JP2012038962A - 排気方法およびガス処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理ガスの排気流量を、処理ガスをその爆発下限界値に希釈したときに除害装置の最大処理能力のガス流量となる量以下の所定値に決定する工程と、決定した処理ガスの排気流量を維持するための単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量を、排気流量と単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量との関係式に基づいて算出する工程と、算出された単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量となるように、チャンバ内の圧力の目標設定値を所定時間毎に自動圧力制御バルブの制御値として更新設定して自動圧力制御バルブによりチャンバ内の圧力を制御しながら、決定された排気流量を維持するように排気する工程とを有する。
【選択図】 図4
Description
図1は本発明の排気方法を実施可能なガス処理装置を示す模式図である。
ここでは、デュアルダマシン法等により配線溝や接続孔を形成するためのエッチングやアッシングの際にLow−k膜の表面部分に形成されたダメージ層に対して、メチル基(−CH3)を有する薬剤、例えばシリル化剤であるTMSDMAを気化させて形成された処理ガスによりガス処理である回復処理を施す。
まず、ゲートバルブ38を開け、搬入出口37を介してエッチングダメージやアッシングダメージが形成されたLow−k膜を有するウエハWをチャンバ11に搬入し、ヒータ15により所定の温度に加熱された載置台12の上に載置する。そして、真空ポンプ41によりチャンバ11内を排気して所定の減圧雰囲気状態にした後、薬剤容器25から例えばガス圧送等により、回復処理を行うためのメチル基(−CH3)を有する薬剤、例えばシリル化剤であるTMSDMAを薬剤供給配管24を介して気化器23に供給し、気化器23で気化されて形成された処理ガスを処理ガス供給配管22およびガス導入口21を介してチャンバ11内に供給する。このとき、処理ガスとともに希釈ガス(N2ガス)を供給してもよい。これによりチャンバ内の圧力が徐々に上昇する。処理ガスの供給はチャンバ内の圧力が処理圧力(例えば50Torr(6650Pa))になるまで続けられる。この際の処理ガスの流量は、例えば、500〜700mL/min(sccm)とされる。
図3に示すように、チャンバの容積をV(L)、チャンバ内の温度をT(K)、単位時間Δs(sec)の間のチャンバ内の圧力降下をP1−P2=ΔP(Torr)、排気流量をQ(sLm)としたとき、理想気体の状態方程式:PV=nRTを用いてΔs間に排出された処理ガスの量(モル数)を計算する。
n1=(P1V/RT1)−(P2V/RT2) ・・・(1)
ここで、T1≒T2であるから、この式は以下の(2)式となる。
n1=V(P1−P2)/RT1=VΔP/RT1 ・・・(2)
n2=(Q×(Δs/60)×760)/(R×273) ・・・(3)
V(P1−P2)/RT1=VΔP/RT1=(Q×(Δs/60)×760)/(R×273) ・・・(4)
これを整理すると、以下の(5)となる。
Q=(V・ΔP/T1)×(60/Δs)×(273/760)・・・(5)
ここで、V、T1、Δsは定数であるから、QとΔPは比例関係にあり、Qを一定値とするためには、単位時間当たりの圧力変化ΔPを一定値とする必要がある。
まず、処理ガスの排気流量を、処理ガスをその爆発下限界値に希釈したときに除害装置48の最大処理能力のガス流量となる量以下の所定値に決定する(STEP1)。次いで、決定した処理ガスの排気流量Qを維持するための単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量ΔPを上記(5)式に基づいて算出する(STEP2)。次いで、この単位時間当たりの圧力降下量ΔPになるように、チャンバ圧力の目標設定値を所定時間毎に自動圧力制御(APC)バルブ42の制御値として更新設定して自動圧力制御(APC)バルブ42によりチャンバ11内の圧力を制御しながら、チャンバ1内の圧力が処理圧力から最小圧力(チャンバ引ききり状態)になるまで決定された排気流量を維持するように排気する(STEP3)。
圧力センサとして用いるキャパシタンスマノメータ44は、ゼロ点ずれを起こさないように保護バルブが設置されており、所定圧力を超えるとPSW(Pressure Switch)が反応して保護バルブが閉じるようになっている。例えば、キャパシタンスマノメータ44としてMAX100Torrのものを用いると、圧力が100Torrを超えるとPSWが反応して保護バルブが閉じてしまい、キャパシタンスマノメータ44では圧力測定が不能となる。したがって、チャンバ11内に処理ガスを導入することによってキャパシタンスマノメータ44の保護バルブが閉じた場合には、ガス供給を停止した後、自動的に自動圧力制御(APC)バルブ42の弁体を所定角度にして真空引きを行い、圧力が低下して保護バルブが開いた後は、上述の減圧ステップを行うというシーケンスを実行する。このときの自動圧力制御(APC)バルブ42の弁体の角度は、減圧ステップの際の排気流量よりも少ない量の処理ガスが排出されるように調整される。PSWが反応して保護バルブが閉じた後、装置を停止するシーケンスをとった場合には、処理ガス導入により保護バルブが閉じたのかどうかがわからなくなってしまうため、安全の観点から自動で真空引きするシーケンスとする。
図5は封入圧力43Torrとした後に自動圧力制御(APC)バルブ42の弁体の角度を15度に固定して排気した場合のチャンバ内圧力および排気流量の経時変化を示すものであり、図6は封入圧力80Torrとした後に、0.5sec毎に0.3Torrずつ圧力降下するように、自動圧力制御(APC)バルブ42を制御する上記減圧ステップを行った場合のチャンバ内圧力および排気流量の経時変化を示すものである。なお、チャンバ容積Vは既知の値である。また、図6において、チャンバ内温度T1:31℃とした。また、Δs:0.5secである。
