JP2012059741A - 電子部品の冷却装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板上に並べて設けられた複数の電子部品を均一且つ効率よく冷却する。
【解決手段】回路基板12上には複数のデバイスが並べて配置されている。各デバイスにはヒートシンク21a〜21dが設けられている。ファンによって、複数のデバイス及びヒートシンク21a〜21dの配列方向に沿って冷却用空気Aが流通する。ヒートシンク21a〜21dは、複数の平板形状のフィン41が冷却用空気Aの流通方向に沿って平行配置されている。ヒートシンク21a〜21dにおいて隣り合うフィン41、41間を流通した冷却用空気Aが当該ヒートシンク21の下流側のヒートシンク21における一のフィン41に衝突するように、隣り合うヒートシンク21a〜21dの複数のフィン41は千鳥状に配置されている。
【選択図】図5

Description

本発明は、基板上に並べて配置された複数の電子部品を冷却する冷却装置に関する。
例えばICやLSIなどの電子部品は、基板上に複数並べて実装される。電子部品は使用時に発熱するため、基板上のこれら複数の電子部品を冷却する必要がある。特に近年、電子部品の高集積化に伴い、当該電子部品の発熱量が大きくなっており、温度上昇による電子部品の特性の変化や劣化等を防止するため、電子部品を適切に冷却することが要求されている。
そこで従来より、例えば電子部品の強制空冷が行われている。強制空冷は、複数の電子部品が実装された基板を収容する筐体内において、空気を強制的に流通させることによって電子部品から空気への放熱量を増加させ、効率的に電子部品を冷却する方法である。
具体的には、例えば各電子部品にヒートシンクを設け、ファン等を用いてヒートシンクに冷却用空気を吹き付ける。各ヒートシンクには複数の平板形状のフィンが冷却用空気の流通方向に沿って平行に配置されており、当該冷却用空気が上流側のヒートシンクから下流側のヒートシンクに流通するようになっている。また、電子部品をさらに冷却するため、隣り合うヒートシンクをヒートパイプで接続し、当該ヒートパイプ内に冷媒を流通させることも提案されている(特許文献1)。
特開平8−222672号公報
しかしながら、上述した特許文献1に記載された方法で電子部品を冷却した場合、冷却用空気は、上流側から下流側に流れるに従って、ヒートシンク(電子部品)からの放熱によって温められてしまう。すなわち、冷却用空気の流通方向の上流側の電子部品は温度の低い冷却用空気によって冷却されるが、下流側の電子部品は温度の高い冷却用空気によって冷却される。したがって、複数の電子部品を均一に冷却することができない。
また、冷却用空気は、上流側から下流側に流れるに従って、ヒートシンクの抵抗を受けて流れ難くなる。さらに、中央部ではヒートシンクのフィンが密集していて冷却用空気が流れ難くなる。一方、電子部品の下流側にファンを設けた場合、当該下流側ではファンによって冷却用空気は流れ易くなる。以上のように冷却用空気が流れるため、中央部のヒートシンクを流通する冷却用空気の速度は、上流側のヒートシンク及び下流側のヒートシンクを流通する冷却用空気の速度よりも遅くなる。したがって、中央部の電子部品の温度は上流側の電子部品及び下流側の電子部品の温度よりも高くなり、複数の電子部品を均一に冷却することができない。
さらに、特許文献1に記載されたようにヒートパイプを用いた場合、装置が大型化し、複数の電子部品を効率よく冷却することができない。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、基板上に並べて設けられた複数の電子部品を均一且つ効率よく冷却することを目的とする。
前記の目的を達成するため、本発明は、基板上に並べて配置された複数の電子部品を冷却する冷却装置であって、前記複数の電子部品の配列方向に沿って冷却用空気を流通させる冷却機構と、前記各電子部品に設けられ、複数の平板形状のフィンが前記冷却用空気の流通方向に沿って平行配置されたヒートシンクと、を有し、前記ヒートシンクにおいて隣り合うフィン間を流通した冷却用空気が当該ヒートシンクの下流側のヒートシンクにおける一のフィンに衝突するように、隣り合う前記ヒートシンクの複数のフィンは千鳥状に配置されていることを特徴としている。
本発明によれば、隣り合うヒートシンクの複数のフィンが千鳥状に配置されているため、一のヒートシンクを流通した冷却用空気は、当該一のヒートシンクの下流側のヒートシンクにおける一のフィンに衝突する。すなわち、全てのフィンに冷却用空気が衝突する。このため、中央部のヒートシンクからの放熱量が従来よりも大きくなる。また、全てのフィンに冷却用空気が均等に衝突するため、中央部のヒートシンクからの放熱量は、上流側のヒートシンク及び下流側のヒートシンクからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数の電子部品の温度のバラツキを抑えることができ、当該複数の電子部品を均一に冷却することができる。しかも、従来のようにヒートパイプ等を別途設ける必要がなく、複数の電子部品を効率よく冷却することができる。
前記ヒートシンクの表面積は、前記流通方向の最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくなっていてもよい。
前記ヒートシンクの表面積は、少なくともフィンの数、フィンの高さ又は複数のフィンが立設されるベース部の大きさに基づいて設定されてもよい。
前記ヒートシンクに対して前記流通方向に直行する方向の外側には、前記流通方向から傾斜した制御板が配置されていてもよい。
前記制御板は、前記流通方向の中央部のヒートシンクの外側に設けられていてもよい。
別な観点による本発明は、基板上に並べて配置された複数の電子部品を冷却する冷却装置であって、前記複数の電子部品の配列方向に沿って冷却用空気を流通させる冷却機構と、前記各電子部品に設けられ、複数の平板形状のフィンが前記冷却用空気の流通方向に沿って平行配置されたヒートシンクと、を有し、前記ヒートシンクの表面積は、前記流通方向の最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくなっていることを特徴としている。
本発明によれば、ヒートシンクの表面積は、最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくなっている。このため、中央部のヒートシンクからの放熱量が従来よりも大きくなる。また、中央部のヒートシンクを流通する冷却用空気の速度が上流側のヒートシンク及び下流側のヒートシンクを流通する冷却用空気の速度よりも遅くても、中央部のヒートシンクからの放熱量は、上流側のヒートシンク及び下流側のヒートシンクからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数の電子部品の温度のバラツキを抑えることができ、当該複数の電子部品を均一に冷却することができる。しかも、従来のようにヒートパイプ等を別途設ける必要がなく、複数の電子部品を効率よく冷却することができる。
前記ヒートシンクの表面積は、少なくともフィンの数、フィンの高さ又は複数のフィンが立設されるベース部の大きさに基づいて設定されてもよい。
前記ヒートシンクにおいて隣り合うフィン間を流通した冷却用空気が当該ヒートシンクの下流側のヒートシンクにおける一のフィンに衝突するように、隣り合う前記ヒートシンクの複数のフィンは千鳥状に配置されていてもよい。
前記ヒートシンクに対して前記流通方向に直行する方向の外側には、前記流通方向から傾斜した制御板が配置されていてもよい。
前記制御板は、前記流通方向の中央部のヒートシンクの外側に設けられていてもよい。
また別な観点による本発明は、基板上に並べて配置された複数の電子部品を冷却する冷却装置であって、前記複数の電子部品の配列方向に沿って冷却用空気を流通させる冷却機構と、前記各電子部品に設けられ、複数のフィンが立設されたヒートシンクと、前記ヒートシンクに対して前記冷却用空気の流通方向に直行する方向の両側に設けられ、前記流通方向から傾斜して平行配置された制御板と、を有することを特徴としている。
本発明によれば、ヒートシンクに対して冷却用空気の流通方向に直行する方向の外側の領域(以下、「外側領域」という場合がある。)を流通する冷却用空気は、制御板によってヒートシンク側に流れる。すなわち、外側領域の冷却用空気は上流側のヒートシンク内を流通しておらず温められていないため、温度の低い冷却用空気が下流側のヒートシンクに流れる。このため、下流側のヒートシンクからの放熱量は、上流側のヒートシンクからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数の電子部品の温度のバラツキを抑えることができ、当該複数の電子部品を均一に冷却することができる。しかも、従来のようにヒートパイプ等を別途設ける必要がなく、複数の電子部品を効率よく冷却することができる。
前記制御板は、前記流通方向の中央部のヒートシンクの両側に設けられていてもよい。
前記フィンはピン形状を有し、前記複数のフィンは、水平面内に均一に並べて配置されていてもよい。
また、前記フィンは平板形状を有し、前記複数のフィンは、前記制御板と平行に配置されていてもよい。
前記ヒートシンクの表面積は、前記流通方向の最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくなっていてもよい。
前記ヒートシンクの表面積は、少なくともフィンの数、フィンの高さ又は複数のフィンが立設されるベース部の大きさに基づいて設定されてもよい。
本発明によれば、基板上に並べて設けられた複数の電子部品を均一且つ効率よく冷却することができる。
本実施の形態にかかる冷却装置を備えたテストヘッドの構成の概略を示す横断面図である。 本実施の形態にかかる冷却装置を備えたテストヘッドの構成の概略を示す縦断面図である。 本実施の形態にかかる冷却装置を備えたテストヘッドの構成の概略を示す縦断面図である。 ヒートシンクの側面図である。 回路基板上のヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。 他の実施の形態にかかるヒートシンクの形状及び配置を示す説明図である。
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態では、例えば半導体集積回路の電気的特性の検査を行うプローブ装置のテストヘッドにおいて、検査対象である上記半導体集積回路に検査用信号を出力する複数の電子部品としてのデバイスを冷却する冷却装置について説明する。図1は、本実施の形態にかかる冷却装置を備えたテストヘッド1の構成の概略を示す横断面図である。図2及び図3は、テストヘッド1の構成の概略を示す縦断面図である。
