JP2012019056A - 固体撮像装置及び撮像システム - Google Patents
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Abstract
【課題】電荷の収集速度をさらに向上する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】光電変換素子と光電変換素子で発生した電荷に応じた信号を信号線へ出力するための画素内読出回路とを有する固体撮像装置が提供される。光電変換素子は、第1導電型の第1半導体領域と、第1半導体領域の上に配されており、第1導電型とは異なる第2導電型の第2半導体領域と、第2半導体領域の内側に配されており、第2半導体領域よりも不純物濃度が高い第2導電型の第3半導体領域と、第3半導体領域の内側に配されて画素内読出回路に接続されており、第3半導体領域よりも不純物濃度が高い第2導電型の第4半導体領域とを含む。第3半導体領域は、第1部分と、第1部分から延びている複数の第2部分とを含む。第3半導体領域の第1部分の内側に第4半導体領域が配されており、第3半導体領域の平面視における形状は、第3半導体領域を3つ以上の部分に分割する1本の直線を定義可能な形状である。
【選択図】図7
【解決手段】光電変換素子と光電変換素子で発生した電荷に応じた信号を信号線へ出力するための画素内読出回路とを有する固体撮像装置が提供される。光電変換素子は、第1導電型の第1半導体領域と、第1半導体領域の上に配されており、第1導電型とは異なる第2導電型の第2半導体領域と、第2半導体領域の内側に配されており、第2半導体領域よりも不純物濃度が高い第2導電型の第3半導体領域と、第3半導体領域の内側に配されて画素内読出回路に接続されており、第3半導体領域よりも不純物濃度が高い第2導電型の第4半導体領域とを含む。第3半導体領域は、第1部分と、第1部分から延びている複数の第2部分とを含む。第3半導体領域の第1部分の内側に第4半導体領域が配されており、第3半導体領域の平面視における形状は、第3半導体領域を3つ以上の部分に分割する1本の直線を定義可能な形状である。
【選択図】図7
Description
本発明は、固体撮像装置及び撮像システムに関する。
特許文献1には、n型ウェル領域31の上にp型半導体領域32が形成され、このp型半導体領域32中にp型の内部領域22が形成された光電変換素子が開示されている(図12)。さらに、内部領域22中に、p+の電極領域34が形成されている。そして、p型半導体領域32、内部領域22、電極領域34の順に不純物濃度が高い。このように構成することにより、電極領域34へ向かうポテンシャル勾配が急峻になり、光電変換素子で生成された電荷の収集速度が向上する。これにより、光信号読出し時間の短縮を実現している。
特許文献1では、電極領域34から見てすべての方向の領域からの電荷の収集速度を向上すべく、内部領域22の形状を凸多角形としている。これに対して、本発明者らは、内部領域22の形状を工夫することにより、電荷の収集速度をさらに向上しうることを見出した。そこで、本発明は、電荷の収集速度をさらに向上する技術を提供することを目的とする。
上記課題に鑑みて、本発明の1つの側面に係る固体撮像装置は、光電変換素子と前記光電変換素子で発生した電荷に応じた信号を信号線へ出力するための画素内読出回路とを有する固体撮像装置であって、前記光電変換素子は、第1導電型の第1半導体領域と、前記第1半導体領域の上に配されており、前記第1導電型とは異なる第2導電型の第2半導体領域と、前記第2半導体領域の内側に配されており、前記第2半導体領域よりも不純物濃度が高い前記第2導電型の第3半導体領域と、前記第3半導体領域の内側に配されて前記画素内読出回路に接続されており、前記第3半導体領域よりも不純物濃度が高い前記第2導電型の第4半導体領域とを含み、前記第3半導体領域は、第1部分と、前記第1部分から延びている複数の第2部分とを含み、前記第3半導体領域の前記第1部分の内側に前記第4半導体領域が配されており、前記第3半導体領域の平面視における形状は、前記第3半導体領域を3つ以上の部分に分割する1本の直線を定義可能な形状であることを特徴とする。
上記手段により、電荷の収集速度をさらに向上する技術が提供される。
図1を参照しながら本発明の1つの実施形態としての固体撮像装置100の概略構成を説明する。固体撮像装置100は、例えば、複数の撮像ブロック101を配列して構成されうる。この場合、複数の撮像ブロック101の配列によって1つの撮像領域を有するセンサパネルSPが形成されうる。複数の撮像ブロック101は、支持基板102の上に配置されうる。固体撮像装置100が1つの撮像ブロック101で構成される場合には、当該1つの撮像ブロック101によってセンサパネルSPが形成される。複数の撮像ブロック101の各々は、例えば、半導体基板に回路素子を形成したものであってもよいし、ガラス基板等の上に半導体層を形成し、その半導体層に回路素子を形成したものであってもよい。複数の撮像ブロック101の各々は、複数の行および複数の列を構成するように複数の画素が配列された画素アレイを有する。
