DE102019128515A1 - Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors - Google Patents

Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors Download PDF

Info

Publication number
DE102019128515A1
DE102019128515A1 DE102019128515.1A DE102019128515A DE102019128515A1 DE 102019128515 A1 DE102019128515 A1 DE 102019128515A1 DE 102019128515 A DE102019128515 A DE 102019128515A DE 102019128515 A1 DE102019128515 A1 DE 102019128515A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
phase
temperature
power
cleaning
vapor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102019128515.1A
Other languages
English (en)
Inventor
Nael Al Ahmad
Claudia Cremer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aixtron SE
Original Assignee
Apeva Se
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Apeva Se filed Critical Apeva Se
Priority to DE102019128515.1A priority Critical patent/DE102019128515A1/de
Priority to PCT/EP2020/079185 priority patent/WO2021078644A1/de
Publication of DE102019128515A1 publication Critical patent/DE102019128515A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/22Details, e.g. general constructional or apparatus details
    • G01N29/32Arrangements for suppressing undesired influences, e.g. temperature or pressure variations, compensating for signal noise
    • G01N29/326Arrangements for suppressing undesired influences, e.g. temperature or pressure variations, compensating for signal noise compensating for temperature variations
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/76Devices for measuring mass flow of a fluid or a fluent solid material
    • G01F1/78Direct mass flowmeters
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/02Analysing fluids
    • G01N29/022Fluid sensors based on microsensors, e.g. quartz crystal-microbalance [QCM], surface acoustic wave [SAW] devices, tuning forks, cantilevers, flexural plate wave [FPW] devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N29/00Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
    • G01N29/02Analysing fluids
    • G01N29/036Analysing fluids by measuring frequency or resonance of acoustic waves
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/021Gases
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/025Change of phase or condition
    • G01N2291/0256Adsorption, desorption, surface mass change, e.g. on biosensors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/028Material parameters
    • G01N2291/02809Concentration of a compound, e.g. measured by a surface mass change
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/028Material parameters
    • G01N2291/02836Flow rate, liquid level
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/04Wave modes and trajectories
    • G01N2291/042Wave modes
    • G01N2291/0426Bulk waves, e.g. quartz crystal microbalance, torsional waves

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors, bei dem die Oberfläche (16') des Schwingkörpers (16) in einer Vorbereitungsphase (V) von einer Regeleinrichtung (12) auf einen Sollwert geregelt wird und in der Prozessphase (B) eine Heizeinrichtung (17) mit einer ersten vorgegebenen Leistung betrieben wird. Zum Reinigen des Sensors wird die Heizeinrichtung (17) in einem ersten Schritt (C) der Reinigungsphase für eine vorgegebene erste Zeit und/oder bis zum Erreichen der Reinigungstemperatur (TR) mit einer ersten Leistung, die mindestens 95 Prozent einer maximal möglichen Leistung beträgt, betrieben und in einem zweiten Schritt (D), der sich unmittelbar an den ersten Schritt (C) der Reinigungsphase anschließt, so lange mit einer zweiten Leistung, die maximal 5 Prozent der maximal möglichen Leistung beträgt, betrieben, bis eine Schalttemperatur (Ts) erreicht ist, deren Wert zwischen der Betriebstemperatur (TP) und der Reinigungstemperatur (TR) liegt.

