JP2012112038A - 成膜装置及びこれを用いた成膜方法 - Google Patents
成膜装置及びこれを用いた成膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012112038A JP2012112038A JP2011211801A JP2011211801A JP2012112038A JP 2012112038 A JP2012112038 A JP 2012112038A JP 2011211801 A JP2011211801 A JP 2011211801A JP 2011211801 A JP2011211801 A JP 2011211801A JP 2012112038 A JP2012112038 A JP 2012112038A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- film forming
- crystal resonator
- calibration
- measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/545—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
- C23C14/546—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using crystal oscillators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Length Measuring Devices Characterised By Use Of Acoustic Means (AREA)
Abstract
【解決手段】成膜材料を加熱し、前記成膜材料の蒸気を放出させるための成膜源21と、前記成膜源を、所定の成膜待機位置と成膜位置との間で成膜対象物に対して相対的に移動させる移動手段と、前記蒸着源から放出される前記成膜材料の放出量を測定するための測定用水晶振動子22と、前記測定用水晶振動子を校正するための校正用水晶振動子23と、を備える成膜装置であって、前記測定用水晶振動子及び前記校正用水晶振動子が、前記成膜源の所定の成膜待機位置の上方に固定されていることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
前記成膜源を、所定の成膜待機位置と成膜位置との間で成膜対象物に対して相対的に移動させる移動手段と、
前記蒸着源から放出される前記成膜材料の蒸着量を測定するための測定用水晶振動子と、
前記測定用水晶振動子を校正するための校正用水晶振動子と、を備える成膜装置であって、
前記測定用水晶振動子及び前記校正用水晶振動子が、前記成膜源の所定の成膜待機位置の上方に固定されていることを特徴とする。
前記成膜位置において前記成膜材料からなる膜を前記成膜対象物に堆積する工程と、
前記成膜待機位置において前記成膜材料からなる膜を、前記測定用水晶振動子及び前記校正用水晶振動子に所定時間堆積する工程と、
前記所定時間の間に前記校正用水晶振動子及び前記測定用水晶振動子のそれぞれに堆積した膜の膜厚値を算出する工程と、
前記校正用水晶振動子と前記測定用水晶振動子のそれぞれから算出された膜厚値の比から前記測定用水晶振動子の膜厚を校正する校正係数を求める工程と、を有することを特徴とする。
図1に示される成膜装置を用いて基板上に成膜材料を成膜した。
Claims (6)
- 成膜材料を加熱し、前記成膜材料の蒸気を放出させるための成膜源と、
前記成膜源を、所定の成膜待機位置と成膜位置との間で成膜対象物に対して相対的に移動させる移動手段と、
前記蒸着源から放出される前記成膜材料の放出量を測定するための測定用水晶振動子と、
前記測定用水晶振動子を校正するための校正用水晶振動子と、を備える成膜装置であって、
前記測定用水晶振動子及び前記校正用水晶振動子が、前記成膜源の所定の成膜待機位置の上方に固定されていることを特徴とする成膜装置。 - 前記測定用水晶振動子と前記校正用水晶振動子とが、前記成膜源の中心からの距離及び角度が互いに等しい位置に固定されていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記測定用水晶振動子と前記校正用水晶振動子との温度を実質同一に制御するための温度制御手段を備えていることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜装置。
- 前記校正用水晶振動子の近傍にシャッターを備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の成膜装置を用いて、前記成膜材料からなる膜を前記成膜対象物に形成する成膜方法であって、
前記成膜位置において、前記成膜材料からなる膜を前記成膜対象物に堆積する工程と、
前記成膜待機位置において、前記成膜材料からなる膜を前記測定用水晶振動子及び前記校正用水晶振動子に所定時間堆積する工程と、
前記所定時間の間に前記校正用水晶振動子及び前記測定用水晶振動子のそれぞれに堆積した膜の膜厚値を算出する工程と、
前記校正用水晶振動子と前記測定用水晶振動子のそれぞれから算出された膜厚値の比から前記測定用水晶振動子の膜厚を校正する校正係数を求める工程と、を有することを特徴とする成膜方法。 - 請求項4に記載の成膜装置を用いて、前記成膜材料からなる膜を前記成膜対象物に形成する成膜方法であって、
前記成膜位置において前記成膜材料からなる膜を前記成膜対象物に堆積する工程と、
前記成膜源が前記成膜位置を移動している間の所定のタイミングで前記シャッターを開放状態にする工程と、
前記成膜待機位置において前記成膜材料からなる膜を、前記測定用水晶振動子及び前記校正用水晶振動子に所定時間堆積する工程と、
前記校正用水晶振動子と前記測定用水晶振動子のそれぞれから算出された膜厚値の比から前記測定用水晶振動子の膜厚を校正する校正係数を求める工程と、を有することを特徴とする成膜方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011211801A JP5854731B2 (ja) | 2010-11-04 | 2011-09-28 | 成膜装置及びこれを用いた成膜方法 |
US13/281,077 US20120114838A1 (en) | 2010-11-04 | 2011-10-25 | Film formation apparatus |
TW100139151A TWI485281B (zh) | 2010-11-04 | 2011-10-27 | 成膜裝置 |
KR20110110888A KR101487954B1 (ko) | 2010-11-04 | 2011-10-28 | 성막 장치 및 성막 방법 |
