JP2012004369A - 搬送装置 - Google Patents
搬送装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012004369A JP2012004369A JP2010138355A JP2010138355A JP2012004369A JP 2012004369 A JP2012004369 A JP 2012004369A JP 2010138355 A JP2010138355 A JP 2010138355A JP 2010138355 A JP2010138355 A JP 2010138355A JP 2012004369 A JP2012004369 A JP 2012004369A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotating shaft
- vacuum vessel
- transport
- substrate
- peripheral surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】基板42を搬送する搬送ローラ18を真空容器31内に配置し、搬送ローラ18と伝熱可能に固定された回転軸16を真空容器31内から真空容器31外へ延在するように配置する。更に、真空容器31の貫通孔31fに配置された磁気シール21によって、回転軸16を回転可能に支持する。そして、回転軸16内に、容器31外から容器31内にかけて軸線方向に延在する冷却用通路17を形成し、当該通路に冷却媒体を流通させる。
【選択図】図1
Description
本発明に係る搬送装置の好適な第1実施形態について、図面を参照して説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。図1は、第1実施形態に係る搬送装置の構成を示す断面図である。図2は、図1に示す搬送装置のII−II線に沿った平面断面図である。図3は、図1に示す磁気シール軸受の構成を示す断面図である。図4は、図1に示すロータリジョイントの構成を示す断面図である。
次に、本発明に係る搬送装置の第2実施形態について、図5を用いて説明する。図5は、第2実施形態に係る搬送装置に含まれる搬送ローラ18近傍を拡大した断面図である。なお、第2実施形態の搬送装置が上述の搬送装置と異なる点は、図5に示すように、搬送ローラ18と回転軸16との間に互いに接触して配置され、搬送ローラ18と回転軸16との間の伝熱を調整する温度調整部材19を備えている点である。ここでは、上記実施形態に記載の搬送装置10と同一又は同等の構成についてはその説明は省略し、上記第1実施形態の搬送装置10と異なる構成について説明する。
Claims (3)
- 真空容器内において加熱された基板を搬送する搬送装置であって、
前記真空容器内に配置され、前記基板を搬送させる搬送ローラと、
前記搬送ローラと伝熱可能に固定され、前記真空容器内から前記真空容器外まで延びる回転軸と、
前記真空容器を形成する壁を貫通する貫通孔に配置されており、前記回転軸を回転可能に支持すると共に前記貫通孔を封止する磁気シール軸受と、
前記回転軸内に軸方向に沿って形成され、前記真空容器外から前記真空容器内にまで延びている、冷却媒体を流通させるための冷却用通路と、
を備えることを特徴とする搬送装置。 - 前記磁気シール軸受を冷却する冷却機構を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。
- 前記搬送ローラと前記回転軸との間に互いに接触して配置されており、前記搬送ローラと前記回転軸との間の伝熱を調整する温度調整部材を更に備えることを特徴とする請求項1または2に記載の搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010138355A JP5562734B2 (ja) | 2010-06-17 | 2010-06-17 | 搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010138355A JP5562734B2 (ja) | 2010-06-17 | 2010-06-17 | 搬送装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012004369A true JP2012004369A (ja) | 2012-01-05 |
JP5562734B2 JP5562734B2 (ja) | 2014-07-30 |
Family
ID=45536016
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010138355A Expired - Fee Related JP5562734B2 (ja) | 2010-06-17 | 2010-06-17 | 搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5562734B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109690751A (zh) * | 2016-06-16 | 2019-04-26 | 应用材料公司 | 基板处理装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04226211A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-08-14 | Eltech Syst Corp | 断熱ロールカバー |
JP2004331349A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Ulvac Japan Ltd | インライン式真空処理装置 |
JP2007049151A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-22 | Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc Asia | 半導体ワークピースの処理装置及び半導体ワークピースの処理方法 |
JP2010114107A (ja) * | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
-
2010
- 2010-06-17 JP JP2010138355A patent/JP5562734B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04226211A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-08-14 | Eltech Syst Corp | 断熱ロールカバー |
JP2004331349A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Ulvac Japan Ltd | インライン式真空処理装置 |
JP2007049151A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-22 | Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc Asia | 半導体ワークピースの処理装置及び半導体ワークピースの処理方法 |
JP2010114107A (ja) * | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109690751A (zh) * | 2016-06-16 | 2019-04-26 | 应用材料公司 | 基板处理装置 |
CN109690751B (zh) * | 2016-06-16 | 2023-04-28 | 应用材料公司 | 基板处理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5562734B2 (ja) | 2014-07-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100568953B1 (ko) | 모터내장롤러의 냉각구조 | |
CN108779865A (zh) | 流量控制阀以及冷却系统 | |
JP2014220996A (ja) | 冷却ロータシャフトを有する電気機械 | |
JP5420296B2 (ja) | ワークピースに対する加熱プレート | |
JP5562734B2 (ja) | 搬送装置 | |
KR101312962B1 (ko) | 반송장치 | |
CN102108489A (zh) | 真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶 | |
CN109423629B (zh) | 圆盘类零件一次性全表面沉积用工件驱动装置及气相沉积炉 | |
TWI452001B (zh) | Handling device | |
US20080056749A1 (en) | Temperature control system for a roller in an image forming apparatus | |
JP2004136880A (ja) | 発熱装置 | |
JP2011047515A (ja) | 駆動装置及び真空処理装置 | |
CN103000557B (zh) | 传送装置 | |
EP1894642B1 (en) | Temperature control system for a roller in an image forming apparatus | |
JP2016516619A (ja) | 駆動機構および少なくとも1つの被駆動ローラまたは押出機スクリューを有するシステム | |
JP5687049B2 (ja) | 搬送装置及び真空処理装置 | |
JP5163875B2 (ja) | アモルファス円筒製造装置及びアモルファス円筒製法 | |
JP2008253062A (ja) | 駆動力伝達装置および基板処理装置 | |
WO2023092273A1 (zh) | 传输装置及加热装置 | |
JP2011084894A (ja) | コンクリート冷却装置、コンクリート打設装置及びコンクリート打設方法 | |
JP2004307213A (ja) | モータ内蔵ローラの冷却構造 | |
JP2006006194A (ja) | 土壌消毒装置 | |
KR100791669B1 (ko) | 온열매트의 작동유체 이송장치 | |
JP4956026B2 (ja) | 電子線殺菌装置 | |
JP2022070598A (ja) | ディスク型処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120713 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130710 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130716 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130912 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140128 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140325 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140610 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140611 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5562734 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |