JP2012031365A - 熱可塑性ポリマー組成物および加工安定化剤 - Google Patents

Abstract

【課題】加工安定性が一層向上した熱可塑性ポリマー組成物が望まれる。
【解決手段】式（１）で示される化合物、グルコースおよび熱可塑性ポリマーを含有する熱可塑性ポリマー組成物は、優れた加工安定性を示す［式（１）中、各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表す。Ｌ¹は、ヘテロ原子を含んでいてもよいｎ価のＣ_1-24アルコール残基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。］。

【選択図】なし

Description

本発明は、加工安定性に優れた熱可塑性ポリマー組成物およびその製造方法に関する。さらに本発明は、加工安定化剤にも関する。

熱可塑性ポリマーは透明性に優れ、耐衝撃性も良好であることから、食品包装容器、日用雑貨品などに広く使用されている。かかる製品の製造では、熱可塑性ポリマーは、添加剤を含む組成物として使用される。熱可塑性ポリマー用の添加剤として、オクタデシル
３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンおよびペンタエリスリトール テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などが知られている（特許文献１〜３）。

米国特許第３３０８５９号 米国特許第３６４４４８２号 特開昭５９−２５８２６号公報

加工安定性が一層向上した熱可塑性ポリマー組成物が望まれる。

上記課題を解決するため、本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、以下の式（１）で示される化合物、グルコースおよび熱可塑性ポリマーを含有する熱可塑性ポリマー組成物は、優れた加工安定性を示すことを見出した。このような知見に基づき、以下の［１］〜［９］に記載の発明に至った。

［１］ 式（１）：

［式（１）中、
各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表す。
Ｌ¹は、ヘテロ原子を含んでいてもよいｎ価のＣ_1-24アルコール残基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。］
で示される化合物、グルコースおよび熱可塑性ポリマーを含有することを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物。
［２］ 式（１）で示される化合物およびグルコースの合計量が、熱可塑性ポリマー１００質量部に対して０．００１〜３質量部である上記［１］に記載の熱可塑性ポリマー組成物。
［３］ 熱可塑性ポリマーが、スチレン−ブタジエンブロック共重合体である上記［１］または［２］に記載の熱可塑性ポリマー組成物。
［４］ 式（１）：

［式（１）中、
各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表す。
Ｌ¹は、ヘテロ原子を含んでいてもよいｎ価のＣ_1-24アルコール残基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。］
で示される化合物およびグルコースを含有することを特徴とする加工安定化剤。
［５］ 式（１）：

［式（１）中、
各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表す。
Ｌ¹は、ヘテロ原子を含んでいてもよいｎ価のＣ_1-24アルコール残基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。］
で示される化合物およびグルコースからなることを特徴とする加工安定化剤。
［６］ 式（１）で示される化合物が、オクタデシル ３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンおよびペンタエリスリトール テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］からなる群から選ばれる少なくとも一つである上記［４］または［５］に記載の加工安定化剤。
［７］ グルコースの含有量が、式（１）で示される化合物およびグルコースの合計中０．１〜９５質量％である上記［４］〜［６］のいずれか一つに記載の加工安定化剤。
［８］ 上記［４］〜［７］のいずれか一つに記載の加工安定化剤および熱可塑性ポリマーを混合することを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物の製造方法。
［９］ 熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性を向上させるための、上記［４］〜［７］のいずれか一つに記載の加工安定化剤の使用。

式（１）で示される化合物およびグルコースを併用すれば、熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性を向上させることができる。

以下、本発明を順に説明する。なお、本発明において、「Ｃ_a-b」とは、炭素数がａ以上ｂ以下であることを意味する。また以下では、「式（１）で示される化合物」を「化合物（１）」と略称することがある。他の化学式で示される化合物も同様に略称することがある。同様に、後述する「式（３ａ）で示される２価の基」等を「２価の基（３ａ）」等と略称することがある。

本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、本発明の加工安定化剤（即ち化合物（１）およびグルコース）を含有することを特徴とする。以下では、まず加工安定化剤について説明し、次いで熱可塑性ポリマー組成物を説明する。

本発明の加工安定化剤は、化合物（１）を含有することを特徴の一つとする。化合物（１）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、化合物（１）について順に説明する。

式（１）中の各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表す。ｎが２以上である場合、各Ｒ¹は互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各Ｒ²も同様である。Ｃ_1-6アルキル基は、鎖状または環状のいずれでもよく、鎖状は直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。Ｃ_1-6アルキル基としては、直鎖状Ｃ_1-6アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基）、分枝鎖状Ｃ_3-6アルキル基（例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−ヘキシル基）、環状Ｃ_3-6アルキル基（即ちＣ_3-6シクロアルキル基、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）が挙げられる。各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、好ましくは直鎖状Ｃ_1-6アルキル基または分枝鎖状Ｃ_3-6アルキル基、より好ましくはメチル基またはｔ−ブチル基である。さらに好ましくは、各Ｒ¹および各Ｒ²が全てｔ−ブチル基である。

式（１）中のＬ¹は、ヘテロ原子を含んでいてもよいｎ価のＣ_1-24アルコール残基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、硫黄原子または窒素原子などが挙げられ、これらヘテロ原子が、ｎ価のＣ_1-24アルコール残基中の炭素原子と置き換わっていてもよい。即ち、ｎ価のＣ_1-24アルコール残基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−（式中、Ｒは水素原子または他の置換基（例えばＣ_1-6アルキル基）を表す。）などを有していてもよい。ヘテロ原子としては、酸素原子が好ましい。

ｎ価のＣ_1-24アルコール残基（ｎ＝１〜４）は、鎖状または環状のいずれでもよく、これらの組合せでもよい。鎖状は、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。

１価のＣ_1-24アルコール残基としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、デカノール、ドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール等の残基が挙げられる。

２価のＣ_1-24アルコール残基としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，１４−テトラデカンジオール、１，１６−ヘキサデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン等の残基が挙げられる。

３価のＣ_1-24アルコール残基としては、例えば、グリセロール等の残基が挙げられる。

４価のＣ_1-24アルコール残基としては、エリスリトール、ペンタエリスリトール等の残基が挙げられる。

化合物（１）としては、例えば、３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸、３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオン酸、または３−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、一価または多価アルコールとのエステルが挙げられる。前記の一価または多価アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタン、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンおよびこれらの混合物などが挙げられる。

好ましい化合物（１）は、オクタデシル ３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（以下「化合物（１−１）」と略称することがある）、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（以下「化合物（１−２）」と略称することがある）およびペンタエリスリトール テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（以下「化合物（１−３）」と略称することがある）である。化合物（１−１）は「イルガノックス（登録商標）１０７６」（ＢＡＳＦ社製）として、化合物（１−２）は「スミライザー（登録商標）ＧＡ−８０」（住友化学社製）として、化合物（１−３）は「イルガノックス（登録商標）１０１０」（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。

