JP2012004487A - Solar cell back sheet - Google Patents

Solar cell back sheet Download PDF

Info

Publication number
JP2012004487A
JP2012004487A JP2010140627A JP2010140627A JP2012004487A JP 2012004487 A JP2012004487 A JP 2012004487A JP 2010140627 A JP2010140627 A JP 2010140627A JP 2010140627 A JP2010140627 A JP 2010140627A JP 2012004487 A JP2012004487 A JP 2012004487A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy
resin composition
photosensitive resin
solar cell
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010140627A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5608434B2 (en
Inventor
Tatsuya Kiyota
達也 清田
Takahiro Tsurumaki
孝博 鶴巻
Yasuyuki Hasegawa
靖幸 長谷川
Shinji Imai
伸治 今井
Masahiro Tsuchiya
雅裕 土屋
Akira Kitamura
明 喜多村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tamura Corp
Original Assignee
Tamura Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tamura Corp filed Critical Tamura Corp
Priority to JP2010140627A priority Critical patent/JP5608434B2/en
Publication of JP2012004487A publication Critical patent/JP2012004487A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5608434B2 publication Critical patent/JP5608434B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • H01L31/049Protective back sheets
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • H01L31/0481Encapsulation of modules characterised by the composition of the encapsulation material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solar cell back sheet whose reflection property is hardly deteriorated even under severe conditions.SOLUTION: The solar cell back sheet has a cured film, used as a reflection film, of a photosensitive resin composition comprising: an active energy ray curable resin (A) which has at least two ethylene unsaturated bonds in one molecule; a photopolymerization initiator (B); a diluent (C); titanium oxide (D); and an epoxy thermosetting compound (E). The photosensitive resin composition contains a bifunctional epoxy acrylate (A1) and/or a compound (C1) represented by the general formula (i).

Description

本発明は、感光性樹脂組成物の硬化皮膜を有する太陽電池バックシートに関するものである。   The present invention relates to a solar battery back sheet having a cured film of a photosensitive resin composition.

化石エネルギー源の燃焼時に発生する二酸化炭素の増加に起因した地球温暖化や、NO、SOの放出による大気汚染といった環境破壊への対策が急務となっている。そこで、近年、太陽光から直接電気を得ることができる太陽電池が、環境負荷の無い新エネルギー源として注目されている。太陽電池は複数の光起電力素子が組み合わされており、数枚〜数十枚の光起電力素子を直列、並列に配線した構造となっている。また、太陽電池は長期間にわたって自然環境中に設置されるので、光起電力素子を保護するためにカバー材料でパッケージングした太陽電池モジュールとして使用されている。 Carbon dioxide increases and global warming due to the generated during fossil energy sources combustion, NO X, measures for environmental destruction such as air pollution due to the release of SO X has become an urgent task. Therefore, in recent years, solar cells that can directly obtain electricity from sunlight have attracted attention as a new energy source having no environmental load. A solar cell is a combination of a plurality of photovoltaic elements, and has a structure in which several to several tens of photovoltaic elements are wired in series and in parallel. Moreover, since a solar cell is installed in a natural environment for a long period of time, it is used as a solar cell module packaged with a cover material in order to protect the photovoltaic element.

具体的には、太陽電池モジュールは、太陽光が当たる面側から順に、ガラスや透明なプラスチック等からなる上部透明材料と、エチレン酢酸ビニル共重合体等の熱可塑性樹脂からなる封止層と、光起電力素子を直列、並列に配線した複数枚の太陽電池セルと、封止層(前記封止層と同様の層)と、太陽電池バックシート(反射シート)とが積層されている。   Specifically, the solar cell module is composed of an upper transparent material made of glass, transparent plastic, and the like, and a sealing layer made of a thermoplastic resin such as an ethylene vinyl acetate copolymer, in order from the side on which the sunlight hits. A plurality of photovoltaic cells in which photovoltaic elements are wired in series and in parallel, a sealing layer (a layer similar to the sealing layer), and a solar battery back sheet (reflection sheet) are laminated.

前記太陽電池のバックシートは裏面側の保護部材として設置されるものであり、一般的に、耐衝撃性に優れた材料が使用されている。また、バックシートは、太陽電池モジュールへの入射光を有効に利用して電力変換効率を高めるために、高い反射能を有する白色系の色調を有するものが求められている。   The back sheet of the solar cell is installed as a protective member on the back surface side, and generally, a material excellent in impact resistance is used. In addition, the back sheet is required to have a white color tone having high reflectivity in order to effectively use the incident light to the solar cell module and increase the power conversion efficiency.

一方で、太陽電池モジュールは、屋外に長期間設置されるので、太陽電池バックシートには、封止層との接着性が良好で、耐候性、耐湿性等の諸特性に優れることが求められている。そこで、太陽電池モジュールを構成する封止層と貼り合わされる最内面に、酸化チタンを主成分とする白色顔料で着色されたポリアクリル酸樹脂からなる接着性塗布層を備えた太陽電池バックシートを設けることが提案されている(特許文献1)。   On the other hand, since the solar cell module is installed outdoors for a long time, the solar cell backsheet is required to have good adhesion to the sealing layer and excellent properties such as weather resistance and moisture resistance. ing. Therefore, a solar battery backsheet provided with an adhesive coating layer made of a polyacrylic acid resin colored with a white pigment mainly composed of titanium oxide on the innermost surface bonded to the sealing layer constituting the solar battery module. Providing is proposed (Patent Document 1).

また、紫外線や熱による変色及び反射率の低下を抑えるための感光性樹脂組成物として、(A)脂環骨格エポキシ樹脂から得られ、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂、(B)チオール系化合物、(C)光重合開始剤、(D)希釈剤、(E)ルチル型酸化チタン、および(F)エポキシ系熱硬化性化合物を含有する感光性樹脂組成物が知られている(特許文献2)。   Moreover, it is obtained from (A) alicyclic skeleton epoxy resin as a photosensitive resin composition for suppressing discoloration due to ultraviolet rays or heat and a decrease in reflectance, and has at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule. Photosensitivity containing active energy ray-curable resin, (B) thiol compound, (C) photopolymerization initiator, (D) diluent, (E) rutile titanium oxide, and (F) epoxy thermosetting compound Resin compositions are known (Patent Document 2).

特開2010−109240号公報JP 2010-109240 A 特開2008−211036号公報JP 2008-211036 A

上記の様に、太陽電池は屋外に設置され、高温多湿下などの過酷な条件に曝されることがあることから、太陽電池バックシートの特性として、過酷な条件下でも反射特性(反射率)が変化しないことが要求される。   As mentioned above, solar cells are installed outdoors and may be exposed to harsh conditions such as high temperature and humidity. Therefore, the solar cell back sheet has a reflective property (reflectance) even under harsh conditions. Is required to remain unchanged.

また、上記特許文献2の様に、太陽電池バックシート用の白色塗料として感光性樹脂組成物を使用する場合、ベースフィルムが良好な耐衝撃性を有していても、感光性樹脂組成物による硬化膜にクラックが生じやすい場合には、太陽電池バックシートの反射特性が変わってしまうおそれがある。   Further, as in Patent Document 2, when a photosensitive resin composition is used as a white paint for a solar battery backsheet, even if the base film has good impact resistance, it depends on the photosensitive resin composition. If cracks are likely to occur in the cured film, the reflection characteristics of the solar cell backsheet may change.

そこで、本願発明が解決しようとする課題は、過酷な条件下でも反射特性(反射率)が変化せず、かつ、優れた耐衝撃性を有する硬化膜を形成することが可能な、感光性樹脂組成物の硬化皮膜を有する太陽電池バックシートを提供することを課題とする。   Thus, the problem to be solved by the present invention is a photosensitive resin that can form a cured film having excellent impact resistance without changing reflection characteristics (reflectance) even under severe conditions. It is an object of the present invention to provide a solar battery back sheet having a cured film of the composition.

上記課題を解決するために、本発明者が鋭意研究した結果、活性エネルギー線硬化性樹脂として二官能のエポキシアクリレートを含む感光性樹脂組成物、又は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂及び特定構造の化合物(希釈剤)を含有する感光性樹脂組成物を用いることにより、高温多湿条件でも反射特性の変化、及び衝撃によるクラックの発生に起因する反射特性の変化が生じにくい硬化膜を形成することが可能であり、これらの感光性樹脂組成物の硬化物が太陽電池バックシートの反射皮膜として好適であることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の(1)〜(9)に関する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted intensive research. As a result, a photosensitive resin composition containing a bifunctional epoxy acrylate as an active energy ray-curable resin, or at least two ethylenic groups in one molecule. By using a photosensitive resin composition containing an active energy ray-curable resin having a saturated bond and a compound (diluent) having a specific structure, it is caused by changes in reflection characteristics even under high temperature and high humidity conditions, and generation of cracks due to impact. It was possible to form a cured film that hardly caused changes in reflection characteristics, and the cured product of these photosensitive resin compositions was found to be suitable as a reflective film for a solar battery back sheet, and the present invention was completed. . That is, the present invention relates to the following (1) to (9).