11;チャンバ
12;載置台
15;ヒータ
22;処理ガス供給配管
25:薬剤容器
40;排気管
41;真空ポンプ
42;自動圧力制御(APC)バルブ
43;バルブ
44;キャパシタンスマノメータ
45;コントローラ
46;希釈ユニット
48;除害装置
50;制御部
51;メインコントローラ
52;ユーザーインターフェース
53;記憶部(記憶媒体)
W;ウエハ
Claims (9)
- チャンバ内に可燃性の処理ガスを導入して所定の処理圧力で封じきりプロセスを行った後、前記チャンバを排気し、排出された可燃性ガスを希釈ガスで希釈した後、除害装置により除害する排気方法であって、
前記処理ガスの排気流量を、前記処理ガスをその爆発下限界値に希釈したときに前記除害装置の最大処理能力のガス流量となる量以下の所定値に決定する工程と、
前記決定した処理ガスの排気流量を維持するための単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量を、前記排気流量と前記単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量との関係式に基づいて算出する工程と、
前記算出された単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量となるように、前記チャンバ内の圧力の目標設定値を所定時間毎に自動圧力制御バルブの制御値として更新設定して前記自動圧力制御バルブによりチャンバ内の圧力を制御しながら、前記チャンバ内の圧力が前記処理圧力からチャンバ引ききり状態になるまで前記決定された排気流量を維持するように排気する工程と
を有することを特徴とする排気方法。 - 処理ガスの排気流量を、その爆発下限界値に希釈したときに前記除害装置の最大処理能力のガス流量となる量に近い量とすることを特徴とする請求項1に記載の排気方法。
- 前記チャンバ内の圧力をキャパシタンスマノメータにより計測することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の排気方法。
- 前記チャンバ内に処理ガスを導入して前記キャパシタンスマノメータの保護バルブが閉じたときに、処理ガス供給を停止した後、自動的に前記自動圧力制御バルブの弁体の角度を、前記処理ガスの排気流量が、前記処理ガスをその爆発下限界値に希釈したときに前記除害装置の最大処理能力のガス流量となる量以下の所定値になるような角度にして真空引きを行い、圧力が低下して保護バルブが開いた後に、前記排気流量を決定する工程と、前記単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量を算出する工程と、前記決定された排気流量を維持するように排気する工程とを行うことを特徴とする請求項3に記載の排気方法。
- 可燃性の処理ガスを導入して所定の処理圧力で封じきりプロセスを行うチャンバと、
前記チャンバに前記処理ガスを供給するガス供給機構と、
前記チャンバに接続され、前記チャンバからガスを排出する排気管と、
前記排気管に設けられた自動圧力制御バルブと、
前記チャンバ内の圧力を計測する圧力計と、
前記チャンバから前記排気管に排出された処理ガスに希釈ガスを供給して処理ガスを希釈する希釈ユニットと、
前記希釈された処理ガスを除害する除害装置と、
前記チャンバからの排気を制御する制御部と
を具備し、
前記制御部は、
前記処理ガスの排気流量を、前記処理ガスをその爆発下限界値に希釈したときに前記除害装置の最大処理能力のガス流量となる量以下の所定値に決定し、
前記決定した処理ガスの排気流量を維持するための単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量を、前記排気流量と前記単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量との関係式に基づいて算出し、
前記算出された単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量となるように、前記チャンバ内の圧力の目標設定値を所定時間毎に自動圧力制御バルブの制御値として更新設定して前記自動圧力制御バルブによりチャンバ内の圧力を制御させながら、前記チャンバ内の圧力が前記処理圧力からチャンバ引ききり状態になるまで前記決定された排気流量を維持させることを特徴とするガス処理装置。 - 前記制御部は、処理ガスの排気流量を、その爆発下限界値に希釈したときに前記除害装置の最大処理能力のガス流量となる量に近い量に設定ことを特徴とする請求項5に記載のガス処理装置。
- 前記圧力計は、キャパシタンスナノメータであることを特徴とする請求項5または請求項6に記載のガス処理装置。
- 前記制御部は、前記チャンバ内に処理ガスを導入して前記キャパシタンスマノメータの保護バルブが閉じたときに、処理ガス供給を停止した後、自動的に前記自動圧力制御バルブの弁体の角度を、前記処理ガスの排気流量が、前記処理ガスをその爆発下限界値に希釈したときに前記除害装置の最大処理能力のガス流量となる量以下の所定値になるような角度にして真空引きを行い、圧力が低下して保護バルブが開いた後に、前記排気流量の決定と、前記単位時間当たりのチャンバ内の圧力降下量の算出と、前記決定された排気流量の維持を実行させることを特徴とする請求項7に記載のガス処理装置。
- コンピュータ上で動作し、ガス処理装置を制御するプログラムが記憶された記憶媒体であって、前記プログラムは、実行時に、請求項1から請求項4のいずれかの排気方法が行われるように、コンピュータに前記ガス処理装置を制御させることを特徴とする記憶媒体。
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