Description

  • Gebiet der Technik
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betrieb eines Sensors, der einen in eine Oszillation bringbaren Schwingkörper aufweist, dessen Oszillationsfrequenz von der Masse eines auf der Oberfläche des Schwingkörpers abgeschiedenen Kondensats eines organischen Dampfes abhängt, wobei der Sensor Teil einer Vorrichtung zum Abscheiden von organischen Schichten durch Kondensation des Dampfes auf einem Substrat ist, wobei ein Wert einer zeitlichen Änderung der Oszillationsfrequenz für die Ermittlung des Massentransportes des Dampfes durch eine Zuleitung zu einem Gaseinlassorgan, durch welches der von einem Trägergas geförderte Dampf zum Substrat transportiert wird, verwendet wird und wobei der Sensor mit einer Heizeinrichtung in einer Vorbereitungsphase, während der kein Dampf zum Substrat gefördert wird, auf eine vorgegebene Betriebstemperatur gebracht wird und in einer Prozessphase, während der Dampf zum Substrat gefördert wird, mit der Betriebstemperatur betrieben wird.
  • Die Erfindung betrifft darüber hinaus eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens, insbesondere zum Abscheiden organischer Schichten, insbesondere OLEDs auf einem Substrat.
  • Stand der Technik
  • Eine Sensoranordnung zur Ermittlung eines Massenflusses eines organischen Dampfs von einer Quelle in Richtung eines OVPD-Reaktors, der einen Gaseinlass in Form eines Showerheads aufweist, durch welchen der organische Dampf in eine Prozesskammer eingespeist wird, um auf einem von einer Maske maskierten Substrat zu kondensieren, wird in der DE 102014102484 A1 beschrieben. Die DE 102017106968 A1 beschreibt einen QCM-Sensor der einen Schwingkörper aufweist, der in eine Oszillation gebracht wird. Die Oszillationsfrequenz des Schwingkörpers wird von der auf der Oberfläche des Schwingkörpers kondensierten Masse beeinflusst. Aus der zeitlichen Änderung der Frequenz kann ein Dampfdruck des Dampfes in einer Zuleitung zu einem Gaseinlassorgan, in der sich der Sensor befindet, ermittelt werden. Aus einem Massenfluss oder Volumenfluss eines Trägergases, der durch die Zuleitung strömt, kann der Massenfluss des organischen Dampfes zum Gaseinlassorgan ermittelt werden. Während eines Prozesszyklus, in dem der Sensor für einen Prozessschritt, der während einer Prozessphase stattfindet, vorbereitet wird, findet in einer Reinigungsphase durch Aufheizen der Oberfläche des Schwingkörpers eine Reinigung des Sensors statt. Die Prozesszyklen können größer als 30 Minuten sein, aber auch wenige Minuten betragen. Die Prozessphase kann wenige Minuten oder sogar nur wenige Sekunden lang sein.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das eingangs genannte Verfahren und eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden, wobei insbesondere vorgesehen ist, Maßnahmen anzugeben, mit denen sich die Zeiten eines Prozesszyklus vermindern lassen und insbesondere die Temperatur der Sensoroberfläche in der Prozessphase konstanter halten lässt.
  • Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung. Die Unteransprüche stellen vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung dar. Sie stellen darüber hinaus auch eigenständige Lösungen der Aufgabe dar.
  • Gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung wird vorgeschlagen, dass die Temperatur der Oberfläche des Schwingkörpers während der Prozessphase nicht geregelt, sondern gesteuert oder bei der Regelung ein derartiger Regelparametersatz verwendet wird, dass die Regelung derart langsam erfolgt, dass sie einer Steuerung gleichkommt. Hierzu wird in einer Leistungsermittlungsphase, die zeitlich der Prozessphase vorgeordnet ist und die insbesondere in einer Vorbereitungsphase liegt, ein Wert für eine Leistung gewonnen, die in der Prozessphase in die Heizeinrichtung des Sensors eingespeist wird. In der Vorbereitungsphase und insbesondere in der Leistungsermittlungsphase wird die Temperatur des Schwingkörpers des Sensors gegen einen Sollwert geregelt. Während dieser Betriebsphase wird kein Dampf zum Substrat gefördert. Es wird bevorzugt ein Mittelwert der in der Leistungsermittlungsphase zum Schwingkörper übertragenen Heizleistung gebildet. Dieser Leistungsmittelwert wird in der bevorzugt unmittelbar anschließenden Prozessphase verwendet, um den Schwingkörper zu beheizen. Aufgrund der während der Prozessphase in die Heizeinrichtung eingespeisten elektrischen Leistung treten beim Kondensieren des organischen Materials auf der Oberfläche des Schwingkörpers während der Prozessphase keine Temperaturschwankungen auf. Es kann vorgesehen sein, dass die zeitliche Dauer der Leistungsermittlungsphase größer ist, als die zeitliche Dauer der Prozessphase, während