(1)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、希釈剤(C)と、酸化チタン(D)と、エポキシ系熱硬化性化合物(E)とを含有する感光性樹脂組成物であって、(A)成分として、二官能のエポキシ(メタ)アクリレート(A1)を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を反射皮膜として有する、太陽電池バックシート。
(2)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、希釈剤(C)と、酸化チタン(D)と、エポキシ系熱硬化性化合物(E)とを含有する感光性樹脂組成物であって、(C)成分として、下記一般式(i)

Figure 2012004487
(式中、R〜Rは、それぞれ独立してメチル基又は水素原子を表し、R〜Rは、それぞれ独立して、炭素数2〜5のアルキレン基を表し、l、m及びnは、l+m+n≦15を満たす自然数である。)で表される化合物を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を反射皮膜として有する、太陽電池バックシート。
(3)1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、希釈剤(C)と、酸化チタン(D)と、エポキシ系熱硬化性化合物(E)とを含有する感光性樹脂組成物であって、(A)成分として、二官能のエポキシ(メタ)アクリレートを含有し、(C)成分として、下記一般式(i)
Figure 2012004487
(式中、R〜Rは、それぞれ独立してメチル基又は水素原子を表し、R〜Rは、それぞれ独立して、炭素数2〜5のアルキレン基を表し、l、m及びnは、l+m+n≦15を満たす自然数である。)で表される化合物を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を反射皮膜として有する、太陽電池バックシート。
(4)前記感光性樹脂組成物が、前記エポキシ(メタ)アクリレート(A1)を、(A)成分全量に対して4〜35質量%含有することを特徴とする、(1)又は(3)に記載の太陽電池バックシート。
(5)前記感光性樹脂組成物が、前記一般式(i)で表される化合物を、(A)成分100質量部に対して、2〜100質量部含有することを特徴とする、(2)又は(3)に記載の太陽電池バックシート。
(6)前記感光性樹脂組成物が、(A)成分として、アクリル酸及び/又はメタクリル酸と、アクリル酸エステル及び/又はメタクリル酸エステルとの共重合樹脂のカルボキシル基に対して、エチレン性不飽和結合を有する脂環式エポキシを反応させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂(A2)を含有することを特徴とする、(1)〜(5)何れかに記載の太陽電池バックシート。
(7)前記感光性樹脂組成物が、(A)成分として、分子中にエポキシ基を2個以上有する脂環式エポキシのエポキシ基の全部又は一部に、ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させて分子中に二個以上のエチレン性不飽和結合を導入し、さらに生成した水酸基に多塩基酸無水物を反応させることにより得られる活性エネルギー線硬化性樹脂(A3)を含有することを特徴とする、(1)〜(6)何れかに記載の太陽電池バックシート。
(8)前記2官能のエポキシ(メタ)アクリレートが、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート又は変性ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレートである、(1)、(3)又は(4)に記載の太陽電池バックシート。
(9)(1)〜(8)いずれかに記載の太陽電池バックシートを備えた太陽電池モジュール。 (1) Active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, photopolymerization initiator (B), diluent (C), and titanium oxide (D) And an epoxy-based thermosetting compound (E), wherein the photosensitive resin composition contains a bifunctional epoxy (meth) acrylate (A1) as a component (A). A solar battery back sheet having a cured film as a reflective film.
(2) Active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, photopolymerization initiator (B), diluent (C), and titanium oxide (D) And an epoxy-based thermosetting compound (E), the component (C) having the following general formula (i)
Figure 2012004487
(In the formula, R 1 to R 3 each independently represent a methyl group or a hydrogen atom, R 4 to R 6 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, l, m and n is a natural number satisfying l + m + n ≦ 15.) A solar battery backsheet having a cured film of a photosensitive resin composition containing a compound represented by:
(3) Active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, photopolymerization initiator (B), diluent (C), and titanium oxide (D) And an epoxy-based thermosetting compound (E), which contains a bifunctional epoxy (meth) acrylate as the component (A) and the following general components as the component (C): Formula (i)
Figure 2012004487
(In the formula, R 1 to R 3 each independently represent a methyl group or a hydrogen atom, R 4 to R 6 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, l, m and n is a natural number satisfying l + m + n ≦ 15.) A solar battery backsheet having a cured film of a photosensitive resin composition containing a compound represented by:
(4) The photosensitive resin composition contains 4 to 35% by mass of the epoxy (meth) acrylate (A1) with respect to the total amount of the component (A), (1) or (3) The solar cell back sheet as described in 2.
(5) The photosensitive resin composition contains 2 to 100 parts by mass of the compound represented by the general formula (i) with respect to 100 parts by mass of the component (A). ) Or the solar cell backsheet according to (3).
(6) The photosensitive resin composition has, as component (A), an ethylenic non-reactive compound with respect to the carboxyl group of a copolymer resin of acrylic acid and / or methacrylic acid and acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester. The solar cell backsheet according to any one of (1) to (5), comprising an active energy ray-curable resin (A2) obtained by reacting an alicyclic epoxy having a saturated bond.
(7) The photosensitive resin composition has a radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid as a component (A) on all or part of the epoxy group of the alicyclic epoxy having two or more epoxy groups in the molecule. Containing an active energy ray-curable resin (A3) obtained by reacting, introducing two or more ethylenically unsaturated bonds into the molecule, and reacting a polybasic acid anhydride with the generated hydroxyl group; The solar cell backsheet according to any one of (1) to (6).
(8) The solar battery back according to (1), (3) or (4), wherein the bifunctional epoxy (meth) acrylate is bisphenol-type epoxy (meth) acrylate or modified bisphenol-type epoxy (meth) acrylate Sheet.
(9) A solar cell module comprising the solar cell back sheet according to any one of (1) to (8).

本発明に係る感光性樹脂組成物によれば、過酷な条件下でも良好な反射率特性を維持することが可能な太陽電池バックシートの反射皮膜を形成することができる。   According to the photosensitive resin composition according to the present invention, it is possible to form a reflective film of a solar battery back sheet capable of maintaining good reflectance characteristics even under severe conditions.

以下、本発明を実施形態に即して詳細に説明する。
[太陽電池バックシート用感光性樹脂組成物]
本発明に係る太陽電池バックシート用感光性樹脂組成物は、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、希釈剤(C)と、酸化チタン(D)と、エポキシ系熱硬化性化合物(E)とを含有する感光性樹脂組成物であって、二官能のエポキシ(メタ)アクリレート(A1)及び/又は下記一般式(i)

Figure 2012004487
(式中、R〜Rは、それぞれ独立してメチル基又は水素原子を表し、R〜Rは、それぞれ独立して、炭素数2〜5のアルキレン基を表し、l、m及びnは、l+m+n≦15を満たす自然数である。)で表される化合物(C1)を含有することを特徴とする。以下、これら成分毎に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail according to embodiments.
[Photosensitive resin composition for solar cell backsheet]
The photosensitive resin composition for solar cell backsheets according to the present invention comprises an active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, a photopolymerization initiator (B), , A photosensitive resin composition containing a diluent (C), titanium oxide (D), and an epoxy thermosetting compound (E), wherein the bifunctional epoxy (meth) acrylate (A1) and / or Or the following general formula (i)
Figure 2012004487
(In the formula, R 1 to R 3 each independently represent a methyl group or a hydrogen atom, R 4 to R 6 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, l, m and n is a natural number satisfying l + m + n ≦ 15)), and is characterized by containing the compound (C1). Hereinafter, each of these components will be described in detail.

(A)成分
(A1)
二官能のエポキシ(メタ)アクリレートは、分子内にエポキシ基を2個以上有する化合物に対し、当該エポキシ基の開環反応を利用して(メタ)アクリロイルオキシ基を2個以上導入して得られる化合物であれば特に制限はなく、ポリエステル、ポリエーテル又はアミンにより変性されていても良い。この様な化合物としては、例えば、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート(例えば、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート)、アミン変性ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレートなどがあげられる。二官能のエポキシ(メタ)アクリレートを用いることにより、基板作製時のクラック発生を防止することが可能になる。
(A) component
(A1)
A bifunctional epoxy (meth) acrylate is obtained by introducing two or more (meth) acryloyloxy groups into a compound having two or more epoxy groups in the molecule by utilizing a ring-opening reaction of the epoxy group. If it is a compound, there will be no restriction | limiting in particular, You may modify | denature with polyester, polyether, or amine. Examples of such compounds include bisphenol type epoxy (meth) acrylate (for example, bisphenol A type epoxy (meth) acrylate, bisphenol F type epoxy (meth) acrylate), amine-modified bisphenol type epoxy (meth) acrylate, and the like. It is done. By using a bifunctional epoxy (meth) acrylate, it becomes possible to prevent the occurrence of cracks during the production of the substrate.

これらの二官能のエポキシ(メタ)アクリレートのうち、ビスフェノールA型エポキシアクリレートとして、リポキシSP−2600(昭和高分子製)、NKオリゴEA−1020、NKオリゴEA−6340(新中村化学製)、カラヤッドR−280、 カラヤッドR−190(日本化薬製)、Ebecryl600、Ebecryl3700(ダイセルサイテック)等が上市されている。また、変性ビスフェノールA型エポキシアクリレートについては、KRM7856、Ebecryl3604、Ebecryl3702、Ebecryl3703,Ebecryl3708(ダイセルサイテック)、LR9019(BASF)などが上市されている。これらの二官能のエポキシ(メタ)アクリレートは、一種を単独で使用しても良いし、二種以上を混合して使用しても良い。   Among these bifunctional epoxy (meth) acrylates, as bisphenol A type epoxy acrylate, lipoxy SP-2600 (manufactured by Showa Polymer), NK oligo EA-1020, NK oligo EA-6340 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical), Karayad R-280, Karayad R-190 (manufactured by Nippon Kayaku), Ebecryl 600, Ebecryl 3700 (Daicel Cytec), etc. are on the market. As for the modified bisphenol A type epoxy acrylate, KRM7856, Ebecryl 3604, Ebecryl 3702, Ebecryl 3703, Ebecryl 3708 (Daicel Cytec), LR9019 (BASF) and the like are marketed. These bifunctional epoxy (meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.