化合物（１）は、市販品を使用するか、または公知の方法（例えば特許文献１〜３に記載の方法）に準じて製造することができる。

本発明の加工安定化剤は、グルコースを含有することを特徴の一つとする。グルコースは、Ｄ−グルコースまたはＬ−グルコース或いはそれらの混合物のいずれでもよく、好ましくはＤ−グルコース（ブドウ糖）である。また、グルコースは、α体またはβ体或いはそれらの混合物のいずれでもよい。グルコースは、ピラノース型またはフラノース型或いはそれらの混合物のいずれでもよく、好ましくはピラノース型である。さらに、グルコースは、無水物または水和物或いはそれらの混合物のいずれでもよい。グルコースは市販されており、市販品をそのまま使用することができる。

本発明の加工安定化剤におけるグルコースの含有量は、化合物（１）およびグルコースの合計中、好ましくは０．１質量％以上（より好ましくは１質量％以上、さらに好ましくは２質量％以上、特に好ましくは５質量％以上）、好ましくは９５質量％以下（より好ましくは９０質量％以下、さらに好ましくは７５質量％以下、特に好ましくは５０質量％以下）である。

本発明の加工安定化剤は、化合物（１）およびグルコースからなるものであってもよく、或いは他の成分を含有していてもよい。例えば、本発明の加工安定化剤は、式（２）：

［式（２）中、各Ｒ³および各Ｒ⁴は、それぞれ独立に、Ｃ_1-8アルキル基、Ｃ_6-12アリール基またはＣ_7-18アラルキル基を表す。Ｒ⁵は、水素原子またはＣ_1-3アルキル基を表す。Ｒ⁶は、水素原子またはメチル基を表す。］
で示される化合物を含有していてもよい。化合物（２）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、化合物（２）について順に説明する。

式（２）中の各Ｒ³および各Ｒ⁴は、それぞれ独立に、Ｃ_1-8アルキル基、Ｃ_6-12アリール基またはＣ_7-18アラルキル基を表す。Ｒ³は二つ存在するが、各Ｒ³は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各Ｒ⁴も同様である。

Ｃ_1-8アルキル基は、鎖状または環状のいずれでもよく、好ましくは鎖状（直鎖状または分枝鎖状）、より好ましくは分枝鎖状である。Ｃ_1-8アルキル基としては、直鎖状Ｃ_1-8アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基（アミル基ともいう）など）、分枝鎖状Ｃ_3-8アルキル基（例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、２−エチルヘキシル基など）、環状Ｃ_3-8アルキル基（即ちＣ_3-8シクロアルキル基、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基など）が挙げられる。Ｃ_6-12アリール基としては、例えばフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基などが挙げられる。Ｃ_7-18アラルキル基としては、例えばベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基などが挙げられる。

各Ｒ³および各Ｒ⁴は、それぞれ独立に、好ましくは分枝鎖状Ｃ_3-8アルキル基、より好ましくは３級炭素原子を有するＣ_4-8アルキル基、さらに好ましくはｔ−ブチル基またはｔ−ペンチル基、特に好ましくはｔ−ペンチル基である。

式（２）中のＲ⁵は、水素原子またはＣ_1-3アルキル基を表す。Ｃ_1-3アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。Ｃ_1-3アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。Ｒ⁵は、好ましくは水素原子またはメチル基である。

式（２）中のＲ⁶は、水素原子またはメチル基を表し、好ましくは水素原子である。

化合物（２）としては、例えば、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニル （メタ）アクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル （メタ）アクリレート、２，４−ジ−ｔ−ペンチル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニル （メタ）アクリレート、２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−ベンジル）フェニル （メタ）アクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−エチルフェニル （メタ）アクリレート、または２−ｔ−ペンチル−６−（３−ｔ−ペンチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル （メタ）アクリレートなどが挙げられる。ここで「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレートおよびメタクリレート」を意味する。

好ましい化合物（２）は、２，４−ジ−ｔ−ペンチル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニル アクリレート（以下「化合物（２−１）」と略称することがある）、および２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル アクリレート（以下「化合物（２−２）」と略称することがある）である。化合物（２−１）はスミライザー（登録商標）ＧＳ（Ｆ）（住友化学社製）として、化合物（２−２）はスミライザー（登録商標）ＧＭ（住友化学社製）として市販されている。

化合物（２）は、市販品を使用するか、または公知の方法（例えば特開平１−１６８６４３号公報または特開昭５８−８４８３５号公報に記載の方法）に準じて製造することができる。

さらに、本発明の加工安定化剤は、式（３）：

［式（３）中、
各Ｒ⁷、各Ｒ⁸、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-8アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。
各Ｒ⁹は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-8アルキル基を表す。
Ｌ²は、単結合、硫黄原子または式（３ａ）：

｛式（３ａ）中、Ｒ¹²は、水素原子、Ｃ_1-8アルキル基またはＣ_5-8シクロアルキル基を表す。｝で示される２価の基を表す。
Ｌ³は、Ｃ_2-8アルキレン基または式（３ｂ）：

｛式（３ｂ）中、Ｌ⁴は、単結合またはＣ_1-8アルキレン基を表す。＊は酸素原子側に結合していることを表す。｝で示される２価の基を表す。
Ｚ¹およびＺ²のいずれか一方は、ヒドロキシ基、Ｃ_1-8アルキル基、Ｃ_1-8アルコキシ基またはＣ_7-12アラルキルオキシ基を表し、他方は、水素原子またはＣ_1-8アルキル基を表す。］
で示される化合物を含有していてもよい。化合物（３）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、化合物（３）について順に説明する。

式（３）中の各Ｒ⁷、各Ｒ⁸、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-8アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。Ｒ⁷は二つ存在するが、各Ｒ⁷は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各Ｒ⁸も同様である。

Ｒ⁷およびＲ⁸のＣ_1-8アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。Ｒ⁷およびＲ⁸のＣ_1-8アルキル基の炭素数は、好ましくは１以上５以下である。Ｒ⁷およびＲ⁸のＣ_1-8アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、イソオクチル基（６−メチルヘプチル基ともいう）、ｔ−オクチル基（１，１，３，３−テトラメチルブチル基ともいう）、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。

Ｃ_5-8シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基が挙げられる。

Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基としては、例えば、１−メチルシクロペンチル基、２−メチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、１−メチル−４−イソプロピルシクロヘキシル基などが挙げられる。

Ｃ_7-12アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基（１−フェニルエチル基ともいう）、α，α−ジメチルベンジル基（１−メチル−１−フェニルエチル基またはクミル基ともいう）などが挙げられる。

