JP2012041430A - White curable resin composition - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a white curable resin composition that can prevent cracks from occurring on a cured film due to punching process, hole-forming process or the like.SOLUTION: The white curable resin composition comprises: an active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule; a photoinitiator (B); a diluent (C); titanium oxide (D); an epoxy thermosetting compound (E); and an inorganic compound (F) having an aspect ratio of 5 or larger.

Description

本発明は、プリント配線板のソルダーレジスト等の各種レジスト及び反射シートの反射皮膜などに適した耐クラック性を有する白色硬化性樹脂組成物、及びこれを硬化させた硬化物を被覆したプリント配線板、反射シートに関するものである。   The present invention relates to a white curable resin composition having crack resistance suitable for various resists such as a solder resist of a printed wiring board and a reflective film of a reflection sheet, and a printed wiring board coated with a cured product obtained by curing the same. The present invention relates to a reflection sheet.

従来、硬化性樹脂組成物は、例えば、プリント配線板のソルダーレジスト膜として使用される場合がある。プリント配線板は発光ダイオード素子(LED)等の実装用基板として使用されることがあり、この場合、実装面に形成されるソルダーレジスト膜には、光源からの光の反射率を向上させる機能が求められている。そして、硬化性樹脂組成物の硬化膜の反射率を高めるために、酸化チタン等の無機白色顔料を配合することが知られている。   Conventionally, the curable resin composition may be used as, for example, a solder resist film of a printed wiring board. The printed wiring board may be used as a mounting substrate for a light emitting diode element (LED) or the like. In this case, the solder resist film formed on the mounting surface has a function of improving the reflectance of light from the light source. It has been demanded. And in order to raise the reflectance of the cured film of curable resin composition, mix | blending inorganic white pigments, such as a titanium oxide, is known.

しかし、硬化性樹脂組成物の硬化膜の反射率を高めるために、酸化チタン等の無機白色顔料を大量に配合すると、硬化膜の耐クラック性が十分ではなくなるという問題があった。従って、プリント配線板の打ち抜き加工や穴あけ加工にあたって、ソルダーレジスト膜にクラックや剥離が生じてしまう。   However, when a large amount of an inorganic white pigment such as titanium oxide is added to increase the reflectance of the cured film of the curable resin composition, there is a problem that the crack resistance of the cured film is not sufficient. Accordingly, cracks and peeling occur in the solder resist film during the punching process and the hole punching process of the printed wiring board.

そこで、硬化膜に大きな機械特性を付与するために、特許文献1に、硬化性樹脂100質量部に対して、無機フィラー10〜1200質量部と、弾性率(MPa)1〜2000かつ平均粒径0.01〜10μmの有機フィラー1〜100質量部とを、無機フィラーと有機フィラーとの含有重量比1〜41含有した硬化性樹脂組成物が開示されている。   Therefore, in order to impart large mechanical properties to the cured film, Patent Document 1 discloses that the inorganic filler is 10 to 1200 parts by mass, the elastic modulus (MPa) is 1 to 2000, and the average particle diameter is 100 parts by mass of the curable resin. A curable resin composition containing 0.01 to 10 μm of an organic filler of 1 to 100 parts by mass and containing an inorganic filler and an organic filler in a weight ratio of 1 to 41 is disclosed.

しかし、特許文献1の硬化性樹脂組成物でも、鉛筆硬度や密着性の低下を抑制できるものの、硬化膜の耐クラック性は十分ではなく、依然として打ち抜き加工や穴あけ加工にあたって硬化膜にクラックや剥離が生じてしまうという問題があった。   However, even with the curable resin composition of Patent Document 1, although the reduction in pencil hardness and adhesion can be suppressed, the cured film has insufficient crack resistance, and the cured film still has cracks and delamination during punching and drilling. There was a problem that it would occur.

また、反射シートを太陽電池のバックシートとして使用する場合、反射シートを太陽電池に取り付けたり、太陽電池の形状に加工する必要がある。従って、反射シートの反射皮膜にも打ち抜き加工や穴あけ加工に耐えるだけの耐クラック性が要求される。   Moreover, when using a reflective sheet as a back sheet | seat of a solar cell, it is necessary to attach a reflective sheet to a solar cell, or to process into the shape of a solar cell. Accordingly, the reflective film of the reflective sheet is also required to have crack resistance enough to withstand punching and drilling.

特開2009−102623JP 2009-102623 A

上記事情に鑑み、本発明は、打ち抜き加工や穴あけ加工等により硬化膜に生じるクラックを防止、抑制できる白色硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a white curable resin composition capable of preventing and suppressing cracks generated in a cured film by punching or drilling.

本発明の態様は、(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、(B)光重合開始剤、(C)希釈剤、(D)酸化チタン、(E)エポキシ系熱硬化性化合物、及び(F)アスペクト比が5以上の無機化合物を含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   Aspects of the present invention include (A) an active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent, and (D) titanium oxide. And (E) an epoxy-based thermosetting compound, and (F) an inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more.

本発明の態様は、前記(F)アスペクト比が5以上の無機化合物を、前記(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、5〜80質量部含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   In an embodiment of the present invention, (F) the inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more is added to (A) 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. The white curable resin composition is characterized by containing 5 to 80 parts by mass.

本発明の態様は、前記(F)アスペクト比が5以上の無機化合物が、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、炭化ケイ素及び炭酸カルシウムからなる群から選択された少なくとも一種のウィスカー状化合物であることを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   An aspect of the present invention is characterized in that the (F) inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more is at least one whisker-like compound selected from the group consisting of potassium titanate, magnesium sulfate, silicon carbide, and calcium carbonate. The white curable resin composition.

さらに、下記一般式(I)   Furthermore, the following general formula (I)

Figure 2012041430
Figure 2012041430

(式中、R、Rは、それぞれ独立に、メチル基、水素原子またはt‐ブチル基を示す。)で表される(G)フェノール系化合物を含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。 (Wherein R 1 and R 2 each independently represents a methyl group, a hydrogen atom or a t-butyl group) (G) a phenolic compound containing the phenolic compound It is a resin composition.

本発明の態様は、さらに、(H)ウレタンアクリレートを、前記(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、10〜30質量部含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物である。   In an embodiment of the present invention, (H) urethane acrylate is further added in an amount of 10 to 30 with respect to 100 parts by mass of (A) active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. It is a white curable resin composition characterized by containing a mass part.

本発明の態様は、上記白色硬化性樹脂組成物の硬化膜を有するプリント配線板である。   The aspect of this invention is a printed wiring board which has the cured film of the said white curable resin composition.

本発明の態様は、上記白色硬化性樹脂組成物で形成された反射皮膜を有する反射シートである。   The aspect of this invention is a reflective sheet which has a reflective film formed with the said white curable resin composition.

本発明の態様によれば、白色硬化性樹脂組成物にアスペクト比が5以上の無機化合物を配合することにより、打ち抜きクラック耐性に優れた硬化物を形成できるので、打ち抜き加工や穴あけ加工等によるクラックの発生を防止、抑制できる。本発明の態様によれば、アスペクト比が5以上の無機化合物を、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、5〜80質量部含有することにより、打ち抜きクラック耐性に加えて耐カッピング性にも優れた硬化物を形成できる。本発明の態様によれば、さらに、一般式(i)のフェノール系化合物を含有することにより、加熱後における反射率の低下を抑制できる。本発明の態様によれば、ウレタンアクリレートを、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、10〜30質量部含有することにより、硬化物の可撓性が向上して耐カッピング性がさらに向上する。   According to the aspect of the present invention, a cured product having excellent punch crack resistance can be formed by adding an inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more to the white curable resin composition, so that a crack caused by punching or drilling or the like can be formed. Can be prevented and suppressed. According to the aspect of the present invention, the inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more is 5 to 80 masses per 100 mass parts of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. By containing a part, a cured product having excellent cupping resistance in addition to punching crack resistance can be formed. According to the aspect of the present invention, it is possible to further suppress a decrease in reflectivity after heating by containing the phenol compound of the general formula (i). According to the aspect of the present invention, by containing 10 to 30 parts by mass of urethane acrylate with respect to 100 parts by mass of active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, The flexibility of the cured product is improved and the cupping resistance is further improved.

本発明の態様によれば、打ち抜きクラック耐性や耐カッピング性に優れた硬化膜を有するプリント配線板を得ることができる。また、本発明の態様によれば、打ち抜きクラック耐性や耐カッピング性に優れた反射皮膜を有する反射シートを得ることができる。   According to the aspect of the present invention, a printed wiring board having a cured film excellent in punch crack resistance and cupping resistance can be obtained. Moreover, according to the aspect of the present invention, it is possible to obtain a reflective sheet having a reflective coating excellent in punch crack resistance and cupping resistance.

次に、本発明の白色硬化性樹脂組成物について説明する。本発明の白色硬化性樹脂組成物は、(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、(B)光重合開始剤、(C)希釈剤、(D)酸化チタン、(E)エポキシ系熱硬化性化合物、及び(F)アスペクト比が5以上の無機化合物を含有するものであって、上記各成分は、以下の通りである。   Next, the white curable resin composition of the present invention will be described. The white curable resin composition of the present invention includes (A) an active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, (B) a photopolymerization initiator, (C) a diluent, It contains (D) titanium oxide, (E) an epoxy thermosetting compound, and (F) an inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more, and each of the above components is as follows.

