JP2012054337A - Method of manufacturing electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子部品素子が搭載されている素子搭載部材と蓋部材とが接合されて素子搭載部材が気密封止されている電子デバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an electronic device in which an element mounting member on which an electronic component element is mounted and a lid member are joined and the element mounting member is hermetically sealed.
電子デバイスは、一般的に、電子機器に用いられている。特に、移動通信機器等の電子機器には、電子デバイスの一例である圧電デバイスが多く用いられている。
また、電子デバイスは、電子部品素子と、この電子部品素子が搭載されている素子搭載部材と、蓋部材と、素子搭載部材と蓋部材とを接合させる封止材と、を少なくとも備えている。このとき、素子搭載部材に搭載されている電子部品素子は、素子搭載部材と蓋部材とが封止材によって接合されることで気密封止された状態となっている。
Electronic devices are generally used in electronic equipment. In particular, piezoelectric devices, which are examples of electronic devices, are often used in electronic devices such as mobile communication devices.
The electronic device includes at least an electronic component element, an element mounting member on which the electronic component element is mounted, a lid member, and a sealing material that joins the element mounting member and the lid member. At this time, the electronic component element mounted on the element mounting member is hermetically sealed by joining the element mounting member and the lid member with the sealing material.
ここで、素子搭載部材は、例えば、一方の主面に凹部空間が形成されている。
この素子搭載部材は、この凹部の底面に電子部品素子を搭載するための搭載パッドが設けられており、この電子部品素子の凹部空間内に電子部品素子が収納されることとなる。
また、素子搭載部材は、他方の主面に外部接続端子が設けられており、搭載パッドと電気的に接続されている。
また、素子搭載部材は、一方の主面の縁部に沿って環状の封止用枠部が設けられている。
Here, the element mounting member has a recessed space formed on one main surface, for example.
The element mounting member is provided with a mounting pad for mounting the electronic component element on the bottom surface of the concave portion, and the electronic component element is accommodated in the concave space of the electronic component element.
Further, the element mounting member is provided with an external connection terminal on the other main surface, and is electrically connected to the mounting pad.
The element mounting member is provided with an annular sealing frame portion along the edge portion of one main surface.
封止材は、例えば、めっき用金属層にめっき層が設けられて形成されている。
また、封止材は、素子搭載部材の一方の主面と後述する蓋部材の一方の主面との間であって、素子搭載部材の一方の主面の縁部に沿って形成されている。
また、封止材は、素子搭載部材に設けられている封止用枠部が溶融され硬化することで形成される。
The sealing material is formed, for example, by providing a plating layer on a plating metal layer.
Further, the sealing material is formed between one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member described later, and along the edge of the one main surface of the element mounting member. .
Further, the sealing material is formed by melting and hardening a sealing frame portion provided on the element mounting member.
蓋部材は、例えば、金属が用いられ、矩形形状の平板状に設けられている。
また、蓋部材は、例えば、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とで封止用枠部を挟んだ状態で蓋部材の他方の主面にレーザー光が照射され、蓋部材が加熱されて封止用枠部が溶融され、溶融された封止用枠部が硬化することで封止材が形成され、蓋部材の一方の主面が素子搭載部材の一方の主面と封止材により接合されている。
The lid member is made of, for example, metal and is provided in a rectangular flat plate shape.
The lid member is irradiated with laser light on the other principal surface of the lid member, for example, with the sealing frame portion sandwiched between one principal surface of the element mounting member and one principal surface of the lid member, The lid member is heated to melt the sealing frame portion, and the melted sealing frame portion is cured to form a sealing material. One main surface of the lid member is one main surface of the element mounting member. It is joined to the surface by a sealing material.
従って、従来の電子デバイスは、素子搭載部材に部品素子が搭載されており、搭載されている部品素子が素子搭載部材と蓋部材とで形成される空間内に収納され、素子搭載部材と蓋部材とが接合されることで部品素子が気密封止された状態となっている。
また、従来の電子デバイスは、素子搭載部材の一方の主面に形成されている封止用枠部が素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とで挟まれた状態で蓋部材の他方の主面にレーザー光が照射され蓋部材が加熱されることで封止用枠部が溶融され、この溶融された封止用枠部が硬化し封止材が形成されることで、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とが接合された状態となっている(例えば、特許文献1参照)。
Therefore, in the conventional electronic device, the component element is mounted on the element mounting member, and the mounted component element is accommodated in a space formed by the element mounting member and the lid member. As a result, the component elements are hermetically sealed.
Further, in the conventional electronic device, the sealing frame formed on one main surface of the element mounting member is sandwiched between one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member. The sealing member is melted by irradiating the other main surface of the lid member with laser light and heating the lid member, and the melted sealing frame is cured to form a sealing material. Thus, one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member are joined (for example, see Patent Document 1).
このような電子デバイスには、例えば、圧電デバイスがある。
圧電デバイスの一例である圧電振動子は、例えば、電子部品素子である圧電振動素子と、電子部品素子である圧電振動素子が搭載される素子搭載部材と、蓋部材と、素子搭載部材と蓋部材とを接合させる封止材と、を備えている。このとき、圧電振動素子は、素子搭載部材と蓋部材とが封止材により接合されて気密封止された状態となっている。
An example of such an electronic device is a piezoelectric device.
A piezoelectric vibrator, which is an example of a piezoelectric device, includes, for example, a piezoelectric vibration element that is an electronic component element, an element mounting member on which the piezoelectric vibration element that is an electronic component element is mounted, a lid member, an element mounting member, and a lid member And a sealing material for joining the two. At this time, the piezoelectric vibration element is in an airtight sealed state in which the element mounting member and the lid member are joined by the sealing material.
前述したような電子デバイスの製造方法は、例えば、素子搭載工程、蓋部材配置工程、仮接合工程、接合工程を備えている。
ここで、例えば、電子デバイスが圧電振動子の場合について、電子デバイスの製造方法を説明する。
The electronic device manufacturing method as described above includes, for example, an element mounting process, a lid member arranging process, a temporary bonding process, and a bonding process.
Here, for example, when the electronic device is a piezoelectric vibrator, a method for manufacturing the electronic device will be described.
(素子搭載工程)
素子搭載工程は、素子搭載部材に電子部品素子である圧電振動素子を搭載する工程である。
(Element mounting process)
The element mounting step is a step of mounting a piezoelectric vibration element, which is an electronic component element, on the element mounting member.
電子部品素子である圧電振動素子は、圧電片と励振電極と引き回しパターンとから構成されている。 A piezoelectric vibration element, which is an electronic component element, includes a piezoelectric piece, an excitation electrode, and a routing pattern.
圧電片は、圧電材料が用いられ、例えば、矩形形状の平板状に形成されている。 The piezoelectric piece is made of a piezoelectric material, and is formed in, for example, a rectangular flat plate shape.
励振電極は、例えば、2つ一対となっている。一方の励振電極は、圧電片の一方の主面に設けられている。他方の励振電極は、圧電片の他方の主面であって、一方の励振電極に対向する位置に設けられている。 For example, two excitation electrodes are paired. One excitation electrode is provided on one main surface of the piezoelectric piece. The other excitation electrode is provided on the other main surface of the piezoelectric piece and at a position facing one excitation electrode.
引き回しパターンは、一方の端部が励振電極に接続されており、他方の端部が圧電片の主面の所定の一辺の縁部に位置している。また、引き回しパターンは、例えば、2つ一対で設けられている。一方の引き回しパターンは、一方の端部が一方の励振電極に接続されており、他方の端部が圧電片の他方の主面の所定の一辺の縁部に位置している。他方の引き回しパターンは、一方の端部が他方の励振電極に接続されており、他方の端部が圧電片の一方の主面の所定の一辺の縁部に位置している。 In the routing pattern, one end is connected to the excitation electrode, and the other end is located at an edge of a predetermined side of the main surface of the piezoelectric piece. Further, for example, two routing patterns are provided as a pair. One routing pattern has one end connected to one excitation electrode and the other end positioned at an edge of a predetermined side of the other main surface of the piezoelectric piece. In the other routing pattern, one end is connected to the other excitation electrode, and the other end is located at an edge of a predetermined side of one main surface of the piezoelectric piece.
素子搭載部材は、例えば、一方の主面に凹部空間が形成されており、この凹部空間の底面に搭載パッドが設けられている。また、素子搭載部材は、他方の主面に外部接続端子が設けられている。
また、素子搭載部材は、一方の主面の縁部に沿って環状の封止用枠部が形成されている。
For example, the element mounting member has a concave space formed on one main surface, and a mounting pad is provided on the bottom surface of the concave space. The element mounting member has an external connection terminal on the other main surface.
The element mounting member has an annular sealing frame portion formed along an edge portion of one main surface.
搭載パッドは、例えば、2つ一対で設けられおり、素子搭載部材の一方の主面の所定の一辺に沿って2つ並んで設けられている。
また、搭載パッドは、前述した圧電振動素子の引き回しパターンと対向する位置に設けられており、例えば、導電性接着剤により引き回しパターンと電気的に接続されている。
For example, two mounting pads are provided in pairs, and two mounting pads are provided side by side along a predetermined side of one main surface of the element mounting member.
The mounting pad is provided at a position facing the above-described lead pattern of the piezoelectric vibration element, and is electrically connected to the lead pattern by, for example, a conductive adhesive.
外部接続端子は、例えば、4つ設けられており、素子搭載部材の他方の主面の4隅に一つずつ設けられている。
また、所定の2つの外部接続端子は、前述した搭載パッドと素子搭載部材の内部配線を介して電気的に接続されている。従って、外部接続端子は、素子搭載部材の内部配線と搭載パッドと導電性接着剤と引き回しパターンとを介して励振電極に電気的に接続されている。
For example, four external connection terminals are provided, one at each of the four corners of the other main surface of the element mounting member.
Further, the two predetermined external connection terminals are electrically connected via the mounting pads described above and the internal wiring of the element mounting member. Therefore, the external connection terminal is electrically connected to the excitation electrode via the internal wiring of the element mounting member, the mounting pad, the conductive adhesive, and the routing pattern.
封止用枠部は、例えば、素子搭載部材の一方の主面にめっき用金属層が設けられ、このめっき用金属層にめっき処理によりめっき層が設けられて形成される。
また、封止用枠部は、後述する蓋部材配置工程で、蓋部材の一方の主面と対向する一に設けられる。
The sealing frame portion is formed, for example, by providing a plating metal layer on one main surface of the element mounting member, and providing a plating layer on the plating metal layer by plating.
Further, the sealing frame portion is provided in one facing the one main surface of the lid member in the lid member arranging step described later.
素子搭載工程では、例えば、導電性接着材により圧電振動素子の引き回しパターンと素子搭載部材の搭載パッドとが電気的に接続され、素子搭載部材に電子部品素子である圧電振動素子が搭載される。
従って、素子搭載工程では、素子搭載部材の凹部空間の底面に電子部品素子である圧電振動素子が搭載され、素子搭載部材の凹部空間内に圧電振動素子が収納される。
In the element mounting process, for example, the lead pattern of the piezoelectric vibration element and the mounting pad of the element mounting member are electrically connected by a conductive adhesive, and the piezoelectric vibration element that is an electronic component element is mounted on the element mounting member.
Therefore, in the element mounting step, the piezoelectric vibration element that is an electronic component element is mounted on the bottom surface of the recessed space of the element mounting member, and the piezoelectric vibrating element is accommodated in the recessed space of the element mounting member.
(蓋部材配置工程)
蓋部材配置工程は、素子搭載部材に搭載されている圧電振動素子を素子搭載部材と蓋部材とで覆うように素子搭載部材の所定の位置に蓋部材を配置する工程である。
(Cover member placement process)
The lid member arranging step is a step of arranging the lid member at a predetermined position of the element mounting member so as to cover the piezoelectric vibration element mounted on the element mounting member with the element mounting member and the lid member.
蓋部材は、例えば、金属が用いられ、矩形形状の平板状に形成される。 The lid member is made of, for example, metal and is formed in a rectangular flat plate shape.
蓋部材配置工程では、蓋部材の主面と素子搭載部材の一方の主面との間に封止用枠部を設けつつ、蓋部材の一方の主面と素子搭載部材の一方の主面とで封止用枠部を挟んだ状態となる位置に蓋部材が配置される。このとき、素子搭載部材に搭載されている圧電振動素子は、素子搭載部材と蓋部材とで覆われた空間内に収納された状態となっている。 In the lid member arranging step, while providing a sealing frame portion between the main surface of the lid member and one main surface of the element mounting member, one main surface of the lid member and one main surface of the element mounting member The lid member is disposed at a position where the sealing frame portion is sandwiched. At this time, the piezoelectric vibration element mounted on the element mounting member is stored in a space covered with the element mounting member and the lid member.
(仮接合工程)
仮接合工程は、電気溶接を用いて、蓋部材と素子搭載部材とを部分的にスポット溶接し、仮接合する工程である。
(Temporary joining process)
A temporary joining process is a process of carrying out spot welding by partially spot-welding a lid member and an element mounting member using electric welding.
(接合工程)
接合工程は、レーザー光が蓋部材の他方の主面に照射され、蓋部材が加熱され、その熱により封止用枠部が溶融され硬化することで、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とを接合する工程である。
(Joining process)
In the bonding process, the other main surface of the lid member is irradiated with laser light, the lid member is heated, and the sealing frame is melted and cured by the heat, whereby the one main surface of the element mounting member and the lid This is a step of joining one main surface of the member.
ここで、溶融され硬化された封止用枠部を封止材とする。
従って、接合工程では、封止用枠部が溶融され素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とが封止材によって接合される。
Here, the melted and cured sealing frame portion is used as a sealing material.
Therefore, in the joining step, the sealing frame portion is melted, and one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member are joined by the sealing material.
従って、電子デバイスの製造方法では、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とで封止用枠部を挟みつつ電子部品素子を素子搭載部材と蓋部材とで形成された空間内に収納した状態で、封止用枠部をレーザーにより溶融させ溶融された封止用枠部を硬化することで封止材を形成し、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とを接合し、電子部品素子を気密封止している(例えば、特許文献2参照)。 Therefore, in the electronic device manufacturing method, the electronic component element is formed by the element mounting member and the lid member while sandwiching the sealing frame portion between the one main surface of the element mounting member and the one main surface of the lid member. In the state accommodated in the space, the sealing frame is melted by a laser, and the sealing frame is melted to form a sealing material, and one main surface of the element mounting member and the lid member One main surface is joined and the electronic component element is hermetically sealed (see, for example, Patent Document 2).
しかしながら、従来の電子デバイスの製造方法によれば、素子搭載部材と蓋部材とで形成された空間内に電子部品素子を収納しつつ、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とで封止用枠部を挟んだ状態で、レーザー光を照射し封止用枠部を溶融させ、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とを接合するので、封止用枠部を溶融される前の状態では、電子部品が収納されている空間と封止用枠部とが接した状態となる。
このため、従来の電子デバイスの製造方法によれば、レーザー光によって封止用枠部が突沸したように溶融された場合、電子部品素子が収納されている空間内へ溶融された封止用枠部の一部が飛散し、電子部品素子に付着してしまい、従来の電子デバイスの電気的特性が悪化する恐れがある。特に、従来の電子デバイスが圧電デバイスの場合、圧電振動素子に溶融された封止用枠部が付着することで圧電振動素子が振動しにくくなるため圧電デバイスの周波数が不安定となる恐れがある。
従って、従来の電子デバイスの製造方法によれば、溶融された封止用枠部が電子部品素子に付着し電気的特性が悪化するため、生産性が悪化する恐れがある。
However, according to the conventional method for manufacturing an electronic device, the electronic component element is housed in the space formed by the element mounting member and the lid member, and one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member are accommodated. With the sealing frame portion sandwiched between the surfaces, the laser frame is irradiated to melt the sealing frame portion, and one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member are joined, In a state before the sealing frame portion is melted, the space in which the electronic component is stored and the sealing frame portion are in contact with each other.
For this reason, according to the conventional method for manufacturing an electronic device, when the sealing frame is melted as if it is bumped by laser light, the sealing frame is melted into the space in which the electronic component element is accommodated. A part of the part may scatter and adhere to the electronic component element, which may deteriorate the electrical characteristics of the conventional electronic device. In particular, when the conventional electronic device is a piezoelectric device, the melted sealing frame portion adheres to the piezoelectric vibration element, so that the piezoelectric vibration element is less likely to vibrate, and the frequency of the piezoelectric device may become unstable. .
Therefore, according to the conventional method for manufacturing an electronic device, the melted sealing frame portion adheres to the electronic component element and the electrical characteristics are deteriorated, so that the productivity may be deteriorated.