各Ｒ⁷およびＲ¹⁰は、それぞれ独立に、好ましくは、Ｃ_1-8アルキル基（より好ましくは３級炭素原子を有するＣ_4-8アルキル基）、Ｃ_5-8シクロアルキル基（より好ましくはシクロヘキシル基）またはＣ_6-12アルキルシクロアルキル基（より好ましくは１−メチルシクロヘキシル基）である。３級炭素原子を有するＣ_4-8アルキル基としては、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基およびｔ−オクチル基がさらに好ましい。

各Ｒ⁸は、それぞれ独立に、好ましくはＣ_1-8アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基またはＣ_6-12アルキルシクロアルキル基であり、より好ましくはＣ_1-5アルキル基である。Ｃ_1-5アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。Ｃ_1-5アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基などが挙げられる。各Ｒ⁸は、それぞれ独立に、メチル基、ｔ−ブチル基またはｔ−ペンチル基であることがさらに好ましい。

Ｒ¹¹は、好ましくは水素原子またはＣ_1-5アルキル基であり、より好ましくは水素原子またはメチル基である。なお、Ｒ¹¹のＣ_1-5アルキル基としては上述のものが挙げられる。

式（３）中の各Ｒ⁹は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-8アルキル基を表す。Ｒ⁹は二つ存在するが、各Ｒ⁹は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各Ｒ⁹は、好ましくは水素原子またはＣ_1-5アルキル基であり、より好ましくはメチル基または水素原子である。なお、Ｒ⁹のＣ_1-8アルキル基およびＣ_1-5アルキル基としては、上記Ｒ⁷およびＲ⁸で説明したものが挙げられる。

式（３）中のＬ²は、単結合、硫黄原子または式（３ａ）で示される２価の基を表し、式（３ａ）中のＲ¹²は、水素原子、Ｃ_1-8アルキル基またはＣ_5-8シクロアルキル基を表す。Ｒ¹²は、好ましくは水素原子またはＣ_1-5アルキル基である。なお、Ｒ¹²のＣ_1-8アルキル基、Ｃ_1-5アルキル基およびＣ_5-8シクロアルキル基としては、上記Ｒ⁷およびＲ⁸で説明したものが挙げられる。Ｌ²は、好ましくは単結合または２価の基（３ａ）であり、より好ましくは単結合である。

式（３）中のＬ³は、Ｃ_2-8アルキレン基または式（３ｂ）示される２価の基を表し、式（３ｂ）中のＬ⁴は、単結合またはＣ_1-8アルキレン基を表す。Ｃ_2-8アルキレン基およびＣ_1-8アルキレン基は、いずれも、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。Ｃ_2-8アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基（−（ＣＨ₃）ＣＨＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−）、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基などが挙げられ、Ｃ_1-8アルキレン基としては、メチレン基および上述のＣ_2-8アルキレン基などが挙げられる。

Ｌ³は、好ましくは、Ｃ_2-8アルキレン基、Ｌ⁴が単結合である２価の基（３ｂ）（即ちカルボニル基）、またはＬ⁴がエチレン基である２価の基（３ｂ）であり；より好ましくはＣ_2-8アルキレン基であり；さらに好ましくはトリメチレン基である。

式（３）中のＺ¹およびＺ²のいずれか一方は、ヒドロキシ基、Ｃ_1-8アルキル基、Ｃ_1-8アルコキシ基またはＣ_7-12アラルキルオキシ基を表し、他方は、水素原子またはＣ_1-8アルキル基を表す。なお、Ｚ¹およびＺ²のＣ_1-8アルキル基としては、上記Ｒ⁷およびＲ⁸で説明したものが挙げられる。

Ｃ_1-8アルコキシ基は、直鎖状でも分枝鎖状でもよい。Ｃ_1-8アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、イソオクチルオキシ基（６−メチルヘプチルオキシ基ともいう）、ｔ−オクチルオキシ基（１，１，３，３−テトラメチルブチルオキシ基ともいう）、２−エチルヘキシルオキシ基などが挙げられる。

Ｃ_7-12アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、α−メチルベンジルオキシ基、α，α−ジメチルベンジルオキシ基などが挙げられる。

Ｚ¹およびＺ²のいずれか一方がヒドロキシ基であり、他方が水素原子であることが好ましい。

置換基の好ましい組合せとしては、各Ｒ⁷およびＲ¹⁰が、それぞれ独立に、３級炭素原子を有するＣ_4-8アルキル基、シクロヘキシルまたは１−メチルシクロヘキシル基であり、各Ｒ⁸が、それぞれ独立にＣ_1-5アルキル基であり、各Ｒ⁹が、それぞれ独立に水素原子またはＣ_1-5アルキル基であり、Ｒ¹¹が水素原子またはＣ_1-5アルキル基であり、Ｌ²が単結合であり、Ｌ³がＣ_2-8アルキレン基であり、Ｚ¹およびＺ²のいずれか一方がヒドロキシ基であり、他方が水素原子である組合せが挙げられる。この好ましい組合せにおいて、各Ｒ⁷は互いに同じものであることがより好ましい。各Ｒ⁸および各Ｒ⁹も同様である。また、この好ましい組合せにおいて、各Ｒ⁷、各Ｒ⁹およびＲ¹⁰は、共通して、ｔ−ブチル基またはｔ−ペンチル基（特にｔ−ブチル基）であることがさらに好ましい。

化合物（３）としては、例えば、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、２，１０−ジメチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ペンチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，１０−ジメチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ペンチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、２，１０−ジメチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイルオキシ）−１２−メチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，１０−ジメチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−［３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，１０−ジエチル−４，８−ジ−ｔ−ブチル−６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［２，２−ジメチル−３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピンなどが挙げられる。

化合物（３）の中でも、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（以下「化合物（３−１）」と略称することがある）が好ましい。化合物（３−１）は「スミライザー（登録商標）ＧＰ」（住友化学社製）として市販されている。

化合物（３）は、市販品を使用するか、または公知の方法（例えば特開平１０−２７３４９４号公報に記載の方法）に準じて製造することができる。

さらに、本発明の加工安定化剤は、式（４）：

［式（４）中、各Ｒ¹³および各Ｒ¹⁴は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。］
で示される化合物を含有していてもよい。化合物（４）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、化合物（４）について順に説明する。

式（４）中の各Ｒ¹³および各Ｒ¹⁴は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。Ｒ¹³は三つ存在するが、各Ｒ¹³は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各Ｒ¹⁴も同様である。Ｒ¹³およびＲ¹⁴の位置は、２位および４位であることが好ましい。

Ｃ_1-9アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。Ｃ_1-9アルキル基の炭素数は、好ましくは３以上５以下である。Ｃ_1-9アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ｔ−ペンチル基、２−エチルヘキシル基などが挙げられる。
なお、Ｒ¹³およびＲ¹⁴のＣ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基およびＣ_7-12アラルキル基としては、上述のものが挙げられる。

各Ｒ¹³および各Ｒ¹⁴は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子またはＣ_1-9アルキル基、より好ましくは水素原子、ｔ−ブチル基またはノニル基、さらに好ましくはｔ−ブチル基である。

化合物（４）としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（以下「化合物（４−１）」と略称することがある）、トリフェニルホスファイト、トリス（４−ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジノニルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。これらの中でも、化合物（４−１）が好ましい。化合物（４−１）は、「イルガフォス（登録商標）１６８」（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。

さらに、本発明の加工安定化剤は、式（５）：

［式（５）中、各Ｒ¹⁵は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。］
で示される化合物を含有していてもよい。化合物（５）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、化合物（５）について順に説明する。

式（５）中の各Ｒ¹⁵は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。Ｒ¹⁵は四つ存在するが、各Ｒ¹⁵は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。なお、Ｒ¹⁵のＣ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基およびＣ_7-12アラルキル基としては、上述のものが挙げられる。各Ｒ¹⁵は、それぞれ独立に、好ましくは水素原子またはＣ_1-9アルキル基、より好ましくは水素原子である。

化合物（５）としては、例えば、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホナイト（以下「化合物（５−１）」と略称することがある）、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホナイト（以下「化合物（５−２）」と略称することがある）などが挙げられる。これらの中でも、化合物（５−１）が好ましい。化合物（５−１）は、「サンドスタブ（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ」（クラリアント社製）として、化合物（５−２）は、「ヨシノックス（登録商標）ＧＳＹ−Ｐ１０１」（ＡＰＩ社製）として市販されている。

さらに、本発明の加工安定化剤は、式（６）：

［式（６）中、各Ｒ¹⁶は、それぞれ独立に、Ｃ_1-18アルキル基、またはＣ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基およびＣ_7-12アラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよいフェニル基を表す。］
で示される化合物を含有していてもよい。化合物（６）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、化合物（６）について順に説明する。

式（６）中の各Ｒ¹⁶は、それぞれ独立に、Ｃ_1-18アルキル基またはフェニル基を表す。Ｒ¹⁶のフェニル基は、置換基として、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基およびＣ_7-12アラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい。なお、これらのフェニル基の置換基としては、上述のものが挙げられる。また、Ｒ¹⁶は二つ存在するが、各Ｒ¹⁶は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。

Ｃ_1-18アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。Ｃ_1-18アルキル基の炭素数は、好ましくは１２以上１８以下である。Ｃ_1-18アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などが挙げられる。

Ｃ_1-9アルキル基で置換されているフェニル基としては、２−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−ｔ−ブチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２−ノニルフェニル基、４−ノニルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２，４−ジ−ノニルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基、２−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル基、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基などが挙げられる。

Ｃ_5-8シクロアルキル基で置換されているフェニル基としては、２−シクロペンチルフェニル基、２−シクロヘキシルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、２，４−ジシクロヘキシルフェニル基などが挙げられる。

Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基で置換されているフェニル基としては、２−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基、４−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基、２，４−ジ−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基などが挙げられる。

Ｃ_7-12アラルキル基で置換されているフェニル基としては、２−ベンジルフェニル基、２−クミルフェニル基、４−クミルフェニル基、２，４−ジクミルフェニル基などが挙げられる。

Ｃ_1-9アルキル基およびＣ_5-8シクロアルキル基で置換されているフェニル基としては、２−メチル−４−シクロへキシルフェニル基などが挙げられる。Ｃ_1-9アルキル基およびＣ_6-12アルキルシクロアルキル基で置換されているフェニル基としては、２−メチル−４−（２−メチルシクロヘキシル）フェニル基などが挙げられる。Ｃ_1-9アルキル基およびＣ_7-12アラルキル基で置換されているフェニル基としては、２−ベンジル−４−メチルフェニル基などが挙げられる。

各Ｒ¹⁶は、それぞれ独立に、好ましくは、オクタデシル基（ステアリル基ともいう）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル基または２，４−ジクミルフェニル基である。

化合物（６）としては、例えば、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（以下「化合物（６−１）」と略称することがある）、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（以下「化合物（６−２）」と略称することがある）、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（以下「化合物（６−３）」と略称することがある）、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト（以下「化合物（６−４）」と略称することがある）、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。これらの中でも、化合物（６−１）、化合物（６−２）および化合物（６−３）が好ましい。化合物（６−１）は「アデカスタブ（登録商標）ＰＥＰ−３６」（アデカ社製）として、化合物（６−２）は「ウルトラノックス（登録商標）６２６」（ＧＥプラスチック社製）として、化合物（６−３）は「ドーヴァーフォスＳ９２２８Ｔ」（ドーヴァーケミカル社製）として、化合物（６−４）は「アデカスタブ（登録商標）ＰＥＰ−８」（アデカ社製）として市販されている。

さらに、本発明の加工安定化剤は、式（７）：

［式（７）中、
各Ｒ¹⁷および各Ｒ¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。
各Ｌ⁵は、それぞれ独立に、単結合、硫黄原子または式（７ａ）：

｛式（７ａ）中、Ｒ¹⁹およびＲ²⁰は、これらの炭素数合計が７以下であることを条件として、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-7アルキル基を表す。｝で示される２価の基を表す。
各Ｌ⁶は、それぞれ独立に、Ｃ_2-8アルキレン基を表す。］
で示される化合物を含有していてもよい。化合物（７）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、化合物（７）について順に説明する。

式（７）中の各Ｒ¹⁷および各Ｒ¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸のＣ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基およびＣ_7-12アラルキル基としては、上述のものが挙げられる。Ｒ¹⁷は六つ存在するが、各Ｒ¹⁷は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各Ｒ¹⁸も同様である。Ｒ¹⁷およびＲ¹⁸の位置は、Ｌ⁵が結合しているベンゼン環の炭素原子の位置をそれぞれ１位とした場合、３位および５位であることが好ましい。各Ｒ¹⁷および各Ｒ¹⁸は、それぞれ独立に、好ましくはＣ_1-9アルキル基、より好ましくはｔ−ブチル基である。

式（７）中の各Ｌ⁵は、それぞれ独立に、単結合、硫黄原子または式（７ａ）で示される２価の基を表し、式（７ａ）中のＲ¹⁹およびＲ²⁰は、これらの炭素数合計が７以下であることを条件として、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-7アルキル基を表す。Ｌ⁵は三つ存在するが、各Ｌ⁵は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。

Ｃ_1-7アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよい。Ｃ_1-7アルキル基の炭素数は、好ましくは１以上３以下である。Ｒ¹⁹およびＲ²⁰の炭素数合計は、好ましくは３以下である。Ｃ_1-7アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などが挙げられる。

２価の基（７ａ）としては、例えば、−ＣＨ₂−、−ＣＨ（ＣＨ₃）−、−ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＨ（ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）−などが挙げられる。

各Ｌ⁵は、好ましくは−ＣＨ₂−または単結合、より好ましくは単結合である。

式（７）中の各Ｌ⁶は、それぞれ独立に、Ｃ_2-8アルキレン基を表す。Ｌ⁶は三つ存在するが、各Ｌ⁶は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。Ｃ_2-8アルキレン基としては、上述のものが挙げられる。各Ｌ⁶は、それぞれ独立に、好ましくは、エチレン基またはトリメチレン基、より好ましくはエチレン基である。

化合物（７）としては、６，６’，６”−［ニトリロトリス（エチレンオキシ）］トリス（２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）（以下「化合物（７−１）」と略称することがある）が好ましい。化合物（７−１）は「イルガフォス（登録商標）１２」（ＢＡＳＦ社製）として市販されている。

さらに、本発明の加工安定化剤は、式（８）：

［式（８）中、
各Ｒ²¹および各Ｒ²²は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。
Ｒ²³は、Ｃ_1-8アルキル基、またはＣ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基およびＣ_7-12アラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよいフェニル基を表す。
Ｌ⁷は、単結合、硫黄原子または式（８ａ）：

｛式（８ａ）中、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は、これらの炭素数合計が７以下であることを条件として、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-7アルキル基を表す。｝で示される２価の基を表す。］
で示される化合物を含有していてもよい。化合物（８）は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。以下、化合物（８）について順に説明する。

式（８）中の各Ｒ²¹および各Ｒ²²は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基、Ｃ_7-12アラルキル基またはフェニル基を表す。Ｒ²¹およびＲ²²のＣ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基およびＣ_7-12アラルキル基としては、上述のものが挙げられる。Ｒ²¹は二つ存在するが、各Ｒ²¹は、互いに同じものでも、異なるものでもよく、好ましくは同じものである。各Ｒ²²も同様である。Ｒ²¹およびＲ²²の位置は、Ｌ⁷が結合しているベンゼン環の炭素原子の位置をそれぞれ１位とした場合は３位および５位であること、即ち、Ｏが結合しているベンゼン環の炭素原子の位置をそれぞれ１位とした場合は２位および４位であることが好ましい。各Ｒ²¹および各Ｒ²²は、それぞれ独立に、好ましくはＣ_1-9アルキル基、より好ましくはｔ−ブチル基である。

式（８）中のＲ²³は、Ｃ_1-8アルキル基またはフェニル基を表す。Ｒ²³のフェニル基は、置換基として、Ｃ_1-9アルキル基、Ｃ_5-8シクロアルキル基、Ｃ_6-12アルキルシクロアルキル基およびＣ_7-12アラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有していてもよい。Ｒ²³のＣ_1-8アルキル基および置換基を有するフェニル基としては、上述のものが挙げられる。但し、Ｒ²³のＣ_1-8アルキル基の炭素数は、好ましくは４以上８以下である。Ｒ²³は、好ましくはＣ_1-8アルキル基、より好ましくはオクチル基である。

式（８）中のＬ⁷は、単結合、硫黄原子または式（８ａ）示される２価の基を表し、式（８ａ）中のＲ²⁴およびＲ²⁵は、これらの炭素数合計が７以下であることを条件として、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-7アルキル基を表す。Ｒ²⁴およびＲ²⁵のＣ_1-7アルキル基としては、上述のものが挙げられる。Ｒ²⁴およびＲ²⁵の炭素数合計は、好ましくは３以下である。２価の基（８ａ）の具体例としては、２価の基（７ａ）と同じものが挙げられる。Ｌ⁷は、好ましくは−ＣＨ₂−または単結合、より好ましくは−ＣＨ₂−である。

化合物（８）としては、例えば、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト（以下「化合物（８−１）」と略称することがある）および２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）２−エチルヘキシルホスファイトが挙げられる。これらの中で化合物（８−１）が好ましい。化合物（８−１）は「アデカスタブ（登録商標）ＨＰ−１０」（アデカ社製）として市販されている。

化合物（２）〜化合物（８）の中では、化合物（２）〜化合物（４）が好ましく、化合物（２）および化合物（３）がより好ましく、化合物（２）がさらに好ましい。

加工安定化剤が化合物（２）〜化合物（８）を含有する場合、化合物（２）〜化合物（８）の各含有量は、化合物（１）およびグルコースの合計１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上（より好ましくは１０質量部以上、さらに好ましくは２０質量部以上）、好ましくは２００質量部以下（より好ましくは９０質量部以下、さらに好ましくは８０質量部以下）である。

本発明の加工安定化剤は、化合物（１）およびグルコース、並びに必要に応じて化合物（２）〜化合物（８）を含有する。さらに本発明の加工安定化剤は、これら以外の添加剤（以下「他の添加剤」と略称する）を含んでいてもよい。他の添加剤は、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、安定剤、滑剤、金属不活性化剤、造核剤、帯電防止剤、難燃剤、充填剤、顔料、無機充填剤などが挙げられる。

酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤（化合物（１）および化合物（２）を除く）、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤（化合物（３）〜化合物（８）を除く）、ヒドロキノン系酸化防止剤などが挙げられる。

フェノール系酸化防止剤としては、例えば、以下の［１］〜［１３］に記載するものなどが挙げられる。
［１］２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシル−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシル−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシル−１’−イル）フェノールなどのアルキル化モノフェノール。

［２］２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール、２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−エチルフェノール、２，６−ビス（ドデシルチオメチル）−４−ノニルフェノールなどのアルキルチオメチルフェノール。

［３］２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ノニルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４−イソブチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール ビス［３，３−ビス（３’−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタンなどのアルキリデンビスフェノールおよびその誘導体。

［４］４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチル−Ｎ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバネートなどのアシルアミノフェノール誘導体。

［５］２，２’−チオビス（６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィドなどのビス（ヒドロキシ化フェニル）スルフィド。

［６］３，５，３’，５’−テトラ−ｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテートなどのＯ−ベンジル誘導体、Ｎ−ベンジル誘導体およびＳ−ベンジル誘導体。

［７］２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピル）−１，３，５−トリアジン、トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシシンナモイルオキシ）エチル］イソシアヌレートなどのトリアジン誘導体。

［８］ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネートなどのヒドロキシベンジル化マロネート誘導体。

［９］１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノールなどの芳香族ヒドロキシベンジル誘導体。

［１０］ジメチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩などのベンジルホスホネート誘導体。

［１１］３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と、一価または多価アルコール（例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタン、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンまたはこれらの混合物）とのエステル。

［１２］Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］トリメチレンジアミンなどのβ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド。

［１３］α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロールなどのトコフェロール。

イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル ３，３’−チオジプロピオネート、トリデシル ３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル ３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル ３，３’−チオジプロピオネート、ラウリル ステアリル ３，３’−チオジプロピオネート、ネオペンタンテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）などが挙げられる。

リン系酸化防止剤としては、例えば、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フルオロホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、２−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−５−エチル−５−ブチル−１，３，２−オキサホスホリナンなどが挙げられる。

ヒドロキノン系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ペンチルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル ステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペートなどが挙げられる。

紫外線吸収剤としては、例えば、以下の［１］〜［３］に記載する物などが挙げられる。

［１］フェニル サリシレート、４−ｔ−ブチルフェニル サリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−オクチルフェニル サリシレート、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、ヘキサデシル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエートなどのサリシレート誘導体。

［２］２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンなどの２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体。

［３］２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ペンチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］、２，２’−メチレンビス［４−ｔ−ブチル−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、ポリ（３〜１１）（エチレングリコール）と２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールとの縮合物、ポリ（３〜１１）（エチレングリコール）とメチル ３−［３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネートとの縮合物、２−エチルヘキシル ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、オクチル ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、メチル ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオン酸などの２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。

光安定剤としては、例えば、以下の［１］〜［５］に記載する物などが挙げられる。
［１］ヒンダードアミン系光安定剤、例えば、以下の［ａ］〜［ｃ］に記載する物。
［ａ］ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） ２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル メタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート。

［ｂ］１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールおよび３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンとの混合エステル化物。

［ｃ］ジメチルスクシネートと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］、ポリ［（６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと１，２−ジブロモエタンとの重縮合物、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−トリス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−トリス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン。

［２］エチル α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル α−カルボメトキシシンナメート、メチル α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチル α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリンなどのアクリレート系光安定剤。

［３］２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体などのニッケル系光安定剤。

［４］４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エトキシアニリド、２−エトキシ−５，４’−ジ−ｔ−ブチル−２’−エチルオキサニリドなどのオキサミド系光安定剤。

［５］２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンなどの２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン系光安定剤。

安定剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミンなどのヒドロキシルアミン類などが挙げられる。

滑剤としては、例えば、パラフィン、ワックス等の脂肪族炭化水素、Ｃ_8-22高級脂肪酸、Ｃ_8-22高級脂肪酸の金属（Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ）塩、Ｃ_8-22脂肪族アルコール、ポリグリコール、Ｃ_4-22高級脂肪酸とＣ_4-18脂肪族１価アルコールとのエステル、Ｃ_8-22高級脂肪族アミド、シリコーン油、ロジン誘導体などが挙げられる。

上述した他の添加剤の中でも、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤が好ましく、フェノール系酸化防止剤がより好ましい。

本発明の加工安定化剤の製造方法としては、例えば、化合物（１）およびグルコース、並びに必要に応じて化合物（２）〜化合物（８）および他の添加剤を、ヘンシェルミキサ、スーパーミキサ、ハイスピードミキサなどの混合機で混合する方法などが挙げられる。このようにして得た混合物（加工安定化剤）を、さらに押出成形または撹拌造粒に付してもよい。

次に本発明の熱可塑性ポリマー組成物について説明する。本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、上記加工安定化剤（化合物（１）およびグルコース、並びに必要に応じて化合物（２）〜化合物（８）および他の添加剤）と、熱可塑性ポリマーとを含有する。熱可塑性ポリマーは、１種のみを使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

熱可塑性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂（高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）、エチレン−アクリル酸エチル共重合体（ＥＥＡ）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）など）、ポリプロピレン系樹脂（結晶性プロピレン単独重合体、プロピレン−エチレンランダム共重合体、プロピレン−α−オレフィンランダム共重合体、プロピレン−エチレン−α−オレフィン共重合体、プロピレン単独重合体成分または主にプロピレンからなる共重合体成分とプロピレンとエチレンおよび／またはα−オレフィンの共重合体成分とからなるポリプロピレン系ブロック共重合体など）、メチルペンテンポリマー、ポリスチレン系樹脂（ポリスチレン（ＰＳ）、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）などのポリスチレン類、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＳＡＮ）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）、特殊アクリルゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体（ＡＣＳ）など）、ポリブタジエン系樹脂（ポリブタジエン；ポリブタジエンゴム（ＢＲ）；スチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢ）；スチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＢＳ）；ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合体またはＳＢＳで改質した耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩ−ＰＳ）など）、塩素化ポリエチレン（ＣＰＥ）、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、ポリ塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、メタクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタール（ＰＯＭ）、グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリエステル樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）など）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアクリレート、ポリスルホン（ＰＰＳＵ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、芳香族ポリエステル、ジアリルフタレートプレポリマー、シリコーン樹脂（ＳＩ）、１，２−ポリブタジエン、ポリイソプレン、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体（ＮＢＲ）、エチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＥＭＭＡ）などが挙げられる。

これらの中で、成形加工性の良さから、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂およびポリブタジエン系樹脂が好ましく、エチレン系樹脂およびポリブタジエン系樹脂がより好ましく、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）およびスチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＢＳ）がさらに好ましい。

使用する熱可塑性ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）に特に限定は無い。熱可塑性ポリマーのＭｗは、一般に１０００以上、３０万以下である。このＭｗは、例えばポリスチレンを標準とするゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定することができる。

熱可塑性ポリマー組成物中の加工安定化剤の含有量は、化合物（１）およびグルコースの合計量で定められる。熱可塑性ポリマー組成物中の化合物（１）およびグルコースの合計量は、熱可塑性ポリマー１００質量部に対して、好ましくは０．００１質量部以上（より好ましくは０．０２質量部以上、さらに好ましくは０．１質量部以上、特に好ましくは０．５質量部以上）、好ましくは３質量部以下（より好ましくは２質量部以下、さらに好ましくは１質量部以下）である。

化合物（２）〜化合物（８）を含む加工安定化剤を使用する場合、熱可塑性ポリマー組成物中の化合物（２）〜化合物（８）の各含有量は、熱可塑性ポリマー組成物１００質量部に対して、好ましくは０．００１質量部以上（より好ましくは０．０２質量部以上）、好ましくは３質量部以下（より好ましくは２質量部以下）である。