二官能のエポキシ(メタ)アクリレートの配合量としては、特に制限されるものではないが、クラック発生の防止効果を十分奏するために、(A)成分全体に対して、4〜35質量%用いることが好ましい。さらに、良好な耐熱性を確保するためには、15〜25質量%の範囲が好ましい。   The blending amount of the bifunctional epoxy (meth) acrylate is not particularly limited. However, in order to sufficiently exhibit the effect of preventing the occurrence of cracks, it is used in an amount of 4 to 35% by mass with respect to the entire component (A). Is preferred. Furthermore, in order to ensure favorable heat resistance, the range of 15-25 mass% is preferable.

(A2)
(A2)は、アクリル酸及び/又はメタクリル酸と、アクリル酸エステル及び/又はメタクリル酸エステルとの共重合樹脂のカルボキシル基に対して、エチレン性不飽和結合を有する脂環式エポキシを反応させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂である。ここで、脂環式エポキシとは、エポキシ基を構成する炭素が、同時に脂環骨格をも構成している化合物をいう。エポキシ当量の制限は特にないが、通常1000以下、好ましくは100〜500のものが用いられる。
(A2)
(A2) reacts an alicyclic epoxy having an ethylenically unsaturated bond with a carboxyl group of a copolymer resin of acrylic acid and / or methacrylic acid and acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester. The resulting active energy ray-curable resin. Here, the alicyclic epoxy refers to a compound in which the carbon constituting the epoxy group simultaneously constitutes the alicyclic skeleton. Although there is no restriction | limiting in particular of an epoxy equivalent, Usually 1000 or less, Preferably the thing of 100-500 is used.

(A2)の具体例としては、例えば、アクリル酸及び/又はメタクリル酸と、アクリル酸エステル及び/又はメタクリル酸エステルとの共重合樹脂のカルボキシル基に対して、エチレン性不飽和結合を有する脂環式エポキシとして、(3,4−エポキシシクロへキシル)メチルアクリレート及び/又は(3,4−エポキシシクロヘキセニル)メチルアクリレートを反応させて得られるエネルギー線硬化性樹脂があげられる。これらの樹脂には、サイクロマーPシリーズ(サイクロマーP(ACA)Z−251、サイクロマーP(ACA)Z−250、サイクロマーP(ACA)Z300等)として、ダイセル化学工業(株)から市販されているものを好適に使用することが出来る。   Specific examples of (A2) include, for example, an alicyclic ring having an ethylenically unsaturated bond with respect to a carboxyl group of a copolymer resin of acrylic acid and / or methacrylic acid and acrylic ester and / or methacrylic ester. Examples of the formula epoxy include energy ray-curable resins obtained by reacting (3,4-epoxycyclohexyl) methyl acrylate and / or (3,4-epoxycyclohexenyl) methyl acrylate. These resins are commercially available from Daicel Chemical Industries, Ltd. as Cyclomer P series (such as Cyclomer P (ACA) Z-251, Cyclomer P (ACA) Z-250, Cyclomer P (ACA) Z300)). What has been used can be preferably used.

(A3)
(A3)は、分子中にエポキシ基を2個以上有する脂環式エポキシのエポキシ基の2個以上に、ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに生成した水酸基に多塩基酸又はその無水物を反応させることにより得られる活性エネルギー線硬化性樹脂である。脂環式エポキシとしては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジエボキサイド、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物等が挙げられる。これらのうち、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物については、ダイセル化学工業製「EHPE−3150」として入手することが出来る。
(A3)
(A3) is a reaction of a radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid with two or more of the epoxy groups of an alicyclic epoxy having two or more epoxy groups in the molecule, and a polybasic acid or its It is an active energy ray-curable resin obtained by reacting an anhydride. Examples of the alicyclic epoxy include 1,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, vinylcyclohexenediexoxide, 1,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. Examples include 2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct. Of these, 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol should be obtained as “EHPE-3150” manufactured by Daicel Chemical Industries. I can do it.

使用するラジカル重合性不飽和モノカルボン酸は、特に限定されず、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸などを挙げることができ、アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも一方が好ましく、特にアクリル酸が好ましい。脂環式エポキシ樹脂とラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応方法に特に制限は無く、例えばエポキシ樹脂とアクリル酸を適当な希釈剤中で加熱することにより反応できる。   The radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to be used is not particularly limited, and examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid and the like. At least one of acrylic acid and methacrylic acid is preferable, and acrylic acid is particularly preferable. Is preferred. There is no restriction | limiting in particular in the reaction method of an alicyclic epoxy resin and radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, For example, it can react by heating an epoxy resin and acrylic acid in a suitable diluent.

多塩基酸又は多塩基酸無水物は、前記脂環式エポキシとラジカル重合性不飽和モノカルボン酸との反応で生成した水酸基に反応し、遊離のカルボキシル基を持たせるものである。使用する多塩基酸又はその無水物としては、特に限定されず、飽和、不飽和のいずれも使用可能である。多塩基酸には、例えば、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、クエン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、3−エチルテトラヒドロフタル酸、4−エチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3−メチルヘキサヒドロフタル酸、4−メチルヘキサヒドロフタル酸、3−エチルヘキサヒドロフタル酸、4−エチルヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸及びジグリコール酸等が挙げられ、多塩基酸無水物としてはこれらの無水物が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、2種以上混合して使用してもよい。   The polybasic acid or polybasic acid anhydride reacts with a hydroxyl group produced by the reaction between the alicyclic epoxy and the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid to give a free carboxyl group. The polybasic acid to be used or its anhydride is not particularly limited, and either saturated or unsaturated can be used. Polybasic acids include, for example, succinic acid, maleic acid, adipic acid, citric acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid, 4-methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4- Ethyltetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, 3-methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, methylhexahydro Examples include phthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, and diglycolic acid. Examples of polybasic acid anhydrides include these anhydrides. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

(A4)
(A4)は、ビスフェノール型エポキシ樹脂のエポキシ基の2個以上に、ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに生成した水酸基に多塩基酸無水物を反応させることにより得られる活性エネルギー線硬化性樹脂である。ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂があげられる。ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸、多塩基酸及び多塩基酸無水物については、(A3)で述べたものと同様のものを使用することができる。
(A4)
(A4) is an active energy ray obtained by reacting two or more epoxy groups of a bisphenol type epoxy resin with a radical polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, and further reacting a polybasic acid anhydride with the generated hydroxyl group. It is a curable resin. Examples of the bisphenol type epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, and bisphenol F type epoxy resin. As the radically polymerizable unsaturated monocarboxylic acid, polybasic acid and polybasic acid anhydride, the same ones as described in (A3) can be used.

(B)成分
光重合開始剤は、一般的に使用されるものであれば特に限定されず、例えば、オキシム系開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2−(ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4′−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロルベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリーブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド等のフォスフィンオキサイド系開始剤等が挙げられる。これらを単独または組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の使用量は、少量の場合、作業中の露光時間を要し、多量の場合、熱硬化中の揮発分が多くなり、乾燥炉内を汚染するおそれがあることから、(A)成分100質量部に対して、5〜20質量部、さらには8〜15質量部が好ましい。
The (B) component photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it is generally used. For example, oxime initiators, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n- Butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2- (hydroxy-2- Propyl) ketone Benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenylphosphine oxide And phosphine oxide initiators such as bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide. These can be used alone or in combination. When the amount of the photopolymerization initiator used is small, it requires an exposure time during the operation, and when it is large, the amount of volatile components during heat curing increases, which may contaminate the drying furnace. ) 5 to 20 parts by mass, more preferably 8 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component.

(C)成分
(C1)
(C1)は、下記一般式(i)

Figure 2012004487
で表される化合物である。ここで、式(i)において、R〜Rは、それぞれ独立してメチル基又は水素原子を表し、R〜Rは、それぞれ独立して、炭素数2〜5のアルキレン基を表し、l、m及びnは、l+m+n≦15を満たす自然数である。炭素数2〜5のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基が好ましい。なお、炭素数2〜5のアルキレン基は、分岐状又は直鎖状のいずれでも良い。 (C) component
(C1)
(C1) is represented by the following general formula (i)
Figure 2012004487
It is a compound represented by these. Here, in formula (i), R 1 to R 3 each independently represent a methyl group or a hydrogen atom, and R 4 to R 6 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms. , L, m, and n are natural numbers that satisfy l + m + n ≦ 15. The alkylene group having 2 to 5 carbon atoms is preferably an ethylene group or a propylene group. Note that the alkylene group having 2 to 5 carbon atoms may be branched or linear.

(C1)として、具体的には、サートマー社製SR454のようなエトキシ化(3)トリメチロールプロパントリアクリレート、同社製SR499のようなエトキシ化(6)トリメチロールプロパントリアクリレート、同社製CD501のようなプロポキシ化(6)トリメチロールプロパントリアクリレート及び同社製SR9035の様なエトキシ化(15)トリメチロールプロパントリアクリレートがあげられる(なお、括弧内の数字は、上記一般式(i)中のl、m及びnの合計数を意味している。)。   Specifically, as (C1), ethoxylated (3) trimethylolpropane triacrylate such as SR454 manufactured by Sartomer, ethoxylated (6) trimethylolpropane triacrylate such as SR499 manufactured by the same company, CD501 manufactured by the same company, etc. Propoxylated (6) trimethylol propane triacrylate and ethoxylated (15) trimethylol propane triacrylate such as SR9035 manufactured by the same company (the numbers in parentheses are 1 in the above general formula (i), meaning the total number of m and n).

(C1)の配合量としては、十分なクラック防止効果にするには、(A)成分100質量部に対して2〜100質部、さらには、20〜40質量部の範囲が好ましい。   As a blending amount of (C1), in order to obtain a sufficient crack prevention effect, a range of 2 to 100 parts by mass, and further 20 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (A) is preferable.

上記(C1)以外の(C)成分としては、通常公知の希釈剤を使用することが可能である。代表的な希釈剤として、光重合性モノマーがあげられる。光重合性モノマーは、反応性希釈剤ともいわれるもので、これは上記(A)成分の感光性樹脂の光硬化を更に十分にして、耐酸性、耐熱性、耐アルカリ性などを有する塗膜を得るために使用するものである。反応性希釈剤は、1分子中に二重結合を少なくとも2個有する化合物が好ましく用いられる。   As the component (C) other than the above (C1), generally known diluents can be used. A typical diluent is a photopolymerizable monomer. The photopolymerizable monomer is also referred to as a reactive diluent, which further enhances the photocuring of the photosensitive resin as the component (A) to obtain a coating film having acid resistance, heat resistance, alkali resistance, and the like. It is intended for use. As the reactive diluent, a compound having at least two double bonds in one molecule is preferably used.

光重合性モノマー(反応性希釈剤)の代表的なものとしては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性燐酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型プロピレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレートカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の反応性希釈剤が挙げられる。アルキレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートにおけるオキシアルキレン基としては、例えば、炭素数2〜10(好ましくは2〜4)のオキシアルキレン基があげられる。この様なものとしては、例えばエチレンオキサイド変性トリメチロールプリパントリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどがあげられる。   Typical examples of the photopolymerizable monomer (reactive diluent) include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol di (meth). ) Acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di ( (Meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid di (meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipenta Lithritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, alkylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, bisphenol A type ethylene oxide modified di (meth) Acrylate, bisphenol A type propylene oxide modified di (meth) acrylate caprolactone modified dipentaerythritol hexaacrylate, ethylene oxide modified dipentaerythritol hexaacrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaery Ritoruhekisa (meth) reactive diluents such as acrylate. Examples of the oxyalkylene group in the alkylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate include oxyalkylene groups having 2 to 10 carbon atoms (preferably 2 to 4 carbon atoms). Examples of such include ethylene oxide-modified trimethylol prepane tri (meth) acrylate and propylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate.

また、反応性希釈剤として、下記一般式(ii)で表される化合物を用いることも可能である。   Moreover, it is also possible to use the compound represented by the following general formula (ii) as a reactive diluent.

Figure 2012004487
Figure 2012004487

上記式(ii)中、R及びRは、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を意味し、p及びqは、p+q≦10以下の自然数を意味する。 In the formula (ii), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and p and q represent natural numbers of p + q ≦ 10 or less.

上記(C1)以外の(C)成分の含有量としては、特に制限されないが、少量の場合、光硬化時間の短縮効果を奏せない一方、多量の場合、表面硬化が進み、本来目的とするクラック防止性が得られなくなるおそれがあることから、(A)成分100質量部に対して、2〜200質量部、さらには10〜50質量部が好ましい。   The content of the component (C) other than the above (C1) is not particularly limited. However, when the amount is small, the effect of shortening the photocuring time cannot be achieved. Since there exists a possibility that crack prevention property may not be obtained, 2-200 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Furthermore, 10-50 mass parts is preferable.

(D)成分
酸化チタンとしては、ルチル結晶構造を有する酸化チタンを好適に使用することが出来る。酸化チタンを配合することにより、塗膜を白色化することが出来る。酸化チタンの平均粒径は、特に制限されないが、0.01〜1μmの範囲が好ましい。また、酸化チタンは、表面未処理のもの又は表面処理されたもののいずれを用いても良い。酸化チタンの配合量としては、(A)成分100質量部に対して10〜100質量部、さらには50〜100質量部の範囲が好ましい。酸化チタンの配合量が10質量部未満であると、白色度が十分ではなく、100質量部を超えると強度に悪影響を及ぼすおそれがある。
(D) As a component titanium oxide, the titanium oxide which has a rutile crystal structure can be used conveniently. A coating film can be whitened by mix | blending a titanium oxide. The average particle diameter of titanium oxide is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 1 μm. Titanium oxide may be either untreated or surface-treated. As a compounding quantity of a titanium oxide, the range of 10-100 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component, Furthermore, the range of 50-100 mass parts is preferable. When the blending amount of titanium oxide is less than 10 parts by mass, the whiteness is not sufficient, and when it exceeds 100 parts by mass, the strength may be adversely affected.

(E)成分
エポキシ系熱効果性化合物は、感光性樹脂組成物の塗膜を露光した後のポストキュアによって、十分に強靭な塗膜(塗膜硬度、耐熱性、耐久性、耐薬品性、耐環境性など)を得るために加えられるものである。
(E) Component epoxy-based thermal effect compound is a sufficiently tough coating film (coating hardness, heat resistance, durability, chemical resistance, post-cure after exposing the coating film of the photosensitive resin composition, Environment resistance, etc.).

エポキシ系熱硬化性化合物の代表的なものとして、1分子中に少なくとも1個のエポキシ基、好ましくは2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(エポキシオリゴマーを含む)が好適であるがこれに限らない。例えばビスフェノールAとエピクロルヒドリンとをアルカリの存在下に反応させて得られたビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールAとホルマリンとを縮合反応させて得られた樹脂のエポキシ化物、これらの樹脂において、ビスフェノールAの代わりにブロム化ビスフェノールAを用いたもの、ノボラック樹脂にエピクロルヒドリンを反応させてグリシジルエーテル化したノボラック型エポキシ樹脂(フェノールノボラック型エポキシ樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、p−tert−ブチルフェノールノボラック型など)、ビスフェノールFやビスフェノールSにエピクロルヒドリンを反応させて得られたビスフェノールF型やビスフェノールS型エポキシ樹脂、さらにシクロヘキセンオキシド基、トリシクロデカンオキシド基、シクロペンテンオキシド基などを有する脂環式エポキシ樹脂、フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ジグリシジル−p−ヒドロキシ安息香酸、ダイマー酸グリシジルエステルなどのグリシジルエステル樹脂、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−p−アミノフェノールなどのグリシジルアミン系樹脂、(プロピレン、ポリプロピレン)グリコールジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、1,6ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、(エチレン、プロピレン)グリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルなどのグリシジルエーテル樹脂、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のトリアジン環を有するトリグリシジルイソシアヌレート、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂などが挙げられる。これらエポキシ系熱硬化性樹脂化合物は、単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。これらエポキシ系熱硬化性樹脂化合物の配合量としては、硬化後に十分な塗膜硬度を得る観点から、(A)成分100質量部に対して、2〜20質量部、さらには5〜15質量部の範囲が好ましい。   As a typical epoxy thermosetting compound, an epoxy resin (including an epoxy oligomer) having at least one epoxy group, preferably two or more epoxy groups in one molecule is preferable, but not limited thereto. Absent. For example, a bisphenol A type epoxy resin obtained by reacting bisphenol A and epichlorohydrin in the presence of an alkali, an epoxidized product of a resin obtained by condensation reaction of bisphenol A and formalin, Instead, those using brominated bisphenol A, novolak type epoxy resins obtained by reacting novolak resin with epichlorohydrin to glycidyl ether (phenol novolak type epoxy resin, o-cresol novolak type epoxy resin, p-tert-butylphenol novolak type, etc. ), Bisphenol F-type and bisphenol S-type epoxy resins obtained by reacting bisphenol F and bisphenol S with epichlorohydrin, cyclohexene oxide groups, tricyclode Such as cycloaliphatic epoxy resins having thiol oxide groups, cyclopentene oxide groups, diglycidyl phthalate, diglycidyl tetrahydrophthalate, diglycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl-p-hydroxybenzoic acid, glycidyl dimer, etc. Glycidyl ester resins, tetraglycidyl diaminodiphenylmethane, glycidylamine resins such as triglycidyl-p-aminophenol, (propylene, polypropylene) glycol diglycidyl ether, polytetramethylene glycol diglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, trimethylolpropane poly Glycidyl ether, resorcin diglycidyl ether, 1,6 hexanediol diglycidyl ether, , Propylene) glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, glycidyl ether resins such as pentaerythritol polyglycidyl ether, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) ) Triglycidyl isocyanurate having a triazine ring such as isocyanurate, dicyclopentadiene type epoxy resin and the like. These epoxy thermosetting resin compounds may be used alone or in combination. As a compounding quantity of these epoxy-type thermosetting resin compounds, it is 2-20 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) component from a viewpoint of obtaining sufficient coating film hardness after hardening, Furthermore, 5-15 mass parts The range of is preferable.

本発明の実施形態例に係る感光性樹脂組成物には、上記成分の他に、必要に応じて、種々の添加成分、例えば、消泡剤、各種添加剤、体質顔料、溶剤などを含有させることができる。   In addition to the above components, the photosensitive resin composition according to the exemplary embodiment of the present invention contains various additive components, for example, an antifoaming agent, various additives, extender pigments, a solvent, and the like as necessary. be able to.

消泡剤には、公知のものを使用でき、例えば、シリコーン系、炭化水素系、アクリル系等を挙げることができる。   A well-known thing can be used for an antifoamer, for example, a silicone type, a hydrocarbon type, an acrylic type etc. can be mentioned.