CN2011103394995A CN102465262A (zh) | 2010-11-04 | 2011-11-01 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010247819 | 2010-11-04 | ||
JP2010247819 | 2010-11-04 | ||
JP2011211801A JP5854731B2 (ja) | 2010-11-04 | 2011-09-28 | 成膜装置及びこれを用いた成膜方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015240721A Division JP6091590B2 (ja) | 2010-11-04 | 2015-12-10 | 成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012112038A true JP2012112038A (ja) | 2012-06-14 |
JP5854731B2 JP5854731B2 (ja) | 2016-02-09 |
Family
ID=46019875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011211801A Active JP5854731B2 (ja) | 2010-11-04 | 2011-09-28 | 成膜装置及びこれを用いた成膜方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120114838A1 (ja) |
JP (1) | JP5854731B2 (ja) |
KR (1) | KR101487954B1 (ja) |
CN (1) | CN102465262A (ja) |
TW (1) | TWI485281B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014097879A1 (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-26 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012112037A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-06-14 | Canon Inc | 成膜装置及びこれを用いた成膜方法 |
JP5888919B2 (ja) | 2010-11-04 | 2016-03-22 | キヤノン株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
AT512949B1 (de) * | 2012-06-04 | 2016-06-15 | Leica Microsysteme Gmbh | Verfahren zur Beschichtung mit einem Verdampfungsmaterial |
KR101959975B1 (ko) * | 2012-07-10 | 2019-07-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
CN103469172B (zh) * | 2013-08-31 | 2015-08-05 | 上海膜林科技有限公司 | 石英晶体镀膜厚度控制方法及石英晶体镀膜装置 |
CN104165573B (zh) * | 2014-05-13 | 2016-05-11 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种测量装置及镀膜设备 |
JP6263441B2 (ja) * | 2014-05-23 | 2018-01-17 | キヤノントッキ株式会社 | 水晶発振式膜厚モニタによる膜厚制御方法 |
JP6448279B2 (ja) * | 2014-09-30 | 2019-01-09 | キヤノントッキ株式会社 | 真空蒸着装置 |
KR102407869B1 (ko) | 2016-02-16 | 2022-06-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치와, 이의 제조 방법 |
KR102637002B1 (ko) | 2016-06-30 | 2024-02-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 전자수송층을 구비한 유기발광표시장치 및 그 제조방법 |
KR20180027140A (ko) * | 2016-09-06 | 2018-03-14 | 한국원자력연구원 | 인라인 타입 박막 증착 공정 시 박막 두께 제어 방법 및 장치 |
DE102019128515A1 (de) * | 2019-10-22 | 2021-04-22 | Apeva Se | Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors |
CN110670024A (zh) * | 2019-10-24 | 2020-01-10 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 蒸发源 |
JP7252933B2 (ja) * | 2020-11-30 | 2023-04-05 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置、成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009120924A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置、薄膜形成方法 |
JP2010196082A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Canon Inc | 真空蒸着装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI336905B (en) * | 2002-05-17 | 2011-02-01 | Semiconductor Energy Lab | Evaporation method, evaporation device and method of fabricating light emitting device |
US20040007183A1 (en) | 2002-07-11 | 2004-01-15 | Ulvac, Inc. | Apparatus and method for the formation of thin films |