また、従来の電子デバイスの製造方法によれば、素子搭載部材と蓋部材とで形成される空間内に電子部品素子を収納させつつ、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とで封止用枠部を挟んだ状態で、電子部品素子を向く蓋部材の主面と対向する蓋部材の主面にレーザー光を照射し蓋部材を加熱することで封止用枠部を溶融させ、溶融された封止用枠部を硬化させて、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とを接合しているので、封止用枠部が溶融されるとき、蓋部材がレーザー光により加熱された状態となり、素子搭載部材が溶融されている封止用枠部により加熱された状態となる。
このため、従来の電子デバイスの製造方法によれば、蓋部材がレーザー光により直接、加熱されるので、レーザー光が照射されているときの蓋部材と素子搭載部材との膨張量の違いにより、溶融されている封止用枠部が硬化するとき素子搭載部材と蓋部材との内部に歪が発生する。
従って、従来の電子デバイスの製造方法によれば、接合工程で、素子搭載部材及び蓋部材の内部に発生した歪によって、素子搭載部材又は蓋部材にクラックが生じ、電子部品素子を気密封止することができず生産性が悪化する恐れがある。
Further, according to the conventional method for manufacturing an electronic device, the electronic component element is housed in the space formed by the element mounting member and the lid member, and one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member are accommodated. The sealing frame portion is formed by irradiating the main surface of the lid member opposite to the main surface of the lid member facing the electronic component element with the surface sandwiched between the sealing frame portion and heating the lid member. Is melted, the melted sealing frame portion is cured, and one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member are joined together, so that the sealing frame portion is melted. At this time, the lid member is heated by the laser beam, and the element mounting member is heated by the sealing frame portion melted.
For this reason, according to the conventional method of manufacturing an electronic device, since the lid member is directly heated by the laser beam, due to the difference in expansion amount between the lid member and the element mounting member when the laser beam is irradiated, When the melted sealing frame portion is cured, distortion is generated inside the element mounting member and the lid member.
Therefore, according to the conventional method for manufacturing an electronic device, a crack is generated in the element mounting member or the lid member due to the strain generated in the element mounting member and the lid member in the joining process, and the electronic component element is hermetically sealed. This can prevent productivity from deteriorating.
また、従来の電子デバイスの製造方法によれば、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とで封止用枠部を挟んだ状態で、素子搭載部材の所定の位置に蓋部材を配置し仮付けを行った後、封止用枠部を溶融し素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とを接合しているので、素子搭載部材の所定の位置に蓋部材を配置し仮付けを行う必要があり、仮付けを行うために手間や時間を要し生産性が悪化する恐れがある。 In addition, according to the conventional method for manufacturing an electronic device, the sealing frame is sandwiched between one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member, and the device mounting member is placed at a predetermined position. After the lid member is arranged and temporarily attached, the sealing frame is melted and one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member are joined, so that the predetermined element mounting member It is necessary to place a lid member at the position and perform temporary attachment, and it takes time and labor to perform temporary attachment, which may deteriorate productivity.
また、従来の電子デバイスの製造方法によれば、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とで封止用枠部を挟んだ状態となるように蓋部材が配置され、封止用枠部が溶融されて素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の一方の主面とが接合されているので、電子デバイスが小型化された場合、封止用枠部を間に設けつつ挟んだ状態となるように素子搭載部材に蓋部材を配置することが出来なくなる恐れがある。
このため、従来の電子デバイスの製造方法によれば、電子デバイスが小型化された場合、電子部品素子を気密封止することができず、生産性が悪化する恐れがある。
Further, according to the conventional method of manufacturing an electronic device, the lid member is arranged so that the sealing frame portion is sandwiched between one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member, Since the sealing frame is melted and one main surface of the element mounting member and one main surface of the lid member are joined, when the electronic device is downsized, the sealing frame is interposed between There is a possibility that the lid member cannot be arranged on the element mounting member so as to be sandwiched while being provided.
For this reason, according to the conventional manufacturing method of an electronic device, when an electronic device is reduced in size, an electronic component element cannot be airtightly sealed, and productivity may be deteriorated.
そこで、本発明では、溶融された封止用枠部が電子部品素子に付着することなく、接合時に発生する歪を緩和することができ、素子搭載部材の所定の位置に蓋部材を容易に配置することができる生産性のよい電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, in the present invention, the melted sealing frame portion does not adhere to the electronic component element, and the distortion generated at the time of bonding can be alleviated, and the lid member is easily disposed at a predetermined position of the element mounting member. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electronic device with good productivity.
前記課題を解決するため、一方の主面に搭載パッドが設けられ他方の主面に外部接続端子が設けられている素子搭載部材となる部分がマトリクス状に設けられている素子搭載部材ウエハの前記素子搭載部材となる部分の一方の主面の縁部に沿って環状のめっき用金属層が形成されるめっき用金属層形成工程と、めっき法により、前記素子搭載部材となる部分の前記めっき用金属層にめっき層が設けられ封止用枠部が形成される封止用枠部形成工程と、前記素子搭載部材となる部分の前記搭載パッドに電子部品素子を搭載する素子搭載工程と、一方の主面に凹部空間を備えた蓋部材の前記凹部空間内に前記電子部品素子を収納させる位置であって、前記封止用枠部の内縁側の側面と前記蓋部材の外縁側の側面とが向かい合う位置に前記蓋部材と配置する蓋部材配置工程と、前記素子搭載部材となる部分の封止用枠部にレーザー光が照射され前記封止用枠部が溶融されて、前記素子搭載部材の一方の主面と前記蓋部材の外縁側の側面とが接合される接合工程と、蓋部材が接合されている前記素子搭載部材ウエハの前記素子搭載部材となる部分ごとに切断し個片化する個片化工程と、
を備えていることを特徴とする。
In order to solve the above-described problem, the element mounting member wafer is provided with a portion serving as an element mounting member in which a mounting pad is provided on one main surface and an external connection terminal is provided on the other main surface. A plating metal layer forming step in which an annular plating metal layer is formed along an edge of one main surface of a portion to be an element mounting member, and the plating of the portion to be the element mounting member by a plating method A sealing frame portion forming step in which a plating layer is provided on the metal layer and a sealing frame portion is formed; and an element mounting step in which an electronic component element is mounted on the mounting pad of the portion serving as the element mounting member; A position where the electronic component element is accommodated in the recessed space of the lid member having a recessed space on the main surface thereof, and a side surface on the inner edge side of the sealing frame portion and a side surface on the outer edge side of the lid member And the lid member at a position where A lid member arranging step to be placed, and a sealing frame portion of a portion to be the element mounting member is irradiated with laser light to melt the sealing frame portion, and one main surface of the element mounting member and the lid A joining step in which the side surface on the outer edge side of the member is joined, and an individualization step in which the element mounting member wafer to which the lid member is joined is cut into individual pieces to be cut into pieces.
It is characterized by having.
このような電子デバイスの製造方法によれば、封止用枠部が素子搭載部材の一方の主面の縁部に沿って環状に設けられており、この封止用枠部の内縁側に蓋部材が配置された状態で、レーザー光が封止用枠部に照射されて封止用枠部が溶融され、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の外縁側の側面とが接合されているので、封止用枠部を溶融する前の状態では、電子部品素子が収納されている空間と封止用枠部とが接していない状態となっている。
このため、このような電子デバイスの製造方法によれば、レーザー光によって封止用枠部が突沸したように溶融された場合、電子部品素子が収納されている空間内へ溶融された封止用枠部の一部が飛散することを防ぐことができる。
従って、このような電子デバイスの製造方法によれば、溶融された封止用枠部が電子部品素子に付着することを防ぐことができ、溶融された封止用枠部が電子部品素子に付着することによる電子デバイスの電気的特性の悪化を防ぐことができる。特に、電子デイバスが圧電デバイスの場合、圧電振動素子に溶融した封止用枠部の一部が付着することがなくなり、圧電デバイスの周波数が不安定となることを防ぐことができる。
According to such an electronic device manufacturing method, the sealing frame portion is provided in an annular shape along the edge portion of one main surface of the element mounting member, and a lid is provided on the inner edge side of the sealing frame portion. With the member disposed, the sealing frame is irradiated with laser light to melt the sealing frame, and the one main surface of the element mounting member and the side surface on the outer edge side of the lid member are joined. Therefore, before the sealing frame portion is melted, the space in which the electronic component elements are stored and the sealing frame portion are not in contact with each other.
For this reason, according to such a method for manufacturing an electronic device, when the sealing frame is melted as if it was bumped by laser light, the sealing for melting into the space in which the electronic component element is accommodated Part of the frame portion can be prevented from scattering.
Therefore, according to such an electronic device manufacturing method, the molten sealing frame portion can be prevented from adhering to the electronic component element, and the molten sealing frame portion adheres to the electronic component element. It is possible to prevent the electrical characteristics of the electronic device from deteriorating. In particular, when the electronic device is a piezoelectric device, a part of the melted sealing frame portion does not adhere to the piezoelectric vibration element, and the frequency of the piezoelectric device can be prevented from becoming unstable.