(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂
1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂には、例えば、分子中にエポキシ基を2個以上有する多官能エポキシ樹脂のエポキシ基の少なくとも一部にアクリル酸又はメタクリル酸等のラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させてエポキシ(メタ)アクリレートを得て、生成した水酸基に多塩基酸又はその無水物を反応させて得られる多塩基酸変性エポキシ(メタ)アクリレートを挙げることができる。
(A) Active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule For an active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, for example, A radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid is reacted with at least a part of the epoxy group of a polyfunctional epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule to obtain an epoxy (meth) acrylate, A polybasic acid-modified epoxy (meth) acrylate obtained by reacting the produced hydroxyl group with a polybasic acid or an anhydride thereof can be mentioned.

前記多官能性エポキシ樹脂は、2官能以上のエポキシ樹脂であればいずれでも使用可能であり、エポキシ当量の制限は特にないが、例えば、1000以下、好ましくは100〜500のものを用いる。多官能性エポキシ樹脂には、例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂等のゴム変性エポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂、о−クレゾールノボラック型等のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族多官能エポキシ樹脂、グリシジルエステル型多官能エポキシ樹脂、グリシジルアミン型多官能エポキシ樹脂、複素環式多官能エポキシ樹脂、ビスフェノール変性ノボラック型エポキシ樹脂、多官能変性ノボラック型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物型エポキシ樹脂等を挙げることができる。また、これらの樹脂にBr、Cl等のハロゲン原子を導入したものも使用可能である。これらのうちでも塗膜のフレキシブル性の点から、シリコーン変性エポキシ樹脂等のゴム変性エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。   Any polyfunctional epoxy resin can be used as long as it is a bifunctional or higher functional epoxy resin, and there is no particular limitation on the epoxy equivalent, but, for example, one having 1000 or less, preferably 100 to 500 is used. Examples of the polyfunctional epoxy resin include biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, rubber modified epoxy resin such as silicone modified epoxy resin, ε-caprolactone modified epoxy resin, bisphenol A type, bisphenol. Phenol type novolak type epoxy resin such as F type, bisphenol AD type, cresol novolak type epoxy resin such as о-cresol novolak type, bisphenol A novolak type epoxy resin, cyclic aliphatic polyfunctional epoxy resin, glycidyl ester type polyfunctional epoxy resin, Glycidylamine type polyfunctional epoxy resin, heterocyclic polyfunctional epoxy resin, bisphenol modified novolac type epoxy resin, polyfunctional modified novolak type epoxy resin, phenols and phenolic hydroxyl group Examples thereof include condensate type epoxy resins with aromatic aldehydes. Moreover, what introduce | transduced halogen atoms, such as Br and Cl, to these resin can also be used. Of these, rubber-modified epoxy resins such as silicone-modified epoxy resins are preferred from the viewpoint of the flexibility of the coating film. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

上記したエポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させる。エポキシ基とカルボキシル基の反応によりエポキシ基が開裂し水酸基とエステル結合が生成する。使用するラジカル重合性不飽和モノカルボン酸は、特に限定されず、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸などを挙げることができ、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方(以下、(メタ)アクリル酸ということがある。)が好ましく、特にアクリル酸が好ましい。(メタ)アクリル酸を反応させたものがエポキシ(メタ)アクリレートである。   The above-mentioned epoxy resin is reacted with a radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid. The epoxy group is cleaved by the reaction between the epoxy group and the carboxyl group to form a hydroxyl group and an ester bond. The radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to be used is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, and the like. At least one of acrylic acid and methacrylic acid (hereinafter referred to as (meth)). Acrylic acid is sometimes preferred.) Acrylic acid is particularly preferred. What reacted (meth) acrylic acid is epoxy (meth) acrylate.

エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応方法は、特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂とアクリル酸を適当な希釈剤中で加熱することにより反応できる。希釈剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール、などのアルコール類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤類、セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等の酢酸エステル類等を挙げることができる。また触媒としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのアミン類、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフェートなどのリン化合物類等を挙げることができる。また、加熱温度は、適宜設定可能であるが、その下限値は、反応速度が遅くなるのを防止する点から80が好ましい。反応速度の上限値は、ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸の熱重合を防止する点から140℃が好ましい。   The reaction method of an epoxy resin and radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid is not specifically limited, For example, it can react by heating an epoxy resin and acrylic acid in a suitable diluent. Examples of the diluent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as methanol, isopropanol and cyclohexanol, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane. Petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha, cellosolves such as cellosolve and butylcellosolve, carbitols such as carbitol and butylcarbitol, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl Examples include acetates such as carbitol acetate. Examples of the catalyst include amines such as triethylamine and tributylamine, and phosphorus compounds such as triphenylphosphine and triphenylphosphate. Moreover, although heating temperature can be set suitably, the lower limit is preferable from the point which prevents that reaction rate becomes slow. The upper limit of the reaction rate is preferably 140 ° C. from the viewpoint of preventing thermal polymerization of the radical polymerizable unsaturated monocarboxylic acid.

エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸の反応において、エポキシ樹脂が有するエポキシ基1当量あたりラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を0.7〜1.2当量反応させるのが好ましい。ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸としてアクリル酸又はメタクリル酸の少なくとも一方を用いる場合には、エポキシ樹脂が有するエポキシ基1当量あたりラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を0.8〜1.0当量反応させるのが特に好ましい。ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸が0.7当量未満であると、後の工程の合成反応時にゲル化したり、樹脂の安定性が低下する。また、ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸が1.2当量超であると、未反応のカルボン酸が多く残存することで、硬化物の諸特性(例えば耐水性等)が低下する。   In the reaction between the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, it is preferable to react 0.7 to 1.2 equivalents of the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid per 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. When at least one of acrylic acid or methacrylic acid is used as the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, 0.8 to 1.0 equivalent of the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid is reacted per 1 equivalent of epoxy group of the epoxy resin. It is particularly preferred that When the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid is less than 0.7 equivalent, gelation occurs during the synthesis reaction in the subsequent step, or the stability of the resin decreases. Further, when the radical polymerizable unsaturated monocarboxylic acid exceeds 1.2 equivalents, a large amount of unreacted carboxylic acid remains, and various properties (for example, water resistance) of the cured product are deteriorated.

上記エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応生成物である不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂に、多塩基酸又はその無水物を反応させる。多塩基酸又は多塩基酸無水物は、前記エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応で生成した水酸基に反応し、樹脂に遊離のカルボキシル基を持たせるものである。使用する多塩基酸又はその無水物としては、特に限定されず、飽和、不飽和のいずれも使用可能である。多塩基酸には、例えば、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、クエン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、3−エチルテトラヒドロフタル酸、4−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3−メチルヘキサヒドロフタル酸、4−メチルヘキサヒドロフタル酸、3−エチルヘキサヒドロフタル酸、4−エチルヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸及びジグリコール酸等が挙げられ、多塩基酸無水物としてはこれらの無水物が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。   A polybasic acid or an anhydride thereof is reacted with the unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin which is a reaction product of the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid. The polybasic acid or polybasic acid anhydride reacts with a hydroxyl group generated by the reaction between the epoxy resin and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to give the resin a free carboxyl group. The polybasic acid to be used or its anhydride is not particularly limited, and either saturated or unsaturated can be used. Polybasic acids include, for example, succinic acid, maleic acid, adipic acid, citric acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4- Ethyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, methylhexahydro Examples include phthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, and diglycolic acid. Examples of polybasic acid anhydrides include these anhydrides. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応生成物が有する水酸基1モルに対して、多塩基酸又は多塩基酸無水物の使用量の下限値は、希アルカリ現像性の低下を防止する点から0.3モルであり、露光時に感度を高める点から0.4モルが好ましく、特に好ましくは0.6モルである。また、多塩基酸又は多塩基酸無水物の使用量の上限値は、硬化塗膜の諸特性(例えば耐水性等)の低下を防止する点から1.0モルが好ましい。   The lower limit of the amount of polybasic acid or polybasic acid anhydride used prevents the deterioration of dilute alkali developability with respect to 1 mol of hydroxyl group in the reaction product of epoxy resin and radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid. The amount is 0.3 mol from the viewpoint of performing, and is preferably 0.4 mol, particularly preferably 0.6 mol from the viewpoint of increasing the sensitivity during exposure. Moreover, the upper limit of the usage-amount of a polybasic acid or a polybasic acid anhydride is preferable 1.0 mol from the point which prevents the various characteristics (for example, water resistance etc.) of a cured coating film.

多塩基酸は、上記不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂に添加され、脱水縮合反応され、反応時生成した水は反応系から連続的に取り出すことが好ましいが、その反応は加熱状態で行うのが好ましく、その反応温度は、70〜130℃であることが好ましい。反応温度が130℃を超えると、エポキシ樹脂に結合されたものや、未反応モノマーのラジカル重合性不飽和基が熱重合を起こし易くなり合成が困難になることがあり、また70℃以下では反応速度が遅くなり、実際の製造上好ましくないことがある。   The polybasic acid is preferably added to the unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin and subjected to a dehydration condensation reaction. The water produced during the reaction is preferably removed continuously from the reaction system, but the reaction is preferably carried out in a heated state. The reaction temperature is preferably 70 to 130 ° C. When the reaction temperature exceeds 130 ° C., those bonded to an epoxy resin and radically polymerizable unsaturated groups of unreacted monomers may easily cause thermal polymerization, making synthesis difficult. The speed is slow, which may be undesirable in actual manufacturing.

上記多塩基酸または多塩基酸無水物と不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂との反応生成物である多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の酸価は、60〜300mgKOH/gが好ましい。反応させる多塩基酸の量により、反応生成物の酸価は調整できる。   The acid value of the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic acid epoxy resin, which is a reaction product of the polybasic acid or polybasic acid anhydride and the unsaturated monocarboxylic acid epoxy resin, is preferably 60 to 300 mgKOH / g. The acid value of the reaction product can be adjusted by the amount of the polybasic acid to be reacted.

本発明においては、上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂も1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂として使用できるが、上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の有するカルボキシル基に、1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を持つグリシジル化合物を反応させることにより、ラジカル重合性不飽和基を更に導入し、さらに感光性を向上させた1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂としてもよい。   In the present invention, the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin can also be used as an active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. By reacting the carboxyl group of the saturated monocarboxylic oxide epoxy resin with one or more radically polymerizable unsaturated groups and a glycidyl compound having an epoxy group, radically polymerizable unsaturated groups are further introduced to further improve photosensitivity. It is good also as an active energy ray-curable resin which has at least 2 ethylenically unsaturated bond in 1 molecule improved.

この感光性を向上させた1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂は、最後のグリシジル化合物の反応によってラジカル重合性不飽和基が、その前駆体の感光性樹脂の高分子の骨格の側鎖に結合するため、光重合反応性が高く、優れた感光特性を持つことができる。1つ以上のラジカル重合性不飽和基とエポキシ基を持つ化合物としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリアクリレートモノグリシジルエーテル等が挙げられる。なお、グリシジル基は1分子中に複数有していてもよい。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。   In the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule with improved photosensitivity, the radically polymerizable unsaturated group is reacted with the precursor photosensitivity by the reaction of the last glycidyl compound. Since it bonds to the side chain of the polymer skeleton of the photosensitive resin, it has high photopolymerization reactivity and can have excellent photosensitivity. Examples of the compound having one or more radically polymerizable unsaturated groups and an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, pentaerythritol triacrylate monoglycidyl ether, and the like. In addition, you may have multiple glycidyl groups in 1 molecule. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

上記グリシジル化合物は、上記多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の溶液に添加して反応させるが、その樹脂に導入したカルボキシル基1モルに対して、例えば、0.05〜0.5モルの割合で反応させる。1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂を含む白色硬化性樹脂組成物の感光性、熱管理幅及び電気絶縁性等の電気特性等の点から、0.1〜0.5モルの割合で反応させるのが好ましい。反応温度は80〜120℃が好ましい。このようにして得られるグリシジル化合物付加多塩基酸変性不飽和モノカルボン酸化エポキシ樹脂の酸価は、45〜250mgKOH/gが好ましい。   The glycidyl compound is added to and reacted with the polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin solution. For example, 0.05 to 0.5 mol per mol of the carboxyl group introduced into the resin. React at a rate of From the viewpoint of electrical characteristics such as photosensitivity, thermal management width and electrical insulation of a white curable resin composition containing an active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, 0 It is preferable to make it react in the ratio of 1-0.5 mol. The reaction temperature is preferably 80 to 120 ° C. The acid value of the glycidyl compound-added polybasic acid-modified unsaturated monocarboxylic oxide epoxy resin thus obtained is preferably 45 to 250 mgKOH / g.

(B)光重合開始剤
光重合開始剤は、一般的に使用される光重合開始剤であれば特に限定されず、例えば、オキシム系開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインーnーブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2, 2− ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2− ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4− (2−ヒドロキシエトキシ) フェニル−2−(ヒドロキシ−2− プロピル) ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4, 4′ージエチルアミノベンゾフェノン、ジクロルベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2− ターシャリーブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、 2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、P−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく2種以上を混合して使用してもよい。光重合開始剤の配合量は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、1〜30質量部であり、好ましくは5〜20質量部である。
(B) Photopolymerization initiator The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is a commonly used photopolymerization initiator. For example, oxime initiator, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl Ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl Propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2- (Hydroxy- -Propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4 diethylthioxanthone, benzyl dimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, P-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The compounding quantity of a photoinitiator is 1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of active energy ray-curable resins which have at least 2 ethylenically unsaturated bond in 1 molecule, Preferably it is 5-20. Part by mass.

(C)希釈剤
希釈剤は、例えば、反応性希釈剤である光重合性モノマーであり、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂の光硬化を十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性などを有する硬化物を得るために使用する。光重合性モノマーとしては、例えば、1,4‐ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6‐ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性燐酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の反応性希釈剤が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。
(C) Diluent The diluent is, for example, a photopolymerizable monomer that is a reactive diluent, and is sufficient for photocuring an active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. And used to obtain a cured product having acid resistance, heat resistance, alkali resistance and the like. Examples of the photopolymerizable monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified di (meth) phosphate ) Acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate Rate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta Examples include reactive diluents such as (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

上記した反応性希釈剤の配合量は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、2.0〜40質量部であり、10〜25質量部が好ましい。   The amount of the reactive diluent described above is 2.0 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. -25 mass parts is preferable.

(D)酸化チタン
酸化チタンは、硬化物を白色化するためのものであり、例えば、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタンを挙げることができる。アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタンいずれも使用できるが、アナターゼ型酸化チタンは、ルチル型酸化チタンと比較して白色度は高いものの、光触媒活性を有するので、白色硬化性樹脂組成物中の樹脂の変色を引き起こすことがある。ルチル型酸化チタンは、光触媒活性をほとんど有さないので硬化物の変色を防止できる。
(D) Titanium oxide Titanium oxide is used for whitening the cured product, and examples thereof include anatase-type titanium oxide and rutile-type titanium oxide. Either anatase-type titanium oxide or rutile-type titanium oxide can be used, but anatase-type titanium oxide has a higher whiteness than rutile-type titanium oxide, but has photocatalytic activity, so the resin in the white curable resin composition May cause discoloration. Since rutile type titanium oxide has almost no photocatalytic activity, it can prevent discoloration of the cured product.

ルチル型酸化チタンの粒子の平均粒径は特に限定されないが、例えば、0.01〜1μmである。また、ルチル型酸化チタン粒子の表面処理剤も特に限定されない。ルチル型酸化チタンには、例えば、富士チタン工業(株)製「TR−600」、「TR−700」、「TR−750」、「TR−840」、石原産業(株)製「R−550」、「R−580」、「R−630」、「R−820」、「CR−50」、「CR−60」、「CR−90」、「CR−93」、チタン工業(株)製「KR−270」、「KR−310」、「KR−380」、テイカ(株)製「JR−1000 」、「JR−805」, 「JR−806」等を使用することができる。ルチル型酸化チタンの配合量は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して30〜800質量部であり、好ましくは50〜500質量部である。   The average particle diameter of the rutile-type titanium oxide particles is not particularly limited, and is, for example, 0.01 to 1 μm. Further, the surface treating agent for rutile type titanium oxide particles is not particularly limited. Examples of rutile titanium oxide include “TR-600”, “TR-700”, “TR-750”, “TR-840” manufactured by Fuji Titanium Industry Co., Ltd., and “R-550” manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. ”,“ R-580 ”,“ R-630 ”,“ R-820 ”,“ CR-50 ”,“ CR-60 ”,“ CR-90 ”,“ CR-93 ”, manufactured by Titanium Industry Co., Ltd. “KR-270”, “KR-310”, “KR-380”, “JR-1000”, “JR-805”, “JR-806” manufactured by Teika Co., Ltd. can be used. The compounding amount of the rutile type titanium oxide is 30 to 800 parts by mass, preferably 50 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. Part.

(E)エポキシ系熱硬化性化合物
エポキシ系熱硬化性化合物はエポキシ基を有する化合物であり、白色硬化性樹脂組成物において、硬化物の架橋密度を上げるとともに、エネルギー線(例えば、UV)照射や熱履歴による変色及び反射率の低下を抑制できる硬化物を得るためのものであり、例えば、エポキシ樹脂を挙げることができる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、ビスフェノールA型変性柔軟性エポキシ樹脂、核水添ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂など)、ノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、p−tert−ブチルフェノールノボラック型など)、ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒドリンを反応させて得られたビスフェノールF型やビスフェノールS型エポキシ樹脂、さらにシクロヘキセンオキシド基、トリシクロデカンオキシド基、シクロペンテンオキシド基などを有する脂環式エポキシ樹脂、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アダマンタン型エポキシ樹脂を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。
(E) Epoxy thermosetting compound The epoxy thermosetting compound is a compound having an epoxy group, and in the white curable resin composition, the crosslink density of the cured product is increased and energy ray (for example, UV) irradiation is performed. It is for obtaining the hardened | cured material which can suppress the discoloration by a heat history, and the fall of a reflectance, For example, an epoxy resin can be mentioned. Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin (bisphenol A type liquid epoxy resin, bisphenol A type modified flexible epoxy resin, nuclear hydrogenated bisphenol A type liquid epoxy resin, etc.), novolac type epoxy resin (phenol novolac type epoxy). Resin, o-cresol novolak type epoxy resin, p-tert-butylphenol novolak type, etc.), bisphenol F type and bisphenol S type epoxy resin obtained by reacting bisphenol F and bisphenol S with epichlorohydrin, cyclohexene oxide group, tri Cycloaliphatic epoxy resin having cyclodecane oxide group, cyclopentene oxide group, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, triglycidyl tris (2-hydro Shiechiru) triglycidyl isocyanurate having a triazine ring such as isocyanurate, dicyclopentadiene type epoxy resins, adamantane type epoxy resin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ系熱硬化性化合物の配合量は、十分な硬化性と反射率を得る点から、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、1〜75質量部であり、硬化性と打ち抜きクラック耐性・耐カッピング性とのバランスの点から10〜50質量部が好ましい。   The compounding amount of the epoxy thermosetting compound is based on 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule from the viewpoint of obtaining sufficient curability and reflectance. 1 to 75 parts by mass, and 10 to 50 parts by mass is preferable from the viewpoint of balance between curability and punching crack resistance and cupping resistance.

(F)アスペクト比が5以上の無機化合物
アスペクト比が5以上の無機化合物を含有することにより、硬化物に剛性と強度を与えて、打ち抜きクラック耐性が向上する。アスペクト比が5以上の無機化合物としては、例えば、チタン酸カリウムウィスカー、硫酸マグネシウムウィスカー、炭化ケイ素ウィスカー、炭酸カルシウムウィスカー、ガラス繊維等を挙げることができる。アスペクト比が5以上であれば打ち抜きクラック耐性が向上するが、打ち抜きクラック耐性を確実に向上させる点からアスペクト比10以上が好ましく、打ち抜きクラック耐性をより向上させるのに加えて、硬化物に弾性を付与する点からアスペクト比15以上が特に好ましい。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。
(F) Inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more By containing an inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more, the cured product is given rigidity and strength, and punch crack resistance is improved. Examples of the inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more include potassium titanate whisker, magnesium sulfate whisker, silicon carbide whisker, calcium carbonate whisker, and glass fiber. If the aspect ratio is 5 or more, the punch crack resistance is improved. However, the aspect ratio is preferably 10 or more from the viewpoint of surely improving the punch crack resistance, and in addition to further improving the punch crack resistance, the cured product has elasticity. An aspect ratio of 15 or more is particularly preferable from the viewpoint of imparting. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

アスペクト比が5以上の無機化合物の配合量は、特に限定されない。例えば、アスペクト比が5以上の無機化合物の配合量の下限値は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、硬化物の打ち抜きクラック耐性を確実に得る点から4質量部であり、硬化物の打ち抜きクラック耐性に加えて耐カッピング性をも得る点から5質量部が好ましく、打ち抜きクラック耐性と耐カッピング性をバランスよく向上させる点から10質量部が特に好ましい。また、アスペクト比が5以上の無機化合物の配合量の上限値は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、硬化物の打ち抜きクラック耐性の低下を防止する点から100質量部であり、硬化物の打ち抜きクラック耐性に加えて耐カッピング性の低下をも防止する点から80質量部が好ましく、打ち抜きクラック耐性の低下と耐カッピング性の低下を確実に防止する点から60質量部が特に好ましい。   The amount of the inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more is not particularly limited. For example, the lower limit of the amount of the inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more is determined by punching the cured product with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. It is 4 parts by mass from the viewpoint of reliably obtaining crack resistance, and 5 parts by mass is preferred from the viewpoint of obtaining cupping resistance in addition to the punching crack resistance of the cured product, and a point that improves the punching crack resistance and cupping resistance in a balanced manner. To 10 parts by mass is particularly preferable. Moreover, the upper limit of the compounding quantity of the inorganic compound whose aspect ratio is 5 or more is the punching of hardened | cured material with respect to 100 mass parts of active energy ray-curable resins which have at least 2 ethylenically unsaturated bond in 1 molecule. It is 100 parts by mass from the viewpoint of preventing a decrease in crack resistance, and 80 parts by mass is preferable from the viewpoint of preventing a decrease in cupping resistance in addition to the punching crack resistance of a cured product. 60 mass parts is especially preferable from the point which prevents the fall of this reliably.

(G)フェノール系化合物
本発明の白色硬化性樹脂組成物では、上記(A)〜(F)成分に加えて、さらにフェノール系化合物を配合してもよい。フェノール系化合物を含有することにより、硬化物について加熱後における反射率の低下を抑制する。フェノール系化合物は、例えば、下記一般式(I)
(G) Phenol compound In the white curable resin composition of the present invention, a phenol compound may be further blended in addition to the components (A) to (F). By containing a phenol type compound, the fall of the reflectance after a heating is suppressed about hardened | cured material. The phenolic compound is, for example, the following general formula (I)

Figure 2012041430
Figure 2012041430

(式中、R、Rは、それぞれ独立に、メチル基、水素原子またはt‐ブチル基を示す。)で表されるものが挙げられる。 (Wherein R 1 and R 2 each independently represents a methyl group, a hydrogen atom or a t-butyl group).

一般式(I)に示すフェノール系化合物の配合量は、適宜選択可能である。例えば、前記フェノール系化合物の配合量の下限値は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、加熱後の反射率の低下を抑制する点から0.1質量部が好ましく、加熱後の反射率の低下を確実に抑制する点から1質量部が特に好ましい。また、フェノール系化合物の配合量の上限値は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、硬化物が褐色に変色するのを防止する点から10質量部が好ましく、フェノール性水酸基の増加により、露光工程における光ラジカル重合反応が阻害されて、感度が低下するのを防止する点から5質量部が特に好ましい。   The compounding quantity of the phenol type compound shown to general formula (I) can be selected suitably. For example, the lower limit of the compounding amount of the phenolic compound is that the reflectance after heating is reduced with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. From the point of suppression, 0.1 part by mass is preferable, and 1 part by mass is particularly preferable from the viewpoint of surely suppressing a decrease in reflectance after heating. The upper limit of the compounding amount of the phenolic compound is that the cured product turns brown with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. 10 parts by mass is preferable from the viewpoint of preventing, and 5 parts by mass is particularly preferable from the viewpoint of preventing the photoradical polymerization reaction in the exposure step from being inhibited due to the increase of the phenolic hydroxyl group, thereby reducing the sensitivity.

(H)ウレタンアクリレート
本発明の白色硬化性樹脂組成物では、上記(A)〜(F)成分に加えて、さらにウレタンアクリレートを配合してもよい。ウレタンアクリレートは、硬化物の耐カッピング性をさらに向上させるために使用される。ウレタンアクリレートは、ウレタン樹脂にラジカル重合性不飽和モノカルボン酸であるアクリル酸を反応させて得られる化合物であれば、特に限定されない。ウレタン樹脂は、1分子中に2つ以上のイソシアネート基を有する化合物と1分子中に2つ以上のヒドロキシル基を有するポリオール化合物を反応させて得られるものである。
(H) Urethane acrylate In the white curable resin composition of the present invention, in addition to the components (A) to (F), urethane acrylate may be further blended. Urethane acrylate is used to further improve the cupping resistance of the cured product. The urethane acrylate is not particularly limited as long as it is a compound obtained by reacting urethane resin with acrylic acid which is a radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid. The urethane resin is obtained by reacting a compound having two or more isocyanate groups in one molecule with a polyol compound having two or more hydroxyl groups in one molecule.

1分子中に2つ以上のイソシアネート基を有する化合物には、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネアート(HDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、メチレンジイソシアネート(MDI)、メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、トリメチルヘキサメチルジイソシアネート、ヘキサンジイソシアネート、ヘキサメチルアミンジイソシアネート、メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、トルエンジイソシアネート、1,2−ジフェニルエタンジイソシアネート、1,3−ジフェニルプロパンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメチルジイソシアネートなどのジイソシアネートが挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。   Examples of the compound having two or more isocyanate groups in one molecule include hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), methylene diisocyanate (MDI), methylenebiscyclohexyl isocyanate, trimethylhexamethyl diisocyanate, Examples thereof include diisocyanates such as hexane diisocyanate, hexamethylamine diisocyanate, methylenebiscyclohexyl isocyanate, toluene diisocyanate, 1,2-diphenylethane diisocyanate, 1,3-diphenylpropane diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and dicyclohexylmethyl diisocyanate. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

1分子中に2つ以上のヒドロキシル基を有するポリオール化合物には、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,2−ブチレングリコール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3,3−ジメチロールヘプタン、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、1,12−ドデカンジオール、1,18−オクタデカンジオールなどのC2−C22アルカンジオールや、2−ブテン−1,4−ジオール、2,6−ジメチル−1−オクテン−3,8−ジオールなどのアルケンジオール等の脂肪族ジオール;1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族ジオール;グリセリン、2−メチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,4−ジヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルペンタン、1,2,6−ヘキサントリオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、2−メチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,4−ジヒドロキシ−3−(ヒドロキシメチル)ペンタン、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−3−ブタノール等の脂肪族トリオール;テトラメチロールメタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、キシリトール等の水酸基を4つ以上有するポリオールなどが挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。 Polyol compounds having two or more hydroxyl groups in one molecule include ethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol, 1, 5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 2,2-diethyl-1,3- C 2 -C 22 alkanediols such as propanediol, 3,3-dimethylolheptane, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 1,12-dodecanediol, 1,18-octadecanediol, 2-butene-1,4-diol, 2,6-dimethyl-1-octene-3,8-dioe Aliphatic diols such as alkene diols; alicyclic diols such as 1,4-cyclohexanediol and 1,4-cyclohexanedimethanol; glycerin, 2-methyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2 , 4-dihydroxy-3-hydroxymethylpentane, 1,2,6-hexanetriol, trimethylolethane, trimethylolpropane, 2-methyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,4-dihydroxy- Aliphatic triols such as 3- (hydroxymethyl) pentane and 2,2-bis (hydroxymethyl) -3-butanol; polyols having four or more hydroxyl groups such as tetramethylolmethane, pentaerythritol, dipentaerythritol and xylitol Can be mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

ウレタンアクリレートとして市販されているものには、例えば、日本合成化学(株)製の「紫光UV−1400B」、「紫光UV−1700B」、「紫光UV−6300B」、「紫光UV−7510B」、「紫光UV−7600B」、「紫光UV−7605B」、「紫光UV−7610B」、「紫光UV−7620EA」、「紫光UV−7630B」及び「紫光UV−7640B」、根上工業(株)製の「アートレジンUN−9000H」、「アートレジンUN−3320HA」、「アートレジンUN−3320HC」、「アートレジンUN−3320HS」及び「アートレジンUN−901T」、新中村化学工業(株)製の「NKオリゴU−4HA」、「NKオリゴU−6HA」、「NKオリゴU−6LPA」、「NKオリゴU−15HA」、「NKオリゴUA−32P」、「NKオリゴU−324A」及び「NKオリゴU−6H」、ダイセル・サイテック(株)製の「EBECRYL1204」、「EBECRYL1205」、「EBECRYL215」、「EBECRYL230」、「EBECRYL244」、「EBECRYL245」、「EBECRYL264」、「EBECRYL265」、「EBECRYL1280」、「EBECRYL285」、「EBECRYL8200」、「EBECRYL8405」、「EBECRYL8411」、「EBECRYL8804」、「EBECRYL9270」、「KRM7735」、「KRM8296」、「EBECRYL1290」、「EBECRYL1290K」、「EBECRYL5129」、「EBECRYL210」、「EBECRYL220」、「EBECRYL284」、「EBECRYL8210」、「EBECRYL8402」及び「EBECRYL9260」、日本化薬(株)製の「UX−2201」、「UX−2301」、「UX−3204」、「UX−3301」、「UX−4101」、「UX−0937」、「UX−5000」、「UX−5001」、「UX−5002」、荒川化学工業(株)製の「ビームセット575」、東亞合成(株)製の「M−313」及び「M−315」などが挙げられる。   Examples of commercially available urethane acrylates include “purple light UV-1400B”, “purple light UV-1700B”, “purple light UV-6300B”, “purple light UV-7510B” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., “ Purple light UV-7600B, Purple light UV-7605B, Purple light UV-7610B, Purple light UV-7620EA, Purple light UV-7630B and Purple light UV-7640B, manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. "Resin UN-9000H", "Art Resin UN-3320HA", "Art Resin UN-3320HC", "Art Resin UN-3320HS" and "Art Resin UN-901T", "NK Oligo manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd." U-4HA "," NK Oligo U-6HA "," NK Oligo U-6LPA "," NK Oligo U-15HA " , “NK Oligo UA-32P”, “NK Oligo U-324A” and “NK Oligo U-6H”, “EBECRYL1204”, “EBECRYL1205”, “EBECRYL215”, “EBECRYL230”, “manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.” EBECRYL244, EBECRYL245, EBECRYL264, EBECRYL265, EBECRYL1280, EBECRYL285Y, EBECRYL84200, EBECRYL8405, EBECRYL845 , "EBECRYL1290", "EBECRYL1290K", "EBECRYL5129", "EBECRYL2 "0", "EBECRYL220", "EBECRYL284", "EBECRYL8210", "EBECRYL8402" and "EBECRYL9260", "UX-2201", "UX-2301", "UX-3204" and "UX-3204" manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. “UX-3301”, “UX-4101”, “UX-0937”, “UX-5000”, “UX-5001”, “UX-5002”, “Beamset 575” manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., Tojo Examples thereof include “M-313” and “M-315” manufactured by Synthetic Co., Ltd.

ウレタンアクリレートの骨格は特に限定されないが、アクリル官能基数が多いものは硬化収縮が著しいので、1分子中のアクリル官能基数は2〜4が好ましい。また、ウレタンアクリレートの重量平均分子量は、露光の際にアートワークフィルムの基板への付着を防止して目的とする硬化塗膜を得る点から、その下限値は1500が好ましく、耐カッピング性のより優れた硬化物とする点から、その上限値は3000が好ましい。従って、例えば、4官能で重量平均分子量2700であるダイセル・サイテック(株)製の「EBECRYL8405」、2官能で重量平均分子量1500であるダイセル・サイテック(株)製の「EBECRYL215」が好ましい。ウレタンアクリレートの配合量は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、耐カッピング性の向上の点から10〜30質量部であり、好ましくは15〜25質量部である。   The skeleton of the urethane acrylate is not particularly limited, but those having a large number of acrylic functional groups have remarkable curing shrinkage, and therefore the number of acrylic functional groups in one molecule is preferably 2 to 4. In addition, the weight average molecular weight of urethane acrylate is preferably 1500 because the lower limit of the weight average molecular weight is 1500 from the viewpoint of preventing the artwork film from adhering to the substrate and obtaining the desired cured coating. The upper limit is preferably 3000 from the viewpoint of an excellent cured product. Therefore, for example, “EBECRYL 8405” manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., which is tetrafunctional and has a weight average molecular weight of 2700, and “EBECRYL215” manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd. which is bifunctional and has a weight average molecular weight of 1,500 are preferable. The compounding amount of urethane acrylate is 10 to 30 parts by mass from the viewpoint of improving cupping resistance with respect to 100 parts by mass of active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. The amount is preferably 15 to 25 parts by mass.

本発明の白色硬化性樹脂組成物には、上記した各成分の他に、必要に応じて、種々の添加成分、例えば、消泡剤、有機溶剤、各種添加剤、体質顔料などを含有させることができる。   In addition to the above-described components, the white curable resin composition of the present invention contains various additive components, for example, an antifoaming agent, an organic solvent, various additives, an extender, and the like as necessary. Can do.

消泡剤には、公知のものを使用でき、例えば、シリコーン系、炭化水素系、アクリル系等を挙げることができる。また、有機溶剤は、白色硬化性樹脂組成物の粘度や乾燥性を調節するために使用するものである。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール、などのアルコール類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤類、セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等の酢酸エステル類等を挙げることができる。有機溶媒を用いる場合の配合量は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100重量部に対して、40〜500重量部が好ましい。   A well-known thing can be used for an antifoamer, for example, a silicone type, a hydrocarbon type, an acrylic type etc. can be mentioned. The organic solvent is used for adjusting the viscosity and drying property of the white curable resin composition. Examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as methanol, isopropanol and cyclohexanol, and alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane. Petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha, cellosolves such as cellosolve and butylcellosolve, carbitols such as carbitol and butylcarbitol, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl Examples include acetates such as carbitol acetate. The amount of the organic solvent used is preferably 40 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule.

各種添加剤には、例えば、シラン系、チタネート系、アルミナ系等のカップリング剤といった分散剤、三フッ化ホウ素−アミンコンプレックス、ジシアンジアミド(DICY)及びその誘導体、有機酸ヒドラジド、ジアミノマレオニトリル(DAMN)及びその誘導体、グアナミン及びその誘導体、アミンイミド(AI)並びにポリアミン等の潜在性硬化剤、アセチルアセナートZn及びアセチルアセナートCr等のアセチルアセトンの金属塩、エナミン、オクチル酸錫、第4級スルホニウム塩、トリフェニルホスフィン、イミダゾール、イミダゾリウム塩並びにトリエタノールアミンボレート等の熱硬化促進剤を挙げることができる。   Examples of various additives include dispersants such as coupling agents such as silane, titanate, and alumina, boron trifluoride-amine complex, dicyandiamide (DICY) and its derivatives, organic acid hydrazide, and diaminomaleonitrile (DAMN). ) And derivatives thereof, guanamine and derivatives thereof, amine imide (AI) and latent curing agents such as polyamines, metal salts of acetylacetone such as acetylacetonate Zn and acetylacetonate Cr, enamines, tin octylates, quaternary sulfonium salts And thermosetting accelerators such as triphenylphosphine, imidazole, imidazolium salt and triethanolamine borate.