テストヘッド1は、内部に種々の部品を収容する筐体10を有している。筐体10の底面には、主基板11が設けられている。主基板11上には、複数の回路基板12がX方向(図1中の上下方向、図3中の左右方向)に並べて立設されている。
回路基板12には、複数のデバイス20がY方向(図1中の左右方向)に並べて配置されている。各デバイス20には、ヒートシンク21が設けられている。したがって、ヒートシンク21もY方向(図1中の左右方向、図2中の左右方向)に並べて配置されている。
筐体10の一の側面には、冷却用空気Aの吸気口30が複数形成されている。吸気口30は、各回路基板12に対応する位置に形成されている。筐体10の他の側面には、冷却機構としてのファン31が複数設けられている。ファン31も、各回路基板12に対応する位置に形成されている。したがって、吸気口30から筐体10内に流入した冷却用空気Aは、回路基板12上の複数のデバイス20及びヒートシンク21の配列方向(図1及び図2のY方向)に沿って流れ、ファン31によって筐体10から流出する。すなわち、回路基板12における複数のデバイス20の配列方向と冷却用空気Aの流通方向は同一方向である。そして、デバイス20から発生した熱はヒートシンク21を介して冷却用空気Aに放熱され、当該デバイス20が冷却されるようになっている。
なお、本実施の形態では、ヒートシンク21とファン31で本発明の冷却装置を構成している。ここで、上述したように冷却装置はヒートシンク21から冷却用空気Aへの放熱によってデバイス20を冷却する。ヒートシンク21からの放熱量は、デバイス20と周囲空気との温度差と熱抵抗(ヒートシンク21の放熱特性)とに影響される。熱抵抗は、冷却用空気Aの速度、及びヒートシンク21の形状、材質によって決まる。すなわち、ヒートシンク21に衝突する冷却用空気Aの速度が大きいと熱抵抗は小さくなり、デバイス20は冷却され易くなる。一方、ヒートシンク21に衝突する冷却用空気Aの速度が小さいと熱抵抗は大きくなり、デバイス20は冷却され難くなる。以下、この冷却装置の種々の形態について、ヒートシンク21の形状及び配置を含めて説明する。
(第1の形態)
ヒートシンク21は、図4に示すようにデバイス20の放熱面に設けられたベース部40と、当該ベース部40に立設された複数のフィン41とを有している。各フィン41は、図5に示すように平板形状を有している。一のヒートシンク21において、複数のフィン41は冷却用空気Aの流通方向(図5中のY方向)に沿って平行に配置されている。なお、発明の理解を容易にするため、図5では便宜上4つのヒートシンク21a〜21dが設けられた場合について図示している。また、4つのヒートシンク21a〜21dは、冷却用空気Aの流通方向の上流側からこの順で設けられている。以下、上流側のヒートシンク21aを「上流側ヒートシンク21a」といい、中央部のヒートシンク21b、21cをそれぞれ「中央部ヒートシンク21b、21c」といい、下流側のヒートシンク21dを「下流側ヒートシンク21d」という場合がある。なお、これらヒートシンク21a〜21dの呼称は、後述する第2の形態及び第3の形態においても同様である。
4つのヒートシンク21a〜21dにおける複数のフィン41は、千鳥状に配置されている。4つのヒートシンク21a〜21dの上下方向の位置はそれぞれ同じ位置であって、各ヒートシンク21a〜21dにおけるフィン41の上下方向の位置をそれぞれずらして配置している。
かかる場合、ヒートシンク21aにおいて隣り合うフィン41、41間を流通した冷却用空気Aは、当該ヒートシンク21aの下流側のヒートシンク21bにおける一のフィン41に衝突する。同様にヒートシンク21b、21cにおいて隣り合うフィン41、41間を流通した冷却用空気Aは、それぞれヒートシンク21c、21dにおける一のフィン41に衝突するようになっている。したがって、全てのフィン41に冷却用空気Aが均等に衝突する。
ここで、上述したように従来の方法でデバイスを冷却した場合、中央部ヒートシンクを流通する冷却用空気の速度は、上流側ヒートシンク及び下流側ヒートシンクを流通する冷却用空気の速度よりも遅くなる。このため、中央部のデバイスの温度は、上流側のデバイス及び下流側のデバイスの温度よりも高くなっていた。この点、本実施の形態によれば、中央部ヒートシンク21b、21cのフィン41に冷却用空気Aが衝突するため、当該中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量が従来よりも大きくなる。また、全てのフィン41に冷却用空気Aが均等に衝突するため、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量は、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキを抑えることができ、当該複数のデバイス20を均一に冷却することができる。また、複数のデバイス20間の温度差によって起こるテストヘッド1の特性のバラツキを抑制することができる。