固体撮像装置100は、例えば、X線等の放射線の像を撮像する装置として構成されてもよいし、可視光の像を撮像する装置として構成されてもよい。固体撮像装置100が放射線の像を撮像する装置として構成される場合は、典型的には、放射線を可視光に変換するシンチレータ103がセンサパネルSPの上に設けられうる。シンチレータ103は、放射線を可視光に変換し、この可視光がセンサパネルSPに入射し、センサパネルSP(撮像ブロック101)の各光電変換素子によって光電変換される。
次に、図2を参照しながら各撮像ブロック101の構成例を説明する。なお、固体撮像装置100が1つの撮像ブロック101で構成される場合には、1つの撮像ブロック101を固体撮像装置として考えることができる。撮像ブロック101は、複数の行および複数の列を構成するように複数の画素201が配列され、複数の列信号線208aが配置された画素アレイGAを有する。複数の画素201の各々は、光電変換素子(例えば、フォトダイオード)202と、光電変換素子202で発生した電荷に応じた信号(光信号)を列信号線208aに出力する画素内読出回路203とを含む。画素アレイGAには、複数の列信号線208bが更に配置されてもよく、画素内読出回路203は、画素内読出回路203のノイズを列信号線208bに出力するように構成されうる。行方向に沿って隣接する2つの画素201のそれぞれにおける画素内読出回路203は、例えば、当該2つの画素201の境界線を対称軸として線対称に配置されうる。
撮像ブロック101は、垂直走査回路204と水平走査回路205とを含む。垂直走査回路204は、例えば、隣接する2つの列の光電変換素子202の間に配置されうるが、画素アレイGAにおける最も外側の列の光電変換素子202の外側に配置されてもよい。垂直走査回路204は、例えば、第1クロックCLK1に従ってシフト動作する垂直シフトレジスタを含み、垂直シフトレジスタによるシフト動作に応じて画素アレイGAにおける複数の行を走査する。垂直シフトレジスタは、複数のレジスタを直列接続して構成され、初段のレジスタによって取り込まれたパルスが第1クロックCLK1に従って順次次段のレジスタに転送される。パルスを保持しているレジスタに対応する行が、選択されるべき行である。
水平走査回路205は、例えば、隣接する2つの行の光電変換素子202の間に配置されうるが、画素アレイGAにおける最も外側の行の光電変換素子202の外側に配置されてもよい。水平走査回路205は、例えば、第2クロックCLK2に従ってシフト動作する水平シフトレジスタを含み、水平シフトレジスタによるシフト動作に応じて画素アレイGAにおける複数の列を走査する。水平シフトレジスタは、複数のレジスタを直列接続して構成され、初段のレジスタによって取り込まれたパルスが第2クロックCLK2に従って順次次段のレジスタに転送される。パルスを保持しているレジスタに対応する列が、選択されるべき列である。
垂直走査回路204は、垂直シフトレジスタを構成するための1つのレジスタをそれぞれ含む複数の単位垂直走査回路VSRを垂直方向に配列して構成されうる。各単位垂直走査回路VSRは、ある列(図2では、最も左側の列(即ち、第1列)。)に属する画素の光電変換素子202とその列に隣接する列(図2では、左側から2番目の列(即ち、第2列)。)に属する画素の光電変換素子202とによって挟まれる領域に配置されうる。各単位垂直走査回路VSRは、垂直シフトレジスタを通してパルスが転送されてくると、それが属する行の画素201が選択されるように、行選択信号VSTをアクティブレベルに駆動する。選択された行の画素201の光信号、ノイズは、それぞれ列信号線208a、208bに出力される。ここで、図2では、列信号線208aと列信号線208bとが1本の線で示されている。水平走査回路205、垂直走査回路204の不図示の入力端子には、パルス信号(スタートパルス)PULSE1、PULSE2がそれぞれ供給される。
水平走査回路205は、水平シフトレジスタを構成するための1つのレジスタをそれぞれ含む複数の単位水平走査回路HSRを水平方向に配列して構成されうる。各単位水平走査回路HSRは、1つの行(図2では、上から4番目の行(即ち、第4行)。)に属する隣接する2つの画素からなる各対(第1列の画素と第2列の画素からなる対、第3列の画素と第4列の画素からなる対、・・・。)における2つの光電変換素子202によって挟まれる領域に配置されている。しかし、各単位水平走査回路HSRは、列方向に隣接する2つの画素における2つの光電変換素子202によって挟まれる領域には配置されていない。このような構成は、列方向における光電変換素子202間の隙間を小さくするために有利である。単位水平走査回路HSRは、水平シフトレジスタを通してパルスが転送されてくると、それが属する列が選択されるように、即ち、当該列の列信号線208a、208bが水平信号線209a、209bに接続されるようにスイッチ207を制御する。即ち、選択された行の画素201の光信号、ノイズが列信号線208a、208bに出力され、選択された列(即ち、選択された列信号線208a、208b)の信号が水平信号線209a、209bに出力される。これによりXYアドレッシングが実現される。水平信号線209a、209bは、出力アンプ210a、210bの入力に接続されていて、水平信号線209a、209bに出力された信号は、出力アンプ210a、210bによって増幅されてパッド211a、211bを通して出力される。
