JP2011523721A - シングル・モード光ファイバにおける曲げに対する敏感性および破局的な曲げ損失の低減ならびにその作製方法 - Google Patents

シングル・モード光ファイバにおける曲げに対する敏感性および破局的な曲げ損失の低減ならびにその作製方法 Download PDF

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Abstract

曲げ損失に比較的不感性であり、破局的な曲げ損失の問題を軽減する光ファイバが、基本横モードでの光の伝搬をサポートし導波するように構成されたコア領域とクラッド領域とを備える。このクラッド領域は、(i)外側クラッド領域と、(ii)環状の台座(またはリング)領域と、(iii)環状の内側トレンチ領域と、(iv)環状の外側トレンチ領域とを含む。この台座領域および外側クラッド領域はそれぞれ、外側クラッド領域の屈折率に比較的近い屈折率を有する。HOMを抑制するために、台座領域は、コア領域の少なくとも1つの(望ましくない)(基本モード以外の)横モードを台座領域の少なくとも1つの横モードに共振的に結合するように構成される。好ましい一実施形態では、ファイバは、その曲げ損失が、約1550nmの信号波長において5mmの曲げ半径では約0.1dB/turn以下、10mmの曲げ半径では約0.02dB/turn以下であるように構成される。さらに、一実施形態では、コア領域はまた、内側コア領域と、この内側コア領域を囲む環状の外側コア(またはシェルフ)領域を含む。この外側コア領域は、ファイバ軸から径方向に9μm未満の距離で延びる。別の実施形態では、内側トレンチ領域は、環状の内側部分と、前記内側部分を囲む環状の外側(または階段)部分とを含む。階段部分の屈折率は内側部分の屈折率より大きい。好ましい一実施形態では、コア領域および内側トレンチ領域の前述の特徴は両方ともファイバに組み込まれている。このようなファイバを作製するための、複数のチューブ製作技術についても説明する。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2007年6月15日に出願した祖父出願第11/818,780号(Fini5)の一部継続出願である、2008年2月28日に出願した同時係属中の親出願第12/072,869号(Fini9−5)の一部継続出願である。本出願はまた、2008年5月28日に出願した、「Low Bend Loss Fiber with Improved Fabrication and Tight−Bend Performance」という名称の仮出願第61/056,461号の優先権を主張するものである。これらの出願を参照により本明細書に組み込む。
本発明はシングル・モード光ファイバに関し、より詳細には、このようなファイバにおける曲げに対する敏感性および破局的な曲げ損失を低減することに関する。
たとえば陸上回線、海底システム、およびメトロ・システムに使用される標準的なシングル・モード光ファイバとは異なり、典型的にはユーザにより近いところに配置されるアクセス・ファイバとしては、ファイバ・トゥ・ザ・ホーム(FTTH)、ジャンパ・ケーブル、およびFTTxファイバ(たとえば、ファイバ・トゥ・ザ・カーブ、屋内配線)がある。アクセス・ファイバは、低損失で信頼性の高い方法で、アクセスされる場所(たとえば、自宅、企業、または他の設備)に光信号を搬送する標準的なシングル・モード・ファイバ(SMF)と接続(interface)するだけでなく、アクセス・ファイバの適用例の多くに固有の曲げの影響に対して比較的不感性でなければならない。
したがって、アクセス・ファイバの適用例において、低い曲げ損失と既存のインフラストラクチャおよび規格との良好な適合性を併せ持つファイバを有することは極めて望ましい。ただし、適合性、特にモード・サイズ、スプライス損失またはコネクタ損失、カットオフ、および高次モード抑制に重要な特性を犠牲にすることなく低い曲げ損失を達成することに関して固有の困難がある。これらの困難はリング補助(ring−assisted)ファイバまたは共振支援(resonance−assisted)ファイバ(RAF)設計によって軽減されるが、多くの従来のRAF設計では製作および曲げ範囲における制約が欠点である。製作上の制約があるために、コストが上昇し、プリフォームのサイズが小さくなる。具体的には、RAFの内側領域(すなわち、外側クラッドを除く)は、従来の気相成長技術(たとえば、MCVD)を使用して製作された屈折率分布を有する。内側領域の種々の部分(たとえば、コア、トレンチ、リング/台座)は異なる屈折率を有し、それは、たとえば屈折率の低い領域を作り出すためにフッ素を添加もしくは中空空隙を作成すること、または屈折率の高い領域を作り出すためにゲルマニウムを添加することによって調整することができる。従来のシングル・モード・ファイバと比較してRAFの内側領域の半径の長さ(断面積または体積)が大きいことにより、ファイバの体積のかなりの部分は気相処理を使用して堆積される。このような処理の堆積速度は比較的低速であるので、このタイプのファイバ材料は比較的低いスループットを有し、したがって比較的高いコストを有する。
国際公開第2005/102946号
したがって、内側領域の少なくとも一部分が従来の低速蒸着気相成長法とは別の技術によって製作されるRAF設計が必要とされている。
製造コストに加えて、現在のRAFは、コアとリングの間の基本モード信号光の急激な共振結合を示し、典型的には3〜5mmの範囲にある臨界曲げ半径で破局的な光損失を生じさせる。にもかかわらず、最近の産業研究から、小さな曲げ半径(2〜4mm)がいくつかの設備で生じることがあり、サポートするべきであることが示されている。
したがって、臨界半径における破局的な曲げ損失の問題を軽減し、より広い範囲の曲げ半径にわたる低い曲げ損失性能を提供するRAF設計も必要とされている。
本発明の一態様によれば、曲げ損失に比較的不感性で、破局的な曲げ損失の問題を軽減する光ファイバは、コア領域と、基本横モードでの光の伝搬をサポートし導波するように構成されたクラッド領域とを備え、このクラッド領域は、(i)コア領域の屈折率ncoreより低い屈折率noutを有する外側クラッド領域と、(ii)屈折率npedを有する環状の台座(またはリング)領域と、(iii)コア領域と台座領域の間に配され、台座領域の屈折率よりはるかに低い屈折率ntriを有する環状の内側トレンチ領域と、(iv)台座領域と外側クラッド領域の間に配され、台座領域の屈折率より低く、外側クラッド領域の屈折率に比較的近い屈折率ntroを有する環状の外側トレンチ領域とを含む。
HOMを抑制するために、この台座領域は、コア領域の少なくとも1つの(基本モード以外の)横モードを台座領域の少なくとも1つの横モードに共振的に結合するように構成されている。
本発明のファイバの好ましい一実施形態では、台座領域および外側トレンチ領域の屈折率および幅(または厚さ)は、ファイバが、比較的低い曲げに対する敏感性と共振損失ピークの低減を併せ持つように構成される。具体的には、本発明のファイバは、約1550nmの信号波長において、その曲げ損失が5mmの曲げ半径では約0.1dB/turn以下、10mmの曲げ半径では約0.02dB/turn以下であるように構成されている。このために、台座領域は背が低くて短いが、外側トレンチ領域は浅く広い。すなわち、npedおよびntroは両方ともnoutに極めて近いが、nped>ntroおよびnout>ntroである。2〜4mmの範囲にあるはるかに小さな半径では、本発明のファイバは比較的低い曲げ損失を示す。たとえば、3mmの曲げ半径では、曲げ損失は約0.2dB/turn以下であり、いくつかのファイバは0.1dB/turn未満の曲げ損失を有する。
さらに、本発明のファイバの一実施形態では、コア領域はまた、内側コア領域と、この内側コア領域を囲む環状の外側コア(またはシェルフ)領域とを含む。このシェルフ領域の屈折率は内側コア領域の屈折率より低く、シェルフ領域の厚さは内側コア領域の直径より薄い。この実施形態の一態様によれば、シェルフ領域は、内側コア領域の長手方向軸から径方向に9μm未満の距離で延びる。
そのうえ、本発明のファイバの別の実施形態では、内側トレンチ領域は、環状の内側部分と、前記内側部分を囲む環状の外側(または階段)部分とを含む。階段部分の屈折率は内側部分の屈折率より大きい。
好ましい一実施形態では、コア領域および内側トレンチ領域の前述の特徴は両方とも本発明のファイバに組み込まれている。
本発明に従って設計されたファイバは、アクセス・ファイバとして有利に使用されうるが、センサまたは車両に使用されるファイバなど他の応用例を有することができる。
さらに、本発明に従って設計されたファイバは、リング/台座、浅い外側トレンチ領域、および/または外側クラッド領域は、より高価な低速蒸着技術ではなく、市販のガラス・チューブを使用して作り出すことができるので、向上された製造性を有する。
したがって、本発明の別の態様は、上述のRAFの作製方法であって、
1)シリカを含み、屈折率npedを有する第1開始チューブを用意するステップと、
2)この第1チューブの内側に、屈折率のより深い内側トレンチ領域を形成する、ダウン・ドープされた複数の第1ガラス層を堆積させるステップと、
3)この第1層の上に、コア領域を形成する、アップ・ドープされた複数の第2ガラス層を堆積させるステップと、
4)第1チューブをコラプスして第1ロッドを形成するステップと、
5)ダウン・ドープされたガラスを含み、屈折率ntroを有する第2チューブを用意するステップと、
6)シリカを含み、屈折率noutを有する第3チューブを用意するステップと、
7)第1ロッドを第2チューブの内側に置くステップと、
8)その中に第1ロッドを有する第2チューブを第3チューブの内側に置くステップと、
9)第3チューブおよび第2チューブを第1ロッド上にコラプスしてファイバプリフォームを形成するステップと
を備える方法である。
ステップ(9)の後で、よく知られている技術を使用して、プリフォームからファイバを線引きすることができる。複数のチューブを使用すること[ステップ(1)、ステップ(5)、およびステップ(6)]によって、気相成長法によって形成されるシリカ・ガラスの体積は劇的に減少され、それに伴って製作コストも減少する。
2つの開始チューブのみを利用する前述の方法の変形形態も、本発明の製作技術によって企図される。
そのうえ、第2チューブまたは第3チューブの代わりに第1ロッドのオーバークラッド処理を行うための代替方法を利用することができ、および/または外付け法(OVD)または気相軸付け法(VAD)など、第1ロッドを作製するための代替方法も使用することができる。
本発明は、その種々の特徴および利点と共に、添付の図面と併せて取り上げる以下のより詳細な説明から容易に理解されよう。