なお、図5で図示した例では4つのヒートシンク21a〜21dの上下方向の位置はそれぞれ同じ位置であったが、図6に示すように隣り合うヒートシンク21a及び21b、ヒートシンク21b及び21c、ヒートシンク21c及び21dをそれぞれ上下方向にずらして配置してもよい。各ヒートシンク21a〜21dにおけるフィン41の上下方向の配置は同じ配置である。かかる場合でも、4つのヒートシンク21a〜21dにおける複数のフィン41を千鳥状に配置することができ、複数のデバイス20を均一に冷却することができる。
以上の実施の形態において、各中央部ヒートシンク21b、21cの表面積を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dの表面積よりも大きくしてもよい。
例えば図7に示すように各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるベース部40の面積を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dのベース部40の面積よりも大きくしてもよい。そして、各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン41の数を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるフィン41の数よりも多くしてもよい。なお、図7で図示した例においては、下流側の中央部ヒートシンク21cにおけるフィン41の数を、上流側の中央部ヒートシンク21bにおけるフィン41の数よりも多くしている。
また、例えば図8に示すように各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン41の高さを、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるフィン41の高さよりも高くしてもよい。
いずれの場合においても、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量が従来よりも大きくなる。また、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量は、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキをさらに抑えることができ、当該複数のデバイス20をより均一に冷却することができる。なお、図7で図示した例では、下流側の中央部ヒートシンク21cの熱抵抗が上流側の中央部ヒートシンク21bの熱抵抗よりも小さくなる。そうすると、冷却用空気Aが中央部ヒートシンク21bから中央部ヒートシンク21cに流れて温められた場合でも、複数のデバイス20の温度のバラツキをさらに抑えることができる。
なお、本実施の形態では4つのヒートシンク21a〜21dについて説明したが、例えば5つ以上のヒートシンクが配置されている場合には、ヒートシンクの表面積を、最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくしてもよい。
また、以上の実施の形態の冷却装置は、図9に示すように中央部ヒートシンク21b、21cに対して冷却用空気Aの流通方向に直行する外側に、当該流通方向から傾斜した制御板50を有していてもよい。制御板50は、その下流側の端部が上流側の端部よりも中央部ヒートシンク21b、21c側に位置するように配置されている。また、制御板50は、中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン41と同程度の高さを有している。
かかる場合、回路基板12においてヒートシンク21の外側の領域12a(以下、「外側領域12a」という場合がある。)を流れる冷却用空気Aは、中央部ヒートシンク21b、21c側に流れる。すなわち、外側領域12aの冷却用空気Aは上流側ヒートシンク12a内を流通しておらず温められていないため、温度の低い冷却用空気Aが中央部ヒートシンク21b、21cに流れる。このため、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量は、上流側ヒートシンク21aの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキをさらに抑えることができ、当該複数のデバイス20をより均一に冷却することができる。
なお、制御板50は中央部ヒートシンク21b、21cの両側に設けられていたが、いずれか一方に設けられていてもよい。また、制御板50は、各ヒートシンク21a〜21dの外側にそれぞれ設けられていてもよい。
(第2の形態)
次に、別の形態の冷却装置について説明する。本実施の形態で説明する冷却装置では、中央部ヒートシンク21b、21cの表面積は、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dの表面積よりも大きくなっている。なお、各フィン41は、平板形状を有している。また、各ヒートシンク21a〜21dにおいて、複数のフィン41は冷却用空気Aの流通方向に沿って平行に配置されている。