derer Dampf in die Prozesskammer eingespeist wird. Es ist somit von Vorteil, wenn die Temperatur des Sensorkörpers und insbesondere dessen Oberfläche nur in einer Zeit vor der Prozessphase geregelt und in der eigentlichen Prozessphase lediglich gesteuert oder mit derart hohen Zeitkonstanten geregelt wird, dass diese Regelung einer Steuerung technisch gleichkommt. Dies kann durch Einspeisen einer während der Prozessphase konstant gehaltenen Leistung erfolgen oder dadurch, dass die Zeitkonstante größer ist, als die zeitliche Dauer der Prozessphase. Ein zweiter Aspekt der Erfindung betrifft die Reinigungsphase, während der der Schwingkörper auf eine erhöhte Temperatur aufgeheizt wird, bei der von der Oberfläche des Schwingkörpers organisches Material abdampft. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird der Heizkörper in einem ersten Schritt der Reinigungsphase bis zum Erreichen eine Reinigungstemperatur mit einer ersten Leistung, die mindestens 95 Prozent der maximal möglichen Leistung beträgt, die aber auch 100 Prozent der maximal möglichen Leistung betragen kann, betrieben. Der erste Schritt kann aber auch für eine vorgegebene Zeit durchgeführt werden. Gemäß einer bevorzugten Ausgestaltung des Verfahrens wird der erste Reinigungsschritt so lange durchgeführt, bis entweder eine vorgegebene Reinigungstemperatur erreicht ist oder eine vorgegebene erste Zeit verstrichen ist. Während des ersten Schrittes nimmt die Temperatur der Oberfläche des Schwingkörpers mit einer maximalen Temperaturänderungsrate zu. Hierzu wird die Heizeinrichtung mit der maximalen Leistung einer zum Betrieb der Heizeinrichtung ausgelegten Leistungsversorgung betrieben. Die maximal mögliche Leistung kann auch die maximale Leistung sein, die in die Heizeinrichtung ohne ihre Zerstörung einspeisbar ist. Ein sich bevorzugt unmittelbar an den ersten Schritt der Reinigungsphase anschließender zweiter Schritt sieht vor, dass der Heizeinrichtung nur eine minimale Leistung zugeführt wird. Diese kann 0 sein. Sie soll maximal 5 Prozent der maximalen Leistung betragen. Während des zweiten Schrittes sinkt die Oberflächentemperatur des Schwingkörpers ab. Dies kann beispielsweise dadurch erfolgen, dass dem Schwingkörpers und/oder der Heizeinrichtung gemäß DE 102017106968 A1 Wärme entzogen wird. Hierzu kann eine Kühleinrichtung vorgesehen sein. Der zweite Schritt, der ein Abkühlschritt ist, wird so lange durchgeführt, bis eine Schalttemperatur erreicht ist. Der Wert der Schalttemperatur kann zwischen der Betriebstemperatur und der Reinigungstemperatur liegen. Es kann vorgesehen sein, dass sich die Schalttemperatur durch einen additiven Wert von der Betriebstemperatur unterscheidet, welcher in einem Kalibrierprozess ermittelt wird. Wie beim ersten Aspekt der Erfindung auch, enthält der Prozesszyklus eine Phase, in der die Temperatur des Sensorkörpers und insbesondere der Sensoroberfläche auf einem vorgegebenen Wert geregelt wird und eine sich insbesondere daran anschließende Phase, in der die Temperatur gesteuert wird, nämlich insbesondere dadurch, dass eine maximale Leistung in die Heizeinrichtung eingespeist wird beziehungsweise durch Reduzierung der Heizleistung auf 0 der Sensorkörper mit einer maximalen Kühlleistung gekühlt wird. In einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung wird vorgeschlagen, dass in einem dritten Schritt der Reinigungsphase, der sich unmittelbar dem zweiten Schritt der Reinigungsphase anschließen kann, die Heizeinrichtung mit einer vorgegebenen dritten Leistung betrieben wird. Diese ist kleiner, als eine während einer Leistungsermittlungsphase gemittelte Leistung zum Erreichen der Betriebstemperatur. Dies hat zur Folge, dass sich das Abkühlen der Oberfläche des Schwingkörpers zeitlich verzögert. Der dritte Schritt der Reinigungsphase kann für eine vorgegebene dritte Zeit durchgeführt werden. An den dritten Schritt der Reinigungsphase kann sich ein vierter Schritt der Reinigungsphase anschließen, bei dem die Regeleinrichtung die Temperatur des Schwingkörpers gegen den Sollwert regelt. Während dieser geregelten Betriebsphase steigt die Leistung kontinuierlich an, bis ein Gleichgewicht erreicht ist, in dem die Leistung um einen Mittelwert schwankt. Die vorgegebene dritte Leistung, mit der die Heizeinrichtung in der dritten Reinigungsphase betrieben wird, kann in einem vorgegebenen Verhältnis zur in der Leistungsermittlungsphase ermittelten gemittelten Leistung zum Erreichen der Betriebstemperatur liegen. Beispielsweise kann der Wert der Leistung zum Erreichen der Betriebstemperatur mit einem Faktor größer 0 und kleiner 1 multipliziert werden.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren führt bevorzugt nicht nur zu einem verbesserten Prozessergebnis, sondern durch verkürzte Reinigungszeiten auch zu einer verkürzten Prozessdauer.