図1(A)は同時係属中の親出願第12/072,869号(Fini9−5)に記載されている、タイプIのRAFの概略断面図であり、図1(B)は、図1Aのファイバの屈折率分布を模式的に表すグラフである。 上記親出願に記載されている発明の一実施形態による、外側トレンチをより浅くした本発明(タイプII)のRAFの屈折率分布を模式的に表すグラフである。 浅い外側トレンチ、背の低い台座、コア領域のシェルフ、および内側トレンチ領域の階段という各特徴の組み合わせを示す、本発明の一実施形態によるタイプIIのRAFの屈折率分布を表す図である。 高次モード(HOM)を抑制するために使用される、ステップ・インデックス形コアおよび環状台座領域を有するファイバの屈折率分布を模式的に表すグラフである。図2Aは、ファイバがまっすぐな場合を表し、図2Bはファイバが曲がっている場合を表す。 本発明の一実施形態によるタイプIIのRAF(実線の曲線I.3)の屈折率分布を、図1Bに示す2つのタイプIのRAFの屈折率分布(破線の曲線II.3、III.3)と比較して模式的に表すグラフである。屈折率の値は、外側クラッド領域の屈折率の値を基準にして示される。 図3に示す3つのRAFに関して、シミュレーションされたHOM閉じ込め損失対波長を示すグラフである。 図3に示す3つのRAFに関して、シミュレーションされたモード・フィールド径(MFD)対と波長を示すグラフである。 図3に示す3つのRAFに関して、シミュレーションされた曲げ損失対曲げ半径を示すグラフである。シミュレーションは、1550nmの信号波長にて行った。より長い波長で同様のシミュレーションを行うことができ、その場合、曲げ損失は大きくなると予想される。また、より短い波長でも同様のシミュレーションを行うことができ、その場合、曲げ損失は小さくなると予想される。 本アクセス・ファイバの一般化された適用例を示す概略ブロック図である。
前述の図の種々のものは一定の比率で描かれていないので概略的に示されており、および/または図を簡略化しわかりやすくするために、示された実際の光ファイバもしくは製品の詳細のすべてを含んでいるわけではない。
用語集
曲げ:マクロ曲げは、一般に単に曲げと呼ばれ、ファイバの湾曲がその長さに沿って比較的一定であるようにファイバが曲げられたまたは巻きつけられたときに生じる。対照的に、ミクロ曲げは、湾曲が特定のファイバの断熱長さの大きさ(adiabatic length scale)内で著しく(たとえば、ファイバ長に沿ってミリメートル以下の程度で)変化するときに生じる。このようなミクロ曲げは、たとえば、ファイバを研磨紙に押し込むことによって標準的なミクロ曲げ試験で形成される。
中心波長:この説明の全体にわたって、波長について言及する際は、特定の光放射の中心波長を意味するものであり、このような放射はすべて、中心波長の上下のよく知られている波長範囲を含む特徴的な線幅を有することが理解されよう。
有効半径:有効半径とは、ファイバの台座領域またはトレンチ領域などの環状領域の内半径および外半径の平均を意味する。
ガラス・ファイバ:本明細書において説明するタイプの光ファイバは典型的にはガラス(たとえば、シリカ)で作製され、当技術分野でよく知られているように、コア領域およびクラッド領域の屈折率は、ファイバの製作中にその中に組み込まれる、1つもしくは複数のドーパント(たとえば、P、Al、Ge、F)の量およびタイプによって、または中空空隙によって制御される。当技術分野でよく知られているように、これらの屈折率、ならびにコア/クラッド領域の厚さ/直径により、重要な動作パラメータが決まる。
屈折率:屈折率(indexおよびindices)という用語は屈折率(refractive indexおよびrefractive indices)を意味するものとする。
屈折率分布:図1B、図1C、図1D、および図3の模式的な屈折率分布は、光ファイバでみられるであろう屈折率が実際に変化したものの平均である。さらに、これらの分布の種々の領域は方形として示されているが、このような領域の境界は水平または垂直である必要はない。1つまたは複数が斜めになっていてよく、たとえば、領域は台形であってよい。
モード:モード(複数可)という用語は、電磁波(たとえば、信号光)の横モード(複数可)を意味するものとする。
モード・サイズ:光モードのサイズは、その有効面積(effective area)Aeffを特徴とし、次式で与えられる。
Figure 2011523721
式中、Eはモードの電界の横方向の空間エンベロープであり、積分はファイバの断面積について行われることが理解されよう。モード・フィールドの形状は軸対称(すなわち、ファイバの長手方向の回転軸に関して対称)なガウス関数に近く、モード・フィールド径(MFD)はモードの直径の適切な測定基準であり、次式のように表すことができる。
Figure 2011523721
式中、rは半径座標である。モード・フィールドの形状が軸対称なガウス関数にまったく等しい場合、Aeff=π×MFD/4である。
半径/直径:半径および直径という用語を前述の(および、以下の)説明において使用するのは、種々の領域(たとえば、コア、台座、トレンチ、クラッド)の断面が円形および/または環状であることを示しているが、実際にはこれらの領域は非円形であってもよく、たとえば、これらの領域は楕円形の形状、多角形の形状、不規則な形状、または他のより複雑な形状であってもよい。それでもやはり、当技術分野で一般的であるように、本出願人らは、簡単かつわかりやすくするために半径および/または直径という用語を頻用する。
共振結合:共振または共振的に結合されたという用語は、コア領域における望ましくないモード(たとえば、HOM)の有効屈折率(neff)が台座領域におけるモードの有効屈折率に基本的に等しいことを意味する。以下の説明においてさらに詳しく説明するように、この現象は、本発明の種々の実施形態に従って設計されたRAFファイバにおいて望ましくないHOMを抑制するために使用される。
信号伝搬:信号光はファイバに沿って伝搬するとき、実際は長手方向軸を縦横に横切ることができるが、伝搬の一般的な方向は当技術分野においてその軸(たとえば、図1Aの軸16)に沿っているとよく言われることは十分に理解されよう。
シングル・モード:単一(シングル)横モードにおける光の伝搬について言及する際は、基本的にシングル・モードでの伝搬を含むものとする。すなわち、実際には、他のすべてのモードを完全に抑制することは必ずしも可能とは限らない。ただし、シングル・モードは、このような他のモードの強度が、意図した適用例にとって小さいまたはわずかであることを示す。
HOMの抑制:HOMをどの程度抑制(またはカットオフ)する必要があるかは、特定の適用例によって決まる。すべてまたは完全に抑制することは多くの適用例で要求されず、このことは、比較的低い強度のHOMが引き続き存在することが許容されうることを示す。いずれにしても、HOMを抑制することは、たとえば全挿入損失の低減、信号モードにおけるノイズの低下、およびミクロ曲げ損失の低減によってシステム性能を向上させる。
ドープされていない:ドープされていない、または誤ってドープされたという用語は、ファイバのある領域、またはこのような領域を形成するために使用される開始チューブが、製作中にその領域に意図的に添加されたのではないドーパントを含むことを意味するが、この用語は、製作プロセス中に本来組み込み可能な低レベルのバックグラウンド・ドーピングを除外するものではない。このようなバックグラウンド・ドーピングのレベルは、ドープされていない領域の屈折率にそれが及ぼす影響はわずかであるので低い。
典型的な実用化を目指した光アクセス・ファイバの設計は、3つの相互に関連する要件、すなわち(i)所定の範囲(たとえば、約2〜15mm)内で曲げ半径に対する曲げ損失を比較的低くする(すなわち、曲げに対する敏感性が低いこと)、(ii)HOMを抑制する(すなわち、抑制するべきHOM(複数可)に対するカットオフ波長を比較的低くする)こと、および(iii)モード面積が標準的なSMFに整合すること(たとえば、前記のCorning社から市販されているSMF28などの標準的なファイバに良好にコネクタ接続(connectorization)および/または接合すること)を考慮する必要がある。以下に、何を前記親出願第12/072,869号(Fini9−5)に記載されているタイプのタイプIのRAF設計と称するかについて最初に説明する。次に、本発明によるタイプIIのRAFについて説明し、その設計および性能をタイプIのRAFの設計および性能と比較する。
タイプIのRAF設計−曲げに対する非感受性に関する考察
ここで図1Aおよび図1Bを参照すると、前記親出願第12/072,869号(Fini9−5)による光ファイバ10は比較的低い曲げ損失を有し、したがって、さまざまなアクセス・ファイバまたはセンサ・ファイバの適用例に適している。ファイバ10はクラッド領域14によって囲まれた直径Dのコア領域12を含み、このコア領域およびクラッド領域は、事実上コア領域12の中央に位置する長手方向軸16に沿って信号光(放射)の伝搬を軸方向にサポートおよび導波するように構成されている。
コア領域12は2層分布(すなわち、2つの基本的に一定または均一な屈折率領域を有する分布)を有するように示されているが、コア領域12は、ステップ・インデックス形分布、マルチステップ形分布、またはグレーデッド・インデックス形分布を有することもできる。
上記の親出願に記載されているタイプIのRAFの一実施形態によれば、クラッド領域14は、環状の外側クラッド領域14.4(routにおける内縁)と、屈折率の高い環状の台座領域14.1(rpedにおける有効半径、厚さtped)と、コア領域12.1と台座領域14.1の間に配された屈折率の低い環状の内側トレンチ領域14.2と、台座領域14.1と外側クラッド領域14.4の間に配された屈折率の低い環状の外側トレンチ領域14.3とを含む。
当技術分野でよく知られているように、保護、強度、扱いやすさを求めて、または他の目的のために他の被覆(図示せず。たとえば、ガラス被覆またはポリマー被覆)により外側クラッド領域14.4が囲まれることがあるが、ファイバの光特性は影響を受けない。
台座領域14.1の屈折率(nped)は、外側クラッド領域14.4の屈折率(nout)より高い。さらに、内側と外側の両方のトレンチ領域の屈折率(ntri、ntro)は、外側クラッド領域14.4の屈折率より低く、すなわちnped>nout、ntri<nout、およびntro<noutである(後述のように、これらの不等式のすべてが本発明によるタイプIIのRAFの要件というわけではない)。後述のように、一般にファイバ10、特に台座領域14.1は、コア領域のあらかじめ選択された(望ましくない)HOMを抑制するように構成されている。
一般に、内側と外側のトレンチ領域により、種々のファイバ・モードの閉じ込めが実現される。カットオフ近傍におけるどのようなモードでも閉じ込める量またはレベルは、式(ntr−nout)ttrによって定量化することができる。式中、ntrはトレンチ領域の屈折率であり、ttrはトレンチ領域の厚さである。タイプIのRAFの場合、好ましくは、トレンチ領域のそれぞれによって実現されるこのような閉じ込めのレベルは、次の条件を満たさなければならない。