また、このような電子デバイスの製造方法によれば、封止用枠部が素子搭載部材の一方の主面の縁部に沿って環状に設けられており、この封止用枠部の内縁側に蓋部材が配置された状態で、レーザー光が封止用枠部に照射されて封止用枠部が溶融され、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の外縁側の側面とが接合されているので、封止用枠部が溶融されるとき、蓋部材及び素子搭載部材に直接レーザー光が照射されず、蓋部材と素子搭載部材とが溶融された封止用枠部により加熱された状態となる。
このため、このような電子デバイスの製造方法によれば、蓋部材又は素子搭載部材にレーザー光を直接、照射せず封止用枠部を溶融するので、封止用枠部が溶融されているとき蓋部材と素子搭載部材との膨張量の差が従来の電子デバイスの製造方法と比較して小さくなり、その結果、溶融されている封止用枠部が硬化するときに蓋部材と素子搭載部材との内部に発生する歪を従来の電子デバイスの製造方法と比較して軽減することができる。
従って、このような電子デバイスの製造方法によれば、従来の電子デバイスの製造方法と比較して、素子搭載部材及び蓋部材の内部に発生した歪によるクラックを減らすことができるので、電子部品素子を気密封止することができ生産性を向上させることができる。
Further, according to such a method for manufacturing an electronic device, the sealing frame portion is provided in an annular shape along the edge portion of one main surface of the element mounting member, and the inner edge side of the sealing frame portion In the state where the lid member is disposed, the sealing frame portion is irradiated with the laser beam to melt the sealing frame portion, and the one main surface of the element mounting member and the side surface on the outer edge side of the lid member are joined. Therefore, when the sealing frame is melted, the lid member and the element mounting member are not directly irradiated with laser light, and the lid member and the element mounting member are heated by the melted sealing frame. It becomes a state.
For this reason, according to the manufacturing method of such an electronic device, since the sealing frame portion is melted without directly irradiating the lid member or the element mounting member with the laser beam, the sealing frame portion is melted. When the difference in expansion between the lid member and the element mounting member is smaller than that of the conventional electronic device manufacturing method, as a result, the lid member and the element mounting when the molten sealing frame is cured The distortion generated inside the member can be reduced as compared with the conventional method for manufacturing an electronic device.
Therefore, according to such an electronic device manufacturing method, cracks due to distortion generated inside the element mounting member and the lid member can be reduced as compared with the conventional electronic device manufacturing method. Can be hermetically sealed and productivity can be improved.
また、このような電子デバイスの製造方法によれば、素子搭載部材に形成されている封止用枠部の内縁側に蓋部材が配置された状態で封止用枠部が溶融されて素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の外縁側の側面とが接合されるので、封止用枠部で蓋部材を固定することができるので、仮付けを行う必要がなく、仮付けにかかる時間や手間がかからず生産性を向上させることができる。 In addition, according to such an electronic device manufacturing method, the sealing frame portion is melted in a state where the lid member is disposed on the inner edge side of the sealing frame portion formed on the element mounting member, and the element mounting is performed. Since one main surface of the member and the side surface on the outer edge side of the lid member are joined, the lid member can be fixed by the sealing frame portion, so there is no need to perform temporary attachment, and the time required for temporary attachment Productivity can be improved without much time and effort.
また、このような電子デバイスの製造方法によれば、素子搭載部材の凹部空間内に電子部品素子が収納されつつ、封止用枠部の内縁側の側面と蓋部材の外縁側の側面とが向かい合う位置に蓋部材が配置され、封止用枠部が溶融されて、素子搭載部材の一方の主面と蓋部材の外縁側の側面とが接合されるので、凹部空間を素子搭載部材側に向けた状態で封止用枠部の内縁側に蓋部材を配置すると、素子搭載部材の所定の位置に蓋部材を容易に配置することができる。
このため、このような電子デバイスの製造方法によれば、電子デバイスが小型化された場合、素子搭載部材の所定の位置に蓋部材を配置することができ、素子搭載部材に搭載されている電子部品素子を気密封止することができ、生産性を向上させることができる。
In addition, according to such an electronic device manufacturing method, the electronic component element is housed in the recessed space of the element mounting member, and the side surface on the inner edge side of the sealing frame portion and the side surface on the outer edge side of the lid member are The lid member is disposed at the facing position, the sealing frame is melted, and one main surface of the element mounting member and the side surface on the outer edge side of the lid member are joined, so that the recessed space is placed on the element mounting member side. When the lid member is disposed on the inner edge side of the sealing frame portion in the oriented state, the lid member can be easily disposed at a predetermined position of the element mounting member.
Therefore, according to such a method for manufacturing an electronic device, when the electronic device is downsized, the lid member can be disposed at a predetermined position of the element mounting member, and the electronic device mounted on the element mounting member The component elements can be hermetically sealed, and productivity can be improved.
次に、本発明を実施するための最良の形態について説明する。なお、各図面において各構成要素の状態をわかりやすくするために誇張して図示している。
ここで、電子デバイスは、例えば、圧電振動子として説明とする。このとき、電子部品素子は、圧電振動素子である。
Next, the best mode for carrying out the present invention will be described. In each drawing, the state of each component is exaggerated for easy understanding.
Here, the electronic device is described as a piezoelectric vibrator, for example. At this time, the electronic component element is a piezoelectric vibration element.
(第一の実施形態)
本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法により製造される電子デバイスは、図1に示すように、電子部品素子120と素子搭載部材110と蓋部材130と溶融され硬化した封止用枠部111とから主に構成されている。
(First embodiment)
As shown in FIG. 1, the electronic device manufactured by the method for manufacturing an electronic device according to the first embodiment of the present invention includes an
電子部品素子は、例えば、圧電振動素子120である。
The electronic component element is, for example, the
圧電振動素子120は、図1に示すように、圧電片121と励振電極122と引き回しパターン123とから構成されている。
As shown in FIG. 1, the
圧電片121は、例えば、圧電材料が用いられ、矩形形状の平板状に形成されている。
For example, a piezoelectric material is used for the
励振電極122は、例えば、図1に示すように、2つ一対となっている。一方の励振電極122は、圧電片121の一方の主面に設けられている。他方の励振電極122は、圧電片121の他方の主面であって一方の励振電極122に対向する位置に設けられている。
For example, as shown in FIG. 1, the
引き回しパターン123は、例えば、2つ一対となっている。一方の引き回しパターン123は、一方の端部が一方の励振電極122に接続されており、他方の端部が圧電片121の他方の主面の所定の一辺の縁部に位置している。他方の引き回しパターン123は、一方の端部が他方の励振電極122に接続されており、他方の端部が圧電片121の一方の主面の所定の一辺の縁部に位置している。
For example, the
素子搭載部材110は、例えば、アルミナセラミックスが用いられており、矩形形状の平板状に設けられている。また、素子搭載部材110は、図1に示すように、一方の主面に搭載パッドPが設けられており、他方の主面に外部接続端子Gが設けられている。
また、素子搭載部材110は、図1に示すように、一方の主面の縁部に沿って環状に溶融され硬化した封止用枠部111が設けられている。
The
Further, as shown in FIG. 1, the
搭載パッドPは、例えば、2つ一対で設けられており、素子搭載部材110の一方の主面の所定の一辺に沿って2つ並んで設けられている。
また、搭載パッドPは、電子部品素子である圧電振動素子120の引き回しパターン123と対向する位置に設けられており、導電性接着剤Dにより圧電振動素子120の引き回しパターン123と電気的に接続されている。
For example, two mounting pads P are provided in pairs, and two mounting pads P are provided along a predetermined side of one main surface of the
The mounting pad P is provided at a position facing the
外部接続端子Gは、例えば、4つ設けられており、素子搭載部材110の他方の主面の4隅に一つずつ設けられている。また、所定の2つの外部接続端子Gは、搭載パッドPと素子搭載部材110の内部配線(図示せず)を介して電気的に接続されている。
For example, four external connection terminals G are provided, one at each of the four corners of the other main surface of the
ここで、溶融され硬化した封止用枠部111とは、素子搭載部材110の一方の主面の縁部に沿って環状に設けられていた封止用枠部111にレーザー光が照射されて溶融し再び硬化したものである。
溶融され硬化した封止用枠部111は、素子搭載部材110の一方の主面の縁部に沿って環状に設けられている。
Here, the melted and hardened
The melted and hardened
蓋部材130は、例えば、金属が用いられ、矩形形状の平板状に形成されている。
また、蓋部材130は、図1に示すように、一方の主面に凹部空間131を備えており、この凹部空間131の底面の大きさが圧電振動素子120の主面の大きさより大きく形成されている。
また、蓋部材130は、図1に示すように、その主面の大きさが前述した封止用枠部111の内側の素子搭載部材110の主面より小さく形成されている。
また、蓋部材130は、図1に示すように、凹部空間131の開口を圧電振動素子120が搭載されている素子搭載部材110の一方の主面側を向けた状態で素子搭載部材110に設けられている。従って、蓋部材130の凹部空間131内に電子部品素子である圧電振動素子120が収納された状態となる。
また、蓋部材130は、外縁側の側面に溶融され硬化した封止用枠部111が接合されている。従って、素子搭載部材110の一方の主面の縁部と蓋部材130の外縁側の側面とが溶融され硬化した封止用枠部111によって接合されている。このとき、凹部空間131内に収納されている圧電振動素子120が気密封止された状態となっている。
The
Further, as shown in FIG. 1, the
Further, as shown in FIG. 1, the
Further, as shown in FIG. 1, the
The
従って、本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法により製造された電子デバイスの一例である圧電振動子は、図1に示すように、素子搭載部材110に圧電振動素子120が搭載されており、素子搭載部材110の一方の主面と蓋部材の外縁側の側面とが溶融され硬化した封止用枠部111によって接合されて、素子搭載部材110に搭載されている圧電振動素子120が気密封止された構造となっている。
Therefore, in the piezoelectric vibrator which is an example of the electronic device manufactured by the electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention, the
次に、本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、めっき用金属層形成工程、封止用枠部形成工程、素子搭載工程、蓋部材配置工程、接合工程、個片化工程を備えている。
Next, an electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention will be described.
The electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention includes a plating metal layer forming step, a sealing frame forming step, an element mounting step, a lid member arranging step, a joining step, and an individualizing step. ing.
(めっき用金属層形成工程)
めっき用金属層形成工程は、図2に示すように、一方の主面に搭載パッドPが設けられ他方の主面に外部接続端子G(図4参照)が設けられている素子搭載部材110となる部分がマトリクス状に設けられている素子搭載部材ウエハWT1の前記素子搭載部材110となる部分の一方の主面の縁部に沿って環状のめっき用金属層111aが形成される工程である。
(Metal layer forming process for plating)
As shown in FIG. 2, the plating metal layer forming step includes an
ここで、素子搭載部材ウエハWT1は、図1に示すように、素子搭載部材となる部分がマトリクス状に設けられている。
素子搭載部材110となる部分は、矩形形状の平板状となっており、少なくとも、搭載パッドPと外部接続端子Gを備えている。
Here, as shown in FIG. 1, the element mounting member wafer WT <b> 1 is provided with a portion serving as an element mounting member in a matrix.
A portion to be the
搭載パッドPは,電子部品素子120(図4参照)を搭載する役割を果たす。
電子部品素子120が前述したような圧電振動素子120の場合、搭載パッドPは、例えば、図2に示すように、2つ一対となっており、素子搭載部材110となる部分の一方の主面の所定の一辺に沿って2つ並んで設けられている。
The mounting pad P plays a role of mounting the electronic component element 120 (see FIG. 4).
When the
外部接続端子Gは、例えば、4つ設けられており、素子搭載部材110となる部分の他方の主面の4隅に一つずつ設けられている。また、所定の2つの外部接続端子Gは、搭載パッドPと素子搭載部材110となる部分の内部配線(図示せず)を介して電気的に接続されている。
For example, four external connection terminals G are provided, and one external connection terminal G is provided at each of the four corners of the other main surface of the portion to be the
めっき用金属層111aは、例えば、銅が用いられる。
なお、ここで、めっき用金属層111aに銅を用いる場合について説明しているが、例えば、モリブデン又はタングステンを用いてもよい。
For the plating metal layer 111a, for example, copper is used.
Here, although the case where copper is used for the metal layer 111a for plating has been described, for example, molybdenum or tungsten may be used.
また、めっき用金属層111aは、例えば、素子搭載部材ウエハWT1の全面に銅からなる膜を設け、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術とが用いられる。
なお、ここでは、素子搭載部材ウエハWT1の全面に銅からなる膜を設けフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いて形成する場合について説明しているが、例えば、スクリーン印刷を用いて形成してもよい。このとき、めっき用金属層111aは、モリブデン又はタングステンが用いられる。
The plating metal layer 111a is provided with a film made of copper on the entire surface of the element mounting member wafer WT1, for example, and a photolithography technique and an etching technique are used.
Here, a case has been described in which a film made of copper is provided on the entire surface of the element mounting member wafer WT1 and formed using photolithography technology and etching technology. However, for example, it may be formed using screen printing. Good. At this time, molybdenum or tungsten is used for the metal layer 111a for plating.
従って、めっき用金属層形成工程では、例えば、銅からなるめっき用金属層111aが、素子搭載部材110の一方の主面の縁部に沿って環状に形成される。このとき、それぞれのめっき用金属層111aは、搭載パッドPと接続されない位置に設けられている。
Therefore, in the plating metal layer forming step, for example, the plating metal layer 111 a made of copper is formed in an annular shape along the edge of one main surface of the
(封止用枠部形成工程)
封止用枠部形成工程は、図2に示すように、めっき法により、前記素子搭載部材110となる部分の前記めっき用金属層111aにめっき層111bが設けられ封止用枠部111が形成される工程である。
(Sealing frame forming step)
In the sealing frame portion forming step, as shown in FIG. 2, the plating layer 111b is formed on the plating metal layer 111a in the portion to be the
封止用枠部形成工程では、例えば、電気めっきが用いられる。 In the sealing frame portion forming step, for example, electroplating is used.
ここで、めっき層111bは、例えば、銅めっき層(図示せず)とニッケルめっき層(図示せず)と金めっき層(図示せず)とから構成されている。
銅めっき層は、素子搭載部材110となる部分の一方の主面に対向するめっき用金属層111aの面に設けられる。
ニッケルめっき層は、素子搭載部材110となる部分の一方の主面に対向する銅めっき層の面に設けられる。
金めっき層は、めっき用金属層111aと銅めっき層とニッケルめっき層の露出している面に設けられる。また、金めっき層は、露出している面が酸化することを防ぐ役割を果たす。
Here, the plating layer 111b includes, for example, a copper plating layer (not shown), a nickel plating layer (not shown), and a gold plating layer (not shown).
The copper plating layer is provided on the surface of the plating metal layer 111a facing one main surface of the portion to be the
The nickel plating layer is provided on the surface of the copper plating layer facing one main surface of the portion to be the
The gold plating layer is provided on the exposed surface of the plating metal layer 111a, the copper plating layer, and the nickel plating layer. The gold plating layer plays a role in preventing the exposed surface from being oxidized.
従って、封止用枠部111は、図3に示すように、めっき用金属層111aにめっき層111bが設けられ形成されており、めっき用金属層111aとめっき層111bとから構成される。
また、封止用枠部111は、図3に示すように、素子搭載部材110となる部分の縁部に沿って環状に設けられており、枠形状に形成される。
また、封止用枠部111は、図3に示すように、搭載パッドPと接触しない位置に形成される。
また、封止用枠部111は、その厚みが15μm以上の厚みとなっている。
Therefore, as shown in FIG. 3, the sealing
Further, as shown in FIG. 3, the sealing
Further, as shown in FIG. 3, the sealing
Further, the sealing
ここで、封止用枠部111の厚みとは、素子搭載部材110となる部分の一方の主面とこの素子搭載部材110となる部分の一方の主面と対向する封止用枠部111の面との長さとする。
Here, the thickness of the sealing
封止用枠部111の厚みが15μmより小さい場合、後述する接合工程にて封止用枠部111にレーザー光を照射して封止用枠部111を溶融させたときに、溶融された封止用枠部111で素子搭載部材と蓋部材とを接合することができない恐れがある。このため、電子部品素子である圧電振動素子を気密封止することができない恐れがある。
また、封止用枠部111の厚みが15μmより小さい場合、後述する蓋部材配置工程で蓋部材の位置出しが困難となる恐れがあり、蓋部材の位置出しを行うために手間と時間を要し生産性が悪化する恐れがある。
従って、封止用枠部111は、その厚みが15μm以上となっている。
When the thickness of the sealing
In addition, when the thickness of the sealing
Therefore, the sealing
(素子搭載工程)
素子搭載工程は、図4に示すように、前記素子搭載部材110となる部分の前記搭載パッドPに電子部品素子120を搭載する工程である。
素子搭載工程では、例えば、電子部品素子である圧電振動素子120の引き回しパターン123と素子搭載部材110の搭載パッドPとが対向する位置に設けられており、導電性接着剤Dにより引き回しパターン123と搭載パッドPとが電気的に接続される。
(Element mounting process)
As shown in FIG. 4, the element mounting step is a step of mounting the
In the element mounting step, for example, the
(蓋部材配置工程)
蓋部材配置工程は、図5に示すように、一方の主面に凹部空間131を備えた蓋部材130の前記凹部空間131内に前記電子部品素子120を収納させる位置であって、前記封止用枠部111の内縁側の側面と蓋部材130の外縁側の側面とが向かい合う位置に前記蓋部材130と配置する工程である。
(Cover member placement process)
As shown in FIG. 5, the lid member arranging step is a position where the
蓋部材130は、例えば、金属が用いられている。
また、蓋部材130は、図5に示すように、一方の主面に凹部空間131を備えており、この凹部空間131の底面の大きさが電子部品素子である圧電振動素子120の主面より大きく形成されている。
また、蓋部材130は、図5に示すように、その主面が前述した封止用枠部111の内縁側の素子搭載部材110となる部分の一方の主面より小さく形成されている。
The
As shown in FIG. 5, the
Further, as shown in FIG. 5, the
蓋部材配置工程では、図5に示すように、蓋部材130の凹部空間131を電子部品素子である圧電振動素子120が搭載されている素子搭載部材110の一方の主面側に向けた状態で設けられる。
また、蓋部材配置工程では、図5に示すように、封止用枠部111の内縁側の側面と蓋部材130の外縁側の側面とが向かい合う位置に設けられる。
従って、蓋部材配置工程では、封止用枠部111の内縁側に蓋部材130を設けることで素子搭載部材110となる部分の所定の位置に蓋部材130を容易に設けることができる。
In the lid member arranging step, as shown in FIG. 5, the
Further, in the lid member arranging step, as shown in FIG. 5, the side surface on the inner edge side of the sealing
Therefore, in the lid member arranging step, the
(接合工程)
接合工程は、図6に示すように、前記素子搭載部材110となる部分の封止用枠部111にレーザー光が照射され前記封止用枠部111が溶融されて、前記素子搭載部材110の一方の主面と前記蓋部材130の外縁側の側面とが接合される工程である。
(Joining process)
As shown in FIG. 6, the bonding process is performed by irradiating the sealing
接合工程では、例えば、レーザー照射装置が用いられる。
この接合工程では、レーザー光が素子搭載部材110の封止用枠部111に照射される。このとき、レーザー光は、素子搭載部材110となる部分の主面に対して90°以下の角度に傾いている。また、レーザー光は、隣接する素子搭載部材110となる部分に配置されている蓋部材130の他方の主面の最も近い縁部と素子搭載部材110となる部分の一方の主面に対向する封止用枠部111の面であって内縁側の縁部とを通る面と、素子搭載部材110となる部分の一方の主面とがなす角度より大きい角度に傾いている。
In the joining process, for example, a laser irradiation apparatus is used.