画素アレイGAは、それぞれ画素201を含む複数の単位セル200が複数の行および複数の列を構成するように配列されたものとして考えることができる。単位セル200は、いくつかの種類を含みうる。ある単位セル200は、単位垂直走査回路VSRの少なくとも一部分を含む。図2に示す例では、2つの単位セル200の集合が1つの単位垂直走査回路VSRを含んでいるが、1つの単位セル200が1つの単位垂直走査回路VSRを含んでもよいし、3以上の複数の単位セル200の集合が1つの単位垂直走査回路VSRを含んでもよい。他の単位セル200は、単位水平走査回路HSRの少なくとも一部分を含む。図2に示す例では、1つの単位セル200が1つの単位水平走査回路HSRを含んでいるが、複数の単位セル200の集合が1つの単位水平走査回路VSRを含んでもよい。他の単位セル200は、単位垂直走査回路VSRの少なくとも一部分および単位水平走査回路HSRの少なくとも一部分を含む。他の単位セル200としては、出力アンプ210aの少なくとも一部分を含む単位セル、出力アンプ210bの少なくとも一部分を含む単位セル、スイッチ207を含む単位セルなどを挙げることができる。
図3を参照しながら各画素201の構成例を説明する。前述のとおり、画素201は、光電変換素子202と、画素内読出回路203とを含む。光電変換素子202は、典型的にはフォトダイオードでありうる。画素内読出回路203は、例えば、第1増幅回路310、クランプ回路320、光信号サンプルホールド回路340、ノイズサンプルホールド回路360、第2増幅回路のNMOSトランジスタ343、363、行選択スイッチ344、364を含みうる。
光電変換素子202は、電荷蓄積部を含み、該電荷蓄積部は、第1増幅回路310のPMOSトランジスタ303のゲートに接続されている。PMOSトランジスタ303のソースは、PMOSトランジスタ304を介して電流源305に接続されている。PMOSトランジスタ303と電流源305とによって第1ソースフォロア回路が構成されている。PMOSトランジスタ303によってソースフォロア回路を構成することは、1/fノイズの低減に有効である。PMOSトランジスタ304は、そのゲートに供給されるイネーブル信号ENがアクティブレベルになるとオンして第1ソースフォロア回路を動作状態にするイネーブルスイッチである。第1増幅回路310は、電荷電圧変換部CVCの電位に応じた信号を中間ノードn1に出力する。
図3に示す例では、光電変換素子202の電荷蓄積部およびPMOSトランジスタ303のゲートが共通のノードを構成していて、このノードは、該電荷蓄積部に蓄積された電荷を電圧に変換する電荷電圧変換部CVCとして機能する。即ち、電荷電圧変換部CVCには、該電荷蓄積部に蓄積された電荷Qと電荷電圧変換部CVCが有する容量値Cとによって定まる電圧V(=Q/C)が現れる。電荷電圧変換部CVCは、リセットスイッチとしてのPMOSトランジスタ302を介してリセット電位Vresに接続されている。リセット信号PRESがアクティブレベルになると、PMOSトランジスタ302がオンして、電荷電圧変換部CVCの電位がリセット電位Vresにリセットされる。
クランプ回路320は、リセットした電荷電圧変換部CVCの電位に応じて第1増幅回路310によって中間ノードn1に出力されるノイズをクランプ容量321によってクランプする。つまり、クランプ回路320は、光電変換素子202で光電変換により発生した電荷に応じて第1ソースフォロア回路から中間ノードn1に出力された信号から、このノイズをキャンセルするための回路である。この中間ノードn1に出力されるノイズはリセット時のkTCノイズを含む。クランプは、クランプ信号PCLをアクティブレベルにしてPMOSトランジスタ323をオン状態にした後に、クランプ信号PCLを非アクティブレベルにしてPMOSトランジスタ323をオフ状態にすることによってなされる。クランプ容量321の出力側は、PMOSトランジスタ322のゲートに接続されている。PMOSトランジスタ322のソースは、PMOSトランジスタ324を介して電流源325に接続されている。PMOSトランジスタ322と電流源325とによって第2ソースフォロア回路が構成されている。PMOSトランジスタ324は、そのゲートに供給されるイネーブル信号EN0がアクティブレベルになるとオンして第2ソースフォロア回路を動作状態にするイネーブルスイッチである。
光電変換素子202で光電変換により発生した電荷に応じて第2ソースフォロア回路から出力される信号は、光信号として、光信号サンプリング信号TSがアクティブレベルになることによってスイッチ341を介して容量342に書き込まれる。電荷電圧変換部CVCの電位をリセットした直後にPMOSトランジスタ323をオン状態とした際に第2ソースフォロア回路から出力される信号は、ノイズである。このノイズは、ノイズサンプリング信号TNがアクティブレベルになることによってスイッチ361を介して容量362に書き込まれる。このノイズには、第2ソースフォロア回路のオフセット成分が含まれる。
垂直走査回路204の単位垂直走査回路VSRが行選択信号VSTをアクティブレベルに駆動すると、容量342に保持された信号(光信号)が第2増幅回路のNMOSトランジスタ343および行選択スイッチ344を介して列信号線208aに出力される。また、同時に、容量362に保持された信号(ノイズ)が第2増幅回路のNMOSトランジスタ363および行選択スイッチ364を介して列信号線208bに出力される。第2増幅回路のNMOSトランジスタ343は、列信号線208aに設けられた不図示の定電流源とソースフォロア回路を構成する。同様に、第2増幅回路のNMOSトランジスタ363は列信号線208bに設けられた不図示の定電流源とソースフォロア回路を構成する。
画素201は、隣接する複数の画素201の光信号を加算する加算スイッチ346を有してもよい。加算モード時には、加算モード信号ADDがアクティブレベルになり、加算スイッチ346がオン状態になる。これにより、隣接する画素201の容量342が加算スイッチ346によって相互に接続されて、光信号が平均化される。同様に、画素201は、隣接する複数の画素201の光信号をノイズを加算する加算スイッチ366を有してもよい。加算スイッチ366がオン状態になると、隣接する画素201の容量362が加算スイッチ366によって相互に接続されて、ノイズが平均化される。
画素201は、感度を変更するための機能を有してもよい。画素201は、例えば、第1感度変更スイッチ380および第2感度変更スイッチ382、並びにそれらに付随する回路素子を含みうる。第1変更信号WIDE1がアクティブレベルになると、第1感度変更スイッチ380がオンして、電荷電圧変換部CVCの容量値に第1付加容量381の容量値が追加される。これによって画素201の感度が低下する。第2変更信号WIDE2がアクティブレベルになると、第2感度変更スイッチ382がオンして、電荷電圧変換部CVCの容量値に第2付加容量383の容量値が追加される。これによって画素201の感度が更に低下する。
このように画素201の感度を低下させる機能を追加することによって、より大きな光量を受光することが可能となり、ダイナミックレンジを広げることができる。第1変更信号WIDE1がアクティブレベルになる場合には、イネーブル信号ENwをアクティブレベルにして、PMOSトランジスタ303に加えてPMOSトランジスタ385をソースフォロア動作させてもよい。
垂直走査回路204は、種々の構成を有しうるが、例えば、図4(a)に示された構成を有しうる。図4(a)に示された垂直走査回路204は、各単位垂直走査回路VSRが1つのD型フリップフロップ401を含み、D型フリップフロップ401のクロック入力に対して第1クロックCLK1が供給される。初段の単位垂直走査回路VSRのD型フリップフロップ401のD入力には、パルス信号PULSE1が供給され、第1クロックCLK1によって第1パルス信号PULSE1が取り込まれる。初段のD型フリップフロップ401は、第1クロックCLK1の1周期分の長さを有するパルス信号をQ出力から出力する。各単位垂直走査回路VSRのD型フリップフロップ401のQ出力は、その単位垂直走査回路VSRが属する行を選択するために使用され、例えば、バッファ402を介して行選択信号VSTとして出力される。各単位垂直走査回路VSRのD型フリップフロップ401のQ出力は、次段の単位垂直走査回路VSRのD型フリップフロップ401のD入力に接続されている。
水平走査回路205は、種々の構成を有しうるが、例えば、図4(b)に示された構成を有しうる。図4(b)に示された水平走査回路205は、各単位垂直走査回路HSRが1つのD型フリップフロップ411を含み、D型フリップフロップ411のクロック入力に対して第2クロックCLK2が供給される。初段の単位水平走査回路HSRのD型フリップフロップ411のD入力には、第2パルス信号PULSE2が供給され、第2クロックCLK2によって第2パルス信号PULSE2が取り込まれる。初段の単位水平走査回路HSRは、第2クロックCLK2の1周期分の長さを有するパルス信号をQ出力から出力する。各単位水平走査回路HSRのQ出力は、その単位水平走査回路HSRが属する列を選択するために使用され、例えば、バッファ412を介して列選択信号HSTとして出力される。各単位水平走査回路HSRのD型フリップフロップ411のQ出力は、次段の単位水平走査回路HSRのD型フリップフロップ411のD入力に接続されている。ここで、垂直走査回路204による走査期間である垂直走査期間は、水平走査回路205による水平走査期間に画素アレイGAの行数を乗じた時間である。そして、水平走査期間は、画素アレイGAの全ての列を走査するために要する期間である。よって、列を選択する列選択信号HSTを発生する水平走査回路205に供給される第2クロックCLK2の周波数は、行を選択する行選択信号VSTを発生する垂直走査回路204に供給される第1クロックCLK1の周波数よりも遙かに高い。