添加剤には、例えば、シラン系、チタネート系、アルミナ系等のカップリング剤といった分散剤、三フッ化ホウ素−アミンコンプレックス、ジシアンジアミド(DICY)及びその誘導体、有機酸ヒドラジド、ジアミノマレオニトリル(DAMN)及びその誘導体、メラミン及びその誘導体、グアナミン及びその誘導体、アミンイミド(AI)並びにポリアミン等の潜在性硬化剤、アセチルアセナートZn及びアセチルアセナートCr等のアセチルアセトンの金属塩、エナミン、オクチル酸錫、第4級スルホニウム塩、トリフェニルホスフィン、イミダゾール、イミダゾリウム塩並びにトリエタノールアミンボレート等の熱硬化促進剤を挙げることができる。   Examples of additives include dispersants such as coupling agents such as silane, titanate, and alumina, boron trifluoride-amine complex, dicyandiamide (DICY) and its derivatives, organic acid hydrazide, and diaminomaleonitrile (DAMN). And its derivatives, melamine and its derivatives, guanamine and its derivatives, amine imide (AI) and latent curing agents such as polyamine, metal salts of acetylacetone such as acetylacetonate Zn and acetylacetonate Cr, enamine, tin octylate, Examples include quaternary sulfonium salts, triphenylphosphine, imidazole, imidazolium salts, and thermosetting accelerators such as triethanolamine borate.

体質顔料は、塗工した皮膜の物理的強度を上げるためのものであり、例えば、シリカ、硫酸バリウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、タルク、マイカ等を挙げることができる。   The extender is for increasing the physical strength of the coated film, and examples thereof include silica, barium sulfate, alumina, aluminum hydroxide, talc, and mica.

溶剤としては、有機溶剤が好適であり、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール、などのアルコール類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、石油エーテル、石油ナフサ等の石油系溶剤類、セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類、カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等の酢酸エステル類等を挙げることができる。有機溶媒を用いる場合には、その使用量は、(A)感光性樹脂100質量部に対して、好ましくは10〜500質量部、より好ましくは10〜40質量部である。   As the solvent, an organic solvent is suitable, for example, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, alcohols such as methanol, isopropanol and cyclohexanol, cyclohexane, methylcyclohexane and the like. Aliphatic hydrocarbons, petroleum solvents such as petroleum ether and petroleum naphtha, cellosolves such as cellosolve and butylcellosolve, carbitols such as carbitol and butylcarbitol, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate And acetate esters such as carbitol acetate and butyl carbitol acetate. When using an organic solvent, the amount of use is preferably 10 to 500 parts by mass, more preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of (A) the photosensitive resin.

上記した本発明の実施形態例に係る感光性樹脂組成物の製造方法は、特定の方法に限定されないが、例えば、上記各成分を所定割合で配合後、室温にて三本ロールにより混合分散させて製造することができる。
この様に製造された本発明の感光性樹脂組成物による硬化物は、良好な反射率、及び耐衝撃性(耐クラック性)を有する。反射率は、塗膜形成直後の段階で、通常85%以上、好ましくは90%以上を有し、高温多湿下に曝されてこの良好な反射率を維持する。
The method for producing the photosensitive resin composition according to the above-described embodiment of the present invention is not limited to a specific method. For example, after blending each of the above components at a predetermined ratio, the mixture is dispersed by a three roll at room temperature. Can be manufactured.
The cured product of the photosensitive resin composition of the present invention produced in this way has good reflectance and impact resistance (crack resistance). The reflectance is 85% or more, preferably 90% or more, at the stage immediately after the formation of the coating film, and is maintained under this high reflectance when exposed to high temperature and high humidity.

本発明に係る感光性樹脂組成物においては、上で説明してきたとおり、高温多湿下での反射率及び硬化塗膜の耐衝撃性を向上するために、上記(A1)及び/又は(C1)を用いることを特徴としている。本発明において、特に好ましい感光性樹脂組成物は以下の通りである。
・(A)成分が、(A1)と、(A2)及び/又は(A3)とからなる感光性樹脂組成物:(A1)と、(A2)及び/又は(A3)とを併用することにより、良好な反射率及びクラック発生防止効果に加えて、十分な塗膜硬度が得られる。この際、クラック発生防止効果、耐変色性及び反射率のバランスの観点から、(A1)成分を(A)成分全体に対して4〜35質量%とし、且つ、残部を(A2)及び/又は(A3)とすることが好ましい。
・(A)成分が(A2)からなり、かつ、(C)成分が(C1)からなる感光性樹脂組成物:塗膜硬度が良好で、耐変色性、反射率、及び耐クラック性がバランス良く優れている。この場合、(C1)は、(A1)100質量部に対して20〜40質量部配合することが好ましい。
・(A)成分が、(A1)と、(A2)及び/又は(A3)とからなり、(C)成分が(C1)からなる感光性樹脂組成物:塗膜硬度、耐変色性、反射率及び耐熱性がバランス良く優れ、さらに耐クラック性が最も優れている。この際、クラック発生防止効果、耐変色性及び反射率のバランスの観点から、(A1)成分を(A)成分全体に対して4〜35質量%とし、(C1)を(A1)100質量部に対して20〜40質量部配合することが好ましい。
In the photosensitive resin composition according to the present invention, as described above, in order to improve the reflectance under high temperature and high humidity and the impact resistance of the cured coating film, the above (A1) and / or (C1) It is characterized by using. In the present invention, particularly preferred photosensitive resin compositions are as follows.
-By using together (A1) and (A2) and / or (A3) the photosensitive resin composition which (A) component consists of (A1) and (A2) and / or (A3): In addition to good reflectivity and cracking prevention effect, sufficient coating film hardness can be obtained. At this time, from the viewpoint of the effect of preventing cracking, discoloration resistance and reflectance, the component (A1) is 4 to 35% by mass with respect to the total component (A), and the balance is (A2) and / or (A3) is preferable.
Photosensitive resin composition comprising (A) component (A2) and (C) component (C1): good coating film hardness, balanced discoloration resistance, reflectance and crack resistance Good and excellent. In this case, (C1) is preferably blended in an amount of 20 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of (A1).
A photosensitive resin composition comprising (A) component (A1) and (A2) and / or (A3), and (C) component (C1): coating film hardness, discoloration resistance, reflection The ratio and heat resistance are excellent in balance, and the crack resistance is most excellent. Under the present circumstances, from a viewpoint of the crack generation prevention effect, discoloration resistance, and the balance of a reflectance, (A1) component shall be 4-35 mass% with respect to the whole (A) component, and (C1) is (A1) 100 mass parts. It is preferable to mix | blend 20-40 mass parts with respect to.

[太陽電池バックシート]
次に、上記した感光性樹脂組成物をシート状のベースフィルム表面に塗工して、本発明の太陽電池バックシートを製造する方法の例について説明する。シート状ベースフィルム表面を例えば酸で処理して洗浄後、洗浄した表面に、上記のようにして得られた感光性樹脂組成物を所定の塗工手段にて所望の厚さ(例えば5〜100μm、好ましくは、10〜30μm)に、例えばスクリーン印刷法などを用いて塗布する。塗工後、60〜80℃程度の温度で15〜60分間程度加熱する予備乾燥を行う。その後、塗布した組成物に、紫外線を照射させる。紫外線照射条件としては、例えば、300〜450nmの波長の紫外線を、200mJ/cm〜600mJ/cm、好ましくは300〜500mJ/cmで、30〜50秒照射することが好ましい。
尚、ベースフィルムにパターン形成する場合は、例えばパターンのネガフィルムを密着させて、その上から紫外線を照射させた後、このはんだ付けランドに対応する非露光領域を希アルカリ水溶液で除去することによりパターン形成された塗膜を得ることができる。この除去は未露光部分の溶解、膨潤、剥離等のいずれでもよい。この際使用される希アルカリ水溶液としては0.5〜5%の炭酸ナトリウム水溶液が一般的であるが、他のアルカリも使用可能である。
次いで、130〜170℃、好ましくは140〜160℃の温度で10〜80分間、50〜70分間のポストキュア(熱風乾燥炉による後熱処理)を行うことにより、シート状のベースフィルム表面に目的とする白色の硬化塗膜を形成させて白色の太陽電池バックシートを製造できる。この様にして形成された硬化塗膜は、通常、5〜100μm、好ましくは、10〜50μmの厚さを有する。
[Solar cell back sheet]
Next, an example of a method for producing the solar battery back sheet of the present invention by coating the above-described photosensitive resin composition on the surface of the sheet-like base film will be described. After the surface of the sheet-like base film is treated with, for example, an acid and washed, the photosensitive resin composition obtained as described above is applied to the washed surface with a predetermined thickness (for example, 5 to 100 μm). , Preferably 10 to 30 μm), for example, using a screen printing method. After coating, preliminary drying is performed by heating at a temperature of about 60 to 80 ° C. for about 15 to 60 minutes. Thereafter, the applied composition is irradiated with ultraviolet rays. The ultraviolet irradiation conditions, for example, the ultraviolet rays having a wavelength of 300~450nm, 200mJ / cm 2 ~600mJ / cm 2, preferably at 300~500mJ / cm 2, it is preferable to irradiate 30-50 seconds.
In the case of forming a pattern on the base film, for example, by attaching a negative film of the pattern and irradiating it with ultraviolet rays, the non-exposed area corresponding to this soldering land is removed with a dilute alkaline aqueous solution. A patterned coating film can be obtained. This removal may be any of dissolution, swelling, peeling, etc. of the unexposed part. The dilute alkaline aqueous solution used at this time is generally 0.5 to 5% sodium carbonate aqueous solution, but other alkalis can also be used.
Subsequently, the post-cure (post-heat treatment in a hot air drying furnace) is performed at a temperature of 130 to 170 ° C., preferably 140 to 160 ° C. for 10 to 80 minutes, and for 50 to 70 minutes. A white solar battery back sheet can be produced by forming a white cured coating film. The cured coating film formed in this manner usually has a thickness of 5 to 100 μm, preferably 10 to 50 μm.