In this joining step, the laser beam is applied to the
レーザー光が素子搭載部材110となる部分の主面に対して90°より大きい角度に傾いている場合、レーザー光が蓋部材130となる部分に照射され、封止用枠部111にレーザー光を照射することができなくなる恐れがある。
従って、レーザー光は、素子搭載部材110となる部分の主面に対して90°以下の角度に傾いている。
When the laser beam is inclined at an angle larger than 90 ° with respect to the main surface of the portion to be the
Therefore, the laser beam is inclined at an angle of 90 ° or less with respect to the main surface of the portion to be the
レーザー光は、隣接する素子搭載部材110となる部分に配置されている蓋部材130の他方の主面の最も近い縁部と素子搭載部材110となる部分の一方の主面に対向する封止用枠部111の面であって内縁側の縁部とを通る面と、素子搭載部材110となる部分の一方の主面とがなす角度より小さい角度に傾いている場合、レーザー光が隣接する素子搭載部材110となる部分に配置された蓋部材130に照射され、封止用枠部111にレーザー光を照射することができなくなる恐れがある。
従って、レーザー光は、隣接する素子搭載部材110となる部分に配置されている蓋部材130の他方の主面と最も近い縁部と素子搭載部材110となる部分の一方の主面に対向する封止用枠部111の面で内縁側の縁部とを通る面と、素子搭載部材110となる部分の一方の主面とがなす角度より大きい角度に傾いている。
The laser beam is used for sealing so as to oppose the closest edge of the other main surface of the
Therefore, the laser beam is sealed to face the edge closest to the other main surface of the
つまり、レーザー光は、封止用枠部111に照射することができる角度であって、かつ、隣接する素子搭載部材110となる部分に配置されている蓋部材130に接触しない角度に傾いている。
That is, the laser beam is inclined at an angle at which the
また、接合工程では、素子搭載部材110に形成されている封止用枠部111にレーザー光が照射されることで封止用枠部111が溶融されて、素子搭載部材110の一方の主面と蓋部材130の外縁側の側面とが接合される。
なお、接合工程を行う際は、真空雰囲気中で行ってもよい。
Further, in the bonding step, the sealing
In addition, when performing a joining process, you may carry out in a vacuum atmosphere.
(個片化工程)
個片化工程は、図7に示すように、蓋部材が接合されている前記素子搭載部材ウエハの前記素子搭載部材となる部分ごとに切断し個片化する工程である。
個片化工程では、例えば、ダイシングソーが用いられる。
(Individualization process)
As shown in FIG. 7, the singulation process is a process of cutting and dividing each part of the element mounting member wafer to which the lid member is bonded into the element mounting member.
In the singulation process, for example, a dicing saw is used.
個片化工程で素子搭載部材110となる部分ごとに個片化された素子搭載部材110は、蓋部材130と接合されており、素子搭載部材110と蓋部材130とで形成される空間131内に電子部品素子である圧電振動素子120が気密封止された状態となる。
従って、個片化工程で素子搭載部材110となる部分ごとに個片化することで、電子デバイスの一例である圧電振動子が形成される。
The
Therefore, the piezoelectric vibrator which is an example of an electronic device is formed by dividing into parts for each element to be the
このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、封止用枠部111が素子搭載部材110の一方の主面の縁部に沿って環状に設けられており、この封止用枠部111の内縁側に蓋部材130が配置された状態で、レーザー光が封止用枠部111に照射されて封止用枠部111が溶融され、素子搭載部材110の一方の主面と蓋部材130の外縁側の側面とが接合されているので、封止用枠部111を溶融する前の状態では、電子部品素子120が収納されている空間と封止用枠部111とが接していない状態となっている。
このため、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、レーザー光によって封止用枠部111が突沸したように溶融された場合、電子部品素子120が収納されている空間内へ溶融された封止用枠部111の一部が飛散することを防ぐことができる。
従って、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、溶融された封止用枠部111が電子部品素子120に付着することを防ぐことができ、溶融された封止用枠部111が電子部品素子120に付着することによる電子デバイスの電気的特性の悪化を防ぐことができる。特に、電子デイバスが圧電デバイスの場合、圧電振動素子に溶融した封止用枠部の一部が付着することがなくなり、圧電デバイスの周波数が不安定となることを防ぐことができる。
According to the method of manufacturing an electronic device according to the first embodiment of the present invention, the sealing
For this reason, according to the method for manufacturing an electronic device according to the first embodiment of the present invention, when the sealing
Therefore, according to the method for manufacturing an electronic device according to the first embodiment of the present invention, the molten
また、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、封止用枠部111が素子搭載部材110の一方の主面の縁部に沿って環状に設けられており、この封止用枠部111の内縁側に蓋部材130が配置された状態で、レーザー光が封止用枠部111に照射されて封止用枠部111が溶融され、素子搭載部材110の一方の主面と蓋部材130の外縁側の側面とが接合されているので、封止用枠部111が溶融されるとき、蓋部材130及び素子搭載部材110に直接レーザー光が照射されず、蓋部材130と素子搭載部材110とが溶融された封止用枠部111により加熱された状態となる。
このため、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、蓋部材130又は素子搭載部材110にレーザー光を直接、照射せず封止用枠部111を溶融するので、封止用枠部111が溶融されているとき蓋部材130と素子搭載部材110との膨張量の差が従来の電子デバイスの製造方法と比較して小さくなり、その結果、溶融されている封止用枠部111が硬化するときに蓋部材130と素子搭載部材110との内部に発生する歪を従来の電子デバイスの製造方法と比較して軽減することができる。
従って、このような本発明の第一の実施形態の電子デバイスの製造方法によれば、従来の電子デバイスの製造方法と比較して、素子搭載部材110及び蓋部材130の内部に発生した歪によるクラックを減らすことができるので、電子部品素子120を気密封止することができ生産性を向上させることができる。
Further, according to the electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention, the sealing
For this reason, according to the method for manufacturing an electronic device according to the first embodiment of the present invention, the sealing
Therefore, according to the electronic device manufacturing method of the first embodiment of the present invention, compared to the conventional electronic device manufacturing method, the distortion caused in the
また、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、素子搭載部材110に形成されている封止用枠部111の内縁側に蓋部材130が配置された状態で封止用枠部111が溶融されて素子搭載部材110の一方の主面と蓋部材130の外縁側の側面とが接合されるので、封止用枠部111で蓋部材130を固定することができるので、仮付けを行う必要がなく、仮付けにかかる時間や手間がかからず生産性を向上させることができる。
Further, according to the method for manufacturing an electronic device according to the first embodiment of the present invention, the
また、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、素子搭載部材110の凹部空間131内に電子部品素子120が収納されつつ、封止用枠部111の内縁側の側面と蓋部材130の外縁側の側面とが向かい合う位置に蓋部材130が配置され、封止用枠部111が溶融されて、素子搭載部材110の一方の主面と蓋部材130の外縁側の側面とが接合されるので、凹部空間131を素子搭載部材110側に向けた状態で封止用枠部111の内縁側に蓋部材130を配置すると、素子搭載部材110の所定の位置に蓋部材130を容易に配置することができる。
このため、このような本発明の第一の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、電子デバイスが小型化された場合、素子搭載部材110の所定の位置に蓋部材130を配置することができ、素子搭載部材110に搭載されている電子部品素子120を気密封止することができ、生産性を向上させることができる。
Further, according to the method for manufacturing an electronic device according to the first embodiment of the present invention, the
Therefore, according to the electronic device manufacturing method according to the first embodiment of the present invention, when the electronic device is downsized, the
(第二の実施形態)
本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
(Second embodiment)
An electronic device manufacturing method according to the second embodiment of the present invention will be described.