US20040144321A1 (en) * | 2003-01-28 | 2004-07-29 | Eastman Kodak Company | Method of designing a thermal physical vapor deposition system |
TWI299758B (en) * | 2004-03-03 | 2008-08-11 | Sanyo Electric Co | Method and apparatus for measuring the thickness of deposited film, method and apparatus for forming material layer |
JP4818073B2 (ja) * | 2006-11-10 | 2011-11-16 | 株式会社アルバック | 膜厚測定方法 |
US20080241367A1 (en) * | 2007-03-29 | 2008-10-02 | Intevac Corporation | Apparatus for and method of applying lubricant coatings to magnetic disks via a vapor flow path including a selectively opened and closed shutter |
-
2011
- 2011-09-28 JP JP2011211801A patent/JP5854731B2/ja active Active
- 2011-10-25 US US13/281,077 patent/US20120114838A1/en not_active Abandoned
- 2011-10-27 TW TW100139151A patent/TWI485281B/zh active
- 2011-10-28 KR KR20110110888A patent/KR101487954B1/ko active IP Right Grant
- 2011-11-01 CN CN2011103394995A patent/CN102465262A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009120924A (ja) * | 2007-11-19 | 2009-06-04 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置、薄膜形成方法 |
JP2010196082A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Canon Inc | 真空蒸着装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014097879A1 (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-26 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置 |
JP2014118611A (ja) * | 2012-12-18 | 2014-06-30 | Canon Tokki Corp | 成膜装置 |
KR20150096438A (ko) * | 2012-12-18 | 2015-08-24 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 성막 장치 |
KR101968801B1 (ko) | 2012-12-18 | 2019-04-12 | 캐논 톡키 가부시키가이샤 | 성막 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102465262A (zh) | 2012-05-23 |
JP5854731B2 (ja) | 2016-02-09 |
US20120114838A1 (en) | 2012-05-10 |
KR20120047809A (ko) | 2012-05-14 |
TWI485281B (zh) | 2015-05-21 |
TW201250039A (en) | 2012-12-16 |
KR101487954B1 (ko) | 2015-01-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5854731B2 (ja) | 成膜装置及びこれを用いた成膜方法 | |
JP5888919B2 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
KR101488203B1 (ko) | 성막 장치 및 성막 방법 | |
JP4818073B2 (ja) | 膜厚測定方法 | |
KR102008046B1 (ko) | 수정 발진식 막두께 모니터에 의한 막두께 제어 방법 | |
TWI433947B (zh) | 真空氣相沉積系統 | |
JP2010196082A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP2012112034A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP6091590B2 (ja) | 成膜装置 | |
KR20230082660A (ko) | 방사율-보정 고온측정을 위한 방법 | |
US20180037996A1 (en) | Film thickness monitoring system and method using the same | |
JP3926073B2 (ja) | 薄膜形成方法及び装置 | |
JP2013173965A (ja) | 蒸着装置 | |
JP4817237B2 (ja) | 圧電素子の周波数調整装置、及び周波数調整方法 | |
TW202346816A (zh) | 發射率校正高溫測量法 | |
JP2004320759A (ja) | 層のスタック堆積方法、共振器の形成方法、圧電層の堆積方法、および、共振器 | |
JPH10140349A (ja) | 成膜方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140922 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150609 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150807 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151208 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5854731 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |