。   In addition, when a plurality of dot-like insulating members 36 are connected so as to be densely connected to the concave portions formed by the facing wiring portions, the distance between the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 in the concave portions is small. Therefore, the level difference formed by the first wiring layer 40 is reduced, and it becomes possible to further improve the adhesion and the sealing performance.

次に、本実施形態の第3の変形例を説明する。図9には、第2透明基材31について、第1透明基材30と対向する面の平面図を示す。図10には、図9の第2透明基材31について領域B付近の部分拡大断面図を、図11には、第3の変形例の入力装置1について図10のXI−XI線に対応する位置で切断した部分拡大断面図を示す。   Next, a third modification of the present embodiment will be described. In FIG. 9, the top view of the surface which opposes the 1st transparent base material 30 about the 2nd transparent base material 31 is shown. FIG. 10 is a partial enlarged cross-sectional view of the second transparent base material 31 in FIG. 9 near the region B, and FIG. 11 corresponds to the XI-XI line in FIG. 10 for the input device 1 of the third modification. The partial expanded sectional view cut | disconnected by the position is shown.

図9に示すように、第2透明基材31の入力領域20には第2透明導電層33が形成されており、入力領域20の外周に位置する非入力領域21には、入力領域20を囲むように第2配線層41が形成されている。   As shown in FIG. 9, the second transparent conductive layer 33 is formed in the input region 20 of the second transparent base material 31, and the input region 20 is formed in the non-input region 21 located on the outer periphery of the input region 20. A second wiring layer 41 is formed so as to surround it.

第2配線層41は複数の配線部からなり、Y1側配線部41aは、入力領域20のY1側の非入力領域21においてX1−X2方向に延出して形成される。また、Y2側配線部41bは、入力領域20のY2側の非入力領域21においてX1−X2方向に延出して形成される。Y1側配線部41a及びY2側配線部41bは、第2透明導電層33と電気的に接続された状態となっている。   The second wiring layer 41 includes a plurality of wiring portions, and the Y1-side wiring portion 41a is formed to extend in the X1-X2 direction in the non-input region 21 on the Y1 side of the input region 20. The Y2-side wiring portion 41b is formed to extend in the X1-X2 direction in the non-input region 21 on the Y2 side of the input region 20. The Y1 side wiring portion 41a and the Y2 side wiring portion 41b are in a state of being electrically connected to the second transparent conductive layer 33.

接続部41e及び接続部41fは、外部のフレキシブルプリント基板等と接続するための端子であり、それぞれ、Y2側配線部41b及びY1側配線部41aと電気的に接続されている。また、入力領域20のX2側に位置する非入力領域21には、Y1−Y2方向に延出するX2側ダミー配線部41dが形成されている。図9のX2側ダミー配線部41dはY1側配線部41aと接続して一体に形成されているが、これに限らず別体で形成する事も可能である。X2側ダミー配線部41dは、第1透明基材30と第2透明基材31とを積層した時に、基材間の距離を入力領域20の周囲にわたって一定にするため設けられている。   The connection part 41e and the connection part 41f are terminals for connecting to an external flexible printed circuit board or the like, and are electrically connected to the Y2-side wiring part 41b and the Y1-side wiring part 41a, respectively. The non-input area 21 located on the X2 side of the input area 20 is formed with an X2-side dummy wiring portion 41d extending in the Y1-Y2 direction. Although the X2-side dummy wiring portion 41d in FIG. 9 is integrally connected to the Y1-side wiring portion 41a, the X2-side dummy wiring portion 41d is not limited to this and may be formed separately. The X2-side dummy wiring portion 41d is provided to make the distance between the base materials constant over the periphery of the input region 20 when the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 are stacked.

第3の変形例の入力装置1においては、第2透明基材31の第1透明基材30と対向する面の非入力領域21に、複数のドット状絶縁部材36が並設されている。ドット状絶縁部材36は、例えばアクリル系の紫外線硬化型樹脂を用い、直径は20μmから100μm、例えば50μm程度に形成し、その高さは5μmから30μm、例えば約10μmで形成した。   In the input device 1 of the third modified example, a plurality of dot-like insulating members 36 are arranged in parallel in the non-input area 21 on the surface of the second transparent substrate 31 facing the first transparent substrate 30. The dot-shaped insulating member 36 is made of, for example, an acrylic ultraviolet curable resin and has a diameter of 20 μm to 100 μm, for example, about 50 μm, and a height of 5 μm to 30 μm, for example, about 10 μm.

本実施形態の第3の変形例の入力装置1において、第2配線層41及びドット状絶縁部材36に亘って第1粘着層60を介して、第1透明基材30と第2透明基材31とが貼り合わされる。これによれば、第2透明基材31と第1粘着層60との間の密着性を向上させることができる。   In the input device 1 of the third modified example of the present embodiment, the first transparent base material 30 and the second transparent base material are disposed across the second wiring layer 41 and the dot-like insulating member 36 via the first adhesive layer 60. 31 is bonded together. According to this, the adhesiveness between the 2nd transparent base material 31 and the 1st adhesion layer 60 can be improved.

ドット状絶縁部材36は、第1透明基材30または第2透明基材31のどちらか一方に設けると、基材間の密着性を向上させることができるが、両方に設けると更に密着性を向上することが可能となる。また、ドット状絶縁部材36の高さは、第1配線層40及び第2配線層41の厚みに比べ小さく形成され、第1透明基材30と第2透明基材31とを接着する際に、第1粘着層60及びドット状絶縁部材36以外の部材を必要としないことから、基材間の距離を増大させることなく密着性を向上できる。   When the dot-like insulating member 36 is provided on either the first transparent base material 30 or the second transparent base material 31, the adhesion between the base materials can be improved. It becomes possible to improve. Further, the height of the dot-like insulating member 36 is formed smaller than the thickness of the first wiring layer 40 and the second wiring layer 41, and when the first transparent substrate 30 and the second transparent substrate 31 are bonded together. Since no member other than the first adhesive layer 60 and the dot-like insulating member 36 is required, the adhesion can be improved without increasing the distance between the substrates.

なお、第2透明基材31においても、ドット状絶縁部材36の配置を様々に変更可能であり、第2配線層41と第2透明基材31の段差部、または、複数の配線部が対向する隙間に形成することにより、より効果的に密着性及び密閉性を向上させることができる。さらに、配線部の端部がドット状絶縁部材36の一部に跨がって積層させることにより、より確実に密着性及び密閉性を向上させることができる。   Note that the arrangement of the dot-like insulating member 36 can be changed in various ways in the second transparent substrate 31, and the stepped portion of the second wiring layer 41 and the second transparent substrate 31 or a plurality of wiring portions are opposed to each other. By forming the gap in the gap, it is possible to more effectively improve the adhesion and sealing performance. Furthermore, the end portions of the wiring portions are stacked over a part of the dot-like insulating member 36, so that the adhesion and the sealing performance can be improved more reliably.

<入力装置の製造方法>
次に本実施形態の入力装置1の製造方法について説明する。特に、ドット状絶縁部材36を第1透明基材30の非入力領域21に形成する工程について図12(a)から図12(c)に示す。
<Manufacturing method of input device>
Next, the manufacturing method of the input device 1 of this embodiment is demonstrated. In particular, a process of forming the dot-like insulating member 36 in the non-input area 21 of the first transparent base material 30 is shown in FIGS.

まず、第1透明基材30の一方の面に第1透明導電層32を形成する。第1透明導電層32にはITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電材料を用い、スパッタ法や蒸着法により形成した。また、あらかじめ第1透明導電層32が形成された第1透明基材30を使用することも可能である。次に、図12(a)に示すように、第1透明導電層32が形成された第1透明基材30の入力領域20にドットスペーサ38を形成する。ドットスペーサ38には、アクリル系の紫外線硬化型樹脂を用い、スクリーン印刷により形成する。ドットスペーサ38の直径は20μmから100μm、例えば直径50μm程度に形成し、その高さは5μmから30μm、例えば約10μmに形成する。   First, the first transparent conductive layer 32 is formed on one surface of the first transparent substrate 30. The first transparent conductive layer 32 was formed by a sputtering method or a vapor deposition method using a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide). Moreover, it is also possible to use the 1st transparent base material 30 in which the 1st transparent conductive layer 32 was formed previously. Next, as shown in FIG. 12A, dot spacers 38 are formed in the input region 20 of the first transparent base material 30 on which the first transparent conductive layer 32 is formed. The dot spacers 38 are formed by screen printing using an acrylic ultraviolet curable resin. The dot spacer 38 has a diameter of 20 μm to 100 μm, for example, a diameter of about 50 μm, and a height of 5 μm to 30 μm, for example, about 10 μm.