体質顔料は、白色硬化性樹脂組成物の硬化物の物理的強度を上げるためのものであり、例えば、シリカ、硫酸バリウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、タルク、マイカ等を挙げることができる。   The extender pigment is for increasing the physical strength of the cured product of the white curable resin composition, and examples thereof include silica, barium sulfate, alumina, aluminum hydroxide, talc, mica and the like.

上記した本発明の白色硬化性樹脂組成物の製造方法は、特定の方法に限定されないが、例えば、上記成分(A)〜(F)および必要に応じてその他の成分を所定割合で配合後、室温にて、三本ロール、ボールミル、サンドミル等の混練手段、またはスーパーミキサー、プラネタリーミキサー等の攪拌手段により混練または混合して製造することができる。また、前記混練または混合の前に、必要に応じて、予備混練または予備混合してもよい。   Although the manufacturing method of the above-described white curable resin composition of the present invention is not limited to a specific method, for example, after blending the above components (A) to (F) and other components at a predetermined ratio as necessary, It can be produced by kneading or mixing at room temperature by a kneading means such as a three-roll, ball mill or sand mill, or a stirring means such as a super mixer or a planetary mixer. Further, prior to the kneading or mixing, if necessary, preliminary kneading or premixing may be performed.

次に、上記した本発明の白色硬化性樹脂組成物の塗工方法について説明する。まず、銅箔をエッチングして形成した回路パターンを有するプリント配線板上に、本発明の白色硬化性樹脂組成物を塗工して、ソルダーレジスト膜を形成する方法を例にとって説明する。銅箔をエッチングして形成した回路パターンを有するプリント配線板上に、上記のように製造した白色硬化性樹脂組成物をスクリーン印刷法、スプレーコート法等の方法を用いて所望の厚さに塗布し、白色硬化性樹脂組成物中の有機溶剤を揮散させるために60〜80℃程度の温度で15〜60分間程度加熱する予備乾燥を行い、白色硬化性樹脂組成物から有機溶剤を揮発させて塗膜の表面をタックフリーの状態にする。その後、塗布した白色硬化性樹脂組成物上に、前記回路パターンのランド以外を透光性にしたパターンを有するネガフィルムを密着させ、その上から活性エネルギー線(例えば、紫外線)を照射させる。そして、前記ランドに対応する非露光領域を希アルカリ水溶液で除去することにより塗膜が現像される。現像方法には、スプレー法、シャワー法等が用いられ、使用される希アルカリ水溶液としては0.5〜5%の炭酸ナトリウム水溶液が一般的であるが、他のアルカリも使用可能である。次いで、130〜170℃の熱風循環式の乾燥機等で20〜80分間ポストキュアを行うことにより、プリント配線板上に目的とするソルダーレジスト膜を形成させることができる。   Next, the coating method of the above-described white curable resin composition of the present invention will be described. First, a method for forming a solder resist film by applying the white curable resin composition of the present invention on a printed wiring board having a circuit pattern formed by etching a copper foil will be described as an example. On a printed wiring board having a circuit pattern formed by etching a copper foil, the white curable resin composition produced as described above is applied to a desired thickness using a method such as a screen printing method or a spray coating method. In order to volatilize the organic solvent in the white curable resin composition, preliminary drying is performed at a temperature of about 60 to 80 ° C. for about 15 to 60 minutes, and the organic solvent is volatilized from the white curable resin composition. Make the surface of the coating film tack-free. Then, the negative film which has the pattern which made translucent other than the land of the said circuit pattern is closely_contact | adhered on the apply | coated white curable resin composition, and an active energy ray (for example, ultraviolet-ray) is irradiated from it. Then, the coating film is developed by removing the non-exposed areas corresponding to the lands with a dilute alkaline aqueous solution. As a developing method, a spray method, a shower method, or the like is used. As a dilute alkali aqueous solution used, a 0.5 to 5% sodium carbonate aqueous solution is generally used, but other alkalis can also be used. Subsequently, the target solder resist film can be formed on the printed wiring board by performing post-cure for 20 to 80 minutes with a hot-air circulating dryer or the like at 130 to 170 ° C.

このようにして得られたソルダーレジスト膜にて被覆されたプリント配線板に、噴流はんだ付け方法、リフローはんだ付け方法等により電子部品がはんだ付けされることで、電子回路ユニットが形成される。また、上記した塗工方法の例では、プリント配線板に、本発明の硬化性樹脂組成物を用いて形成されたソルダーレジスト膜を被覆したが、フレキシブル配線板上に本発明の硬化性樹脂組成物を塗工することにより、フレキシブル配線板に、本発明の硬化性樹脂組成物を用いて形成されたソルダーレジスト膜を被覆してもよい。   An electronic circuit unit is formed by soldering an electronic component to the printed wiring board coated with the solder resist film thus obtained by a jet soldering method, a reflow soldering method, or the like. In the example of the coating method described above, a printed wiring board is coated with a solder resist film formed using the curable resin composition of the present invention. However, the curable resin composition of the present invention is formed on a flexible wiring board. You may coat | cover the soldering resist film formed using the curable resin composition of this invention on a flexible wiring board by applying a thing.

次に、上記した本発明の白色硬化性樹脂組成物をシート状ベースフィルムの表面に塗工して、反射シートを製造する方法を例にして説明する。本発明の白色硬化性樹脂組成物を熱硬化させて反射皮膜を形成する場合には、例えば、シート状ベースフィルム表面を酸で処理して洗浄後、洗浄した表面に、白色硬化性樹脂組成物をスクリーン印刷法、スプレーコート法等の方法を用いて所望の厚さ、例えば5〜100μmの厚さに塗布する。次に、熱風炉または遠赤外線炉等で予備乾燥を行い、白色硬化性樹脂組成物から有機溶剤を揮発させて塗膜の表面をタックフリーの状態にする。予備乾燥では、60〜80℃程度の温度で15〜60分間程度加熱する。次いで、例えば130〜170℃の熱風炉または遠赤外線炉等の乾燥機等で10〜80分間加熱することによりポストキュアを行って、ベースフィルム表面の塗膜を熱硬化させ、反射皮膜を有する反射シートを製造する。   Next, a method for producing a reflective sheet by applying the above-described white curable resin composition of the present invention to the surface of a sheet-like base film will be described as an example. When the white curable resin composition of the present invention is thermally cured to form a reflective film, for example, the surface of the sheet-like base film is treated with an acid and washed, and then the white curable resin composition is applied to the washed surface. Is applied to a desired thickness, for example, 5 to 100 μm, using a method such as screen printing or spray coating. Next, preliminary drying is performed in a hot air furnace or a far-infrared furnace, and the organic solvent is volatilized from the white curable resin composition to make the surface of the coating film tack-free. In the preliminary drying, heating is performed at a temperature of about 60 to 80 ° C. for about 15 to 60 minutes. Next, post-curing is performed by heating for 10 to 80 minutes in a dryer such as a hot-air oven or a far-infrared furnace at 130 to 170 ° C., for example, to thermally cure the coating film on the surface of the base film, and to have a reflective coating Manufacture sheets.

また、本発明の白色硬化性樹脂組成物を光硬化させて反射皮膜を形成する場合には、例えばシート状ベースフィルム表面を酸で処理して洗浄後、洗浄した表面に、白色硬化性樹脂組成物をスクリーン印刷法、スプレーコート法等の方法を用いて所望の厚さ、例えば5〜100μmの厚さに塗布する。次に、白色硬化性樹脂組成物中の有機溶剤を揮散させるために60〜80℃程度の温度で15〜60分間程度加熱する予備乾燥を行う。その後、塗布した白色硬化性樹脂組成物上に活性エネルギー線(例えば、紫外線)を照射して光硬化させる。このとき、反射シートに反射皮膜の所定パターンを形成する場合には、透光性にした所定パターン部を有するネガフィルムを、塗布した硬化性樹脂組成物上に密着させ、その上から活性エネルギー線(例えば、紫外線)を照射し、前記所定パターンに対応する非露光領域を希アルカリ水溶液で除去することにより所定パターンを有する反射皮膜を現像する。現像方法には、スプレー法、シャワー法等が用いられ、使用される希アルカリ水溶液としては0.5〜5%の炭酸ナトリウム水溶液が一般的であるが、他のアルカリも使用可能である。その次に、130〜170℃の熱風循環式の乾燥機等で20〜80分間ポストキュアを行うことにより、シート状ベースフィルム上に目的とする反射皮膜を形成した反射シートを製造する。   When the white curable resin composition of the present invention is photocured to form a reflective film, for example, the surface of the sheet-like base film is treated with an acid and washed, and then the white curable resin composition is applied to the washed surface. The product is applied to a desired thickness, for example, 5 to 100 μm, using a screen printing method, a spray coating method, or the like. Next, in order to volatilize the organic solvent in the white curable resin composition, preliminary drying is performed by heating at a temperature of about 60 to 80 ° C. for about 15 to 60 minutes. Thereafter, the applied white curable resin composition is photocured by irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays). At this time, when a predetermined pattern of the reflective film is formed on the reflective sheet, a negative film having a predetermined pattern portion made translucent is brought into close contact with the applied curable resin composition, and active energy rays are formed thereon. The reflective film having the predetermined pattern is developed by irradiating (for example, ultraviolet rays) and removing the non-exposed areas corresponding to the predetermined pattern with a dilute alkaline aqueous solution. As a developing method, a spray method, a shower method, or the like is used. As a dilute alkali aqueous solution used, a 0.5 to 5% sodium carbonate aqueous solution is generally used, but other alkalis can also be used. Then, a post-cure is performed for 20 to 80 minutes with a hot air circulating dryer or the like at 130 to 170 ° C. to produce a reflective sheet having a target reflective film formed on the sheet-like base film.

上記シート状ベースフィルムの材料は、特に限定されないが、例えば、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリビニルフロライド(PVF)、フッ化エチレン・プロピレンコポリマー(FEP)、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)、アラミド、ポリアミド・イミド、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエチレンナフタレート(PEN)、液晶ポリマー(LCP)等を挙げることができる。   The material of the sheet-like base film is not particularly limited. For example, polyimide, polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl fluoride (PVF), fluorinated ethylene / propylene copolymer (FEP), polytetrafluoroethylene (PTFE), aramid , Polyamide / imide, epoxy, polyetherimide, polysulfone, polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystal polymer (LCP), and the like.

反射シートを太陽電池バックシートとして使用する場合には、例えば、ベースフィルムとして、厚さ40μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる。また、硬化後の膜厚が例えば20〜23μmとなるように、ポリエチレンテレフタレートフィルム表面に白色硬化性樹脂組成物を塗工する。さらに、白色硬化性樹脂組成物の塗工部位は、太陽電池モジュール裏面に対向したベースフィルム表面領域の全面または略全面について行なうのが好ましい。   When the reflective sheet is used as a solar battery back sheet, for example, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 40 μm is used as the base film. Moreover, a white curable resin composition is applied to the polyethylene terephthalate film surface so that the film thickness after hardening may be 20-23 micrometers, for example. Furthermore, it is preferable that the coating part of the white curable resin composition is performed on the entire surface or almost the entire surface of the base film surface region facing the back surface of the solar cell module.

次に、本発明の白色硬化性樹脂組成物にて形成した反射皮膜を有する反射シートの使用方法例について説明する。本発明の反射シートは、太陽電池モジュールの裏面側、すなわち日射を受ける表面とは反対側の表面上に配置することで太陽電池バックシートとして使用できる。本発明の反射シートを太陽電池バックシートとして使用すると、太陽電池モジュールの発電素子に受光されずに太陽電池モジュール内を透過した太陽光が、反射シートにより反射されて太陽電池モジュールの裏面側から再度太陽電池モジュール内部に戻されるので、太陽電池モジュールの発電効率が向上する。なお、太陽電池モジュール裏面への反射シートの設置方法には、例えば、接着剤や接着用テープを用いて太陽電池モジュール裏面に直接貼り合わせる方法が挙げられる。   Next, an example of how to use a reflective sheet having a reflective coating formed with the white curable resin composition of the present invention will be described. The reflective sheet of the present invention can be used as a solar battery back sheet by being arranged on the back side of the solar cell module, that is, on the surface opposite to the surface that receives solar radiation. When the reflective sheet of the present invention is used as a solar battery back sheet, sunlight transmitted through the solar cell module without being received by the power generation element of the solar cell module is reflected by the reflective sheet and again from the back side of the solar cell module. Since it returns to the inside of the solar cell module, the power generation efficiency of the solar cell module is improved. In addition, the installation method of the reflective sheet to a solar cell module back surface includes the method of sticking directly on a solar cell module back surface using an adhesive agent or an adhesive tape, for example.

次に、本発明の実施例を説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、これらの例に限定されるものではない。   Next, examples of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to these examples as long as the gist thereof is not exceeded.

実施例1〜15、比較例1
下記表1に示す各成分を下記表1に示す割合にて配合し、3本ロールを用いて室温にて混合分散させて、実施例1〜15及び比較例1にて使用する、白色硬化性樹脂組成物を調製した。下記表1中の配合の数字は質量部を示す。
Examples 1 to 15 and Comparative Example 1
Each component shown in Table 1 below is blended in the proportions shown in Table 1 below, mixed and dispersed at room temperature using three rolls, and used in Examples 1 to 15 and Comparative Example 1, white curability. A resin composition was prepared. The numbers in the formulation in Table 1 below indicate parts by mass.

Figure 2012041430
Figure 2012041430

表1中の各成分についての詳細は以下の通りである。
(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂
・FLX−2089:日本化薬(株)製、ウレタン変性エポキシアクリレート構造のカルボキシル基含有樹脂。
・サイクロマーP(ACA)Z−300:ダイセル化学工業(株)製、アクリル共重合構造の樹脂を使用したカルボキシル基含有樹脂。
(B)光重合開始剤
・イルガキュア819:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、ビス(2,4,6‐トリメチルベンゾイル)‐フェニルフォスフィンオキサイド。
・DAROCURE TPO:チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド。
・KAYACURE DETX:日本化薬(株)製、2,4‐ジエチルチオキサンテン‐9‐オン。
(C)希釈剤
・SR454:サートマー社製、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート。
・DPHA:日本化薬(株)製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート。
(D)酸化チタン
・R−680:石原産業(株)製、ルチル型酸化チタン
(E)エポキシ系熱硬化性化合物
・YX−4000:ジャパンエポキシレジン(株)製のビキシレノール型エポキシ樹脂。
・EP850:大日本インキ化学工業(株)製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂。
(F)アスペクト比が5以上の無機化合物
・ティスモD:大塚化学(株)製、チタン酸カリウム繊維。
・モスハイジ:宇部マテリアルズ(株)製、硫酸マグネシウムウィスカー。
(G)フェノール系化合物
・スミライザーGA−80:住友化学(株)製、3,9-ビス[2-〔3-(3-tert-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕-1,1-ジメチルエチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン。
(H)ウレタンアクリレート
・EBECRYL8405:ダイセル・サイテック(株)製、4官能、重量平均分子量2700。
Details of each component in Table 1 are as follows.
(A) Active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. FLX-2089: a carboxyl group-containing resin having a urethane-modified epoxy acrylate structure manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
Cyclomer P (ACA) Z-300: a carboxyl group-containing resin using a resin having an acrylic copolymer structure manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
(B) Photopolymerization initiator Irgacure 819: Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
DAROCURE TPO: Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
KAYACURE DETX: Nippon Kayaku Co., Ltd., 2,4-diethylthioxanthen-9-one.
(C) Diluent SR454: Sartomer, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate.
DPHA: Nippon Kayaku Co., Ltd. dipentaerythritol hexaacrylate.
(D) Titanium oxide R-680: Ishihara Sangyo Co., Ltd., Rutile type titanium oxide (E) Epoxy thermosetting compound YX-4000: Bixylenol type epoxy resin manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.
EP850: Dainippon Ink & Chemicals, bisphenol A type epoxy resin.
(F) Inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more, Tismo D: manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., potassium titanate fiber.
・ Moss Heidi: Magnesium sulfate whisker manufactured by Ube Materials Co., Ltd.
(G) Phenol-based compound / Smilizer GA-80: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., 3,9-bis [2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy]- 1,1-dimethylethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane.
(H) Urethane acrylate / EBECRYL 8405: manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd., tetrafunctional, weight average molecular weight 2700.

その他、KS−66は信越化学工業(株)製のシリコーン系消泡剤であり、添加剤であるR−974は日本アエロジル(株)製のチキソ性付与剤、DICY−7はジャパンエポキシレジン(株)製の潜在性硬化剤、イルガノックス1010はチバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の酸化防止剤、メラミンは潜在性硬化剤である。また、EDGACは、三洋化成(株)製のジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートである。   In addition, KS-66 is a silicone-based antifoaming agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., the additive R-974 is a thixotropy imparting agent manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., and DICY-7 is Japan Epoxy Resin ( Co., Ltd., a latent curing agent, Irganox 1010 is an antioxidant manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., and melamine is a latent curing agent. EDGAC is diethylene glycol monoethyl ether acetate manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd.