0.5<[(ntri−nout)ttri]/[(ntro−nout)ttro]<2.0
(1a)

式中、ttrおよびttroは、それぞれ内側と外側のトレンチ領域の厚さである。
同様に上記の親出願に記載されている一実施形態では、コア領域12は、環状の外側コア領域(またはシェルフ領域)12.2によって径方向に囲まれた内側コア領域12.1を含む。内側コア領域12.1の屈折率は、シェルフ領域12.1の屈折率より大きく、すなわちncore>nshlfである。このシェルフ領域は径方向の厚さtshlfを有し、その外縁は半径rshelf=D/2+tshlfに位置する。
シェルフ領域12.2を含むタイプIのRAFは親出願において任意選択と記載されているが、本発明の一実施形態では、この設計上の特徴を有するタイプIIのRAFが好ましい。シェルフ領域を省略したタイプIのRAFの設計では、コア領域12は単に内側コア領域12.1のみを含み、内側トレンチ領域14.2の厚さは、省略したシェルフ領域の厚さだけ増加する。後述のように、いずれの場合にも、コア領域12は、標準的なSMFの基本モードに整合する基本モードAeffを作り出すように構成される。
もちろん、曲げ損失は可能な限り低くすべきである。具体的には、曲げ損失は、約2〜15mmの範囲のいかなる曲げ半径に対しても、重要な動作波長(たとえば、1300nm、1550nm、および1650nm)において標準的なSMFの曲げ損失より低くすべきである。このために、少なくとも1つのトレンチ領域14.2、14.3(および、好ましくは両方)は、標準的なSMFの全屈折率差よりはるかに高い全屈折率差を提供しなければならない。例示的に、SMF28は、(屈折率の単位で)約5×10−3の全屈折率差を有する。親出願に記載されているタイプIのRAFでは、ファイバ10の全屈折率差は次式によって与えられる。

|ntri−ncore|>0.007、および/または (1)
|ntro−ncore|>0.007 (2)

例示的に、少なくとも式(1)の内側トレンチとコアの屈折率差は約0.008〜0.020であり、好ましくは内側と外側の両方のトレンチとコアの屈折率差は、図1C、図1D、および図3に示すトレンチの浅いタイプIIのRAFの実施形態を除くすべての実施形態に対してこの条件を満たす。
さらに、外側クラッド領域14.4と外側トレンチ領域14.3の間の(routにおける)境界14.5は、約17〜23μm(下記のトレンチの浅い設計では17〜30μm)の範囲にある半径のところにあるべきであり、コア領域と台座領域の屈折率は同等である。すなわち、次式が成り立つ。

|ncore−nped|<0.003 (2a)
図1Bに示すように、タイプIのRAF10の外側トレンチ領域14.3は、比較的細く(径方向の厚さttro)比較的深い(屈折率ntro<<nout)ように示されている。深くとは、ntroがnoutを約0.0020を超えて下回ることを意味する。外側トレンチ領域の細さは重要ではない。
これらの実施形態のいずれにおいても、台座領域(またはリング)は、気相成長法中に屈折率を増加させるドーパント(たとえば、シリカ中のAl、Ge、P)をその領域に導入することによって、よく知られている簡単な方法で形成することができる。図1A〜図1Bのファイバ10によって示されるように、ファイバの各径方向断面では、リング14.1はほぼ均一の屈折率を周方向に有する。ただし、上記の親出願に記載されているように、リングの屈折率は、屈折率を低減させる空孔および/または屈折率を増加させる包含物(inclusion)などの、長手方向に延び、かつ径方向に局在するよく知られている特徴によって周方向に非均一とされることがある。コア、リング、およびトレンチと同様に、これらの特徴は、円、楕円、および多角形を含む種々の断面形状を有してよい。このような設計では、HOM抑制の原理は依然として、台座モードの有効屈折率がほとんど同じであるとき、各台座モードは望ましくないコア導波モードに効率的に結合するというものである。台座モードの有効屈折率は、任意の断面を有するファイバ用の標準的な方法を使用して算出して屈折率整合されることができる。したがって、この設計は、基本的に均一または一定の屈折率を有する環形の特別な場合と概念的に同じである。ただし、望ましい形状を有する特徴を使用することにより、いくつか利点が得られることがある。たとえば、その特徴により、屈折率が均一な環形で可能な波長より広い波長範囲にわたって屈折率の整合が得られることがある。
あるいは、台座領域は仮想のリングであってもよい。すなわち、このリングは、気相成長法中に標準的なドーピングによって形成される輪郭のはっきりした円周の(環状)境界を有する必要はない。代わりに、台座領域は、適切に置かれた特徴、すなわち空孔、包含物、またはその両方からなる配列によって全体的に形成することができる。
同様に、やはり上記の親出願に記載されているように、内側トレンチおよび/または外側トレンチは、伝搬信号モードでみられる有効屈折率を減少させる空孔を適切に離隔した配列を含むことができる。この手法は、顧客の意図する用途において複雑さ/費用の増大が許容されうる場合、トレンチが気相成長法によって、またはチューブを使用することによって形成されるときに使用することができる。
最後に、やはり上記の親出願に記載されているように、ファイバは複数の同心リングも含むことができ、たとえば外側リングに隣接する、散乱または吸収の中心の損失領域を含むことが有利となりうる。
タイプIのRAFの設計−モード整合に関する考察
アクセス・ファイバの適用例では、アクセス・ファイバを標準的なシングル・モード伝送ファイバに接合するまたはその他の方法で結合することが必要であることが多いが、アクセス・ファイバのAeffが標準的なSMF(たとえば、前記Corning社から市販されている標準的なSMF28ファイバ)のAeffに整合していることが重要である。現在の手法では、この要件は、アクセス・ファイバは事実上シングル・モードでもあるべきであり、約1550nmの信号波長において約70〜90μmのAeffおよび約1300nmの信号波長において約55〜70μmのAeffを有するべきであることを意味する。典型的には、円形の断面を有するアクセス・ファイバのコア領域では、アクセス・ファイバはおよそ約8〜11μmの内側コアの直径Dを有するべきである。
話を簡単にするために、親出願から得られた以下の説明では、図1A〜図1BのタイプIのRAF10の設計を中心に論じる。ただし、類似の考察が図1C、図1D、および図3のタイプIIのRAFの実施形態に当てはまることは当業者には明らかであろう。ファイバ10のAeffは主に2つのパラメータによって制御される。1つは、コア領域12.1と内側トレンチ領域14.2の間の屈折率差Δn、すなわちΔn=(ncore−ntri)であり、もう1つは、コア領域12の径方向の幅またはコア面積、すなわち円形の断面の場合はコア領域の直径Dであるが、非円形の断面の場合はコア面積である。より具体的には、所与のDの場合、屈折率差が減少すると、基本モード・フィールドの閉じ込めが減少するが、これはそのAeffが増加することを意味する。ただし、モード閉じ込めが減少することは、特にファイバが鋭く曲げられたとき(たとえば、曲げ半径が2〜15mm)、ファイバがより不良な導波路として作用し、光損失が増加することを意味する。一方、所与のΔnについて、コア領域12の直径が増加すると、Aeffが(直径の2乗と同じくらい)増加するが、サポートされるHOMの数も増加する。一般に、HOMにかなりのエネルギーが存在することは望ましくないことがある。たとえば、ファイバがミクロ曲げをされた場合、光損失が増加する。
外側コア領域(またはシェルフ)12.2を省略した図1の代替実施形態では、全屈折率差(すなわち、ncore−ntri、またはncore−ntro、またはその両方)は依然として不等式(1)および/または(2)を満たすべきであり、コア径Dは約

8μm≦D≦11μm (3)

の範囲にあるべきであり、外側クラッド領域14.4の屈折率は、

0.003≦(ncore−nout)≦0.006 (4)

をほぼ満たすべきである。この屈折率差が高すぎる場合、HOMがコア領域に導入される傾向があることに注意されたいが、これらのHOMは次のセクションで説明する設計を使用して抑制される。
曲げ損失を低減させ、かつAeffを標準的なSMFのAeffに整合させるという矛盾する要件を満たすためのタイプIのRAFファイバの代替設計も図1に示されている。より具体的には、コア領域12は、図1に示すように、内側コア領域12.1を囲む、薄く屈折率のより低い環状のシェルフ領域12.2を含む。シェルフ領域12.2によって、Aeffは、標準的なSMFのAeffに整合するように増加することができる。このシェルフ領域12.2は、比較的薄いかまたは細い。すなわち、シェルフ領域12.2は、内側コア領域12.1の直径Dよりはるかに薄い厚さtshlfを有する。例示的に、D>>tshlfであり、およびD=8〜11μmのとき、おおよそ

1.0μm≦tshlf≦4.0μm (5)

である。
さらに、シェルフ領域12.2の屈折率nshlfは、内側コア領域12.1の屈折率より低く、すなわちnshlf<ncoreである。典型的には、おおよそ(ncore−nshlf)<0.007であるが、これは、標準的なSMFの屈折率差(0.005)に類似している。好ましくは、nshlfは以下の不等式

0.003≦(ncore−nshlf)≦0.007、および (6)
|nshlf−nout|≦0.002 (6a)

をほぼ満たし、Dは約8〜10μmの範囲にある。この好ましい設計では、シェルフ領域の外縁は、9μmより小さく5μmより大きい半径rshelf=D/2+tshlfに位置するべきである。
コア領域12の前述の設計に関する詳細によって、モード整合だけでなくHOM抑制も容易になるが、これについては次のセクションで説明する。
さらに、内側コア領域12.1およびシェルフ領域12.2のこれらの態様は、以下で説明する本タイプIIのRAFの設計に適用される。
タイプIのRAFの設計−HOMに関する考察
タイプIのRAFにおいてHOMを抑制するために、ファイバ10のクラッド領域14は、クラッド領域の残りの部分より高い屈折率npedを有する台座領域14.1を含む。すなわち、台座領域14.1は、少なくとも屈折率(ntri)のより低い内側トレンチ領域14.2によって、さらにいくつかの実施形態では、屈折率の(ntro)より低い外側トレンチ領域14.3によっても径方向に結び付けられている。さらに、台座領域14.1は、外側クラッド領域14.4の屈折率(nout)より高い屈折率を有する。以下のタイプIのRAFの説明において、デュアル・トレンチ設計を説明する目的で、類似の原則がシングル(内側)・トレンチ設計に適用されると理解されていると想定するものとする。
台座領域14.1は、その(リング)モードの少なくとも1つがコア領域12の少なくとも1つの望ましくないHOMと共振的に結合するように構成されている。図2Aの簡略化した屈折率分布に示すように、好ましくはコア領域12のHOM18(例示的にLP11モードとして示す)は台座領域14.1のモード20と共振するが、コア領域の基本モード22は台座領域のどのモードとも共振しない。モード20は典型的には、最も高いまたはほぼ最も高い有効屈折率を有する台座領域14.1のリング・モードの1つであり、よく知られている対称原理によってモード20がコア領域のHOM18に結合しないようにすることはできない。
共振または共振的に結合されたという用語は、コア領域における望ましくないモードの有効屈折率(neff)が台座領域におけるモードの有効屈折率に基本的に等しいことを意味する。したがって、コア領域12の望ましくないモード18のneff18.1は、台座領域14.1のモード20のneff20.1に基本的に等しく、これによりHOM18のエネルギーがコア領域から台座領域のモード20に移動または結合(矢印24)し、そこから外側クラッド領域14.4に放射することが可能になる(矢印26は、通常存在する、漏れやすいクラッド・モードを介してのこうした放射を示す。あるいは、このエネルギーは吸収、散乱などにより失われることがある)。ファイバに沿って距離を適切に伝搬した後、この共振的移動および放射というプロセスによってコア領域においてHOM18が効果的に抑制される。対照的に、コア領域の基本モード22のneff22.1は、台座領域のどのモードのneffにも対応しない。したがって、基本モード22はコア領域において効果的に伝搬し、そのエネルギーが台座領域に共振的に移動することは起こらない(否定矢印28)。
コア領域モードと台座領域モードが基本的に等しい屈折率を有するという条件は、たとえば、コア領域のHOM屈折率18.1と台座領域のモードの屈折率20.1が、これらのモードの間で光の結合が著しく妨げられるほど異なっていないことを意味する。本発明の好ましい一実施形態では、屈折率18.1と屈折率20.1の差は、コアの基本モードの屈折率22.1と台座モードの屈折率20.1の差よりはるかに小さい。
抑制されるべきコア領域のモード(すなわち、望ましくないモード)と共振的な台座領域のモードが適切に結合することについては、後者の台座モードを前者のコアのモードに再び結合させることを低減する必要性も考慮に入れるべきである。
ファイバ10はまた、望ましくないコアのモードが台座モードによって効果的に漏洩可能となるように構成されるべきである。この点に関しては、式(2a)および(2b)に関連して上記で説明したことを参照されたい。
さらに、コア領域と台座領域の間の結合は、所望の(基本)コア・モードが阻害されるほど強くすべきではない。一方、コア領域と台座領域の間の結合は、望ましくないコア・モードが、抑制するべき台座モードに十分に結合しないほど弱くすべきではない。次に、台座モードの漏洩率は、コア領域と台座領域の間の結合が阻害される(すなわち、不十分である)ほど大きくすべきではない。最後に、台座モードの漏洩率は、望ましくないコア・モードが、効果的に抑制されるべき損失をほとんど受けないほど小さくすべきではない。
これらの設計原理を順守すると、コア領域12では、たとえば、基本モード22は効果的に伝搬されるが、HOM18(または他の任意の望ましくないHOM)は効果的に抑制されると想定される。HOMが抑制(またはカットオフ)される必要がある程度は、特定の適用例によって決まる。すべてまたは完全に抑制することは多くの適用例で要求されない。このことは、比較的低い強度のHOMが引き続き存在することが許容されうることを示す。いずれにしても、HOMを抑制することにより、たとえば全挿入損失の低減、信号モードにおけるノイズの低下、および/またはミクロ曲げ損失の低減によってシステム性能が向上する。
したがって、共振結合によって、本RAFはシングル・モード、たとえばコア領域の基本モード22(図2A)で動作することができる。
本デュアル・トレンチのリング・ファイバが望ましくないHOMのコア・モードと特定のリング・モードの間に屈折率整合(または共振)をもたらすように適切に設計されると、コア・モードとリング・モードの屈折率曲線の勾配は、特にこれらが交差する領域において、ほとんど同じである。したがって、コア・モードとリング・モードの間で結合する屈折率−整合は、比較的広い波長範囲(すなわち広帯域)にわたって達成される。
図2AのタイプIのRAFに対する曲げの影響が図2Bに示されている。曲げる前の屈折率分布4Aは、分布4Bによって示されるように歪められ、それにより台座領域14.1のモード20のneff20.1bが増加する。曲げ半径が十分に小さい場合、クラッド・モード20は、矢印30によって示されるように、コア領域12の基本モード22と共振することができる。このような共振によって、不都合なことに、基本コア・モード22の光損失が劇的に増加する(破局的な曲げ損失としても知られている)。したがって、台座領域14.1は、基本コア・モード22をどのクラッド・モードとも、特にクラッド・モード20と共振させることなく、予想される曲げ半径に対応するように構成される必要がある。破局的な曲げ損失の問題は、後述のように、本発明のタイプIIのRAFによって対処される。
前述の共振結合(屈折率整合)の原理は、複数の望ましくないコア・モードを台座領域のシングル・モードに共振的に結合させることによって、または複数の望ましくないコア・モードを1つまたは複数の台座領域の異なるモードに共振的に結合させることによって、複数の望ましくないコア・モードの抑制にも適用することができる。各コア・モードは別個の台座モードと共振する。
さらに、前述の共振結合の原理は、以下で説明するように、本発明によるタイプIIのRAFにも適用される。
タイプIIのRAF−浅い外側トレンチ
このセクションでは、上述のRAFの代替実施形態(タイプIIのRAF)について説明する。親出願に記載されているタイプIIのRAFでは、外側トレンチ領域は、タイプIのRAFの対応する領域と比較して浅く広い。このようなタイプIIのRAFの一実施形態が図1Cの屈折率分布に示されている。ファイバ10cの外側トレンチ領域14.3cはより浅い。浅いとは、外側トレンチ領域の屈折率ntroが外側クラッド領域の屈折率に比較的近いことを意味し、比較的近いとは、ntroがnoutの上下約0.002未満であることを意味する。さらに、図1Cではまた、浅い外側トレンチ領域14.3cが内側トレンチ領域14.2cより広いように示されているが、図1Bの設計と同様に、外側トレンチ領域14.3cの幅(厚さ)ttroは重要ではない。
この浅いトレンチ設計が式(1a)によって定義される設計原理、すなわちトレンチのそれぞれで実現される閉じ込めレベルはほぼ同じにすべきであるという原理に反することは一見して明らかである。設計スペースの大部分において、閉じ込めの高い(深い)内側トレンチを、それより閉じ込めのはるかに低い(浅い)外側トレンチと組み合わせると、比較的不良なHOM抑制が得られるのは、一部には、台座領域14.1のリング・モードがあまりに損失が多く、かつコア・モードからあまりに分離されるようになり、それにより上記で説明した台座領域のまさにその目的(HOM抑制)が妨害されるからである。しかし、まったく異なる閉じ込めレベルを持つ2つのトレンチを有するにもかかわらず良好な性能が得られる設計スペースが見つかった。すなわち、ここで

[(ntri−nout)ttri]/[(ntro−nout)ttro]>2.0 (2b)

であり、たとえば例示的に、式(2b)の左辺は約5〜9の範囲にある。この設計スペースでは、台座モードが台座領域に十分に限定されているわけではない。すなわち、台座モードは外側トレンチ領域中に延び、外側クラッドへのトンネリングによる大きな損失を有する。台座モードの不良な閉じ込めにより、これらのファイバのHOM抑制性能が劣化する傾向があるが、この欠点は、これらの設計の曲げ損失を改善する性能によってバランスがとれる。曲げられたとき、ファイバの台座モードは極端に損失が大きくなり、それによりファイバが、図2Bに関連して上述した破局的な曲げ損失による影響に対して敏感でなくなる。
図1CのRAFのタイプIIの屈折率分布、ならびに図1A〜図1BのタイプIのRAFでは、台座/リング領域14.1cは、外側クラッド領域14.4cの屈折率より著しく大きい屈折率を有するように示されている。しかし、この特定の特徴は、たとえば図1DのタイプIIのRAF10dに示されるように、浅い外側トレンチの本実施形態では不可欠ではないことがわかった。ここで、台座領域14.1dの屈折率(nped)は外側クラッド領域14.4dの屈折率(noc)に比較的近いが、依然として浅い外側トレンチ領域14.3dの屈折率(ntro)およびより深い内側トレンチ領域14.2dの屈折率(ntri、nstep)より大きい。浅い外側トレンチ領域14.3dの屈折率は、前述のように、好ましくは外側コア領域14.4dの屈折率に比較的近い。
一実施形態では、本タイプIIのRAF10dのコア領域12dも、タイプIのRAFに関して上述したように、内側コア領域12.1dと、外側コアまたはシェルフ領域12.2dとを含む。前述のように、シェルフの半径(rshelf)は好ましくは、曲げに対する敏感性を低減するために、9μmより小さく、かつ約5μmより大きい。別の実施形態では、内側トレンチ領域14.2dは、より深い内側部分14.21dと、より浅い外側部分または階段14.22dとを含む。すなわち、より浅い階段14.22dの屈折率(nstep)は、より深い内側部分14.21dの屈折率(nstep)より大きい(より小さな負の値である)。好ましい一実施形態では、図1Dに示すように、後者の特徴(シェルフ12.2dおよび階段14.22d)の両方がファイバ設計に含まれる。例示的に、以下の表Iに示すように、内側コアの半径(D/2)はシェルフ領域12.2dの厚さ(tshelf)の約2.5倍であり、内側トレンチ領域14.2dの内側部分14.21dの厚さは階段14.22dの厚さの約2倍であるが、これらの比率のいずれも重要ではない。他の設計パラメータを適切にかつ簡単な計算で調整することによって、さまざまな比率を使用することができる。
好ましい本設計のタイプIIのRAFは、非常に優れた曲げ損失性能特性を有し、約1550nmの信号波長では、5mmの曲げ半径において約0.1dB/turn以下の曲げ損失を示し、10mmの曲げ半径では約0.02dB/turn以下の曲げ損失を示す。
タイプIIのRAF−性能および設計原理
本タイプIIのRAFの高い性能を示すために、タイプIIのRAFを、親出願に記載されているタイプのタイプIのRAFの2つの設計と比較する。3つのRAFの屈折率分布が図3に示されている。同図において、実線の曲線I.3は本発明による(深い内側トレンチと浅い外側トレンチを有する)タイプIIのRAFの分布であり、破線の曲線II.3は(中程度の屈折率差を持つ内側と外側のトレンチを有する)タイプIのRAFの分布であり、鎖線の曲線III.3は(高い屈折率差を持つ深い内側トレンチと中程度の屈折率差を持つ外側トレンチを有する)別のタイプIのRAFの分布である。
これらのファイバの具体的な設計パラメータを以下の表Iに示す。
Figure 2011523721
3つのRAFの性能の計算値が、図4(HOMの閉じ込め損失対波長、カットオフおよびMPIに関連する)、図5(MFD対波長、接合およびコネクタ接続による損失に関連する)、および図6(曲げ損失対曲げ直径、敏感なファイバがどの程度曲がるかを定量化する)にまとめられている。これらの3つのパラメータの間のトレードオフについて以下に説明する。
曲げ損失:2つのタイプIのRAFを比較すると、図4〜図6から、より深い内側トレンチ(図3の曲線III.3)を有するタイプIのRAFは、あらゆる半径に対して、中程度の屈折率差を持つトレンチを有するタイプIのRAF(図3の曲線II.3)の約1/10の曲げ損失(図6の曲線III.6対曲線II.6)を有することが示される。ただし、より深い内側トレンチのタイプIのRAFは、低いMFD(図5の曲線III.5)と、持続性のより高いHOM(図4の曲線III.4)とを有する。持続性のより高いとは、HOMの閉じ込め損失がより低いことを意味する。
一方、タイプIのRAFは両方とも、臨界半径(約4mmのrcritにおける共振ピーク6.2、6.3)周辺で基本モードが共振的に結合することにより、約5mmを著しく下回る曲げ半径に対して非常に高い曲げ損失を有する(図6の曲線II.6、III.6)。対照的に、浅いトレンチのタイプIIのRAF(図3の曲線I.3)は、2.5mm(図6の曲線I.6)と小さい曲げ半径に対して、より低い曲げ損失を有する。さらに、タイプIIのRAFは、より大きな臨界半径(約7.5mmのrcrit)を有するが、関連する基本損失ピーク6.1ははるかに小さく、この不利益なピークは、本発明によるタイプIIのRAFの設計では、あまり重要でなくなりうることを示す。
本タイプIIのRAFの臨界半径は、台座/リングがタイプIのRAFのリングより大きい半径のところに位置づけられるので、タイプIのRAFの設計の臨界半径より大きい。
タイプIIのRAFについては、曲げ損失(図6)は、いくつかの重要な曲げ条件では改善され(たとえば、約4.5mmの半径より小さく曲がる)、他の条件では悪化する(約4.5mmの半径より大きく曲がる)。共振結合により、基本的にこの曲げ損失曲線の形状を制御できるようになり、したがって特定の適用例に対する最も重要な曲げ半径で最適な性能が得られる。それにもかかわらず、本タイプIIのRAFは、約2〜15mmという比較的広範囲の曲げ半径にわたって有用性を有する(これに関連して、2.5mmの曲げ半径での本シミュレーションおよび実験結果は約2mmの曲げ半径に当てはまると考えられる)。
破局的な曲げ損失:本タイプIIのRAF設計は、タイプIのRAFに勝る異なる利点を有する。より具体的には、タイプIのRAF(図3の曲線II.3)の性能は、破局的な曲げ損失、すなわち臨界曲げ半径(この図では約4mmのrcrit)で発生する共振損失ピーク6.2、6.3(図6の曲線II.6、III.6)を特徴とする。さらに、曲げ半径が約6.5mmより小さいとき、たとえば、曲げ損失は、ピーク損失6.2、6.3まで劇的に増加し、さらに、rcritより小さく約2.5mmに至るまでの半径では比較的高い状態を保つ。対照的に、タイプIIのRAFの曲げ損失(図6の曲線I.6)は、同じ半径範囲にわたって同等の共振損失ピークを示さない(タイプIIのRAFは、7.5mm周辺で非常に浅くわずかなピーク6.1のみを示す)。さらに、タイプIIのRAFはまた、約2.5〜4mmの曲げ半径ではるかに低い曲げ損失を示す。
分析により、本タイプIIのRAFに共振損失ピークがないのは、外側トレンチ領域の屈折率が外側クラッド領域の屈折率に比較的近い設計上の特徴によるものであることを示す。これらの浅いトレンチ設計において、外側トレンチ領域での台座/リング・モードの閉じ込めは内側トレンチ領域よりはるかに少なく、それによって、コア領域と台座/リング領域の間の共振結合が低減される。この設計により、臨界半径近くでの密な曲げにおける曲げ損失が大きいという問題がかなり軽減される。
HOM抑制:本タイプIIのRAF(図3の曲線I.3)を、深い内側トレンチを有するタイプIのRAF(曲線III.3)と比較すると、これらは類似のHOM閉じ込め損失性能(図4の曲線I.4対III.4)を示すが、タイプIIのRAFはかなり良い(高い)MFD(図5の曲線I.5対III.5)を有することがわかる。対照的に、中程度のトレンチを有するタイプIのRAF設計(図3の曲線II.3)は、より高いMFD(図5の曲線II.5)と、持続性のより低いHOM(図4の曲線II.4)を示すが、3つのファイバすべての中で最も高く最も不利益な共振損失ピーク(図6の6.3)を持つ。
カットオフ:従来のシングル・モード・ファイバでは、信号干渉を最小にするためにどのHOMも効果的にカットオフされることが非常に望ましい。ただし、曲げに対して非常に不感性のファイバから利益を得る多くの適用例では、モード結合摂動は比較的弱いかまたは比較的に離隔されており、これらの適用例では、その他の場合には望ましくないHOMに光が存在することに対して、はるかに高い許容性が示されうる。このような適用例では、HOMは、モード結合摂動がより強いまたは離隔間隔がより近接している場合に必要であろうHOM閉じ込め損失よりも低いHOM閉じ込め損失を有していても、効果的にカットオフされると考えられうる。HOM閉じ込め損失に関する要件を低くすることによって、ファイバ設計における柔軟性を向上させることができる。したがって、たとえば、HOM損失曲線III.4およびI.4から、対象となる多くの適用例に対して1300nm周辺のカットオフ波長が効果的であることが示されうる。
設計:本タイプIIのRAFの背が低く広い台座/リングは大きな有効半径を有するので、基本コア・モードの共振結合の臨界半径はそれより比較的高く細い台座に比べて大きい。臨界半径が、商用利用および商用設備に望ましい範囲に収まる可能性の方が高いので、このような背の低い広い台座が、破局的な損失を抑制する設計で使用されることは重要である。言い換えれば、図3(曲線I.3)および図1Dの屈折率分布によって示されるように、背の低い台座は浅いトレンチと組み合わせるべきである。