  • Figurenliste
  • Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
    • 1 schematisch den zeitlichen Verlauf einer Temperatur der Oberfläche 16' eines Schwingkörpers 16 eines erfindungsgemäßen Sensors und darunter den zeitlichen Verlauf der in einer Heizeinrichtung 17 zum Beheizen des Schwingkörpers 16 eingespeisten Leistung,
    • 2 schematisch einen Sensor gemäß DE 102017106968 A1 , wie er zur Durchführung des Verfahrens verwendet werden kann und
    • 3 schematisch eine Vorrichtung gemäß DE 102014102484 A1 , wie sie zur Durchführung des Verfahrens verwendet werden kann.
  • Beschreibung der Ausführungsformen
  • Der Offenbarungsgehalt der beiden zuvor genannten Schriften wird vollinhaltlich mit in den Offenbarungsgehalt dieser Anmeldung aufgenommen, insbesondere auch um die Ansprüche um Merkmale zu ergänzen.
  • Eine Vorrichtung, an der das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt werden kann, zeigt die 3. Mit einem Massenflusskontroller 14 wird ein Inertgas, beispielsweise Stickstoff, in eine Zuleitung zu einer Verdampfungseinrichtung eingespeist. Der Massenflusskontroller 14 kann von einer Regeleinrichtung 12 geregelt werden. Mit einem Aerosolerzeuger 13, der ebenfalls von der Regeleinrichtung 12 geregelt werden kann, wird ein Aerosol eines organischen Ausgangsstoffes erzeugt, welches in einen auch eine Verdampfungstemperatur aufgeheizten Verdampfungskörper 15 der Verdampfungseinrichtung eingespeist wird. Durch Zufuhr von Verdampfungsenergie werden die Aerosolpartikel an den Oberflächen des Verdampfungskörpers 15 verdampft. Stromabwärts des Verdampfungskörpers 15 befindet sich ein Sensor 11, mit dem der Partialdruck des organischen Dampfes innerhalb einer Zuleitung 8 zu einem OVPD-Reaktor 1 bestimmt werden kann. Durch die Kenntnis des Partialdrucks des organischen Dampfes und des Massenflusses beziehungsweise Volumenflusses des Trägergases durch die Verdampfungseinrichtung lässt sich der Massenfluss des organischen Dampfes zum OVPD-Reaktor 1 ermitteln. Um eine Kondensation des Dampfes an den Wänden der Zuleitung 8 zu vermeiden, besitzt diese eine Heizung 9, mit der die Oberflächentemperatur der Wand der Zuleitung 8 auf einer Temperatur gehalten wird, die oberhalb der Kondensationstemperatur des organischen Dampfes liegt.
  • Der Sensor 11 ist ein QCM. Er besitzt einen Schwingkörper 16 mit einer freien Oberfläche 16', auf der der Dampf des organischen Materials kondensieren kann. Mit seiner der freien Oberfläche 16' weggewandten Seite ist der Schwingkörper 16 mit einer Heizeinrichtung 17 temperaturleitend verbunden. Die Heizeinrichtung 17 ist wiederum über ein Isolationselement 19 schwächer temperaturleitend mit einem Kühlelement 18 verbunden. Wird die Heizeinrichtung 17 mit einer gewissen Leistung beheizt, so wird sowohl Wärme zum Schwingkörper 16 als auch zum Kühlelement 18 abgeführt. In dieser Betriebsart, in der ein Nettowärmefluss zum Schwingkörper 16 fließt, kann der Schwingkörper 16 auf eine Temperatur gebracht werden, bei der dort kondensiertes Material abdampfen kann. Wird die Heizeinrichtung 17 hingegen mit einer geringeren Leistung beheizt, so kann dem Schwingkörper 16 Wärme entzogen und durch die Heizeinrichtung 17 und das Isolationselement 19 hindurch zum Kühlelement 18 abgeführt werden. In dieser Betriebsart wird die Oberfläche 16' des Schwingkörpers 16 auf einer Temperatur gehalten, auf der organisches Material auf der Oberfläche 16' kondensieren kann. Während die Heizeinrichtung 17 sowohl geregelt als auch gesteuert betrieben werden kann, wird das Kühlelement 18 bevorzugt ausschließlich gesteuert betrieben, indem beispielsweise ein Kühlmittel mit einer vorgegebenen Kühltemperatur in das Kühlelement 18 eingespeist wird. Bei dem Kühlelement 18 kann es sich aber auch um ein Peltier-Element handeln, das mit einer vorgegebenen Kühlleistung betrieben wird.
  • Die 1 zeigt an einem Beispiel einen Prozesszyklus zum Abscheiden einer organischen Schicht auf einem Substrat 10, welches auf einem Substrathalter 5 eines OVPD-Reaktors 1 liegt. Der Substrathalter 5 besitzt Kühlkanäle 6, durch die eine Kühlflüssigkeit hindurchströmen kann. Oberhalb des Substrathalters 5 beziehungsweise des auf dem Substrathalter 5 aufliegenden Substrates 10 befindet sich eine Prozesskammer 7. Nach oben hin wird Prozesskammer 7 durch eine Gasaustrittsfläche eines Gaseinlassorgans 2 begrenzt, das eine Gasverteilkammer 3 besitzt, von der eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnungen 4 in die Gasaustrittsfläche münden. Die Gasverteilkammern 3 werden von der Zuleitung 8 mit dem vom Trägergas transportierten organischen Dampf gespeist.