なお、上記シート状ベースフィルムの材料は、特に限定されないが、例えば、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリビニルフロライド(PVF)、フッ化エチレン・プロピレンコポリマー(FEP)、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)、アラミド、ポリアミド・イミド、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエチレンナフタレート(PEN)、液晶ポリマー(LCP)等を挙げることができる。   The material of the sheet-like base film is not particularly limited. For example, polyimide, polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl fluoride (PVF), fluorinated ethylene / propylene copolymer (FEP), and polytetrafluoroethylene (PTFE). , Aramid, polyamide-imide, epoxy, polyetherimide, polysulfone, polyethylene naphthalate (PEN), liquid crystal polymer (LCP), and the like.

[太陽電池モジュール]
本発明の太陽電池バックシートは、太陽電池セルと組み合わされて太陽電池モジュールを構成する。通常、表面シート、太陽電池セルが樹脂で封止されてなる封止層、及びバックシートが順に積層されて太陽電池モジュールとなる。さらに、積層において密着性が不十分である場合には、接着剤層を設けても良い。
表面シートとしては、通常はガラス基板が用いられるが、表面シートに樹脂シートなどのフレキシブル材料を用いてもよい。本発明のバックシートは、膜厚が薄く、かつ、軽量化が可能であることから、フレキシブル太陽電池にも好適に用いうる。
[Solar cell module]
The solar battery backsheet of this invention comprises a solar cell module combining with a photovoltaic cell. Usually, a surface sheet, a sealing layer in which solar cells are sealed with resin, and a back sheet are sequentially laminated to form a solar cell module. Furthermore, an adhesive layer may be provided when the adhesion is insufficient in the lamination.
As the top sheet, a glass substrate is usually used, but a flexible material such as a resin sheet may be used for the top sheet. The back sheet of the present invention can be suitably used for flexible solar cells because it has a thin film thickness and can be reduced in weight.

以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により制限されるものではない。なお、以下の実施例及び比較例において、組成は重量比で表されている。
(1)評価試料作製方法
表1に記載された組成比で、各配合物を3本ロール(井上製作所製、S16)を用いて、大気雰囲気及び室温下で、混合分散させることにより、各感光性組成物を調製した。次いで、各感光性組成物を用いて以下の条件で、評価基板試験片を作製した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not restrict | limited by these Examples. In the following examples and comparative examples, the composition is expressed by weight ratio.
(1) Evaluation sample preparation method Each photosensitive compound was mixed and dispersed in the atmosphere and at room temperature using three rolls (manufactured by Inoue Seisakusho, S16) at the composition ratio shown in Table 1. A sex composition was prepared. Subsequently, the evaluation board | substrate test piece was produced on condition of the following using each photosensitive composition.

<試験基板試験片作製方法>
厚さ40μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ製、「ルミラー」)の表面を3%の硫酸で処理して洗浄した。次いで該フィルム表面に、上記のように調製した感光性樹脂組成物を、DRY膜厚が20〜23μmとなるようにスクリーン印刷法にて塗布した。その後、塗膜を、熱風循環式乾燥炉(タバイエスペック製、(型番)PHH201)を用いて70℃20分間(炉内:25分)乾燥し、膜厚20〜23μmの乾燥塗膜を形成した。次いで、紫外線露光装置((株)オーク製作所製、型式HMW−680GW、メタルハライドランプ7kW使用)を用いて、紫外線(300〜450nm)を塗膜上に400mJ/cm照射(約40秒)し、その後、熱風循環式乾燥炉を用いて150℃で60分間(炉内:70分)加熱硬化を行ない、試験基板を作製した。なお、加温加湿後の反射率に関しては、加速試験である環境放置に伴うポリエチレンテレフタレート自体の劣化の影響を除くため、ガラス板(1.2mm厚)上に同様な方法にて硬化塗膜を形成し評価した。
<Test substrate test piece preparation method>
The surface of a 40 μm thick polyethylene terephthalate film (“Lumirror” manufactured by Toray) was treated with 3% sulfuric acid and washed. Next, the photosensitive resin composition prepared as described above was applied to the film surface by a screen printing method so that the DRY film thickness was 20 to 23 μm. Then, the coating film was dried at 70 ° C. for 20 minutes (inside the furnace: 25 minutes) using a hot air circulating drying furnace (manufactured by Tabai Espec, (model number) PHH201) to form a dried coating film having a film thickness of 20 to 23 μm. . Next, using an ultraviolet exposure device (Oak Seisakusho, model HMW-680GW, using a metal halide lamp 7 kW), ultraviolet rays (300 to 450 nm) were irradiated onto the coating film at 400 mJ / cm 2 (about 40 seconds), Thereafter, heat curing was performed at 150 ° C. for 60 minutes (inside the furnace: 70 minutes) using a hot-air circulating drying furnace to prepare a test substrate. As for the reflectivity after heating and humidification, a cured coating film is applied to a glass plate (1.2 mm thick) by the same method in order to eliminate the influence of deterioration of polyethylene terephthalate itself due to the environmental standing as an accelerated test. Formed and evaluated.

(2)評価方法
(2−1)変色性評価(耐変色性)
各試験基板を、260℃で5分間加熱後、変色を目視にて観察し、以下の基準で評価した。
○:変色なし、△:変色が若干認められる、×:黄変
(2) Evaluation method (2-1) Discoloration evaluation (discoloration resistance)
After each test substrate was heated at 260 ° C. for 5 minutes, the discoloration was visually observed and evaluated according to the following criteria.
○: No discoloration, △: Some discoloration is observed, ×: Yellow discoloration

(2−2)反射率測定
(2−2−1)初期
各試験片作製直後の硬化塗膜の450nmにおける反射率を、分光光度計U3410((株)日立製作所製、φ60mm積分球)を用いて測定した。
(2-2) Reflectance Measurement (2-2-1) Initial Using a spectrophotometer U3410 (manufactured by Hitachi, Ltd., φ60 mm integrating sphere), the reflectance at 450 nm of the cured coating film immediately after each test piece was prepared. Measured.

(2−2−1)UV照射後
各試験片の硬化塗膜に対し、紫外線露光装置(アイグラフィックス社製、型式UE093)を用いてUV照射(300〜450nm)を50J/cm(約2分)行い、照射後の450nmにおける反射率を、(2−3−1)と同様に測定した。
(2-2-1) After UV irradiation With respect to the cured coating film of each test piece, UV irradiation (300 to 450 nm) was applied to 50 J / cm 2 (about approx. 2 minutes), and the reflectance at 450 nm after irradiation was measured in the same manner as in (2-3-1).

(2−2−2)加熱後
各試験片を、170℃で100時間加熱後、硬化塗膜の450nmにおける反射率を、(2−3−1)と同様に測定した。
(2-2-2) After heating Each test piece was heated at 170 ° C. for 100 hours, and then the reflectance at 450 nm of the cured coating film was measured in the same manner as in (2-3-1).

(2−2−3)加温加湿後
各試験片を85℃、85%RHにて1000時間処放置後、分光光度計U‐3410((株)日立製作所製:φ60mm積分球)にて、500nmにおける硬化塗膜の反射率を測定した。
(2-2-3) After heating and humidification, each test piece was allowed to stand at 85 ° C. and 85% RH for 1000 hours, and then with a spectrophotometer U-3410 (manufactured by Hitachi, Ltd .: φ60 mm integrating sphere) The reflectance of the cured coating film at 500 nm was measured.

(2−3)耐カッピング性
ボンデ鋼板(10×10cm、厚さ0.8mm)の表面をキシレンにて洗浄して、油分を完全に除去したものを用い、上記試験片作製工程における塗膜形成方法と同様に塗膜形成したものを評価基板とし、JIS K−5600−5−2に準拠してカッピング試験を行った。すなわち、各試験片の裏面から鋼球を押し出して試験片を変形させた際に、塗膜の割れ及び剥れが生じるまでの押し出し距離(mm)を測定した。
(2-3) Cupping resistance The surface of a bonded steel plate (10 × 10 cm, thickness 0.8 mm) was washed with xylene to completely remove the oil, and a coating film was formed in the test piece preparation step. A film formed in the same manner as in the method was used as an evaluation substrate, and a cupping test was performed in accordance with JIS K-5600-5-2. That is, when a steel ball was extruded from the back surface of each test piece to deform the test piece, the extrusion distance (mm) until the coating film was cracked and peeled was measured.

(2−4)塗膜硬度
各試験片の硬化塗膜に、芯の先が平らになるように研がれたBから9Hの鉛筆を約45°の角度で押しつけて、塗膜の剥がれが生じない鉛筆の硬さを記録した。
(2-4) Coating film hardness A pencil of B to 9H, which has been sharpened so that the tip of the core becomes flat, is pressed against the cured coating film of each test piece at an angle of about 45 °, and the coating film peels off. The pencil hardness that did not occur was recorded.