例示的に、コア領域、トレンチ領域、および台座領域の全体の厚さ(図1Dのrout)はほぼ30μm(図3)であり、トレンチ領域および台座領域の全体の厚さは約20μmを超え、トレンチ領域および台座領域のそれぞれの厚さは約6〜8μmである。したがって、屈折率分布I.3(図3)に示すように、内側コアの直径はD約9ミクロンであり、コアとシェルフ領域は合わせて約13μmの直径を有し、内側トレンチ領域、台座領域、および外側トレンチ領域のそれぞれは約7.5μmの厚さである(表Iも参照されたい)。
タイプIIのRAF−製作に関する考察
上記の親出願に記載されているように、外側トレンチは、蒸着ガラスではなく、ダウン・ドープされた基材チューブ[たとえば、Fドープシリカ(ガラス)基材(または開始)チューブ]などの、比較的低いレベルのダウン・ドーピングを有するガラスを使用して作製することができるので、トレンチ領域14.3c(図1C)がより浅くなると、ファイバ10cの製造性が向上すると予想される。基材チューブを使用すると、ファイバ10cを製作するのに必要な蒸着ガラスの量が減少し、それによって、製造コストが削減される。
このセクションでは、このテーマについてさらに詳しく述べる。具体的には、RAFの光学的性能がファイバの屈折率分布における製造上のばらつきに敏感であることがわかる。たとえば、トレンチ領域および/もしくは台座領域の屈折率、場所、または幅(厚さ)が少し変化すると、曲げ損失、MFD、カットオフ波長、および散乱のような特性が大きな影響を受けることがある。したがって、製造歩留まりを向上させるためにこの感受性を最小限にすることが望ましい。
特に関心が持たれるのは、台座領域の特性の影響である。望ましいタイプIのRAF設計では、外側クラッド領域と比べて高い屈折率(たとえば、図1C、ならびに図3の曲線II.3およびIII.3)を有する台座領域は典型的には細い。逆に、タイプIIのRAFでは、外側クラッドの屈折率に近い屈折率を有するが幅または厚さが増加した台座領域を使用して類似の光学的性能を得ることができる(図1D、図3の曲線I.3)。光学的性能は同様であり得るが、背の高く細い台座領域を有する設計は、背の低く広い台座領域を有する設計より、屈折率分布のパラメータにおけるわずかな変動に対してはるかに敏感である。たとえば、台座領域の幅(厚さ)に関して10%の製造上のばらつきがあっても背の低く広い台座領域の曲げ性能が変化しないことがあるが、このようなばらつきにより、背の高く細い台座領域を使用する同等の設計が著しい影響を受けることがある。
浅いトレンチ領域を使用することによって、高速蒸着で作り出されたガラス・チューブまたはガラスを使用しやすくなるようになり、背の低い台座領域も使用しやすくすることができる。低損失設計では、台座領域および外側トレンチ領域は両方とも、市販のガラス・チューブを使用して形成することができる。たとえば、台座領域は、内側に(たとえば、MCVDによって)内側トレンチ領域およびコア領域が堆積された純粋な(すなわち、または誤ってドープされた)シリカ基材または開始チューブから形成することができるが、外側トレンチ領域は、このMCVDコア・ロッドに、わずかにダウン・ドープされた開始チューブによるオーバークラッド処理を行い、それに続いて別の純粋なシリカ開始チューブによるオーバークラッド処理を行うことによって作製することができる。台座領域および外側トレンチ領域がこのようなチューブから作り出される場合、広い台座領域および外側トレンチ領域が望ましい。
光ファイバプリフォームの製造に適合する、ドープされた高シリカ・チューブの利用可能なタイプは、現時点では、純粋なシリカに比べて低い屈折率差に限られており、典型的には、それらのタイプは、純粋なシリカの屈折率より低い屈折率を有する。たとえば、コストが低い市販チューブの典型的な屈折率の範囲は、純粋なシリカより低い約2×10−3〜純粋なシリカの屈折率である。このようなチューブは、純粋なシリカより低い屈折率を作り出すためにフッ素でドープされる。
有用な高速蒸着技術には、外側スート処理およびガラス粒または砂処理が含まれる[たとえば、C.PedridoのWO2005/102946(2005年)を参照されたい]。これらの技術では、速度および製造コストの両方を向上させるために、純粋なシリカに比べて低い屈折率差および広い堆積領域を維持することが望ましい。
さらに、本タイプIのRAFのいくつかは、屈折率差の高い堆積された領域を20μmを超えて延在させており、本タイプIIのRAFのいくつかは、たとえば14μmの半径内部に制限された、堆積された領域を有し、それによって堆積されるガラスの体積を2分の1以下に減少させることができる。
これらの考察を考慮に入れると、図3〜図6を参照して上述したタイプのタイプIIのRAFの作製方法Iは、
1)シリカを含み、屈折率npedを有する第1開始チューブ(基材チューブとしても知られる)を用意する加工ステップと、
2)この第1チューブの内側に、屈折率のより深い内側トレンチ領域を形成する、ダウン・ドープされた複数の第1ガラス層を堆積させる加工ステップと、
3)この第1層の上に、屈折率の高いコア領域を形成する、アップ・ドープされた複数の第2ガラス層を堆積させる加工ステップと、
4)第1チューブをコラプスして第1ロッドを形成する加工ステップと、
5)ダウン・ドープされたガラスを含み、屈折率ntroを有する第2チューブを用意する加工ステップと、
6)シリカを含み、屈折率noutを有する第3チューブを用意する加工ステップと、
7)第1ロッドを第2チューブの内側に置く加工ステップと、
8)その中に第1ロッドを有する第2チューブを第3チューブの内側に置く加工ステップと、
9)第3チューブおよび第2チューブを第1ロッド上にコラプスしてファイバプリフォームを形成する加工ステップと
を含む。ステップ(9)の後で、光ファイバ技術における当業者によく知られている技術を使用して、プリフォームからファイバを線引きすることができる。さらに、前述のステップのそれぞれは、実際には複数のサブステップを含むことができる。したがって、たとえば、堆積ステップ(3)は、アップ・ドープされた複数の第1層を第2層上に堆積させて外側コア(またはシェルフ)領域12.2d(図1D)を形成するサブステップ(3a)と、次に、第2の複数のアップ・ドープされた層をシェルフ領域12.2d上に堆積させて内側コア領域12.1dを形成するサブステップ(3b)とを含むことができる。同様に、堆積ステップ(4)は、ダウン・ドープされた複数の第1層を第1層上に堆積させて深い内側トレンチ領域14.2dのより浅い外側(または階段)部分14.22d(図3)を形成するサブステップ(4a)と、次に、この階段部分14.22d上に、ダウン・ドープされた複数の第2層を堆積させて深い内側トレンチ領域の内側部分14.21dを形成するサブステップ(4b)とを含むことができる。
複数のチューブを使用すること[ステップ(1)、ステップ(5)、およびステップ(6)]によって、比較的低速の気相成長法によって形成されるシリカ・ガラスの体積は劇的に減少され、それに伴って製作コストも減少する。第1ロッドのオーバークラッド処理を行うために第2チューブまたは第3チューブの代わりに上述の外側スート処理または粒子処理を用いても、同様の利益が得られる。より具体的には、このようなオーバークラッドは、炎からのシリカ・ベースのスートの堆積によって、または透明ガラスに焼結されたガラス粒を使用することによって形成されることができる。このような方法は、コア領域または内側クラッド領域に使用するより高速の堆積を用いて屈折率の異なる(たとえばntroおよびnout)各環状領域を作製するような形で実施することができる。
そのうえ、外付け法(OVD)または気相軸付け法(VAD)など、第1ロッドを作製するための代替方法も使用することができる。これらの方法によるRAFの各内側領域の製作は通常、外側クラッド堆積よりもかなり低速であるので、これらの代替方法を使用して堆積されるガラスの半径方向の長さを減少させるのに有益である。実際には、比較的低速の堆積処理から作り出される材料の半径方向の長さが減少される限り、気相、チューブ、スート処理、または粒子処理のどのような組み合わせを使用しても本発明の屈折率構造を作製することができる。
方法Iでは、深い内側トレンチ14.2d(図1D)が、より深い内側部分14.21dと、より浅い外側部分(または階段)14.22dとを含むファイバ設計が好ましい。階段14.22dがあることには、ある製作上の利点がある。より具体的には、方法Iのステップ(2)では、使用する堆積技術によっては、商業的供給業者から購入した基材チューブの組成がその上に堆積される第1層の品質に悪影響を与えることがあることがわかっている。
具体的には、基材チューブ上に深い内側トレンチ14.2dの各層を直接的に形成するためにダブル・パス(double−pass)技術を使用する(1回目のパスでスートを堆積させ、2回目のパスでスートを焼結させる)とき、高品質のシリカ層を得るのが困難であることがわかった。一方、この問題は、シングル・パス堆積技術(たとえば、標準的なMCVD)を使用して、より浅い外側トレンチ部分14.22dを形成する、すなわちトーチのシングル・パスでSiFを使用して外側部分14.22dの各層をF含有シリカ層として堆積させることによって解決した。ただし、この技術では、より深い内側部分14.21dには不十分な約−7×10−3の負の最大屈折率しか得ることができない。より深い内側部分14.21dは典型的には、約−10×10−3というより高い負の屈折率を必要とする。より深い内側部分に必要な屈折率を達成するために、ダブル・パス堆積技術、すなわちトーチの2回のパスで内側部分14.22dの各層を堆積させる技術を使用する。1回目のパスではシリカ・スート層を堆積させ、次に2回目のパスではSiFの存在下でこのスート層を焼結させて内側部分14.21dのF含有シリカ層を形成する。
より一般的には、内側トレンチ領域堆積技術は、以下のように、所望の屈折率(ntri)によって決まる。