  • Der in der 1 dargestellte Prozesszyklus wird mehrfach hintereinander wiederholt. Er besteht aus einer Vorbereitungsphase V, in der kein Dampf in die Prozesskammer 7 eingespeist wird und einer Prozessphase B, in der Dampf in die Prozesskammer 7 eingespeist wird. Die Vorheizphase V beinhaltet eine Leistungsermittlungsphase A, eine Reinigungsphase, die die Abschnitte C, D, F aufweist und einer optionalen Phase G, in der im Wesentlichen lediglich die Temperatur des Schwingkörpers gehalten wird. Während dieser Phase G wird bei einer mittleren Leistung Pm die Temperatur des Schwingkörpers 16 und insbesondere die Oberflächentemperatur der Oberfläche 16' gegen einen Sollwert geregelt, sodass die Temperatur eine Prozesstemperatur TP einnimmt. Dies erfolgt mittels der Regeleinrichtung 12. Zur Verdeutlichung, dass es sich in der Phase G um eine geregelte Temperatur handelt, ist die Leistung und die Temperatur in der 1 um einen Mittelwert schwankend dargestellt.
  • In einer Leistungsermittlungsphase A, bei der die Temperatur des Schwingkörpers 16 und insbesondere dessen Oberfläche 16' ebenfalls geregelt wird, wird eine gemittelte Leistung P ermittelt. Dies erfolgt ohne dass organischer Dampf in die Prozesskammer 7 eingespeist wird beziehungsweise ohne dass vom Verdampfungskörper 15 Aerosolpartikel verdampft werden.
  • In einer Prozessphase B, bei der organischer Dampf erzeugt wird, beispielsweise dadurch, dass Aerosolpartikel in den Verdampfungskörper 15 eingespeist werden beziehungsweise der Verdampfungskörper 15 auf eine Verdampfungstemperatur gebracht wird, wird die Heizeinrichtung 17 ungeregelt betrieben. Sie wird mit einer konstanten Heizleistung elektrisch bestromt, wobei diese Leistung der Leistung entspricht, die in der Leistungsermittlungsphase A ermittelt worden ist. Die zeitliche Dauer der Leistungsermittlungsphase A kann größer sein, als die zeitliche Dauer der Prozessphase B, die nur wenige Sekunden (kleiner 20 Sekunden) dauern kann.
  • Während der Vorbereitungsphase V kann die Oberfläche 16' des Schwingkörpers 16 gereinigt werden. Hierzu wird die Oberfläche 16' auf eine Reinigungstemperatur aufgeheizt. Erfindungsgemäß erfolgt dies während einer Reinigungsphase. Beim Ausführungsbeispiel besitzt die Reinigungsphase vier Schritte:
  • In dem mit C bezeichneten ersten Schritt der Reinigungsphase wird die Heizeinrichtung 17 mit maximaler Leistung PMax betreten. Die Zeit des ersten Schrittes kann vorgesehen sein. Die Zeit des ersten Schrittes kann aber auch ein Maximalwert sein. Der erste Schritt kann beispielsweise beendet werden, wenn entweder eine vorgegebene Zeit verstrichen ist oder die Reinigungstemperatur TR erreicht ist. Die Leistung, mit der die Heizeinrichtung 17 betrieben wird, kann eine elektrische Leistungsquelle sein, die eine maximale Leistung erzeugen kann. Die maximale Leistung kann aber auch die maximale Leistung sein, die ohne Zerstörung der Heizeinrichtung 17 in die Heizeinrichtung 17 einspeisbar ist.
  • In dem mit D bezeichneten zweiten Schritt der Reinigungsphase wird die Heizeinrichtung 17 mit minimaler Leistung, bevorzugt überhaupt nicht mit Leistung beaufschlagt, sodass das Kühlelement 18 seine maximale Leistung entfalten kann. Der zweite Schritt der Reinigungsphase kann dann beendet sein, wenn die Oberflächentemperatur des Schwingkörpers 16 einen vorgegebenen Wert erreicht. Dieser kann beispielsweise TP + X2 sein, wobei X2 ein Kalibrierparameter ist, der von System zu System variieren kann. Dieser Kalibrierwert kann in Vorversuchen ermittelt werden.
  • In dem mit E bezeichneten dritten Schritt der Reinigungsphase wird die Heizeinrichtung 17 mit einer Leistung beaufschlagt, die zwischen 0 und der mittleren Leistung Pm zum Erreichen der Betriebstemperatur TP liegt. Diese Leistung kann beispielsweise wie folgt vorgegeben sein: P = Pm · X1, wobei X1 ein weiterer Kalibrierparameter ist, der größer 0 und kleiner 1 ist und der in Vorversuchen ermittelt wird. Die in diesem Schritt eingespeiste Leistung hat bevorzugt eine Höhe, die ausreichend hoch ist, um zu vermeiden, dass die Temperatur nicht unter die Prozesstemperatur absinkt. Durch diesen Schritt wird erreicht, dass in dem nachfolgend beschriebenen dritten Schritt die Temperatur nicht unter einen vorgegebenen Wert absinkt.
  • Nach Beendigung des dritten Schrittes E, entweder nach einer vorgegebenen Zeit oder nach Erreichen einer vorgegebenen Temperatur, schließt sich an den dritten Schritt E ein vierter Schritt F der Reinigungsphase an, in dem die Heizeinrichtung 17 gegen den Sollwert der Betriebstemperatur TP geregelt wird.