本発明の熱可塑性ポリマー組成物の製造方法としては、例えば、上述のようにして製造した加工安定化剤と熱可塑性ポリマーとを混合する方法などが挙げられる。この製造方法には、例えば、熱可塑性ポリマーを混錬する際に、化合物（１）およびグルコース、並びに必要に応じて化合物（２）〜化合物（８）および他の添加剤を熱可塑性ポリマーに別々に配合した後、これら（即ち本発明の加工安定化剤と熱可塑性ポリマーと）を混合する方法も含まれる。

加工安定化剤と熱可塑性ポリマーとの混合方法としては、例えば、（ａ）加工安定化剤と熱可塑性ポリマーとをドライブレンドし、次いで一軸または多軸押出し機で溶融混練した後、押出しを行って熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得る方法；（ｂ）シクロへキサンなどの溶剤に加工安定化剤を溶解させて、加工安定化剤の溶液を調製し、この溶液を熱可塑性ポリマー重合終了後のポリマー溶液に添加し、脱溶媒する方法；などが挙げられる。

得られた熱可塑性ポリマー組成物は、冷却することなく溶融状態のまま成形機に供給して成形してもよい。成形方法は特に限定されるものではなく、例えば、射出成形法、押出成形法、押出ブロー成形法、射出ブロー成形法、二軸延伸ブロー成形法などの成形方法を用いることができる。

成形後に冷却することによって、本発明の熱可塑性ポリマー組成物からなる熱可塑性ポリマー成形体が得られる。得られる熱可塑性ポリマー成形体の用途としては、例えば、電子部品（例えばコイルボビン、コネクター、スイッチ、抵抗器部品、ソケット、リレー、コンデンサーケース、ヒューズ、モーター、オーブンレンジ、プリント基盤、ＩＣ製造装置、ランプなど）、自動車部品（例えばエアーアウトレットガーニッシュ、フードベント、ディストリビューターキャップ、排ガスコントロールバルブなど）、時計部品（例えばギア、カムなどの機械部品、地板など）、カメラ部品（例えば底蓋、鏡胴、レバーなど）、レジャー用品の部品（例えばリールなど）、家電機器ハウジング、照明配線器具、フィルム、ボトル、繊維、浄化槽、便槽、バスタブ、ユニットバス、水タンク、船舶、薬品タンク、パイプ、波板、平板、塗料、化粧版、電気部品封入材、レジンコンクリートなどが挙げられる。

以下、実施例等を挙げて本発明をより詳細に説明する。以下の「部」および「％」は、特に説明がない限り、質量基準である。また「メルトフローレート」を「ＭＦＲ」と記載する。

［１］原料
以下の実施例等で使用する原料は、以下の通りである。
化合物（１−１）：オクタデシル ３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（ＢＡＳＦ社製「イルガノックス（登録商標）１０７６」）
化合物（１−２）：３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（住友化学社製「スミライザー（登録商標）ＧＡ−８０」）
化合物（１−３）：ペンタエリスリトール テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＢＡＳＦ社製「イルガノックス（登録商標）１０１０」）
Ｄ−グルコース（和光純薬工業社製）
化合物（２−１）：２，４−ジ−ｔ−ペンチル−６−［１−（３，５−ジ−ｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）エチル］フェニル アクリレート（住友化学社製「スミライザー（登録商標）ＧＳ（Ｆ）」）
化合物（２−２）：２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル アクリレート（住友化学社製「スミライザー（登録商標）ＧＭ」）
化合物（３−１）：６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン（住友化学社製「スミライザー（登録商標）ＧＰ」）
化合物（４−１）：トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（ＢＡＳＦ社製「イルガフォス（登録商標）１６８」）
化合物（５−１）：テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレンジホスホナイト（クラリアント社製「サンドスタブ（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ」）
化合物（６−１）：ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（アデカ社製「アデカスタブ（登録商標）ＰＥＰ−３６」）
化合物（６−２）：ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（ＧＥプラスチック社製「ウルトラノックス（登録商標）６２６」）
化合物（６−３）：ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（ドーヴァーケミカル社製「ドーヴァーフォスＳ９２２８Ｔ」）
化合物（７−１）：６，６’，６”−［ニトリロトリス（エチレンオキシ）］トリス（２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）（ＢＡＳＦ社製「イルガフォス（登録商標）１２」）
化合物（８−１）：２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト（アデカ社製「アデカスタブ（登録商標）ＨＰ−１０」）

［２］熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の評価
以下の実施例等で得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性を以下のようにして評価した。まず、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを用いて、滞留ＭＦＲ試験を行った。該試験はＪＩＳ Ｋ ７２１０に準拠し、メルトインデクサ（Ｌ２１７−Ｅ１４０１１、テクノ・セブン社製）を、シリンダー内の温度２７０℃および荷重２．１６ｋｇの条件で用いて、滞留前ＭＦＲ（ｇ／１０分）と滞留後ＭＦＲ（ｇ／１０分）とを測定した。滞留前ＭＦＲは、該シリンダー内に熱可塑性ポリマー組成物のペレットを充填して５分間の予熱時間を取った後に測定した。滞留後ＭＦＲは、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを該シリンダー内で予熱時間を含めて合計３０分間滞留させた後に測定した。このようにして得られた滞留前ＭＦＲと滞留後ＭＦＲとから、下記式に基づきＭＦＲ変動率を計算した：
ＭＦＲ変動率（％）
＝（滞留後ＭＦＲ−滞留前ＭＦＲ）の絶対値×１００／（滞留前ＭＦＲ）
ＭＦＲ変動率が小さいほど、熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性が良好である。

実施例１：加工安定化剤の製造
表Ｉに記載する量で、化合物（１−１）およびＤ−グルコースを混合して、加工安定化剤を製造した。

実施例２：加工安定化剤の製造
表Ｉに記載する量で、化合物（１−１）、Ｄ−グルコースおよび化合物（２−１）を混合して、加工安定化剤を製造した。

参考例１：加工安定化剤の製造
表Ｉに記載する量で、化合物（１−１）および化合物（２−１）を混合して、加工安定化剤を製造した。

実施例３：熱可塑性ポリマー組成物の製造
実施例１で得られた加工安定化剤０．２１部と、スチレン−ブタジエンブロック共重合体（旭化成社製「アサフレックス８３０」）１００部とをドライブレンドした後、得られた混合物をスクリュー径３０ｍｍの単軸押出機（田辺プラスチック社製「ＶＳ３０−２８型押出機」）を用いて温度２３０℃およびスクリュー回転数５０ｒｐｍの条件で混練押出してストランドを得て、このストランドをペレタイザーで切断することによって、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表ＩＩに示す。

比較例１：熱可塑性ポリマー組成物の製造
実施例１で得られた加工安定化剤に替えて、化合物（１−１）０．２部のみを使用したこと以外は実施例３と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表ＩＩに示す。