例えば図10に示すように各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン41の数を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるフィン41の数よりも多くする。なお、図10で図示した例においては、下流側の中央部ヒートシンク21cにおけるフィン41の数を、上流側の中央部ヒートシンク21bにおけるフィン41の数よりも多くしている。
また、例えば図11に示すように各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるベース部40の面積を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるベース部40の面積よりも大きくする。かかる場合、図10で図示した例と同様に、各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン41の数は、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるフィン41の数よりも多くなる。
さらに、例えば図8に示したように各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン41の高さを、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるフィン41の高さよりも高くする。
以上の図10、図11、図8で示したいずれの場合でも、中央部ヒートシンク21b、21cの表面積は、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dの表面積よりも大きくなる。このため、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量が従来よりも大きくなる。また、中央部ヒートシンク21b、21cを流通する冷却用空気Aの速度が上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dを流通する冷却用空気Aの速度よりも遅くても、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量は、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキを抑えることができ、当該複数のデバイス20を均一に冷却することができる。また、複数のデバイス20間の温度差によって起こるテストヘッド1の特性のバラツキを抑制することができる。
また、図10で図示した例では、下流側の中央部ヒートシンク21cから熱抵抗が上流側の中央部ヒートシンク21bからの熱抵抗よりも小さくなる。そうすると、冷却用空気Aが中央部ヒートシンク21bから中央部ヒートシンク21cに流れて温められた場合でも、複数のデバイス20の温度のバラツキをさらに抑えることができる。
なお、本実施の形態では4つのヒートシンク21a〜21dについて説明したが、例えば5つ以上のヒートシンクが配置されている場合には、ヒートシンクの表面積を、最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくしてもよい。
また、中央部ヒートシンク21b、21cの表面積を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dの表面積よりも大きくする場合において、図7に示したように4つのヒートシンク21a〜21dにおける複数のフィン41を、千鳥状に配置してもよい。かかる場合、ヒートシンク21a、21b、21cにおいて隣り合うフィン41、41間を流通した冷却用空気Aは、それぞれヒートシンク21a、21b、21cの下流側のヒートシンク21b、21c、21dにおける一のフィン41に衝突する。そして、全てのフィン41に均等に冷却用空気Aが衝突するため、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量は、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキをさらに抑えることができ、当該複数のデバイス20をより均一に冷却することができる。
また、以上の実施の形態の冷却装置は、図12に示すように中央部ヒートシンク21b、21cに対して冷却用空気Aの流通方向に直行する外側に、当該流通方向から傾斜した制御板50を有していてもよい。制御板50は、その下流側の端部が上流側の端部よりも中央部ヒートシンク21b、21c側に位置するように配置されている。また、制御板50は、中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン41と同程度の高さを有している。
かかる場合、回路基板12においてヒートシンク21の外側領域12aを流れる冷却用空気Aは、中央部ヒートシンク21b、21c側に流れる。すなわち、外側領域12aの冷却用空気Aは上流側ヒートシンク12a内を流通しておらず温められていないため、温度の低い冷却用空気Aが中央部ヒートシンク21b、21cに流れる。このため、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量は、上流側ヒートシンク21aの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキをさらに抑えることができ、当該複数のデバイス20をより均一に冷却することができる。