図5を参照しながら各画素201に供給される主な信号について説明する。リセット信号PRES、イネーブル信号EN、クランプ信号PCL、光信号サンプリング信号TS、ノイズサンプリング信号TNは、ローアクティブの信号である。イネーブル信号EN0は、図5に示されていないが、イネーブル信号ENと同様の信号でありうる。イネーブル信号ENwは、図5に示されていないが、第1変更信号WIDE1がアクティブにされる場合には、イネーブル信号ENと同様に遷移しうる。
まず、画素アレイGAの全ての行についてイネーブル信号ENがアクティブになり、次いで、光信号サンプリング信号TSがパルス状にアクティブレベルになって、光信号が容量342に書き込まれる。次いで、リセット信号PRESがパルス状にアクティブレベルになって、電荷電圧変換部CVCの電位がリセットされる。次いで、クランプ信号PCLがパルス状にアクティブレベルになる。クランプ信号PCLがアクティブレベルであるときに、ノイズサンプリング信号TNがパルス状にアクティブレベルになって、ノイズが容量362に書き込まれる。
その後、垂直走査回路204の第1行に対応する単位垂直走査回路VSRがその行選択信号VST(VST0)をアクティブレベルにする。これは、垂直走査回路204が画素アレイGAの第1行を選択することを意味する。この状態で、水平走査回路205の第1列から最終列に対応する単位水平走査回路HSRが列選択信号HST(HST0〜HSTn)をアクティブレベルにする。これは、水平走査回路205が画素アレイGAの第1列から最終列までを順に選択することを意味する。これにより、出力アンプ210a、210bから画素アレイGAの第1行における第1列から最終列までの画素の光信号、ノイズが出力される。その後、垂直走査回路204の第2行に対応する単位垂直走査回路VSRがその行選択信号VST(VST1)をアクティブレベルにする。水平走査回路205の第1列から最終列に対応する単位水平走査回路HSRが列選択信号HST(HST0〜HSTn)をアクティブレベルにする。このような動作を最終行まで行うことによって1つの画像が画素アレイGAから出力される。
図6を参照しながら光電変換素子202の構成例を説明する。撮像ブロック101は、例えば、第2導電型の半導体部材(不図示)の上に第2導電型の半導体層620をエピタキシャル成長させた基板に形成されうる。各素子は、素子分離部630によって相互に分離される。各画素201の光電変換素子202は、例えば、半導体層620の中に形成された第1導電型の不純物領域(ウェル)601(第1半導体領域)と、不純物領域601の上に配置された不純物領域616及び内部領域602を有する。不純物領域616(第2半導体領域)と内部領域602(第3半導体領域)とはどちらも第2導電型の不純物領域である。内部領域602は、第2導電型を形成するための不純物濃度が不純物領域616よりも高く、周囲を不純物領域616によって囲まれている。すなわち、不純物領域616の内側に内部領域602が配されている。内部領域602の内側には、第2導電型の不純物領域である電極領域603(第4半導体領域)が配置されている。電極領域603は、第2導電型を形成するための不純物濃度が内部領域602よりも高い。不純物領域616及び内部領域602の上に第1導電型の不純物領域604(第5半導体領域)が配置されている。第2導電型の不純物領域602、616、603と第1導電型の不純物領域601、604とによって埋め込み型のフォトダイオードが形成されている。この場合に、光電変換素子202は完全空乏型でありうる。光電変換素子202が完全空乏型であるとは、第2導電型の不純物領域602、616の全領域が空乏化することを意味する。本実施形態では光電変換素子202の電荷蓄積部は電荷電圧変換部CVCとして機能する。電荷電圧変換部CVCがリセットされた際に、光電変換素子202が完全空乏化しうる。また、光電変換素子202は完全空乏型でない場合でも、第2導電型の不純物領域602、616の大部分が空乏化することが望ましい。
第1導電型の不純物領域601の周囲のうち上側部分は第1導電型の不純物領域606によって囲まれている。不純物領域606には、第1導電型のコンタクト領域609が設けられている。不純物領域606の周囲には、第2導電型の不純物領域611が配置されている。本実施形態では光電変換素子202がフォトダイオードであり、フォトダイオードの一方の端子である不純物領域601には、不純物領域606を介して所定の電位が印加される。光電変換素子202に光が入射し光電変換によって発生した電荷は、内部領域602、不純物領域616、更に電極領域603に収集される。光電変換素子202のもう一方の端子である電極領域603は、プラグ612、第1配線層613、プラグ614及び第2配線層に形成された配線パターン615を介して画素内読出回路203に接続されている。上記の例では第1導電型をP型とし、第2導電型をN型としてもよく、その逆でもよい。図6に示した例では不純物領域616と内部領域602とが同じ接合深さであるが、不純物領域616が内部領域602より深くてもよいし、その逆でもよい。不純物領域616の接合深さが内部領域602よりも深い場合には、不純物領域616が内部領域602の下部に配されてもよい。
次に、図7を参照しながら光電変換素子202の平面図を説明する。図7(a)は光電変換素子202の平面図を示し、図7(b)はこの平面図のうち内部領域602だけに注目した図である。前述の図6で説明された光電変換素子202は、図7(a)のA−A’線における断面図に対応する。図7(a)では不純物領域616、内部領域602及び電極領域603の平面視における形状を把握しやすいように、不純物領域604が省略されている。また、図7(b)では等ポテンシャル線が破線で付加されている。以下、特に言及しない限り、単に「不純物領域の形状」と表す場合には、「不純物領域の平面視における形状」を意味する。図7(a)に示されるように、内部領域602は平面視で見たときに、不純物領域616の内側に配される。前述のように、本実施形態の光電変換素子202では、不純物領域616、内部領域602、電極領域603の順に不純物濃度が高くなっており、それによって電極領域603へ向かうポテンシャル勾配が形成される。不純物領域616の不純物濃度は好適には1.0×1015cm-3〜1.0×1017cm-3である。内部領域602の不純物濃度は好適には1.0×1016cm-3〜1.2×1018cm-3である。電極領域603の不純物濃度は好適には1.0×1019cm-3〜5.0×1019cm-3である。
図7(b)に示されるように、内部領域602は点線で囲まれた第1部分701と、第1部分701から延びた複数の第2部分702とを含みうる。電極領域603は、平面視で見た場合に、この第1部分701の内側に含まれうる。第1部分701及び第2部分702は内部領域602の形状を説明するために便宜的に規定するものであり、内部領域602は一体の領域として形成されうる。本実施形態では、4つの第2部分702が第1部分701から十字方向、すなわち隣り合う第2部分702同士が90度を成す方向に延びている。その結果として、内部領域602の形状は十字型となる。また、第2部分702の幅は一定である。内部領域602の形状は、不純物のイオン注入を行う際のフォトレジストマスクのパターンにより規定されうる。本実施形態では、内部領域602の形状を十字型にすることで、第2部分702が延びている方向について電荷の収集速度を高めつつ、内部領域602の面積が増大することを抑制しうる。内部領域602の不純物濃度は、不純物領域616の不純物濃度よりも高いため、内部領域602の面積が大きいほど光電変換素子202の空乏化電圧は高くなる。内部領域602の形状を十字型にすることによって、光電変換素子202の空乏化電圧を低く抑えることができる。さらに、後述するように、内部領域602の形状が凸多角形である場合に比較して、内部領域602の形状を十字型とすることで、第2部分702が延びている方向からの電荷の収集速度が向上されうる。また、電極領域603は不純物領域616の中央に配されていてもよい。これによって、電極領域603は各方向からの電荷を均等に収集しうる。第1導電型がP型で第2導電型がN型の場合、第1部分701の外延は、第1部分701の内部に配された電極領域603から10μm以内であることが望ましい。室温における電子の平均自由行程が約20μmであるので、第1部分701に到達した電子の大部分が電極領域603に収集されうる。第1導電型がN型で第2導電型がP型、すなわち、信号電荷がホールの場合は、5μm以内であることが好ましい。
次に、図8を参照しながら本発明の別の実施形態による光電変換素子800の平面図を説明する。図8(a)は光電変換素子800の平面図を示し、図8(b)はこの平面図のうち内部領域802だけに注目した図である。光電変換素子800の有する内部領域802は、図7を用いて説明された光電変換素子202の内部領域602に対応し、その形状のみが異なっている。そこで、以下では光電変換素子800について、内部領域802の形状についてのみを説明し、光電変換素子202との共通部分についての説明を省略する。
図8(b)に示されるように、内部領域802は点線で囲まれた第1部分811と、第1部分811から延びた複数の第2部分812とを含みうる。電極領域603はこの第1部分811の内側に含まれうる。第1部分811及び第2部分812は内部領域802の形状を説明するために便宜的に規定するものであり、内部領域802は一体の領域として形成されうる。本実施形態においても、4つの第2部分812が第1部分811から十字方向に延びている。図7に示された実施形態とは異なり、第2部分812は先細りとなっている。すなわち、第2部分812は第1部分811から離れるほど幅が細くなっている。その結果として、第2部分812の先端部分の内角813は鋭角になりうる。第2部分812の先端部分は鋭角ではなく、丸みを帯びた形状であってもよい。