まず、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの製造方法を用いて製造された電子デバイスについて説明する。
この電子デバイスは、図8に示すように、溶融され硬化された封止用枠部211の内縁側に位置出し用枠部212が設けられている点で第一の実施形態と異なる。
First, an electronic device manufactured using the electronic device manufacturing method according to the second embodiment of the present invention will be described.
As shown in FIG. 8, the electronic device is different from the first embodiment in that a
位置出し用枠部212は、第二のめっき用金属層212aと第二のめっき層212bとから構成されている。
また、位置出し用枠部212は、素子搭載部材210の一方の主面に環状に設けられている。
また、位置出し用枠部212は、封止用枠部211の内縁側に設けられており、封止用枠部211と接触していない状態で設けられている。
また、位置出し用枠部212は、搭載パッドPと接触しない位置に設けられており、搭載パッドPが位置出し用枠部211の内縁側に設けられている。
また、位置出し用枠部212は、蓋部材230の凹部空間231を向く蓋部材230の側面と向かい合う位置に設けられている。
The
Further, the
The
Further, the
Further, the
従って、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの製造方法で製造された電子デバイスは、素子搭載部材210の一方の主面に設けられている搭載パッドPに電子部品素子220が搭載されており、この電子部品素子220が蓋部材230の凹部空間231内に収納されており、溶融された封止用枠部211によって素子搭載部材210と蓋部材230とが接合され電子部品素子220が気密封止されている。
Accordingly, in the electronic device manufactured by the electronic device manufacturing method according to the second embodiment of the present invention, the
次に、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの製造方法について説明する。
本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、図7に示すように、めっき用金属層211aの内縁側に第二のめっき用金属膜212aが形成される第二のめっき用金属膜形成工程と、図8に示すように、第二のめっき用金属膜212aに第二のめっき層212bを設け位置出し用枠部212を形成する位置出し用枠部形成工程と、を備えている点で第一の実施形態と異なる。
Next, an electronic device manufacturing method according to the second embodiment of the present invention will be described.
As shown in FIG. 7, in the method for manufacturing an electronic device according to the second embodiment of the present invention, the second plating metal film 212a is formed on the inner edge side of the
(第二のめっき用金属層形成工程)
第二のめっき用金属層形成工程は、図9に示すように、素子搭載部材210の縁部に沿って形成されているめっき用金属層211aの内縁側に第二のめっき用金属層212aを形成する工程である。
(Second metal layer forming step for plating)
In the second plating metal layer forming step, as shown in FIG. 9, the second plating metal layer 212 a is formed on the inner edge side of the
第二のめっき用金属層211aは、素子搭載部材210となる部分の一方の主面に環状に形成される。
また、第二のめっき用金属層211aは、素子搭載部材210となる部分の一方の主面の縁部に沿って形成されているめっき用金属層211aの内縁側に形成されており、かつ、このめっき用金属層211aと接触しない位置に形成されている。
また、第二のめっき用金属層211aは、素子搭載部材210の一方の主面に設けられている搭載パッドPと接触しない位置に形成されており、搭載パッドPが第二のめっき用金属層211aの内縁側に位置するように形成されている。
The second metal layer for plating 211a is formed in an annular shape on one main surface of a portion to be the
Further, the second
The second
ここで、第二めっき用金属層212aは、例えば、銅が用いられる。
なお、ここで、第二のめっき用金属層212aに銅を用いる場合について説明しているが、例えば、モリブデン又はタングステンを用いてもよい。
Here, copper is used for the metal layer 212a for 2nd plating, for example.
In addition, although the case where copper is used for the second plating metal layer 212a has been described here, for example, molybdenum or tungsten may be used.
また、第二のめっき用金属層212aは、例えば、素子搭載部材ウエハWT2の全面に銅からなる膜を設け、フォトリソグラフィ技術とエッチング技術とが用いられる。
なお、ここでは、素子搭載部材ウエハWT2の全面に銅からなる膜を設けフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いて形成する場合について説明しているが、例えば、スクリーン印刷を用いて形成してもよい。このとき、第二のめっき用金属層212aは、モリブデン又はタングステンが用いられる。
For example, the second plating metal layer 212a is provided with a film made of copper on the entire surface of the element mounting member wafer WT2, and photolithography technique and etching technique are used.
Here, a case has been described in which a film made of copper is provided on the entire surface of the element mounting member wafer WT2 and is formed using a photolithography technique and an etching technique. Good. At this time, molybdenum or tungsten is used for the second plating metal layer 212a.
従って、第二のめっき用金属層形成工程では、例えば、銅からなる第二のめっき用金属層212aが、素子搭載部材210の一方の主面の縁部に沿って環状に形成される。このとき、それぞれの第二のめっき用金属層212aは、搭載パッドPと接続されない位置であって、めっき用金属層211aと接触しない位置に設けられている。
Therefore, in the second plating metal layer forming step, for example, the second plating metal layer 212 a made of copper is formed in an annular shape along the edge of one main surface of the
なお、第二のめっき用金属層形成工程は、めっき用金属層211aを形成するめっき用金属層形成工程と同様に行ってもよい。
The second plating metal layer forming step may be performed in the same manner as the plating metal layer forming step of forming the
(位置出し用枠部形成工程)
位置出し用枠部形成工程は、図8に示すように、第二のめっき用金属膜212aに第二のめっき層212bを設け位置出し用枠部212を形成する工程である。
(Positioning frame forming process)
The positioning frame portion forming step is a step of forming the
位置出し用枠部形成工程では、例えば、電気めっきが用いられる。 In the positioning frame portion forming step, for example, electroplating is used.
ここで、第二のめっき層212bは、例えば、銅めっき層(図示せず)とニッケルめっき層(図示せず)と金めっき層(図示せず)とから構成されている。
銅めっき層は、素子搭載部材210となる部分の一方の主面に対向する第二のめっき用金属層212aの面に設けられる。
ニッケルめっき層は、素子搭載部材210となる部分の一方の主面に対向する銅めっき層の面に設けられる。
金めっき層は、第二のめっき用金属層212aと銅めっき層とニッケルめっき層の露出している面に設けられる。また、金めっき層は、露出している面が酸化することを防ぐ役割を果たす。
Here, the
The copper plating layer is provided on the surface of the second metal layer for plating 212 a facing the one main surface of the portion to be the
The nickel plating layer is provided on the surface of the copper plating layer facing one main surface of the portion to be the
The gold plating layer is provided on the exposed surface of the second plating metal layer 212a, the copper plating layer, and the nickel plating layer. The gold plating layer plays a role in preventing the exposed surface from being oxidized.