なお、制御板50は中央部ヒートシンク21b、21cの両側に設けられていたが、いずれか一方に設けられていてもよい。また、制御板50は、各ヒートシンク21a〜21dの外側にそれぞれ設けられていてもよい。
(第3の形態)
次に、別の形態の冷却装置について説明する。本実施の形態で説明する冷却装置は、図13に示すように中央部ヒートシンク21b、21cに対して冷却用空気Aの流通方向に直行する方向の両側に設けられ、当該流通方向から傾斜して平行配置された制御板60を有している。制御板60は、後述する中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン71と同程度の高さを有している。
各ヒートシンク21a〜21dは、ベース部70と、当該ベース部70に立設された複数のフィン71とを有している。各フィン71は、ピン形状を有している。また、各ヒートシンク21a〜21dにおいて、複数のフィン71は水平面内に均一に並べて配置されている。
かかる場合、回路基板12においてヒートシンク21の外側領域12aを流れる冷却用空気Aは、制御板60によって中央部ヒートシンク21b、21c側に流れる。すなわち、外側領域12aの冷却用空気Aは上流側ヒートシンク21a内を流通しておらず温められていないため、温度の低い冷却用空気Aが中央部ヒートシンク21b、21cに流れる。このため、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量は、上流側ヒートシンク12aからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキを抑えることができ、当該複数のデバイス20を均一に冷却することができる。また、複数のデバイス20間の温度差によって起こるテストヘッド1の特性のバラツキを抑制することができる。
なお、図13で図示した例では各ヒートシンク21a〜21dはピン形状のフィン71を有していたが、図14に示すように各ヒートシンク21a〜21dは平板形状の複数のフィン72を有していてもよい。これら複数のフィン72は、制御板60と平行に配置されている。かかる場合でも、外側領域12aの冷却用空気Aが中央部ヒートシンク21b、21cに流れるため、複数のデバイス20を均一に冷却することができる。
また、制御板60は、各ヒートシンク21a〜21dの外側にそれぞれ設けられていてもよい。かかる場合、各ヒートシンク21a〜21dに温度の低い冷却用空気Aが流れるので、各ヒートシンク21a〜21dからの放熱量を均一にすることができる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキを抑えることができ、当該複数のデバイス20を均一に冷却することができる。
以上の実施の形態において、各中央部ヒートシンク21b、21cの表面積を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dの表面積よりも大きくしてもよい。
例えば図15に示すように各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン71の数を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるフィン71の数よりも多くしてもよい。また、例えば図16に示すように各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるベース部70の面積を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dのベース部70の面積よりも大きくしてもよい。そして、各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン71の数を、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるフィン71の数よりも多くしてもよい。
また、例えば図17に示すように各中央部ヒートシンク21b、21cにおけるフィン71の高さを、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dにおけるフィン71の高さよりも高くしてもよい。
いずれの場合においても、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量が従来よりも大きくなる。また、中央部ヒートシンク21b、21cからの放熱量は、上流側ヒートシンク21a及び下流側ヒートシンク21dからの放熱量とほぼ同一になる。したがって、複数のデバイス20の温度のバラツキをさらに抑えることができ、当該複数のデバイス20をより均一に冷却することができる。
なお、本実施の形態では4つのヒートシンク21a〜21dについて説明したが、例えば5つ以上のヒートシンクが配置されている場合には、ヒートシンクの表面積を、最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくしてもよい。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