次に、図9を参照しながら不純物領域の形状による電荷の収集速度の違いについて説明する。図9(a)〜(c)はそれぞれ光電変換素子の平面図を縦横に4分割した右上部分に注目した図である。図9(a)は比較例として用いる光電変換素子900の平面図を表す。光電変換素子900は不純物領域616、内部領域901及び電極領域603を含み、この順に不純物濃度が高くなっている。内部領域901の形状は凸多角形である。図9(b)は図7で説明した光電変換素子202であり、図9(c)は図8で説明された光電変換素子800である。それぞれの光電変換素子に対して、矢印910で示す位置(電極領域603の中心から右に40.0μmの位置)に配置した電子が一定時間でどこまでドリフトするかをシミュレーションした。図9(a)に示されるように、内部領域901が凸多角形の場合には、一定時間後に電子は矢印911で示す位置(電極領域603の中心から右に約23μmの位置)までドリフトした。図9(b)に示されるように、内部領域602が十字型の場合には、一定時間後に電子は矢印912で示す位置(電極領域603の中心から右に約13μmの位置)までドリフトした。図9(c)に示されるように、内部領域802が先細りの十字型の場合には、一定時間後に電子は矢印913で示す位置(電極領域603の中心から右に約1μmの位置)までドリフトした。このように、内部領域602の形状を十字型にすることによって、内部領域の第2部分が延びる方向についての電荷の収集速度を高めることができる。さらに、内部領域の第2部分を先細りにすることによって、その方向についての電荷の収集速度をさらに高めることができる。
図10を参照しながら本発明の様々な実施形態について説明する。前述の実施形態では内部領域の第2部分が第1部分から十字方向に延びる例を説明したが、本発明の実施形態はこれに限定されない。例えば、図10(a)の光電変換素子1010のように、内部領域1011が点線に囲まれた第1部分1012と、複数の第2部分1013とを含み、複数の第2部分1013が第1部分1012から放射状に延びてもよい。この場合であっても、第2部分が延びている方向については電荷の収集速度が高まり、それ以外の方向については内部領域の面積増大を抑制できる。一般に、内部領域が第1部分と第1部分から延びた複数の第2部分とを含み、内部領域の形状が凹多角形、すなわち少なくとも1つの内角が180度よりも大きい多角形であれば本発明の効果を奏する。図10(a)の光電変換素子1010では、隣り合う第2部分1013が成す内角1014はいずれも180度よりも大きくなっている。光電変換素子1010では第2部分1013が先細りとなっているが、図7に示された光電変換素子202と同様に第2部分の幅が一定であってもよい。
また、図10(b)の光電変換素子1020のように、内部領域1021の一部の角が丸みを帯びていてもよい。一般に、凹多角形も、少なくとも一部の角が丸みを帯びた凹多角形も、3つ以上の部分に分割する1本の直線を定義可能な形状である。例えば、内部領域1021であれば、直線1022によって、3つの部分1021a、1021b、1021cに分割可能である。一方で、凸多角形についてはどのように直線を定義しても2つの部分にしか分割されない。したがって、本発明は、内部領域が第1部分と第1部分から延びた複数の第2部分とを含み、内部領域の形状が当該内部領域を3つ以上の部分に分割する1本の直線を定義可能な形状である場合に効果を奏する。
図11は本発明に係る固体撮像装置をX線診断システム(放射線撮像システム)応用した例を示した図である。放射線撮像システムは、放射線撮像装置6040と、放射線撮像装置6040から出力される信号を処理するイメージプロセッサ6070とを備える。放射線撮像装置6040は、前述の固体撮像装置100を図1(b)に例示されるように放射線を撮像する装置として構成したものである。X線チューブ(放射線源)6050で発生したX線6060は患者あるいは被験者6061の胸部6062を透過し、放射線撮像装置6040に入射する。この入射したX線には被験者6061の体内部の情報が含まれている。イメージプロセッサ(プロセッサ)6070は、放射線撮像装置6040から出力される信号(画像)を処理し、例えば、処理によって得られた信号に基づいて制御室のディスプレイ6080に画像を表示させることができる。
また、イメージプロセッサ6070は、処理によって得られた信号を伝送路6090を介して遠隔地へ転送することができる。これにより、別の場所のドクタールームなどに配置されたディスプレイ6081に画像を表示させたり、光ディスク等の記録媒体に画像を記録したりすることができる。記録媒体は、フィルム6110であってもよく、この場合、フィルムプロセッサ6100がフィルム6110に画像を記録する。
本発明に係る固体撮像装置は、可視光の像を撮像する撮像システムに応用することもできる。そのような撮像システムは、例えば、固体撮像装置100と、固体撮像装置100から出力される信号を処理するプロセッサとを備えうる。該プロセッサによる処理は、例えば、画像の形式を変換する処理、画像を圧縮する処理、画像のサイズを変更する処理および画像のコントラストを変更する処理の少なくとも1つを含みうる。
Claims (10)
- 光電変換素子と前記光電変換素子で発生した電荷に応じた信号を信号線へ出力するための画素内読出回路とを有する固体撮像装置であって、
前記光電変換素子は、
第1導電型の第1半導体領域と、