(a)0<ntri≦−4×10−3の場合、内側トレンチ領域は、SFの存在下でシリカのシングル・パス堆積法によってそれぞれ形成された複数のシリカ層を備える。
(b)−4×10−3≦ntri≦−7×10−3の場合、内側トレンチ領域は、SiFの存在下でシリカのシングル・パス堆積法によってそれぞれ形成された複数のシリカ層を備える。または、
(c)−7×10−3≦ntri≦−11×10−3の場合、内側トレンチ領域は、上述のように最初にスートを堆積させ次にこのスートをSiFの存在下で焼結させるシリカのダブル・パス堆積法によってそれぞれ形成された複数のシリカ層を備える。または、
(d)これらの技術の組み合わせ。特に、SiFおよびSF両方の存在下でのシングル・パス堆積。
(e)(a)、(b)、(c)、または(d)の深い内側トレンチは、高分圧のSiFを含有する雰囲気中で外部に堆積させたスートを焼結させる、または小さな中空空隙を使用してガラス領域の平均屈折率を減少させるなどの代替方法から作り出すことができる。
上述の3つのチューブを用いる製作方法は、堆積される低速蒸着ガラスの体積を減少させ、したがってファイバを製造するコストを減少させるので好ましいが、ややコストが高くても許容されうる適用例がある場合がある。このような場合、代替手法は、(i)第1ロッドを形成するコラプス・ステップ(4)の前に、台座領域、内側トレンチ領域、およびコア領域を堆積させること、および(ii)2つの開始チューブのみを使用し、1つは上記ステップ(5)の外側トレンチ領域を形成するために、もう1つは上記ステップ(6)の外側クラッド領域を形成するために使用すること、である。
したがって、この2つのチューブを用いて本タイプIIのRAFを製作(製造)するための代替方法IIは、
1)シリカを含み、屈折率ntroを有する第1開始チューブ(基材チューブとしても知られる)を用意するステップと、
2)この第1チューブの内側に、台座領域を形成する複数の第1ガラス層を堆積させるステップと、
3)この第1層の上に、屈折率のより深い内側トレンチ領域を形成する、ダウン・ドープされた複数の第2ガラス層を堆積させるステップと、
4)この第2層の上に、屈折率の高いコア領域を形成する、アップ・ドープされた複数の第3ガラス層を堆積させるステップと、
5)第1チューブをコラプスして第1ロッドを形成するステップと、
6)シリカを含み、屈折率noutを有する第2チューブを用意するステップと、
7)第1ロッドを第2チューブの内側に置くステップと、
8)第2チューブをコラプスしてファイバプリフォームを形成するステップと
を含む。上記のように、ステップ(8)の後で、光ファイバ技術における当業者によく知られている技術を使用して、プリフォームからファイバを線引きすることができ、好ましい実施形態と同様に、上記の加工ステップのそれぞれは、複数のサブステップを含むことができる。
複数のチューブを使用すること[ステップ(1)およびステップ(6)]によって、比較的低速の蒸着によって形成されるシリカ・ガラスの体積はタイプIのRAFに比べて減少し、それに伴って製作コストも減少する。ただし、その減少量は、好ましい方法によって達成される減少量ほど大きくない。上記のように、第2チューブの代わりに外部スート処理または粒子処理を用いても同様の利益が得られるが、RAFの内側領域の材料を作り出すための他のよく知られている方法を使用してコア・ロッドを作り出すことができる。
基材チューブ上に堆積された第1層が屈折率の低いトレンチ領域を形成するのではなく、屈折率の高い台座領域を形成する方法IIを使用するとき、シングル・パス堆積処理に続いてダブル・パス堆積処理を利用することは不要である。その代わり、台座領域をシングル・パスMCVD堆積によって形成することができ、深い内側トレンチ領域全体をダブル・パス技術によって形成することができ、それによって上記の技術(c)に示すように、領域が約−7×10−3以下の屈折率を示す。あるいは、トレンチ領域は、所望の屈折率に応じて上記の技術(a)、(b)、(d)、または(e)のいずれかを使用して形成することができる。
実験結果
この例では、図3の屈折率分布I.3によって示されるタイプのタイプIIのRAFについて説明する。種々の材料、寸法、および動作条件は、単なる例示として記載されているに過ぎず、特に明示されない限り本発明の範囲を限定するものではない。
本発明者らは、シリカ層堆積ステップに3つのチューブを用いる上述の好ましい方法およびよく知られているMCVDを使用してこれらのタイプIIのRAFを製作した。すべてのチューブは商業的供給業者から購入した。台座領域用および外側クラッド領域用のチューブはドープされていないシリカからなるが、外側トレンチ領域用のチューブはFドープされたシリカからなり、外側クラッドの屈折率より低い屈折率2×10−3を有していた。
MCVDシリカ層は、内側コア領域12.1d(図1D)ではGeでドープされ、環状外側コア領域12.2dではGeでドープされ、内側トレンチ領域14.2dではFでドープされた。上述のように、外側トレンチ領域14.3dはFドープされたチューブによって形成され、外側クラッド領域14.4dはドープされていないチューブによって形成された。線引きされた状態の(as−drawn)ファイバは、図3の曲線I.3によって示される屈折率差分布を有していた。
本発明者らは、1550nmの信号波長において本タイプIIのRAFの曲げ損失対曲げ直径を測定し、各ファイバのデータが曲線I.6(図6)によく適合することを確認した。具体的には、これらのファイバは、曲げ損失は5mmの曲げ半径では約0.1dB/turn以下、10mmの曲げ半径では約0.01dB/turn以下という基準を満たした。実際、それらの性能はさらに良好であった。すなわち、本発明のファイバは、5mmの曲げ半径において約0.06〜0.08dB/turnの曲げ損失を、10mmの曲げ半径において約0.006〜0.009dB/turnの曲げ損失を示した。
さらに、本発明者らは、測定値から、長さ22mのファイバに対して約1262nmのカットオフを推定した。1310nmの波長におけるモード・フィールド径は8.8±0.1μmであると測定された。
本発明の原理に従って複数のプリフォームから製作した別のグループのファイバは、以下の曲げ損失およびケーブル・カットオフ特性を示した。
ケーブル・カットオフ:1200〜1250nm
曲げ損失:5mmの曲げ半径および1550nmの波長において0.04〜0.08dB/turn
曲げ損失:10mmの曲げ半径および1550nmの波長において0.005〜0.02dB/turn
ただし、ファイバの曲げ損失性能に悪影響を与えうる回避不能な製造上のばらつきを考慮して、10mmの曲げ半径において0.02dB/turnというより保守的な基準を利用することが望ましい。さらに、上述のように、2〜4mmの範囲にあるはるかに小さな半径では、本発明のファイバは比較的低い曲げ損失を示す。たとえば、3mmの曲げ半径では、曲げ損失は約0.2dB/turn以下であり、いくつかのファイバは0.1dB/turn未満の曲げ損失を有する。
上記の構成は、本発明の原理の応用例を表すために考案できる、多くの考えられる具体的な実施形態を例示しているに過ぎないことを理解されたい。他の多くのさまざまな構成は、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、当業者によってこれらの原理に従って考案することができる。
具体的には、本発明者らは、上記でさまざまなファイバの寸法が、どのように、リング・モードの閉じ込め損失に影響を及ぼしているか、したがって台座領域からコア領域中に戻されて結合した光エネルギーの量を低減しているかを説明したが、たとえば吸収、散乱、ファイバ曲げ、モード結合、または利得によって同じ結果を得る他の方法があることは当業者には明らかであろう。さらに、これらの技術は、別々にまたは互いに組み合わせて使用することができる。
さらに、図7に、本アクセス・ファイバおよび/またはFTTHファイバの極めて一般化された例示的な用途を示す。ここでは、入力ファイバ(たとえば、標準的なSMF70)が、光源72(たとえば、伝送システム)から設備74(たとえば、企業または自宅を収容するビルディング)へ光信号を搬送する。例示的に、SMF70は、本発明によるタイプIIのRAFであるアクセス・ファイバ76に接合される。ファイバ76は、設備内に配置されるかまたは設備に関連づけられた利用デバイスまたは装置78に信号を搬送する。SMF70およびアクセス・ファイバ76は例示的に、接続箱77に互いに接合され、この箱は一般に、設備74の内部または外部の壁74.1に配置される。しかし、この接続箱は、設備内の他の場所またはその外側に配置することができる。いずれの場合も、アクセス・ファイバ76には一般に、利用装置78への直線経路はない。むしろ、アクセス・ファイバは1つまたは複数の障害物79を避けなければならないことが多く、これは、アクセス・ファイバが少なくとも1つの曲がったセグメントまたは区間76.1を有することが多いことを意味する。これまで述べたように、このように曲がった区間は、ファイバの曲げ半径が約2〜15mmである小さな曲がりを有する場合がある。本アクセス・ファイバのモード整合の特徴により、アクセス・ファイバをSMFに効率的に接合し、同時に過剰な曲げ損失を受けることなく、障害物のまわりで曲げることが可能になる。あるいは、SMF70を出力ファイバ、または入力と出力の両方のファイバとしてもよい。したがって、一般にSMF70は入出力ファイバと呼ばれることもある。
もちろん、湾曲したセグメントまたは区間76.1が設備74の外側に配置できることも当業者には容易に理解されよう。
最後に、本発明者らはアクセスの適用分野において本発明のファイバを使用することを強調してきたが、これらのファイバの曲げに対する敏感性が低減されることにより、これらのファイバがたとえばセンサまたは車両(たとえば、自動車、航空機、列車、船舶)での使用に魅力的なものとなることも当業者には明らかであろう。