実施例４：熱可塑性ポリマー組成物の製造
実施例１で得られた加工安定化剤に替えて、実施例２で得られた加工安定化剤０．５１部を使用したこと以外は実施例３と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表ＩＩに示す。

参考例２：熱可塑性ポリマー組成物の製造
実施例１で得られた加工安定化剤に替えて、参考例１で得られた加工安定化剤０．５部を使用したこと以外は実施例３と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表ＩＩに示す。

実施例５：加工安定化剤の製造
表Ｉに記載する量で、化合物（１−２）およびＤ−グルコースを混合して、加工安定化剤を製造した。

実施例６：熱可塑性ポリマー組成物の製造
実施例１で得られた加工安定化剤に替えて、実施例５で得られた加工安定化剤０．２部を使用し、スチレン−ブタジエンブロック共重合体に替えて、ポリプロピレン（住友化学社製「ノーブレン」）１００部を使用したこと以外は実施例３と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表ＩＩに示す。

比較例２：熱可塑性ポリマー組成物の製造
実施例５で得られた加工安定化剤に替えて、化合物（１−２）０．１部のみを使用したこと以外は実施例６と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットを得た。得られた熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性の結果を、表ＩＩに示す。

表ＩＩに示す結果から、化合物（１）を単独で使用する場合に比べて、化合物（１）とグルコースとを併用することによって、熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性が向上することが分かる。また、化合物（１）に加えて化合物（２）を使用する場合も、グルコースを併用することによって、熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性が向上することが分かる。

実施例７〜７４：加工安定化剤の製造
表ＩＩＩ−１〜ＩＩＩ−３に記載の原料を混合することによって、加工安定化剤が得られる。

実施例７５〜１３０：熱可塑性ポリマー組成物の製造
表ＩＶ−１およびＩＶ−２に記載の熱可塑性ポリマーおよび加工安定化剤を使用すること以外は実施例３と同様にして、熱可塑性ポリマー組成物のペレットが得られる。

表ＩＶ−１およびＩＶ−２に記載の熱可塑性ポリマーの略号の意味は、以下の通りである。
Ｐ−１：高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）
Ｐ−２：低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）
Ｐ−３：直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
Ｐ−４：エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）
Ｐ−５：エチレン−アクリル酸エチル共重合体（ＥＥＡ）
Ｐ−６：エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）
Ｐ−７：プロピレン−エチレンランダム共重合体
Ｐ−８：プロピレン−α−オレフィンランダム共重合体
Ｐ−９：プロピレン−エチレン−α−オレフィン共重合体
Ｐ−１０：ポリスチレン（ＰＳ）
Ｐ−１１：アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＳＡＮ）
Ｐ−１２：アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）
Ｐ−１３：特殊アクリルゴム−アクリロニトリル−スチレン共重合体
Ｐ−１４：アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体（ＡＣＳ）
Ｐ−１５：ポリブタジエンゴム（ＢＲ）
Ｐ−１６：スチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢ）
Ｐ−１７：スチレン−ブタジエンブロック共重合体（ＳＢＳ）
Ｐ−１８：塩素化ポリエチレン（ＣＰＥ）
Ｐ−１９：ポリクロロプレン
Ｐ−２０：塩素化ゴム
Ｐ−２１：ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）
Ｐ−２２：ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）
Ｐ−２３：メタクリル樹脂
Ｐ−２４：フッ素樹脂
Ｐ−２５：ポリアセタール（ＰＯＭ）
Ｐ−２６：グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂
Ｐ−２７：ポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）
Ｐ−２８：ポリウレタン（ＰＵ）
Ｐ−２９：ポリアミド（ＰＡ）
Ｐ−３０：ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
Ｐ−３１：ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）
Ｐ−３２：ポリ乳酸（ＰＬＡ）
Ｐ−３３：ポリカーボネート（ＰＣ）
Ｐ−３４：ポリアクリレート
Ｐ−３５：ポリスルホン（ＰＰＳＵ）
Ｐ−３６：ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）
Ｐ−３７：ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）
Ｐ−３８：芳香族ポリエステル
Ｐ−３９：ジアリルフタレートプレポリマー
Ｐ−４０：シリコーン樹脂（ＳＩ）
Ｐ−４１：１，２−ポリブタジエン
Ｐ−４２：ポリイソプレン
Ｐ−４３：ブタジエン−アクリロニトリル共重合体（ＮＢＲ）
Ｐ−４４：エチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＥＭＭＡ）

化合物（１）およびグルコースを含有する本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、優れた加工安定性を示す。本発明の熱可塑性ポリマー組成物は、例えば、電子部品、自動車部品、時計部品、カメラ部品、レジャー用品の部品などの製造に用いることができる。

Claims (9)

1. 式（１）：
   

   

   ［式（１）中、
   各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表す。
   Ｌ¹は、ヘテロ原子を含んでいてもよいｎ価のＣ_1-24アルコール残基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。］
   で示される化合物、グルコースおよび熱可塑性ポリマーを含有することを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物。
2. 式（１）で示される化合物およびグルコースの合計量が、熱可塑性ポリマー１００質量部に対して０．００１〜３質量部である請求項１に記載の熱可塑性ポリマー組成物。
3. 熱可塑性ポリマーが、スチレン−ブタジエンブロック共重合体である請求項１または２に記載の熱可塑性ポリマー組成物。
4. 式（１）：
   

   

   ［式（１）中、
   各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表す。
   Ｌ¹は、ヘテロ原子を含んでいてもよいｎ価のＣ_1-24アルコール残基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。］
   で示される化合物およびグルコースを含有することを特徴とする加工安定化剤。
5. 式（１）：
   

   

   ［式（１）中、
   各Ｒ¹および各Ｒ²は、それぞれ独立に、水素原子またはＣ_1-6アルキル基を表す。
   Ｌ¹は、ヘテロ原子を含んでいてもよいｎ価のＣ_1-24アルコール残基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ここでアルコール残基とは、アルコールのヒドロキシ基から水素原子を除いた残りの基を表す。］
   で示される化合物およびグルコースからなることを特徴とする加工安定化剤。
6. 式（１）で示される化合物が、オクタデシル ３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカンおよびペンタエリスリトール テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］からなる群から選ばれる少なくとも一つである請求項４または５に記載の加工安定化剤。
7. グルコースの含有量が、式（１）で示される化合物およびグルコースの合計中０．１〜９５質量％である請求項４〜６のいずれか一項に記載の加工安定化剤。
8. 請求項４〜７のいずれか一項に記載の加工安定化剤および熱可塑性ポリマーを混合することを特徴とする熱可塑性ポリマー組成物の製造方法。
9. 熱可塑性ポリマー組成物の加工安定性を向上させるための、請求項４〜７のいずれか一項に記載の加工安定化剤の使用。