前記第1半導体領域の上に配されており、前記第1導電型とは異なる第2導電型の第2半導体領域と、
前記第2半導体領域の内側に配されており、前記第2半導体領域よりも不純物濃度が高い前記第2導電型の第3半導体領域と、
前記第3半導体領域の内側に配されて前記画素内読出回路に接続されており、前記第3半導体領域よりも不純物濃度が高い前記第2導電型の第4半導体領域と
を含み、
前記第3半導体領域は、第1部分と、前記第1部分から延びている複数の第2部分とを含み、
前記第3半導体領域の前記第1部分の内側に前記第4半導体領域が配されており、
前記第3半導体領域の平面視における形状は、前記第3半導体領域を3つ以上の部分に分割する1本の直線を定義可能な形状である
ことを特徴とする固体撮像装置。 - 前記複数の第2部分は前記第1部分から放射状に延びていることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
- 前記複数の第2部分は前記第1部分から十字方向に延びていることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
- 光電変換素子と前記光電変換素子で発生した電荷に応じた信号を信号線へ出力するための画素内読出回路とを有する固体撮像装置であって、
前記光電変換素子は、
第1導電型の第1半導体領域と、
前記第1半導体領域の上に配されており、前記第1導電型とは異なる第2導電型の第2半導体領域と、
前記第2半導体領域の内側に配されており、前記第2半導体領域よりも不純物濃度が高い前記第2導電型の第3半導体領域と、
前記第3半導体領域の内側に配されて前記画素内読出回路と接続されており、前記第3半導体領域よりも不純物濃度が高い前記第2導電型の第4半導体領域と
を含み、
前記第3半導体領域は、第1部分と、前記第1部分から延びている複数の第2部分とを含み、
前記第3半導体領域の前記第1部分の内側に前記第4半導体領域が配されており、
前記第2部分は前記第1部分から十字方向に延びている
ことを特徴とする固体撮像装置。 - 前記複数の第2部分のそれぞれは、前記第1部分から離れるほど幅が細くなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
- 前記第2半導体領域は平面視において凹多角形を形成することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
- 前記光電変換素子は、前記第2半導体領域及び前記第3半導体領域の少なくとも一部の上に配された前記第1導電型の第5半導体領域をさらに含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
- 前記第4半導体領域は平面視において前記第2半導体領域の中央に位置することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
- 前記光電変換素子は完全空乏型であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
- 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の固体撮像装置と、
前記固体撮像装置から出力される信号を処理するプロセッサと
を備えることを特徴とする撮像システム。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010155258A JP2012019056A (ja) | 2010-07-07 | 2010-07-07 | 固体撮像装置及び撮像システム |
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JP2010155258A Withdrawn JP2012019056A (ja) | 2010-07-07 | 2010-07-07 | 固体撮像装置及び撮像システム |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014143337A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-08-07 | Toshiba Corp | 固体撮像素子 |
US20160247846A1 (en) * | 2015-02-19 | 2016-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion apparatus |
JP2017212304A (ja) * | 2016-05-24 | 2017-11-30 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置及び画像読み取り装置 |
-
2010
- 2010-07-07 JP JP2010155258A patent/JP2012019056A/ja not_active Withdrawn
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