(3)評価結果
評価結果を、以下の表1に示した。
表1から、本発明の感光性樹脂組成物による硬化塗膜は、加温加湿(加速条件)後でも、良好な反射率(90%以上)を有する事が分かる。また、耐カッピング性は、いずれも1.5mm以上の良好な数値となっている。
(3) Evaluation results The evaluation results are shown in Table 1 below.
Table 1 shows that the cured coating film by the photosensitive resin composition of this invention has a favorable reflectance (90% or more) even after heating humidification (acceleration conditions). Further, the cupping resistance is a good value of 1.5 mm or more.

Figure 2012004487
Figure 2012004487

(備考)
(A)成分
・A1−1:アミン変性ビスフェノールA型エポキシアクリレート(ダイセル化学工業製、EBECRYL3703)
・A1−2:変性エポキシアクリレート(ダイセル化学工業製、EBECRYL3708)
・A2:サイクロマーPシリーズ(サイクロマーP(ACA)Z−251)
・A3:エポキシ樹脂(ダイセル化学工業社製、EHPE−3150 )270質量部を、セロソルブアセテート400質量部に溶解したものにアクリル酸( 不飽和基含有モノカルボン酸) 110質量部を加え、80℃加熱還流条件下、8時間反応させ、この反応生成物に、テトラヒドロ無水フタル酸(多塩基酸無水物)160質量部を70℃4時間反応させて得た、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂。
・A4:エポキシ樹脂としてビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)JER157S70)220質量部をジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート120 質量部に溶解したものにアクリル酸72 質量部を加え80℃加熱還流条件下、8時間反応させ、続いて、テトラヒドロ無水フタル酸83質量部を70℃4時間反応させて得た、1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂。
(Remarks)
Component (A) A1-1: Amine-modified bisphenol A type epoxy acrylate (Daicel Chemical Industries, EBECRYL3703)
A1-2: Modified epoxy acrylate (Daicel Chemical Industries, EBECRYL3708)
A2: Cyclomer P series (Cyclomer P (ACA) Z-251)
A3: 110 parts by mass of acrylic acid (unsaturated group-containing monocarboxylic acid) was added to 80 parts by dissolving 270 parts by mass of epoxy resin (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., EHPE-3150) in 400 parts by mass of cellosolve acetate. The reaction product was reacted under heating under reflux conditions for 8 hours, and 160 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride (polybasic acid anhydride) was reacted with this reaction product at 70 ° C. for 4 hours. At least two ethylenes in one molecule were obtained. Active energy ray-curable resin having a polymerizable unsaturated bond.
A4: As an epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. JER157S70) 220 parts by mass was dissolved in 120 parts by mass of diethylene glycol monoethyl ether acetate. An active energy ray-curable resin having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule obtained by reacting for 8 hours and then reacting 83 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride at 70 ° C. for 4 hours.

(B)成分
・B1:ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド、チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア819
・B2:2.4.6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、チバ・スペシャリティケミカルズ社製、DAROCURE TPO
Component (B) B1: Bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Irgacure 819
B2: 2.4.6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, DAROCURE TPO

(C)成分
・希釈剤1:下記式(iii)で表されるカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、KAYARAD DPCA−60)

Figure 2012004487
・希釈剤2:下記式(iv)で表される反応性希釈剤(日本化薬社製、KAYARAD HX−620、p+q=6)
Figure 2012004487
・希釈剤3(C1):エトキシ化(3)トリメチロールプロパントリアクリレート、サートマー社製、SR454
・希釈剤4(C1):エトキシ化(6)トリメチロールプロパントリアクリレート、サートマー社製、SR499
・希釈剤5(C1):プロポキシ化(6)トリメチロールプロパントリアクリレート、サートマー社製、CD501
・希釈剤6(C1):エトキシ化(15)トリメチロールプロパントリアクリレート、サートマー社製、SR9035 (C) Component / Diluent 1: Caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate represented by the following formula (iii) (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD DPCA-60)
Figure 2012004487
Diluent 2: Reactive diluent represented by the following formula (iv) (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HX-620, p + q = 6)
Figure 2012004487
Diluent 3 (C1): ethoxylated (3) trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Sartomer, SR454
Diluent 4 (C1): ethoxylated (6) trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Sartomer, SR499
Diluent 5 (C1): propoxylation (6) trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Sartomer, CD501
Diluent 6 (C1): ethoxylated (15) trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Sartomer, SR9035

(D)成分:酸化チタン、石原産業社製、R−680
(E)成分:ビスフェノールA型エポキシ樹脂、大日本インキ化学工業社製、EPICLON860
消泡剤:信越化学工業社製、KS−66
タルク:富士タルク工業社製、LMS
添加剤1:シリカ、日本アエロジル社製、R−974
添加剤2:ジシアンジアミド、ジャパンエポキシレジン社製、DICY−7
添加剤3:ペンタエリスリチル−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノル)プロピオネート)、チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガノックス1010
添加剤4:メラミン
溶剤:ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、三洋化成社製、EDGAC
(D) component: Titanium oxide, Ishihara Sangyo Co., Ltd., R-680
(E) component: Bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, EPICLON860
Antifoaming agent: KS-66, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Talc: Fuji Talc Industrial Co., Ltd., LMS
Additive 1: Silica, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., R-974
Additive 2: Dicyandiamide, manufactured by Japan Epoxy Resin, DICY-7
Additive 3: Pentaerythrityl-tetrakis (3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenol) propionate), Ciba Specialty Chemicals, Irganox 1010
Additive 4: Melamine Solvent: Diethylene glycol monoethyl ether acetate, Sanyo Chemical Industries, EDGAC

Claims (9)

1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、希釈剤(C)と、酸化チタン(D)と、エポキシ系熱硬化性化合物(E)とを含有する感光性樹脂組成物であって、
(A)成分として、二官能のエポキシ(メタ)アクリレート(A1)を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を反射皮膜として有する、太陽電池バックシート。
Active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, photopolymerization initiator (B), diluent (C), titanium oxide (D), and epoxy A photosensitive resin composition containing a thermosetting compound (E),
(A) The solar cell backsheet which has a cured film of the photosensitive resin composition containing bifunctional epoxy (meth) acrylate (A1) as a component as a reflecting film.
1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、希釈剤(C)と、酸化チタン(D)と、エポキシ系熱硬化性化合物(E)とを含有する感光性樹脂組成物であって、
(C)成分として、下記一般式(i)
Figure 2012004487
(式中、R〜Rは、それぞれ独立してメチル基又は水素原子を表し、R〜Rは、それぞれ独立して、炭素数2〜5のアルキレン基を表し、l、m及びnは、l+m+n≦15を満たす自然数である。)で表される化合物を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を反射皮膜として有する、太陽電池バックシート。
Active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, photopolymerization initiator (B), diluent (C), titanium oxide (D), and epoxy A photosensitive resin composition containing a thermosetting compound (E),
As component (C), the following general formula (i)
Figure 2012004487
(In the formula, R 1 to R 3 each independently represent a methyl group or a hydrogen atom, R 4 to R 6 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, l, m and n is a natural number satisfying l + m + n ≦ 15.) A solar battery backsheet having a cured film of a photosensitive resin composition containing a compound represented by:
1分子中に少なくとも2個のエチレン性不飽和結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂(A)と、光重合開始剤(B)と、希釈剤(C)と、酸化チタン(D)と、エポキシ系熱硬化性化合物(E)とを含有する感光性樹脂組成物であって、
(A)成分として、二官能のエポキシ(メタ)アクリレートを含有し、
(C)成分として、下記一般式(i)
Figure 2012004487
(式中、R〜Rは、それぞれ独立してメチル基又は水素原子を表し、R〜Rは、それぞれ独立して、炭素数2〜5のアルキレン基を表し、l、m及びnは、l+m+n≦15を満たす自然数である。)で表される化合物を含有する感光性樹脂組成物の硬化膜を反射皮膜として有する、太陽電池バックシート。
Active energy ray-curable resin (A) having at least two ethylenically unsaturated bonds in one molecule, photopolymerization initiator (B), diluent (C), titanium oxide (D), and epoxy A photosensitive resin composition containing a thermosetting compound (E),
As a component (A), a bifunctional epoxy (meth) acrylate is contained,
As component (C), the following general formula (i)
Figure 2012004487
(In the formula, R 1 to R 3 each independently represent a methyl group or a hydrogen atom, R 4 to R 6 each independently represents an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms, l, m and n is a natural number satisfying l + m + n ≦ 15.) A solar battery backsheet having a cured film of a photosensitive resin composition containing a compound represented by:
前記感光性樹脂組成物が、前記エポキシ(メタ)アクリレート(A1)を、(A)成分全量に対して4〜35質量%含有することを特徴とする、請求項1又は請求項3に記載の太陽電池バックシート。   The said photosensitive resin composition contains 4-35 mass% of said epoxy (meth) acrylate (A1) with respect to (A) component whole quantity, The Claim 1 or Claim 3 characterized by the above-mentioned. Solar cell backsheet. 前記感光性樹脂組成物が、前記一般式(i)で表される化合物を、(A)成分100質量部に対して、2〜100質量部含有することを特徴とする、請求項2又は請求項3に記載の太陽電池バックシート。   The photosensitive resin composition contains 2 to 100 parts by mass of the compound represented by the general formula (i) with respect to 100 parts by mass of the component (A). Item 4. The solar cell backsheet according to Item 3. 前記感光性樹脂組成物が、(A)成分として、アクリル酸及び/又はメタクリル酸と、アクリル酸エステル及び/又はメタクリル酸エステルとの共重合樹脂のカルボキシル基に対して、エチレン性不飽和結合を有する脂環式エポキシを反応させて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂(A2)を含有することを特徴とする、請求項1〜請求項5の何れかに記載の太陽電池バックシート。   The photosensitive resin composition has an ethylenically unsaturated bond as a component (A) with respect to the carboxyl group of a copolymer resin of acrylic acid and / or methacrylic acid and acrylic acid ester and / or methacrylic acid ester. The solar cell backsheet according to any one of claims 1 to 5, further comprising an active energy ray-curable resin (A2) obtained by reacting an alicyclic epoxy resin. 前記感光性樹脂組成物が、(A)成分として、分子中にエポキシ基を2個以上有する脂環式エポキシのエポキシ基の全部又は一部に、ラジカル重合性不飽和モノカルボン酸を反応させて分子中に二個以上のエチレン性不飽和結合を導入し、さらに生成した水酸基に多塩基酸無水物を反応させることにより得られる活性エネルギー線硬化性樹脂(A3)を含有することを特徴とする、請求項1〜請求項6の何れかに記載の太陽電池バックシート。   The photosensitive resin composition reacts with all or part of the epoxy groups of the alicyclic epoxy having two or more epoxy groups in the molecule as the component (A), and a radical polymerizable unsaturated monocarboxylic acid. It contains an active energy ray-curable resin (A3) obtained by introducing two or more ethylenically unsaturated bonds into a molecule and reacting a polybasic acid anhydride with the generated hydroxyl group. The solar cell backsheet according to any one of claims 1 to 6. 前記2官能のエポキシ(メタ)アクリレートが、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート又は変性ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレートである、請求項1、請求項3又は請求項4に記載の太陽電池バックシート。   The solar cell backsheet according to claim 1, 3 or 4, wherein the bifunctional epoxy (meth) acrylate is bisphenol-type epoxy (meth) acrylate or modified bisphenol-type epoxy (meth) acrylate. 請求項1〜8いずれかに記載の太陽電池バックシートを備えた太陽電池モジュール。   The solar cell module provided with the solar cell backsheet in any one of Claims 1-8.
JP2010140627A 2010-06-21 2010-06-21 Solar battery backsheet Active JP5608434B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010140627A JP5608434B2 (en) 2010-06-21 2010-06-21 Solar battery backsheet