上記実施の形態では、プローブ装置のテストヘッド1において複数のデバイス20を冷却する場合について説明したが、例えばICやLSIなどの複数の電子部品を実装した電子機器において、当該複数の電子部品を冷却する場合にも本発明を適用することができる。
1 テストヘッド
10 筐体
11 主基板
12 回路基板
12a 外側領域
20 デバイス
21 ヒートシンク
30 吸気口
31 ファン
40 ベース部
41 フィン
50 制御板
60 制御板
70 ベース部
71 フィン
72 フィン
A 冷却用空気

Claims (16)

  1. 基板上に並べて配置された複数の電子部品を冷却する冷却装置であって、
    前記複数の電子部品の配列方向に沿って冷却用空気を流通させる冷却機構と、
    前記各電子部品に設けられ、複数の平板形状のフィンが前記冷却用空気の流通方向に沿って平行配置されたヒートシンクと、を有し、
    前記ヒートシンクにおいて隣り合うフィン間を流通した冷却用空気が当該ヒートシンクの下流側のヒートシンクにおける一のフィンに衝突するように、隣り合う前記ヒートシンクの複数のフィンは千鳥状に配置されていることを特徴とする、電子部品の冷却装置。
  2. 前記ヒートシンクの表面積は、前記流通方向の最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくなっていることを特徴とする、請求項1に記載の電子部品の冷却装置。
  3. 前記ヒートシンクの表面積は、少なくともフィンの数、フィンの高さ又は複数のフィンが立設されるベース部の大きさに基づいて設定されることを特徴とする、請求項2に記載の電子部品の冷却装置。
  4. 前記ヒートシンクに対して前記流通方向に直行する方向の外側には、前記流通方向から傾斜した制御板が配置されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の電子部品の冷却装置。
  5. 前記制御板は、前記流通方向の中央部のヒートシンクの外側に設けられていることを特徴とする、請求項4に記載の電子部品の冷却装置。
  6. 基板上に並べて配置された複数の電子部品を冷却する冷却装置であって、
    前記複数の電子部品の配列方向に沿って冷却用空気を流通させる冷却機構と、
    前記各電子部品に設けられ、複数の平板形状のフィンが前記冷却用空気の流通方向に沿って平行配置されたヒートシンクと、を有し、
    前記ヒートシンクの表面積は、前記流通方向の最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくなっていることを特徴とする、電子部品の冷却装置。
  7. 前記ヒートシンクの表面積は、少なくともフィンの数、フィンの高さ又は複数のフィンが立設されるベース部の大きさに基づいて設定されることを特徴とする、請求項6に記載の電子部品の冷却装置。
  8. 前記ヒートシンクにおいて隣り合うフィン間を流通した冷却用空気が当該ヒートシンクの下流側のヒートシンクにおける一のフィンに衝突するように、隣り合う前記ヒートシンクの複数のフィンは千鳥状に配置されていることを特徴とする、請求項6又は7に記載の電子部品の冷却装置。
  9. 前記ヒートシンクに対して前記流通方向に直行する方向の外側には、前記流通方向から傾斜した制御板が配置されていることを特徴とする、請求項6〜8のいずれかに記載の電子部品の冷却装置。
  10. 前記制御板は、前記流通方向の中央部のヒートシンクの外側に設けられていることを特徴とする、請求項9に記載の電子部品の冷却装置。
  11. 基板上に並べて配置された複数の電子部品を冷却する冷却装置であって、
    前記複数の電子部品の配列方向に沿って冷却用空気を流通させる冷却機構と、
    前記各電子部品に設けられ、複数のフィンが立設されたヒートシンクと、
    前記ヒートシンクに対して前記冷却用空気の流通方向に直行する方向の両側に設けられ、前記流通方向から傾斜して平行配置された制御板と、を有することを特徴とする、電子部品の冷却装置。
  12. 前記制御板は、前記流通方向の中央部のヒートシンクの両側に設けられていることを特徴とする、請求項11に記載の電子部品の冷却装置。
  13. 前記フィンはピン形状を有し、
    前記複数のフィンは、水平面内に均一に並べて配置されていることを特徴とする、請求項11又は12に記載の電子部品の冷却装置。
  14. 前記フィンは平板形状を有し、
    前記複数のフィンは、前記制御板と平行に配置されていることを特徴とする、請求項11又は12に記載の電子部品の冷却装置。
  15. 前記ヒートシンクの表面積は、前記流通方向の最上流側のヒートシンク及び最下流側のヒートシンクから中央部のヒートシンクに向けて次第に大きくなっていることを特徴とする、請求項11〜14のいずれかに記載の電子部品の冷却装置。
  16. 前記ヒートシンクの表面積は、少なくともフィンの数、フィンの高さ又は複数のフィンが立設されるベース部の大きさに基づいて設定されることを特徴とする、請求項15に記載の電子部品の冷却装置。
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