  • Die vorstehenden Ausführungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zumindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils auch eigenständig weiterbilden, wobei zwei, mehrere oder alle dieser Merkmalskombinationen auch kombiniert sein können, nämlich:
  • Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Temperatur der Oberfläche 16' des Schwingkörpers 16 in der Vorbereitungsphase V von einer Regeleinrichtung 12 auf einen Sollwert geregelt wird und in der Prozessphase B die Heizeinrichtung mit einer ersten vorgegebenen Leistung P betrieben wird.
  • Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die erste vorgegebene Leistung P eine in der Vorbereitungsphase V während einer Leistungsermittlungsphase A der Vorbereitungsphase V ermittelt wird.
  • Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die erste vorgegebene Leistung P eine während der Leistungsermittlungsphase A gemittelte Leistung ist.
  • Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die zeitliche Dauer der Vorbereitungsphase V und/oder der Leistungsermittlungsphase A länger ist als die zeitliche Dauer der Prozessphase.
  • Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Dauer der Prozessphase B maximal 30 Sekunden beträgt und/oder dass die Dauer der Vorbereitungsphase V maximal 90 Sekunden beträgt.
  • Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Heizeinrichtung 17 in einem ersten Schritt C der Reinigungsphase für eine vorgegebene erste Zeit und/oder bis zum Erreichen der Reinigungstemperatur TR mit einer ersten Leistung, die mindestens 95 Prozent einer maximal möglichen Leistung beträgt, betrieben wird und in einem zweiten Schritt D, der sich unmittelbar an den ersten Schritt C der Reinigungsphase anschließt, so lange mit einer zweiten Leistung, die maximal 5 Prozent der maximal möglichen Leistung beträgt, betrieben wird, bis eine Schalttemperatur Ts erreicht ist, deren Wert zwischen der Betriebstemperatur TP und der Reinigungstemperatur TR liegt.
  • Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass in einem dritten Schritt E, der sich unmittelbar an den zweiten Schritt D der Reinigungsphase anschließt, die Heizeinrichtung 17 für eine vorgegebene dritte Zeit mit einer vorgegebenen dritten Leistung betrieben wird, die kleiner ist, als eine während einer Leistungsermittlungsphase A gemittelte Leistung zum Erreichen der Betriebstemperatur TP .
  • Ein Verfahren, das dadurch gekennzeichnet ist, dass im Anschluss an den dritten Schritt E der Reinigungsphase in einem vierten Schritt F der Reinigungsphase die Temperatur des Schwingkörpers mittels der Regelungseinrichtung 12 auf einen Sollwert geregelt wird.
  • Eine Vorrichtung, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Steuereinrichtung 20 derartig eingerichtet ist, dass sich die Temperatur der Oberfläche 16' des Schwingkörpers 16 gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 8 ändert.
  • Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren, auch ohne die Merkmale eines in Bezug genommenen Anspruchs, mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen. Die in jedem Anspruch angegebene Erfindung kann zusätzlich ein oder mehrere der in der vorstehenden Beschreibung, insbesondere mit Bezugsziffern versehene und/oder in der Bezugsziffernliste angegebene Merkmale aufweisen. Die Erfindung betrifft auch Gestaltungsformen, bei denen einzelne der in der vorstehenden Beschreibung genannten Merkmale nicht verwirklicht sind, insbesondere soweit sie erkennbar für den jeweiligen Verwendungszweck entbehrlich sind oder durch andere technisch gleichwirkende Mittel ersetzt werden können.
  • Bezugszeichenliste
  • 1
    OVPD-Reaktor
    2
    Gaseinlassorgan
    3
    Gasverteilkammer
    4
    Gasaustrittsöffnung
    5
    Substrathalter
    6
    Kühlkanal
    7
    Prozesskammer
    8
    Zuleitung
    9
    Heizung
    10
    Substrat
    11
    Sensor
    12
    Regeleinrichtung
    13
    Aerosolerzeuger
    14
    Massenflusskontroller
    15
    Verdampfungskörper
    16
    Sensorkörper
    16'
    Oberfläche
    17
    Heizeinrichtung
    18
    Kühlelement
    19
    Isolationselement
    A
    Leistungsermittlungsphase
    B
    Prozessphase
    C
    erster Reinigungsschritt
    D
    zweiter Reinigungsschritt
    E
    dritter Reinigungsschritt
    F
    vierter Reinigungsschritt
    P
    Leistung
    Pm
    mittlere Leistung
    T
    Temperatur
    TP
    Prozesstemperatur
    TPMax
    maximale Prozesstemperatur
    TR
    Reinigungstemperatur
    TS
    Schalttemperatur
    V
    Vorbereitungsphase
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102014102484 A1 [0003, 0008]
    • DE 102017106968 A1 [0003, 0006, 0008]