試験片作成工程
銅箔をエッチングして形成した回路パターンを有するプリント配線板(FR‐4基材、板厚1.6mm、銅箔厚み50μm)の表面をバフ研磨処理した後、スクリーン印刷法にて、白色硬化性樹脂組成物を塗布後、BOX炉にて70℃で20分(炉内:25分)の予備乾燥を行った。予備乾燥後、塗膜上に露光装置(オーク社製HMW−680GW)にて紫外線(300〜450nm)を400mJ/cm2(約40秒)露光した後、BOX炉にて150℃で60分(炉内:70分)のポストキュアを行ってプリント配線板上に硬化塗膜を形成した。硬化塗膜の厚みは、20〜23μmであった。
Test piece preparation process After buffing the surface of a printed wiring board (FR-4 substrate, plate thickness 1.6 mm, copper foil thickness 50 μm) having a circuit pattern formed by etching copper foil, the screen printing method was applied. After applying the white curable resin composition, preliminary drying was performed in a BOX furnace at 70 ° C. for 20 minutes (in the furnace: 25 minutes). After preliminary drying, the coating film was exposed to ultraviolet rays (300 to 450 nm) with an exposure apparatus (OMW HMW-680GW) at 400 mJ / cm 2 (about 40 seconds), and then at 150 ° C. for 60 minutes in a BOX furnace ( In the furnace: 70 minutes) post cure was performed to form a cured coating film on the printed wiring board. The thickness of the cured coating film was 20-23 μm.

評価
(1)反射率
上記のように作成した試験片について、分光光度計U‐3410((株)日立製作所製:φ60mm積分球)を用いて、450nmにおける反射率を測定した。「初期」とはポストキュア後、「照射後」とは50J/cm2のUV照射(2分間)処理後、「加熱後」とは170℃で100時間の加熱処理後を意味する。
(2)はんだ耐熱性
上記のように作成した試験片の硬化塗膜を、JIS C−6481の試験方法に従って、260℃のはんだ槽に30秒間浸せき後、セロハンテープによるピーリング試験を1サイクルとし、これを1〜3回繰り返した後の塗膜状態を目視により観察した。観察結果については、3サイクル繰り返し後も塗膜に変化が認められないものを「◎」、3サイクル繰り返し後の塗膜にほんの僅か変化が認められるものを「○」、2サイクル繰り返し後の塗膜に変化が認められるものを「△」、1サイクル後の塗膜に剥離が認められるものを「×」と評価した。
(3)打ち抜きクラック耐性
銅箔上に上記試験片作成工程と同様の方法で全面に塗工した試験片(5cm×5cm)を評価基板とし、JIS K‐5600‐5‐3に準拠してデュポン衝撃装置を用い、質量500g(打ち抜き部:半径6mm)のおもりを高さ50cmから試験片上に落下させ、打ち抜き部分周辺の塗膜の割れ及び剥れを目視により観察した。観察結果については、塗膜の剥がれがないものを「○」、若干塗膜の剥がれが認められるものを「△」、塗膜の剥がれがあるものを「×」と評価した。
(4)耐カッピング性
ボンデ鋼板(10cm×10cm、厚さ0.8mm)の表面をキシレンにて洗浄して、油分を完全に除去したものを用い、上記試験片作成工程の塗膜形成方法と同様の方法で塗膜を形成したものを評価基板とし、JIS K‐5600‐5‐2に準拠してカッピング試験器を用い、試験片の硬化塗膜が形成されていない裏面側から鋼球を押し出して試験片を変形させた際に、硬化塗膜の割れ及び剥れが生じるまでの押し出し距離(mm)を測定した。
Evaluation (1) Reflectance For the test piece prepared as described above, the reflectance at 450 nm was measured using a spectrophotometer U-3410 (manufactured by Hitachi, Ltd .: φ60 mm integrating sphere). “Initial” means post-curing, “after irradiation” means after 50 J / cm 2 UV irradiation (2 minutes), and “after heating” means after heat treatment at 170 ° C. for 100 hours.
(2) Solder heat resistance After the cured coating of the test piece prepared as described above was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 30 seconds in accordance with the test method of JIS C-6481, a peeling test with a cellophane tape was set as one cycle. The coating state after repeating this 1 to 3 times was observed visually. As for the observation results, “◎” indicates that no change is observed in the coating even after 3 cycles, “◯” indicates that the coating is slightly changed after 3 cycles, and “○” indicates that the change after 2 cycles is repeated. A film in which a change was observed was evaluated as “Δ”, and a film in which peeling was observed in one cycle was evaluated as “×”.
(3) Punching crack resistance A test piece (5 cm x 5 cm) coated on the entire surface of a copper foil by the same method as in the above test piece preparation process is used as an evaluation substrate, and in accordance with JIS K-5600-5-3, DuPont Using an impact device, a weight of 500 g (punched portion: radius 6 mm) was dropped from a height of 50 cm onto the test piece, and the coating film around the punched portion was observed for cracking and peeling. The observation results were evaluated as “◯” when the coating film was not peeled off, “Δ” when the coating film was slightly peeled, and “X” when the coating film was peeled off.
(4) Cupping resistance The surface of a bonded steel plate (10 cm × 10 cm, thickness 0.8 mm) was washed with xylene, and the oil was completely removed. Using the same method to form a coating film as an evaluation substrate, using a cupping tester in accordance with JIS K-5600-5-2, a steel ball is placed from the back side where the cured coating film of the test piece is not formed. When the test piece was extruded and deformed, the extrusion distance (mm) until cracking and peeling of the cured coating film was measured.

評価結果を表2に示す。   The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2012041430
Figure 2012041430

上記表2に示すように、アスペクト比が5以上の無機化合物を含有する実施例1〜15では、打ち抜きクラック耐性を有していた。また、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、アスペクト比が5以上の無機化合物を5〜80質量部含有した実施例1〜10、13、14では、打ち抜きクラック耐性がさらに向上し、加えて、耐カッピング性も有していた。さらに、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、アスペクト比が5以上の無機化合物を30〜35質量部含有した実施例1、2、5〜10、13では、打ち抜きクラック耐性、耐カッピング性ともに、さらに向上した。   As shown in Table 2 above, Examples 1 to 15 containing an inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more had punching crack resistance. Further, Examples 1 to 5 containing an inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. In 10, 13, and 14, punching crack resistance was further improved, and in addition, cupping resistance was also provided. Furthermore, Example 1 containing 30 to 35 parts by mass of an inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more with respect to 100 parts by mass of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, In 2, 5, 10 and 13, both the punch crack resistance and the cupping resistance were further improved.

さらにフェノール系化合物を含有した実施例7〜10では、加熱後における反射率の低下を抑えることができた。また、さらにウレタンアクリレートを含有した実施例6〜8では、耐カッピング性がより向上した。   Furthermore, in Examples 7 to 10 containing a phenol compound, it was possible to suppress a decrease in reflectance after heating. Further, in Examples 6 to 8 further containing urethane acrylate, the cupping resistance was further improved.

本発明の白色硬化性樹脂組成物は、打ち抜き加工や穴あけ加工にあたりクラックの発生を防止、抑制できるので、例えば、プリント配線板やフレキシブル配線板の分野及び太陽電池バックシート用反射シートの分野で利用価値が高い。   Since the white curable resin composition of the present invention can prevent and suppress the occurrence of cracks in punching and drilling, it can be used, for example, in the field of printed wiring boards and flexible wiring boards and in the field of reflective sheets for solar battery backsheets. High value.

Claims (7)

(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、
(B)光重合開始剤、
(C)希釈剤、
(D)酸化チタン、
(E)エポキシ系熱硬化性化合物、
及び(F)アスペクト比が5以上の無機化合物を含有することを特徴とする白色硬化性樹脂組成物。
(A) an active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule;
(B) a photopolymerization initiator,
(C) Diluent,
(D) titanium oxide,
(E) an epoxy-based thermosetting compound,
And (F) a white curable resin composition comprising an inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more.
前記(F)アスペクト比が5以上の無機化合物を、前記(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、5〜80質量部含有することを特徴とする請求項1に記載の白色硬化性樹脂組成物。   (F) 5 to 80 masses of the inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more with respect to 100 mass parts of the active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in the molecule (A). 2 part of white curable resin composition of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記(F)アスペクト比が5以上の無機化合物が、チタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、炭化ケイ素及び炭酸カルシウムからなる群から選択された少なくとも一種のウィスカー状化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の白色硬化性樹脂組成物。   The (F) inorganic compound having an aspect ratio of 5 or more is at least one whisker-like compound selected from the group consisting of potassium titanate, magnesium sulfate, silicon carbide, and calcium carbonate. 2. The white curable resin composition according to 2. さらに、下記一般式(I)
Figure 2012041430

(式中、R、Rは、それぞれ独立に、メチル基、水素原子またはt‐ブチル基を示す。)で表される(G)フェノール系化合物を含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の白色硬化性樹脂組成物。
Furthermore, the following general formula (I)
Figure 2012041430

(Wherein R 1 and R 2 each independently represents a methyl group, a hydrogen atom, or a t-butyl group), and (G) a phenolic compound is contained. The white curable resin composition of any one of thru | or 3.
さらに、(H)ウレタンアクリレートを、前記(A)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂100質量部に対して、10〜30質量部含有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の白色硬化性樹脂組成物。   Furthermore, (H) 10-30 mass parts of urethane acrylate is contained with respect to 100 mass parts of the active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in the molecule (A). The white curable resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の白色硬化性樹脂組成物の硬化膜を有するプリント配線板。   The printed wiring board which has a cured film of the white curable resin composition of any one of Claims 1 thru | or 5. 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の白色硬化性樹脂組成物で形成された反射皮膜を有する反射シート。   The reflective sheet which has a reflective film formed with the white curable resin composition of any one of Claims 1 thru | or 5.
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