ドットスペーサ38は、間隔を設けて複数配列されており、入力装置1の入力操作時において第1透明導電層32と第2透明導電層33とが隣接するドットスペーサ38の間で接触し、入力位置情報を検知する。ドットスペーサ38は誤入力を防ぎ、また、導電層同士が常時接触した状態を防ぐために設けられている。   A plurality of dot spacers 38 are arranged at intervals, and the first transparent conductive layer 32 and the second transparent conductive layer 33 are in contact with each other between the adjacent dot spacers 38 during the input operation of the input device 1, and input is performed. Detect location information. The dot spacer 38 is provided to prevent erroneous input and to prevent the conductive layers from always contacting each other.

次に、図12(b)の工程で、第1透明基材30の非入力領域21にドット状絶縁部材36を形成する。ドット状絶縁部材36には、アクリル系の紫外線硬化型樹脂を用い、スクリーン印刷により形成する。ドット状絶縁部材36の直径は20μmから100μm、例えば50μm程度に形成し、その高さは5μmから30μm、例えば約10μmに形成する。   Next, the dot-shaped insulating member 36 is formed in the non-input area 21 of the first transparent base material 30 in the step of FIG. The dot-like insulating member 36 is formed by screen printing using an acrylic ultraviolet curable resin. The dot-shaped insulating member 36 is formed to have a diameter of 20 μm to 100 μm, for example, about 50 μm, and a height of 5 μm to 30 μm, for example, about 10 μm.

図12(b)の工程の後、紫外線を照射し、ドット状絶縁部材36とドットスペーサ38とを硬化させる。ドットスペーサ38及びドット状絶縁部材36に紫外線硬化型樹脂を用いることにより、加熱により硬化する工程が不要になるため、短時間で製造する事が可能となる。また、硬化時の残留応力が少ないため、第1透明基材30の反りが生じることが無い。   After the step of FIG. 12B, ultraviolet rays are irradiated to cure the dot-like insulating members 36 and the dot spacers 38. By using an ultraviolet curable resin for the dot spacers 38 and the dot-like insulating members 36, a step of curing by heating is not required, so that it is possible to manufacture in a short time. Moreover, since there is little residual stress at the time of hardening, the curvature of the 1st transparent base material 30 does not arise.

ドット状絶縁部材36とドットスペーサ38に同一のアクリル系紫外線硬化型樹脂を用い、ドット状絶縁部材36とドットスペーサ38とを同一の印刷工程で形成することが望ましい。これによれば、工程を新たに追加することなくドット状絶縁部材36を形成する事ができるため、製造コストの低減が可能となる。   It is desirable to use the same acrylic ultraviolet curable resin for the dot-shaped insulating member 36 and the dot spacer 38, and form the dot-shaped insulating member 36 and the dot spacer 38 in the same printing process. According to this, since the dot-shaped insulating member 36 can be formed without adding a new process, the manufacturing cost can be reduced.

次に、図12(c)の工程で、第1透明基材30の非入力領域21において、入力領域20を囲むように第1配線層40を形成する。第1配線層40には、銀または銅などの導電性材料を含む導電性ペーストを用い、スクリーン印刷やインクジェット印刷などの印刷法により形成する。印刷法を用いることにより、安価に、かつ容易に第1配線層40を形成することが可能である。   Next, in the step of FIG. 12C, the first wiring layer 40 is formed so as to surround the input region 20 in the non-input region 21 of the first transparent base material 30. The first wiring layer 40 is formed by using a conductive paste containing a conductive material such as silver or copper by a printing method such as screen printing or inkjet printing. By using the printing method, the first wiring layer 40 can be easily formed at low cost.

次に、フィルム状の樹脂材料からなる第2透明基材31を準備し、第1透明基材30と同様に第2透明導電層33及び第2配線層41を形成する。あらかじめ第2透明導電層33及び第2配線層41が形成された第2透明基材31を使用しても良い。そして、第2透明基材31の入力面側には、表面に加飾層52が印刷された加飾シート51からなる表面部材50が貼り合わされる。   Next, the 2nd transparent base material 31 which consists of a film-form resin material is prepared, and the 2nd transparent conductive layer 33 and the 2nd wiring layer 41 are formed similarly to the 1st transparent base material 30. FIG. You may use the 2nd transparent base material 31 in which the 2nd transparent conductive layer 33 and the 2nd wiring layer 41 were formed previously. And on the input surface side of the 2nd transparent base material 31, the surface member 50 which consists of the decorating sheet 51 by which the decorating layer 52 was printed on the surface is bonded together.