Claims (10)

  1. Verfahren zum Betrieb eines Sensors (11), der einen in eine Oszillation bringbaren Schwingkörper (16) aufweist, dessen Oszillationsfrequenz von der Masse eines auf der Oberfläche (16') des Schwingkörpers (16) abgeschiedenen Kondensats eines organischen Dampfes abhängt, wobei der Sensor (11) Teil einer Vorrichtung zum Abscheiden von organischen Schichten durch Kondensation des Dampfes auf einem Substrat (10) ist, wobei ein Wert einer zeitlichen Änderung der Oszillationsfrequenz für die Ermittlung des Massentransportes des Dampfes durch eine Zuleitung (8) zu einem Gaseinlassorgan (2), durch welches der von einem Trägergas geförderte Dampf zum Substrat (10) transportiert wird, verwendet wird und wobei der Sensor mit einer Heizeinrichtung (17) in einer Vorbereitungsphase (V), während der kein Dampf zum Substrat (10) gefördert wird, auf eine vorgegebene Betriebstemperatur (TP) gebracht wird und in einer Prozessphase (B), während der Dampf zum Substrat (10) gefördert wird, mit der Betriebstemperatur (TP) betrieben wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Temperatur der Oberfläche (16') des Schwingkörpers (16) in der Vorbereitungsphase (V) von einer Regeleinrichtung (12) auf einen Sollwert geregelt wird und in der Prozessphase (B) die Heizeinrichtung mit einer ersten vorgegebenen Leistung (P) betrieben wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste vorgegebene Leistung (P) eine in der Vorbereitungsphase (V) während einer Leistungsermittlungsphase (A) der Vorbereitungsphase (V) ermittelt wird.
  3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die erste vorgegebene Leistung (P) eine während der Leistungsermittlungsphase (A) gemittelte Leistung ist.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die zeitliche Dauer der Vorbereitungsphase (V) und/oder der Leistungsermittlungsphase (A) länger ist als die zeitliche Dauer der Prozessphase.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Dauer der Prozessphase (B) maximal 30 Sekunden beträgt und/oder dass die Dauer der Vorbereitungsphase (V) maximal 90 Sekunden beträgt.
  6. Verfahren zum Betrieb eines Sensors (11), der einen in eine Oszillation bringbaren Schwingkörper (16) aufweist, dessen Oszillationsfrequenz von der Masse eines auf der Oberfläche (16') des Schwingkörpers (16) abgeschiedenen Kondensats eines organischen Dampfes abhängt, wobei der Sensor (11) Teil einer Vorrichtung zum Abscheiden von organischen Schichten durch Kondensation des Dampfes auf einem Substrat (10) ist, wobei ein Wert einer zeitlichen Änderung der Oszillationsfrequenz für die Ermittlung des Massentransportes des Dampfes durch eine Zuleitung (8) zu einem Gaseinlassorgan (2), durch welches der von einem Trägergas geförderte Dampf zum Substrat (10) transportiert wird, verwendet wird und wobei der Sensor mit einer Heizeinrichtung (17) in einer Vorbereitungsphase (V), während der kein Dampf zum Substrat (10) gefördert wird, auf eine vorgegebene Betriebstemperatur (TP) gebracht wird und in einer Prozessphase (B), während der Dampf zum Substrat (10) gefördert wird, mit der Betriebstemperatur (TP) betrieben wird, und wobei die Oberfläche des Schwingkörpers durch Aufheizen auf eine Reinigungstemperatur (TR) in einer Reinigungsphase der Vorbereitungsphase (V) gereinigt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Heizeinrichtung (17) in einem ersten Schritt (C) der Reinigungsphase für eine vorgegebene erste Zeit und/oder bis zum Erreichen der Reinigungstemperatur (TR) mit einer ersten Leistung, die mindestens 95 Prozent einer maximal möglichen Leistung beträgt, betrieben wird und in einem zweiten Schritt (D), der sich unmittelbar an den ersten Schritt (C) der Reinigungsphase anschließt, so lange mit einer zweiten Leistung, die maximal 5 Prozent der maximal möglichen Leistung beträgt, betrieben wird, bis eine Schalttemperatur (Ts) erreicht ist, deren Wert zwischen der Betriebstemperatur (TP) und der Reinigungstemperatur (TR) liegt.
  7. Verfahren nach Anspruch 6 dadurch gekennzeichnet, dass in einem dritten Schritt (E), der sich unmittelbar an den zweiten Schritt (D) der Reinigungsphase anschließt, die Heizeinrichtung (17) für eine vorgegebene dritte Zeit mit einer vorgegebenen dritten Leistung betrieben wird, die kleiner ist, als eine während einer Leistungsermittlungsphase (A) gemittelte Leistung zum Erreichen der Betriebstemperatur (TP).
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass im Anschluss an den dritten Schritt (E) der Reinigungsphase in einem vierten Schritt (F) der Reinigungsphase die Temperatur des Schwingkörpers mittels der Regelungseinrichtung (12) auf einen Sollwert geregelt wird.
  9. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, mit einem Sensor (11), der einen in eine Oszillation bringbaren Schwingkörper (16) aufweist, dessen Oszillationsfrequenz von der Masse eines auf der Oberfläche (16') des Schwingkörpers (16) abgeschiedenen Kondensats eines organischen Dampfes abhängt, und der in einer Zuleitung (8) zu einem Gaseinlassorgan (2) angeordnet ist, durch welches der von einem Trägergas geförderte Dampf zu einem Substrat (10) transportiert wird, wobei der Sensor einer Heizeinrichtung (17) aufweist, und mit einer Steuereinrichtung (20), die mit einer Regeleinrichtung (12) zum Regeln/Steuern der Temperatur der Oberfläche (16') des Schwingkörpers (16) zusammenwirkt, dadurch gekennzeichnet, dass die Steuereinrichtung (20) derartig eingerichtet ist, dass sich die Temperatur der Oberfläche (16') des Schwingkörpers 16 gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche 1 bis 8 ändert.
  10. Verfahren oder Vorrichtung, gekennzeichnet durch eines oder mehrere der kennzeichnenden Merkmale eines der vorhergehenden Ansprüche.
DE102019128515.1A 2019-10-22 2019-10-22 Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors Pending DE102019128515A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019128515.1A DE102019128515A1 (de) 2019-10-22 2019-10-22 Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors
PCT/EP2020/079185 WO2021078644A1 (de) 2019-10-22 2020-10-16 Verfahren zum betrieb eines qcm-sensors

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019128515.1A DE102019128515A1 (de) 2019-10-22 2019-10-22 Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102019128515A1 true DE102019128515A1 (de) 2021-04-22

Family

ID=73014480

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102019128515.1A Pending DE102019128515A1 (de) 2019-10-22 2019-10-22 Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102019128515A1 (de)
WO (1) WO2021078644A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020116271A1 (de) 2020-06-19 2021-12-23 Apeva Se Vorrichtung und Verfahren zum Verdampfen eines organischen Pulvers

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120114838A1 (en) * 2010-11-04 2012-05-10 Cannon Kabushiki Kaisha Film formation apparatus
DE102014102484A1 (de) * 2014-02-26 2015-08-27 Aixtron Se Verwendung eines QCM-Sensors zur Bestimmung der Dampfkonzentration beim OVPD-Verfahren beziehungsweise in einem OVPD-Beschichtungssystem
DE102015104240A1 (de) * 2015-03-20 2016-09-22 Aixtron Se Durch Aufheizen zu reinigender QCM-Sensor und dessen Verwendung in einem OVPD-Beschichtungssystem
WO2018077388A1 (en) * 2016-10-25 2018-05-03 Applied Materials, Inc. Measurement assembly for measuring a deposition rate, evaporation source, deposition apparatus, and method therefor
DE102017106968A1 (de) * 2017-03-31 2018-10-04 Aixtron Se Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE20221736U1 (de) * 1974-10-23 2007-05-16 Avl List Gmbh Vorrichtung zur Bestimmung des nichtflüchtigen Anteils von Aerosolpartikeln in einer Gasprobe
US4748367A (en) * 1985-05-28 1988-05-31 Frequency Electronics, Inc. Contact heater for piezoelectric effect resonator crystal
JP2004014981A (ja) * 2002-06-11 2004-01-15 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120114838A1 (en) * 2010-11-04 2012-05-10 Cannon Kabushiki Kaisha Film formation apparatus
DE102014102484A1 (de) * 2014-02-26 2015-08-27 Aixtron Se Verwendung eines QCM-Sensors zur Bestimmung der Dampfkonzentration beim OVPD-Verfahren beziehungsweise in einem OVPD-Beschichtungssystem
DE102015104240A1 (de) * 2015-03-20 2016-09-22 Aixtron Se Durch Aufheizen zu reinigender QCM-Sensor und dessen Verwendung in einem OVPD-Beschichtungssystem
WO2018077388A1 (en) * 2016-10-25 2018-05-03 Applied Materials, Inc. Measurement assembly for measuring a deposition rate, evaporation source, deposition apparatus, and method therefor
DE102017106968A1 (de) * 2017-03-31 2018-10-04 Aixtron Se Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020116271A1 (de) 2020-06-19 2021-12-23 Apeva Se Vorrichtung und Verfahren zum Verdampfen eines organischen Pulvers
WO2021255078A1 (de) 2020-06-19 2021-12-23 Apeva Se Vorrichtung und verfahren zum verdampfen eines organischen pulvers

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021078644A1 (de) 2021-04-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60318170T2 (de) Vakuumverdampfer
WO2015128279A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur bestimmung der konzentration eines dampfes mittels eines schwingkörpersensors
DE1949767C3 (de) Vorrichtung zum Herstellen gleichmäßig dicker Schichten
DE102015104240A1 (de) Durch Aufheizen zu reinigender QCM-Sensor und dessen Verwendung in einem OVPD-Beschichtungssystem
DE2600398A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum destillieren von rohwasser
EP1970474B1 (de) Bedampfungseinrichtung zur Molekularstrahlbedampfung und Molekularstrahlepitaxie
DE102017106968A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes
DE102014105294A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Abgasreinigung an einem CVD-Reaktor
WO2016000958A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum erzeugen eines dampfes für eine cvd- oder pvd-einrichtung
DE102012001267A1 (de) Partikelstrahlsystem mit Zuführung von Prozessgas zu einem Bearbeitungsort
WO2016000944A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum erzeugen eines dampfes aus mehreren flüssigen oder festen ausgangsstoffen für eine cvd- oder pvd-einrichtung
DE102019128515A1 (de) Verfahren zum Betrieb eines QCM-Sensors
EP0956054A2 (de) Verfahren zum verdampfen und überhitzen eines sterilisierungsmittels und vorrichtung hierfür
WO2019068609A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines in einem trägergas transportierten dampfes
DE102017106967A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Konzentration eines Dampfes
WO2018224454A1 (de) VERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN VON OLEDs
EP1743049A2 (de) Vorrichtung und verfahren zur kontinuierlichen thermischen vakuumbeschichtung
EP3362741B1 (de) Verfahren zur energiegewinnung aus wasserdampf enthaltenden schwaden und vorrichtung zur durchführung dieses verfahrens
WO2019091804A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines dampfes durch die verwendung von in einem regelmodus gewonnenen steuerdaten
DE3023094C2 (de) Vorrichtung zum Erzeugen von Dampf
DE102013206210B4 (de) Vakuumbeschichtungsvorrichtung und Verfahren zur Mehrfachbeschichtung
DE19632410C1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Bauteils mit einer Wärmedämmschicht
DE102010040044B4 (de) Beschichtungsanlage und Verfahren für eine physikalische Gasphasenabscheidung
DE102009005297A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten mittels Vakuumbedampfung
DE102014113943A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Monolage aus einem verdampfbaren Material und einer graphenhaltigen Schicht

Legal Events

Date Code Title Description
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: AIXTRON SE, DE

Free format text: FORMER OWNER: AIXTRON SE, 52134 HERZOGENRATH, DE

R082 Change of representative

Representative=s name: RIEDER & PARTNER MBB PATENTANWAELTE - RECHTSAN, DE

R163 Identified publications notified
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: AIXTRON SE, DE

Free format text: FORMER OWNER: APEVA SE, 52134 HERZOGENRATH, DE