Claims (29)

  1. 光ファイバであって、
    長手方向軸を有するコア領域を備え、
    前記コア領域は、内側コア領域と、前記内側コア領域を囲む環状外側コア領域とを含み、前記外側コア領域の屈折率が前記内側コア領域の屈折率より低く、前記外側コア領域の厚さが前記内側コア領域の直径より薄く、前記外側コア領域が前記軸から径方向に5μm超9μm未満の距離で延び、さらに、
    前記コア領域を囲むクラッド領域を備え、前記コア領域および前記クラッド領域が前記コア領域における基本横モードの信号光の伝搬を前記軸の方向にサポートし導波するように構成され、
    前記クラッド領域は、
    前記コア領域の屈折率より低い屈折率を有する外側クラッド領域と、
    前記外側クラッド領域の屈折率にほぼ等しい屈折率を有する台座領域と、
    前記コア領域と前記台座領域の間に配され、環状の内側部分と、前記内側部分を囲む環状の外側部分を含み、前記外側部分の屈折率は前記内側部分の屈折率より大きい、環状の内側トレンチ領域と、
    前記台座領域と前記外側クラッド領域の間に配され、前記台座領域が前記内側トレンチ領域および外側トレンチ領域の屈折率より大きい屈折率を有する環状の外側トレンチ領域とを含み、
    前記台座領域が前記コア領域の前記基本モード以外の少なくとも1つの横モードを前記台座領域の少なくとも1つの横モードに共振的に結合するように構成され、
    約1550nmの信号波長において、関連する曲げ損失が5mmの曲げ半径では約0.1dB/turn以下、10mmの曲げ半径では約0.02dB/turn以下であるように構成された、光ファイバ。
  2. 前記ファイバがシリカを含み、前記外側トレンチ領域の屈折率が、前記外側クラッド領域の屈折率である約0.002以下である、請求項1に記載のファイバ。
  3. 前記ファイバがシリカを含み、前記内側トレンチ領域、前記台座領域、および前記外側トレンチ領域の屈折率が、それぞれ前記外側クラッド領域の屈折率である0.002以下である、請求項1に記載のファイバ。
  4. 前記台座領域、前記外側トレンチ領域、および前記外側クラッド領域の少なくとも2つが、コラプスされたガラス・チューブを備える、請求項1に記載のファイバ。
  5. 前記台座領域、前記外側トレンチ領域、および前記外側クラッド領域の3つすべてが、コラプスされたガラス・チューブを備える、請求項4に記載のファイバ。
  6. 前記内側トレンチ領域、前記台座領域、および前記外側トレンチ領域の全体の厚さが少なくとも約20μmである、請求項1に記載のファイバ。
  7. 前記内側トレンチ領域、前記台座領域、および前記外側トレンチ領域のそれぞれの厚さが約6〜8μmである、請求項6に記載のファイバ。
  8. 前記コア領域が内側コア領域と、前記内側コア領域を囲む環状外側コア領域とを含み、前記外側コア領域の屈折率が前記内側コア領域の屈折率より低く、前記外側コア領域の厚さが前記内側コア領域の直径より薄い、請求項1に記載のファイバ。
  9. 約1550nmの信号波長において、関連する曲げ損失が5mmの曲げ半径では約0.1dB/turn以下、10mmの曲げ半径では約0.01dB/turn以下であるように構成された、請求項1に記載のファイバ。
  10. 約1550nmの信号波長において、関連する曲げ損失が3mmの曲げ半径では約0.2dB/turn以下であるように構成された、請求項1に記載の光ファイバ。
  11. アクセスされた設備に、またはアクセスされた設備から信号光を搬送するシングル・モード光入出力ファイバと、
    前記設備に関連づけられた利用デバイスと、
    前記入出力ファイバのモード・フィールド面積に実質的に等しいモード・フィールド面積を有するように構成された、前記入出力ファイバを前記利用デバイスに結合する請求項1に記載のアクセス・ファイバとを備える、アクセス・システム。
  12. 前記アクセス・ファイバが、臨界半径より大きな曲げ半径を有する少なくとも1つの湾曲したファイバ区間を含む、請求項11に記載のシステム。
  13. 前記曲げ半径が約2〜15mmの範囲にある、請求項12に記載のシステム。
  14. 光ファイバであって、
    長手方向軸を有するコア領域を備え、
    前記コア領域は、内側コア領域と、前記内側コア領域を囲む環状外側コア領域とを含み、前記外側コア領域の屈折率が前記内側コア領域の屈折率より低く、前記外側コア領域の厚さが前記内側コア領域の直径より薄く、前記外側コア領域が前記軸から径方向に9μm未満の距離で延び、さらに、
    前記コア領域を囲むクラッド領域を備え、前記コア領域および前記クラッド領域が前記コア領域における基本横モードの信号光の伝搬を前記軸の方向にサポートし導波するように構成され、
    前記クラッド領域は、
    前記コア領域の屈折率より低い屈折率を有する外側クラッド領域と、
    前記外側クラッド領域の屈折率にほぼ等しい屈折率を有する台座領域と、
    前記コア領域と前記台座領域の間に配された環状の内側トレンチ領域と、
    前記台座領域と前記外側クラッド領域の間に配される環状の外側トレンチ領域とを含み、前記台座領域が前記内側トレンチ領域および外側トレンチ領域の屈折率より大きい屈折率を有し、
    前記台座領域が前記コア領域の前記基本モード以外の少なくとも1つの横モードを前記台座領域の少なくとも1つの横モードに共振的に結合するように構成される、光ファイバ。
  15. アクセスされた設備に、またはアクセスされた設備から信号光を搬送するシングル・モード光入出力ファイバと、
    前記設備に関連づけられた利用デバイスと、
    前記入出力ファイバのモード・フィールド面積に実質的に等しいモード・フィールド面積を有するように構成された前記入出力ファイバを前記利用デバイスに結合する請求項14に記載のアクセス・ファイバとを備える、アクセス・システム。
  16. 前記アクセス・ファイバが、臨界半径より大きな曲げ半径を有する少なくとも1つの湾曲したファイバ区間を含む、請求項15に記載のシステム。
  17. 前記曲げ半径が約2〜15mmの範囲にある、請求項16に記載のシステム。
  18. 光ファイバであって、
    長手方向軸を有するコア領域と、
    前記コア領域を囲むクラッド領域とを備え、前記コア領域および前記クラッド領域が前記コア領域における基本横モードの信号光の伝搬を前記軸の方向にサポートし導波するように構成され、
    前記クラッド領域は、
    前記コア領域の屈折率より低い屈折率を有する外側クラッド領域と、
    前記外側クラッド領域の屈折率にほぼ等しい屈折率を有する台座領域と、
    前記コア領域と前記台座領域の間に配され、環状の内側部分と、前記内側部分を囲む環状の外側部分を含み、前記外側部分の屈折率は前記内側部分の屈折率より大きい、環状の内側トレンチ領域と、
    前記台座領域と前記外側クラッド領域の間に配される環状の外側トレンチ領域とを含み、前記台座領域が前記内側トレンチ領域および外側トレンチ領域の屈折率より大きい屈折率を有し、
    前記台座領域が前記コア領域の前記基本モード以外の少なくとも1つの横モードを前記台座領域の少なくとも1つの横モードに共振的に結合するように構成される、光ファイバ。
  19. アクセスされた設備に、またはアクセスされた設備から信号光を搬送するシングル・モード光入出力ファイバと、
    前記設備に関連づけられた利用デバイスと、
    前記入出力ファイバのモード・フィールド面積に実質的に等しいモード・フィールド面積を有するように構成された、前記入出力ファイバを前記利用デバイスに結合する請求項18に記載のアクセス・ファイバとを備えるアクセス・システム。
  20. 前記アクセス・ファイバが、臨界半径より大きな曲げ半径を有する少なくとも1つの湾曲したファイバ区間を含む、請求項19に記載のシステム。
  21. 前記曲げ半径が約2〜15mmの範囲にある、請求項20に記載のシステム。
  22. 光ファイバの製作方法であって、前記ファイバが、長手方向軸を有するコア領域と、前記コア領域を囲むクラッド領域とを備え、前記コア領域および前記クラッド領域が、前記コア領域内の基本横モードでの信号光の伝搬を前記軸の方向にサポートし導波するように構成され、前記クラッド領域が、前記コア領域の屈折率より低い屈折率(nout)を有する外側クラッド領域と、前記外側クラッド領域の屈折率にほぼ等しい屈折率(nped)を有する台座領域と、前記コア領域と前記台座領域の間に配された環状の内側トレンチ領域と、前記台座領域と前記外側クラッド領域の間に配された環状の外側トレンチ領域とを含み、前記台座領域が、前記内側トレンチ領域の屈折率(ntri)および前記外側トレンチ領域の屈折率(ntro)より大きい屈折率を有し、前記台座領域が、前記コア領域の前記基本モード以外の少なくとも1つの横モードを前記台座領域の少なくとも1つの横モードに共振的に結合するように構成され、前記方法が、
    1)シリカを含み、屈折率ntroを有する第1開始チューブを用意するステップと、
    2)前記第1チューブの内側に、前記台座領域を形成する複数の第1ガラス層を堆積させるステップと、
    3)前記第1層の上に、前記屈折率のより深い内側トレンチ領域を形成する、ダウン・ドープされた複数の第2ガラス層を堆積させるステップと、
    4)前記第2層の上に、前記コア領域を形成する、アップ・ドープされた複数の第3ガラス層を堆積させるステップと、
    5)前記第1チューブをコラプスして第1ロッドを形成するステップと、
    6)シリカを含み、屈折率noutを有する第2チューブを用意するステップと、
    7)前記第1ロッドを前記第2チューブの内側に置くステップと、
    8)前記第2チューブをコラプスしてファイバプリフォームを形成するステップとを含む、方法。
  23. 前記プリフォームから前記ファイバを線引きするステップをさらに含む、請求項22に記載の方法。
  24. 光ファイバの製作方法であって、前記ファイバが、長手方向軸を有するコア領域と、前記コア領域を囲むクラッド領域とを備え、前記コア領域および前記クラッド領域が、前記コア領域内の基本横モードでの信号光の伝搬を前記軸の方向にサポートし導波するように構成され、前記クラッド領域が、前記コア領域の屈折率より低い屈折率(nout)を有する外側クラッド領域と、前記外側クラッド領域の屈折率にほぼ等しい屈折率(nped)を有する台座領域と、前記コア領域と前記台座領域の間に配された環状の内側トレンチ領域と、前記台座領域と前記外側クラッド領域の間に配された環状の外側トレンチ領域とを含み、前記台座領域が、前記内側トレンチ領域の屈折率(ntri)および前記外側トレンチ領域の屈折率(ntro)より大きい屈折率を有し、前記台座領域が、前記コア領域の少なくとも1つの他の横モードを前記台座領域の少なくとも1つの横モードに共振的に結合するように構成され、前記方法が、
    1)シリカを含み、屈折率npedを有する第1開始チューブを用意するステップと、
    2)前記第1チューブの内側に、屈折率のより深い内側トレンチ領域を形成する、ダウン・ドープされた複数の第1ガラス層を堆積させるステップと、
    3)前記第1層の上に、前記コア領域を形成する、アップ・ドープされた複数の第2ガラス層を堆積させるステップと、
    4)前記第1チューブをコラプスして第1ロッドを形成するステップと、
    5)ダウン・ドープされたシリカを含み、屈折率ntroを有する第2チューブを用意するステップと、
    6)前記第1ロッドを前記第2チューブの内側に置くステップと、
    7)シリカを含み、屈折率noutを有する第3チューブを用意するステップと、
    8)前記第1ロッドを前記第2チューブの内側に置くステップと、
    9)前記第2ロッドを前記第3チューブの内側に置くステップと、
    10)前記第3チューブおよび前記第2チューブを前記第1ロッド上にコラプスしてファイバプリフォームを形成するステップとを含む、方法。
  25. 前記プリフォームから前記ファイバを線引きするステップをさらに含む、請求項24に記載の方法。
  26. 前記内側トレンチ領域が、前記第1チューブ上に形成されたより浅い外側部分と、前記外側部分上に形成されたより深い内側部分とを含み、前記部分のそれぞれが複数のシリカ層を含み、ステップ(2)が、
    (2a)F含有シリカ層のシングル・パス堆積において前記より浅い外側部分の各層を形成するサブステップと、
    (2b)前記より深い内側部分の各層を、1回目のパスでシリカ・スートの層を堆積させ、次に2回目のパスでSiFの存在下で前記スートを焼結させるダブル・パス堆積において形成するサブステップとを含む、請求項24に記載の方法。
  27. 基材チューブ上に形成されたより浅い外側トレンチ部分と、前記外側部分上に形成されたより深い内側トレンチ部分とを含む屈折率の深いトレンチを含む光ファイバプリフォームの製作方法であって、前記部分のそれぞれが複数のシリカ層を含み、
    (1)F含有シリカ層のシングル・パス堆積において前記より浅い外側部分の各層を形成するステップと、
    (2)前記より深い内側部分の各層を、1回目のパスでシリカ・スートの層を堆積させ、次に2回目のパスでSiFの存在下で前記スートを焼結させるダブル・パス堆積において形成するステップとを含む方法。
  28. ステップ(1)で約−7×10−3以上の屈折率を有する外側部分が形成され、ステップ(2)で約−7×10−3以下の屈折率を有する内側部分が形成され、前記各屈折率が前記ファイバの外側クラッドの屈折率を基準にして測定される、請求項27に記載の方法。
  29. 前記プリフォームから前記ファイバを線引きするステップをさらに含む、請求項27に記載の方法。
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