次に、図12(a)から図12(c)の工程で形成した第1透明基材30の非入力領域21において第1配線層40及びドット状絶縁部材36に亘って第1粘着層60を積層する。その後、第1透明基材30と第2透明基材31とを第1粘着層60を介して貼り合わせることにより、図1に示すような入力装置1を形成する。   Next, in the non-input area 21 of the first transparent base material 30 formed in the steps of FIG. 12A to FIG. 12C, the first adhesive layer 60 extends across the first wiring layer 40 and the dot-shaped insulating member 36. Are laminated. Then, the input device 1 as shown in FIG. 1 is formed by bonding the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 through the first adhesive layer 60.

本実施形態の入力装置1の製造方法によれば、第1透明基材30と第2透明基材31とは、第1配線層40及びドット状絶縁部材36に亘って第1粘着層60を介し接着される。ドット状絶縁部材36を設けたことにより、第1透明基材30の非入力領域21表面に微小な凸部が形成される。これにより、第1透明基材30と第1粘着層60との間にアンカー効果が発生し、効果的に密着性を向上させることが可能となる。また、ドット状絶縁部材36の高さは、第1配線層40の厚みに比べ小さく形成され、第1透明基材30と第2透明基材31とを接着する際に、ドット状絶縁部材36の他の部材を必要としないことから、基材間の距離を増大させることなく密着性を向上できる。   According to the manufacturing method of the input device 1 of the present embodiment, the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 have the first adhesive layer 60 across the first wiring layer 40 and the dot-shaped insulating member 36. Glued through. By providing the dot-like insulating member 36, a minute convex portion is formed on the surface of the non-input area 21 of the first transparent base material 30. Thereby, an anchor effect occurs between the 1st transparent substrate 30 and the 1st adhesion layer 60, and it becomes possible to improve adhesiveness effectively. The height of the dot-like insulating member 36 is smaller than the thickness of the first wiring layer 40, and the dot-like insulating member 36 is bonded when the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 are bonded. Since no other member is required, the adhesion can be improved without increasing the distance between the substrates.

図12(a)から図12(c)では、第1透明基材30の表面にドットスペーサ38、ドット状絶縁部材36及び第1配線層40を形成する工程について示したが、第2透明基材31についても、ドット状絶縁部材36を形成することが可能である。第2透明基材31ではドットスペーサ38を形成する必要が無く、第2透明導電層33が形成された第2透明基材31の非入力領域21に、ドット状絶縁部材36を印刷法により形成する。第1透明基材30と第2透明基材31とのどちらか一方にドット状絶縁部材36を設けることにより基材間の密着性を向上することが可能であるが、両方に設けるとより確実に密着性を向上することが可能となる。   12A to 12C show the step of forming the dot spacer 38, the dot-like insulating member 36, and the first wiring layer 40 on the surface of the first transparent substrate 30, the second transparent substrate The dot-like insulating member 36 can be formed also on the material 31. In the second transparent base material 31, it is not necessary to form the dot spacer 38, and the dot-shaped insulating member 36 is formed by the printing method in the non-input area 21 of the second transparent base material 31 on which the second transparent conductive layer 33 is formed. To do. It is possible to improve the adhesion between the substrates by providing the dot-shaped insulating member 36 on one of the first transparent substrate 30 and the second transparent substrate 31, but it is more reliable if provided on both. It is possible to improve the adhesion.

また、図12(b)の工程において、第1透明基材30の非入力領域21に、複数の配線部が対向する隙間を有するように第1配線層40を形成する第1配線領域42を設け、この隙間に位置するようにドット状絶縁部材36を形成することが好適である。こうすれば、第1粘着層60を介して第1透明基材30と第2透明基材31とを貼り合わせた時に、対向する配線部と第1透明基材30との凹部における、第1透明基材30と第1粘着層60との密着性が向上できる。   In the step of FIG. 12B, the first wiring region 42 for forming the first wiring layer 40 is formed in the non-input region 21 of the first transparent base material 30 so as to have gaps where the plurality of wiring portions face each other. It is preferable to form the dot-shaped insulating member 36 so as to be provided in the gap. By so doing, when the first transparent base material 30 and the second transparent base material 31 are bonded together via the first adhesive layer 60, the first in the concave portion between the opposing wiring portion and the first transparent base material 30 is obtained. The adhesion between the transparent substrate 30 and the first adhesive layer 60 can be improved.

さらに、ドット状絶縁部材36の一部が第1配線領域42に跨がって形成されてもよい。こうすれば、第1配線層40の端部が、ドット状絶縁部材36の一部に跨がって積層されるため、第1透明基材30と第1配線層40との段差部が、ドット状絶縁部材36により緩和される。したがって、第1粘着層60により段差部を充填して基材間を貼り合わせる事が容易になるため、密着性及び密閉性の良好な入力装置1を提供する事が可能となる。   Furthermore, a part of the dot-like insulating member 36 may be formed across the first wiring region 42. In this way, since the end portion of the first wiring layer 40 is stacked across a part of the dot-like insulating member 36, the stepped portion between the first transparent substrate 30 and the first wiring layer 40 is It is relieved by the dot-like insulating member 36. Therefore, it becomes easy to fill the stepped portion with the first adhesive layer 60 and bond the substrates together, so that it is possible to provide the input device 1 with good adhesion and airtightness.

1 ・・・ 入力装置、
20 ・・・ 入力領域
21 ・・・ 非入力領域
30 ・・・ 第1透明基材
31 ・・・ 第2透明基材
32 ・・・ 第1透明導電層
33 ・・・ 第2透明導電層
36 ・・・ ドット状絶縁部材
38 ・・・ ドットスペーサ
40 ・・・ 第1配線層
40a ・・・ X1側配線部
40b ・・・ X2側配線部
40g ・・・ Y2側ダミー配線部
41 ・・・ 第2配線層
41a ・・・ Y1側配線部
41b ・・・ Y2側配線部
41d ・・・ X2側ダミー配線部
42 ・・・ 第1配線領域
50 ・・・ 表面部材
51 ・・・ 加飾シート
52 ・・・ 加飾層
60 ・・・ 第1粘着層
61 ・・・ 第2粘着層
1 ... Input device,
20 ... Input area 21 ... Non-input area 30 ... 1st transparent substrate 31 ... 2nd transparent substrate 32 ... 1st transparent conductive layer 33 ... 2nd transparent conductive layer 36 ... dot-like insulating member 38 ... dot spacer 40 ... first wiring layer 40a ... X1 side wiring part 40b ... X2 side wiring part 40g ... Y2 side dummy wiring part 41 ... 2nd wiring layer 41a ... Y1 side wiring part 41b ... Y2 side wiring part 41d ... X2 side dummy wiring part 42 ... 1st wiring area 50 ... Surface member 51 ... Decorating sheet 52 ... decorative layer 60 ... first adhesive layer 61 ... second adhesive layer

Claims (14)

空間を設けて対向配置された1対の透明基材と、
前記1対の透明基材の対向する面の入力領域にそれぞれ形成された透明導電層と、
前記入力領域の外周の非入力領域にそれぞれ形成された配線層と、
前記1対の透明基材を接着する粘着層を有し、
少なくとも一方の前記透明基材の非入力領域においてドット状絶縁部材が形成され、
前記1対の透明基材が、前記配線層及び前記ドット状絶縁部材に亘って前記粘着層を介し接着されるとともに、前記一方の透明基材と前記配線層との段差部が前記粘着層により充填されている事を特徴とする入力装置。
A pair of transparent substrates arranged to face each other with a space;
A transparent conductive layer formed in each of input regions on opposite surfaces of the pair of transparent substrates;
A wiring layer formed in each non-input region on the outer periphery of the input region;
Having an adhesive layer for bonding the pair of transparent substrates;
A dot-shaped insulating member is formed in the non-input region of at least one of the transparent base materials,
The pair of transparent base materials are bonded via the adhesive layer across the wiring layer and the dot-shaped insulating member, and a step portion between the one transparent base material and the wiring layer is formed by the adhesive layer. An input device characterized by being filled.
前記段差部に前記ドット状絶縁部材が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の入力装置。   The input device according to claim 1, wherein the dot-shaped insulating member is formed in the stepped portion. 前記非入力領域において、前記配線層は複数の配線部を有して前記入力領域を囲むように形成され、対向する前記複数の配線部の隙間に前記ドット状絶縁部材が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の入力装置。   In the non-input area, the wiring layer has a plurality of wiring portions and is formed so as to surround the input area, and the dot-shaped insulating member is formed in a gap between the plurality of facing wiring portions. The input device according to claim 1, wherein the input device is characterized. 前記配線部の端部が、前記ドット状絶縁部材の一部に跨がって積層されていることを特徴とする請求項3に記載の入力装置。   The input device according to claim 3, wherein an end portion of the wiring portion is stacked over a part of the dot-shaped insulating member. 一方の前記透明基材における前記複数の配線部の前記隙間と対向して、他方の前記透明基材に前記配線層が形成されていることを特徴とする、請求項3または請求項4に記載の入力装置。   The said wiring layer is formed in the said other transparent base material facing the said clearance gap between these wiring parts in one said transparent base material, The Claim 3 or Claim 4 characterized by the above-mentioned. Input device. 前記ドット状絶縁部材が複数並設されており、前記粘着層と対向する凹凸面を形成することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の入力装置。   The input device according to any one of claims 1 to 5, wherein a plurality of the dot-shaped insulating members are arranged side by side, and an uneven surface facing the adhesive layer is formed. 入力装置の製造方法であって、
一方の面に透明導電層が形成された透明基材の入力領域にドットスペーサを形成する工程と、
前記入力領域の外周の非入力領域にドット状絶縁部材を形成する工程と、
前記非入力領域に複数の配線部からなる配線層を形成する工程と、
前記非入力領域の前記配線層及び前記ドット状絶縁部材に亘って前記粘着層を積層する工程と、
を含むことを特徴とする入力装置の製造方法。
A method for manufacturing an input device, comprising:
Forming a dot spacer in an input region of a transparent substrate having a transparent conductive layer formed on one surface;
Forming a dot-like insulating member in a non-input region on the outer periphery of the input region;
Forming a wiring layer comprising a plurality of wiring portions in the non-input region;
Laminating the adhesive layer across the wiring layer and the dot-like insulating member in the non-input region;
The manufacturing method of the input device characterized by including.
前記ドットスペーサと前記ドット状絶縁部材とが同一の工程で形成されることを特徴とする請求項7に記載の入力装置の製造方法。   The method for manufacturing an input device according to claim 7, wherein the dot spacer and the dot-shaped insulating member are formed in the same process. 前記非入力領域において、前記複数の配線部が対向する隙間を有するように前記配線層を形成する配線領域が設けられ、前記隙間に位置するように前記ドット状絶縁部材を形成する工程を含むことを特徴とする請求項7または請求項8に記載の入力装置の製造方法。   A wiring region for forming the wiring layer is provided in the non-input region so as to have a gap where the plurality of wiring portions face each other, and the step of forming the dot-shaped insulating member so as to be positioned in the gap. The method for manufacturing an input device according to claim 7 or 8, wherein: 前記非入力領域において、前記配線層を形成する配線領域を設定するとともに、前記配線領域と前記配線領域外方の前記非入力領域とに跨がって前記ドット状絶縁部材を形成する工程を含むことを特徴とする請求項7から請求項9のいずれが一項に記載の入力装置の製造方法。   In the non-input region, a step of setting a wiring region for forming the wiring layer and forming the dot-shaped insulating member across the wiring region and the non-input region outside the wiring region is included. 10. The method for manufacturing an input device according to claim 7, wherein any one of claims 7 to 9 is provided. 前記非入力領域において、前記ドット状絶縁部材を複数並設する事を特徴とする請求項7から請求項10のいずれか1項に記載の入力装置の製造方法。   11. The method of manufacturing an input device according to claim 7, wherein a plurality of the dot-shaped insulating members are arranged side by side in the non-input area. 前記ドットスペーサと前記ドット状絶縁部材とをアクリル系樹脂材料により形成することを特徴とする請求項7から請求項11のいずれか一項に記載の入力装置の製造方法。   The method for manufacturing an input device according to claim 7, wherein the dot spacers and the dot-shaped insulating members are formed of an acrylic resin material. 前記ドット状絶縁部材を印刷法により形成する事を特徴とする請求項7から請求項12のいずれか1項に記載の入力装置の製造方法。   The method for manufacturing an input device according to claim 7, wherein the dot-shaped insulating member is formed by a printing method. 前記ドット状絶縁部材を紫外線硬化型樹脂により形成する事を特徴とする請求項7から請求項13のいずれか1項に記載の入力装置の製造方法。
The method for manufacturing an input device according to claim 7, wherein the dot-shaped insulating member is formed of an ultraviolet curable resin.
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