JP2012037883A - フェムト秒レーザパルスによって眼組織を処理するための装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】眼科用装置1は、フェムト秒レーザパルスを眼組織8に集光して投射するための投射光学ユニット2を備えている。第1のビーム偏向スキャナシステム3と第2のビーム偏向スキャナシステム5が配置され、眼組織を走査するように構成されている。第2のスキャナシステムは、第1のスキャナシステムの走査速度の倍数の走査速度を有し、少なくとも1つの偏向ミラーと、第1の走査軸51と、第2の走査軸52と、を備えている。制御モジュール7は、走査曲線fの所定の曲線形状、所定の曲線振幅、および所定の曲線の向きに従って、第1の走査軸を中心とするフェムト秒レーザパルスの偏向および第2の走査軸を中心とするフェムト秒レーザパルスの偏向を制御する。
【選択図】図1
Description
Claims (15)
- フェムト秒レーザパルスによって眼組織(8)を処理するための眼科用装置(1)であって、
前記フェムト秒レーザパルスを前記眼組織(8)に集光して投射するための投射光学ユニット(2)と、
前記投射光学ユニット(2)の上流側に配置され、処理線(s)に沿って前記フェムト秒レーザパルスによって前記眼組織(8)を走査するための第1のビーム偏向スキャナシステム(3)と、
前記第1のスキャナシステム(3)の上流側に配置され、前記フェムト秒レーザパルスによって、前記処理線(s)に重ね合わされた走査曲線(f)上で、前記第1のスキャナシステム(3)の走査速度の倍数の走査速度で前記眼組織(8)を走査するための第2のビーム偏向スキャナシステム(5)であって、少なくとも1つの偏向ミラーと、第1の走査軸(51)と、第2の走査軸(52)と、を備える第2のビーム偏向スキャナシステム(5)と、
前記走査曲線(f)の所定の曲線形状、所定の曲線振幅、および所定の曲線の向きのうちの少なくとも1つに従って、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記フェムト秒レーザパルスの偏向(A),(b)および前記第2の走査軸(52)を中心とする前記フェムト秒レーザパルスの偏向を制御するための制御モジュール(8)と、
を備えている眼科用装置(1)。 - 前記制御モジュール(8)は、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)の偏倚振幅(B)と前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の偏倚振幅(A)を、連携させて制御することによって、前記走査曲線(f)の前記曲線の向きを決めるように構成されていることを特徴とする、請求項1に記載の装置(1)。
- 前記制御モジュール(8)は、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)の偏倚振幅(B)、前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の偏倚振幅(A)、および前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)と前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の相対的な位相を、連携させて制御することによって、前記走査曲線(f)の前記曲線の向きを決めるように構成されていることを特徴とする、請求項1に記載の装置(1)。
- 前記制御モジュール(8)は、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)の偏倚振幅(B)と前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の偏倚振幅(A)を、連携させて制御することによって、前記走査曲線(f)の前記曲線振幅(F)を決めるように構成されていることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記制御モジュール(8)は、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)と前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の相対的な位相を制御することによって、前記走査曲線(f)の前記曲線形状を決めるように構成されていることを特徴とする、請求項1から4のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記制御モジュール(8)は、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)の偏倚振幅(B)と前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の偏倚振幅(A)を、連携させて制御することによって、前記走査曲線(f)の前記曲線形状を決めるように構成されていることを特徴とする、請求項1から5のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記制御モジュール(8)は、前記第1の走査軸(51)を中心とする偏向周波数(ωx)と前記第2の走査軸(52)を中心とする偏向周波数(ωy)を、連携させて制御することによって、前記走査曲線(f)の前記曲線形状を決めるように構成されていることを特徴とする、請求項1から6のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記制御モジュール(8)は、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)の偏倚振幅(B)、前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の偏倚振幅(A)、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)と前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の相対的な位相、前記第1の走査軸(51)を中心とする偏向周波数(ωx)、および前記第2の走査軸(52)を中心とする偏向周波数(ωy)のうちの少なくとも1つを制御することによって、前記走査曲線(f)の、フーリエ合成によって規定可能な曲線形状を決めるように構成されていることを特徴とする、請求項5から7のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記制御モジュール(8)は、前記処理線(s)に応じて、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)の偏倚振幅(B)、前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の偏倚振幅(A)、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)と前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の相対的な位相、前記第1の走査軸(51)を中心とする偏向周波数(ωx)、および前記第2の走査軸(52)を中心とする偏向周波数(ωy)のうちの少なくとも1つを制御するように構成されていることを特徴とする、請求項1から8のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記制御モジュール(8)は、前記処理線(sx,sy)の方向が変わった場合に、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)の前記偏倚振幅(B)を小さくするとともに、前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)の前記偏倚振幅(A)を大きくするように構成されていることを特徴とする、請求項1から9のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(b)が前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)に対して2倍の偏向周波数(ωy)で行われ、前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)によって、前記第1のスキャナシステム(3)によって前記処理線(sx)の方向に生じさせられる前記偏向が少なくとも部分的に補償されるように、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記偏向(b)および前記第2の走査軸(52)を中心とする前記偏向(a)を制御するように、前記制御モジュール(8)が構成されていることを特徴とする、請求項1から10のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記第1のスキャナシステム(3)と前記第2のスキャナシステム(5)との間に配置され、前記第2のスキャナシステム(5)によって所定の走査幅の外側の領域(R1)へと偏向されたフェムト秒レーザパルスを遮光する働きをする絞り(41)を特徴とする、請求項1から11のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記走査曲線(f)の所定の領域(R1、R2)でフェムト秒レーザパルスを選択的に排除するための、制御可能なフィルタモジュール(4)を特徴とする、請求項1から12のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記第2のスキャナシステム(5)の第1の走査軸(51)と前記第2の走査軸(52)は、相互に直交するように向けられており、前記第2のスキャナシステム(5)は、前記第1の走査軸(51)を中心として、および前記第2の走査軸(52)を中心として、振動するように前記フェムト秒レーザパルスを偏向するように構成されており、前記第1のスキャナシステム(3)は、前記第2のスキャナシステム(5)に比べて偏倚が著しく大きいことを特徴とする、請求項1から13のいずれか1つに記載の装置(1)。
- 前記走査曲線(f)が丸い曲線形状を有するように、前記第1の走査軸(51)を中心とする前記フェムト秒レーザパルスの前記偏向および前記第2の走査軸(52)を中心とする前記フェムト秒レーザパルスの前記偏向を制御するように、前記制御モジュール(8)が構成されており、結果として得られる所定の軌跡形状を有する走査軌跡(t)が前記走査曲線(f)の前記処理線(s)への重ね合わせから生じさせられるように、前記第1のスキャナシステム(3)の前記走査速度を制御するように、前記制御モジュール(8)が構成されていることを特徴とする、請求項1から14のいずれか1つに記載の装置(1)。
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