従って、位置出し用枠部212は、図10に示すように、第二のめっき用金属層212aに第二のめっき層212bが設けられ形成されており、第二のめっき用金属層212aと第二のめっき層212bとから構成される。
また、位置出し用枠部212は、図10に示すように、素子搭載部材210となる部分の縁部に沿って環状に設けられており、枠形状に形成される。
また、位置出し用枠部212は、図10に示すように、搭載パッドP及び封止用枠部211に接触しない位置に形成される。
また、位置出し用枠部212は、その厚みが15μm以上の厚みとなっている。
Therefore, as shown in FIG. 10, the
Further, as shown in FIG. 10, the
Further, as shown in FIG. 10, the
The
ここで、位置出し用枠部212の厚みとは、素子搭載部材210となる部分の一方の主面とこの素子搭載部材210となる部分の一方の主面と対向する位置出し用枠部212の面との長さとする。
Here, the thickness of the
位置出し用枠部212の厚みが15μmより小さい場合、蓋部材配置工程で蓋部材230の位置出しが困難となる恐れがあり、蓋部材230の位置出しを行うために手間と時間を要し生産性が悪化する恐れがある。
従って、位置出し用枠部212は、その厚みが15μm以上となっている。
If the thickness of the
Therefore, the
なお、位置出し用枠部形成工程は、めっき層211bを設け封止用枠部211を形成する封止用枠部形成工程と同様に行ってもよい。
The positioning frame portion forming step may be performed in the same manner as the sealing frame portion forming step in which the
(蓋部材配置工程)
蓋部材配置工程は、図12に示すように、一方の主面に凹部空間231を備えた蓋部材230の前記凹部空間231内に前記電子部品素子220を収納させる位置であって、前記封止用枠部211の内縁側の側面と蓋部材230の外縁側の側面とが向かい合う位置で、かつ、前記位置出し用枠部212の外縁側の側面と蓋部材230の凹部空間231を向く側面とが向かい合う位置に蓋部材230を配置する工程である。
(Cover member placement process)
As shown in FIG. 12, the lid member arranging step is a position for housing the
蓋部材配置工程では、図12に示すように、蓋部材230の凹部空間231を電子部品素子である圧電振動素子220が搭載されている素子搭載部材210の一方の主面側に向けた状態で設けられる。
また、蓋部材配置工程では、図12に示すように、封止用枠部211の内縁側の側面と蓋部材230の外縁側の側面とが向かい合う位置に設けられている。
また、蓋部材配置工程では、図12に示すように、位置出し用枠部212の外縁側の側面と蓋部材230の凹部空間231を向く側面とが向かい合う位置に設けられている。
このため、蓋部材配置工程では、位置出し用枠部212と封止用枠部211との間に蓋部材を嵌め込むことで素子搭載部材210の所定の位置に蓋部材230を容易に設けることができる。
In the lid member arranging step, as shown in FIG. 12, the recessed
In the lid member arranging step, as shown in FIG. 12, the side surface on the inner edge side of the sealing
In the lid member arranging step, as shown in FIG. 12, the side surface on the outer edge side of the
Therefore, in the lid member arranging step, the
このような本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの製造方法は、素子搭載部材210の一方の主面の縁部に沿って環状に設けられている封止用枠部211をレーザーにより溶融させて、素子搭載部材210の一方の主面と蓋部材230の外縁側の側面とを接合させているので、第一の実施形態と同様の効果を奏する。
Such a method of manufacturing an electronic device according to the second embodiment of the present invention uses a laser to seal the
また、本発明の第二の実施形態に係る電子デバイスの製造方法によれば、蓋部材配置工程で、封止用枠部211と位置出し用枠部212との間に蓋部材230を嵌めることができる構造となっているので、蓋部材230を素子搭載部材210の所定の位置に容易に設けることができ、手間と時間を短縮することができ生産性を向上させることができる。
Further, according to the method for manufacturing an electronic device according to the second embodiment of the present invention, the
なお、電子デバイスが圧電振動子の場合について説明したが、封止用枠部にレーザー光が照射され封止用枠部が溶融され素子搭載部材と蓋部材とを接合し電子部品素子である圧電振動素子を気密封止すれば、例えば、圧電発振器等の圧電デバイスであってもよい。 Although the case where the electronic device is a piezoelectric vibrator has been described, the sealing frame portion is irradiated with laser light, the sealing frame portion is melted, and the element mounting member and the lid member are joined to each other to form a piezoelectric element that is an electronic component element. If the vibration element is hermetically sealed, for example, a piezoelectric device such as a piezoelectric oscillator may be used.
なお、電子部品素子が圧電振動素子の場合について説明したが、封止用枠部にレーザー光が照射され封止用枠部が溶融され素子搭載部材と蓋部材とを接合し電子部品素子を気密封止すれば、例えば、電子部品素子がチップコンデンサやチップ抵抗であってもよい。 Although the case where the electronic component element is a piezoelectric vibration element has been described, the sealing frame portion is irradiated with laser light, the sealing frame portion is melted, the element mounting member and the lid member are joined, and the electronic component element is vented. If the sealing is performed, for example, the electronic component element may be a chip capacitor or a chip resistor.
110,120 素子搭載部材
111,211 封止用枠部
212 位置出し用枠部
P 搭載パッド
G 外部接続端子
120,220 圧電振動素子
121,221 圧電片
122,222 励振電極
123,223 引き回しパターン
130,230 蓋部材
131,231 凹部空間
WT1,WT2 素子搭載部材ウエハ
D 導電性接着剤
110, 120
Claims (1)
めっき法により、前記素子搭載部材となる部分の前記めっき用金属層にめっき層が設けられ封止用枠部が形成される封止用枠部形成工程と、
前記素子搭載部材となる部分の前記搭載パッドに電子部品素子を搭載する素子搭載工程と、
一方の主面に凹部空間を備えた蓋部材の前記凹部空間内に前記電子部品素子を収納させる位置であって、前記封止用枠部の内縁側の側面と前記蓋部材の外縁側の側面とが向かい合う位置に前記蓋部材と配置する蓋部材配置工程と、
前記素子搭載部材となる部分の封止用枠部にレーザー光が照射され前記封止用枠部が溶融されて、前記素子搭載部材の一方の主面と前記蓋部材の外縁側の側面とが接合される接合工程と、
蓋部材が接合されている前記素子搭載部材ウエハの前記素子搭載部材となる部分ごとに切断し個片化する個片化工程と、
を備えていることを特徴とする電子デバイスの製造方法。 A portion to be an element mounting member provided with a mounting pad on one main surface and an external connection terminal on the other main surface is provided in a matrix. A plating metal layer forming step in which an annular plating metal layer is formed along the edge of one main surface;
A sealing frame portion forming step in which a plating layer is provided on the metal layer for plating in the portion to be the element mounting member by plating, and a sealing frame portion is formed;
An element mounting step of mounting an electronic component element on the mounting pad of the portion to be the element mounting member;
A position where the electronic component element is accommodated in the recessed space of the lid member having a recessed space on one main surface, the side surface on the inner edge side of the sealing frame portion and the side surface on the outer edge side of the lid member A lid member arranging step of arranging the lid member at a position facing each other;
The sealing frame portion of the portion to be the element mounting member is irradiated with laser light to melt the sealing frame portion, and one main surface of the element mounting member and the side surface on the outer edge side of the lid member are A joining process to be joined;
An individualization step of cutting and dividing each part to be the element mounting member of the element mounting member wafer to which the lid member is bonded,
An electronic device manufacturing method comprising:
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108605419A (en) * | 2015-12-16 | 2018-09-28 | 全讯射频科技(无锡)有限公司 | Method for the shell of electrical part and for manufacturing the shell for being used for electrical part |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0681133U (en) * | 1993-04-27 | 1994-11-15 | 京セラ株式会社 | Surface mount crystal oscillator |
JPH0846075A (en) * | 1994-07-29 | 1996-02-16 | Kinseki Ltd | Electronic component package |
WO2004109796A1 (en) * | 2003-06-03 | 2004-12-16 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Electronic component device |
US20050258516A1 (en) * | 2004-05-19 | 2005-11-24 | Suk-Kee Hong | Micro-electro-mechanical system (MEMS) package with side sealing member and method of manufacturing the same |
JP2007173306A (en) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Nec Schott Components Corp | Package for electronic component |
US20080174983A1 (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-24 | Mitsubishi Electric Corporation | Circuit Module and process for producing the same |
JP2009220151A (en) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Bondtech Inc | Joining method and device made by this method, joining apparatus, and substrate joined by this method |
-
2010
- 2010-08-31 JP JP2010194516A patent/JP5568416B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0681133U (en) * | 1993-04-27 | 1994-11-15 | 京セラ株式会社 | Surface mount crystal oscillator |
JPH0846075A (en) * | 1994-07-29 | 1996-02-16 | Kinseki Ltd | Electronic component package |
WO2004109796A1 (en) * | 2003-06-03 | 2004-12-16 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Electronic component device |
US20050258516A1 (en) * | 2004-05-19 | 2005-11-24 | Suk-Kee Hong | Micro-electro-mechanical system (MEMS) package with side sealing member and method of manufacturing the same |
JP2007173306A (en) * | 2005-12-19 | 2007-07-05 | Nec Schott Components Corp | Package for electronic component |
US20080174983A1 (en) * | 2007-01-19 | 2008-07-24 | Mitsubishi Electric Corporation | Circuit Module and process for producing the same |
JP2009010170A (en) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Mitsubishi Electric Corp | Circuit module, and manufacturing method thereof |
JP2009220151A (en) * | 2008-03-17 | 2009-10-01 | Bondtech Inc | Joining method and device made by this method, joining apparatus, and substrate joined by this method |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108605419A (en) * | 2015-12-16 | 2018-09-28 | 全讯射频科技(无锡)有限公司 | Method for the shell of electrical part and for manufacturing the shell for being used for electrical part |
CN108605419B (en) * | 2015-12-16 | 2020-10-20 | 全讯射频科技(无锡)有限公司 | Housing for an electrical component and method for producing a housing for an electrical component |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5568416B2 (en) | 2014-08-06 |
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