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010140627A JP5608434B2 (en) 2010-06-21 2010-06-21 Solar battery backsheet

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012004487A true JP2012004487A (en) 2012-01-05
JP5608434B2 JP5608434B2 (en) 2014-10-15

Family

ID=45536096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010140627A Active JP5608434B2 (en) 2010-06-21 2010-06-21 Solar battery backsheet

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5608434B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015174961A (en) * 2014-03-17 2015-10-05 スリーボンドファインケミカル株式会社 Sealant for photoelectric conversion element
WO2016002923A1 (en) * 2014-07-04 2016-01-07 積水化学工業株式会社 Photocurable composition and method for manufacturing electronic component
JP2016512273A (en) * 2013-03-15 2016-04-25 エルジー・ケム・リミテッド Plastic film
CN108350107A (en) * 2016-02-05 2018-07-31 株式会社Lg化学 Photocurable and heat-curable resin composition and dry film solder mask
WO2019154300A1 (en) * 2018-02-06 2019-08-15 苏州赛伍应用技术股份有限公司 Encapsulation adhesive film for solar cell, preparation method therefor and use thereof
WO2021255907A1 (en) * 2020-06-18 2021-12-23 昭和電工マテリアルズ株式会社 Photosensitive resin composition, dry film, printed wiring board, and method for producing printed wiring board

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1140833A (en) * 1997-07-22 1999-02-12 Toray Ind Inc Laminated film for solar-cell cover
JPH11504353A (en) * 1994-12-19 1999-04-20 クレ・バレ・ソシエテ・アノニム Crosslinkable composition for coating a substrate, coating method using the composition, and coated substrate
JP2008211036A (en) * 2007-02-27 2008-09-11 Tamura Kaken Co Ltd Photosensitive resin composition, solder resist composition for printed wiring board, and printed wiring board
JP2010020264A (en) * 2007-08-09 2010-01-28 Nichigo Morton Co Ltd Solder resist film, resist pattern forming method and luminescent device
JP2010109240A (en) * 2008-10-31 2010-05-13 Toppan Printing Co Ltd Solar cell back sheet
JP2011064863A (en) * 2009-09-16 2011-03-31 Goo Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition, composition for solder resist, and printed circuit board

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11504353A (en) * 1994-12-19 1999-04-20 クレ・バレ・ソシエテ・アノニム Crosslinkable composition for coating a substrate, coating method using the composition, and coated substrate
JPH1140833A (en) * 1997-07-22 1999-02-12 Toray Ind Inc Laminated film for solar-cell cover
JP2008211036A (en) * 2007-02-27 2008-09-11 Tamura Kaken Co Ltd Photosensitive resin composition, solder resist composition for printed wiring board, and printed wiring board
JP2010020264A (en) * 2007-08-09 2010-01-28 Nichigo Morton Co Ltd Solder resist film, resist pattern forming method and luminescent device
JP2010109240A (en) * 2008-10-31 2010-05-13 Toppan Printing Co Ltd Solar cell back sheet
JP2011064863A (en) * 2009-09-16 2011-03-31 Goo Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition, composition for solder resist, and printed circuit board

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016512273A (en) * 2013-03-15 2016-04-25 エルジー・ケム・リミテッド Plastic film
US9701861B2 (en) 2013-03-15 2017-07-11 Lg Chem, Ltd. Plastic film
JP2015174961A (en) * 2014-03-17 2015-10-05 スリーボンドファインケミカル株式会社 Sealant for photoelectric conversion element
CN110079196A (en) * 2014-07-04 2019-08-02 积水化学工业株式会社 The manufacturing method of Photocurable composition and electronic component
WO2016002923A1 (en) * 2014-07-04 2016-01-07 積水化学工業株式会社 Photocurable composition and method for manufacturing electronic component
JP5889491B1 (en) * 2014-07-04 2016-03-22 積水化学工業株式会社 Photocurable composition and method for producing electronic component
CN105829371A (en) * 2014-07-04 2016-08-03 积水化学工业株式会社 Photocurable composition and method for manufacturing electronic component
TWI682238B (en) * 2014-07-04 2020-01-11 日商積水化學工業股份有限公司 Photocurable composition and method of manufacturing electronic parts
CN108350107A (en) * 2016-02-05 2018-07-31 株式会社Lg化学 Photocurable and heat-curable resin composition and dry film solder mask
JP2018533652A (en) * 2016-02-05 2018-11-15 エルジー・ケム・リミテッド Resin composition having photo-curing and thermosetting and dry film solder resist
US10795259B2 (en) 2016-02-05 2020-10-06 Lg Chem, Ltd. Photo-curable and heat-curable resin composition and dry film solder resist
CN108350107B (en) * 2016-02-05 2021-01-26 株式会社Lg化学 Photocurable and thermocurable resin composition and dry film solder resist
WO2019154300A1 (en) * 2018-02-06 2019-08-15 苏州赛伍应用技术股份有限公司 Encapsulation adhesive film for solar cell, preparation method therefor and use thereof
WO2021255907A1 (en) * 2020-06-18 2021-12-23 昭和電工マテリアルズ株式会社 Photosensitive resin composition, dry film, printed wiring board, and method for producing printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
JP5608434B2 (en) 2014-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5325805B2 (en) Photosensitive resin composition and printed wiring board using cured film thereof
JP5608434B2 (en) Solar battery backsheet
JP5613172B2 (en) Flame retardant solder resist composition and flexible wiring board obtained using the same
JP5650460B2 (en) White curable resin composition
JP5802126B2 (en) White curable resin composition
JP5695622B2 (en) Black curable resin composition
JP5352340B2 (en) Photosensitive resin composition, solder resist composition for printed wiring board, and printed wiring board
JP5485599B2 (en) Photosensitive resin composition, solder resist composition for printed wiring board, and printed wiring board
JP5117416B2 (en) Photosensitive resin composition, solder resist composition for printed wiring board, and printed wiring board
JP5147820B2 (en) White solder resist composition for spray painting
JP5981181B2 (en) UV curable resin composition
JP2020170172A (en) Resin composition for laminated electronic component, dry film, cured product, laminated electronic component and printed wiring board
KR101727101B1 (en) Photopolymer composition, solder resist composition for print circuit boards and print circuit boards
JP5768495B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive element and permanent resist
TW201942144A (en) Curable composition for inkjet printing, cured product of same, and electronic component having said cured product
JP2013068867A (en) Photosensitive resin composition, and printed wiring board and reflection sheet having cured coating of photosensitive resin composition
JP6222764B2 (en) Curable resin composition, flexible substrate having a coating of curable resin composition, and reflective sheet
JP2011153187A (en) Resin composition and photocoupler device
JP5718777B2 (en) Thermosetting white ink composition
JP2012006188A (en) Reflection sheet having coating of white hardenable resin composition for spray coating
JP5710897B2 (en) Reflective sheet having a reflective coating of a curable resin composition
JP5711473B2 (en) Reflective sheet having a film of a thermosetting white ink composition
JP5971977B2 (en) White curable resin composition
JP7405803B2 (en) Photosensitive resin composition, photocured product of the photosensitive resin composition, and printed wiring board coated with the photosensitive resin composition
JP5685097B2 (en) Curable resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20120130

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130620

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140609

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20140610

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140805

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140825

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140901

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5608434

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150