JP2011516724A5 - - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
Claims (3)
- 気相堆積処理システムにおいて使用される化学前駆物質を発生させるための機器であって、
アンプルに結合され、前記アンプルと流体連通する第1の加熱式バルブ組立体を備え、前記第1の加熱式バルブ組立体が、さらに、
本体と、
少なくとも部分的に前記本体内に収容される加熱源と、
少なくとも部分的に前記本体内に収容される入口チャネルであって、前記入口チャネルの一端が前記アンプルに結合され、前記アンプルと流体連通する入口チャネルと、
前記入口チャネルに沿って前記本体に結合され、前記入口チャネル内の流体の流れを制御するように配置された第1の空気バルブおよび第1の手動バルブと、
少なくとも部分的に前記本体内に収容される出口チャネルであって、前記出口チャネルの一端が前記アンプルに結合され、前記アンプルと流体連通する出口チャネルと、
前記出口チャネルに沿って前記本体に結合され、前記出口チャネル内の流体の流れを制御するように配置された第2の空気バルブおよび第2の手動バルブと、
バイパスチャネルであって、前記バイパスチャネルの第1の端部が前記入口チャネルに結合され、前記バイパスチャネルの第2の端部が前記出口チャネルに結合された、バイパスチャネルと、
前記本体に結合され、前記バイパスチャネル内の流体の流れを制御するように配置されたバイパスバルブであって、開位置にあるときは前記バイパスチャネルを介した入口チャネルと出口チャネルの間の流体連通をもたらすバイパスバルブと
を備え、前記機器がさらに、
前記第1の加熱式バルブ組立体に結合され当該組立体と流体連通する第2の加熱式バルブ組立体を備え、前記第1及び第2の加熱式バルブ組立体が独立的に所定の温度を得るように構成され、前記第2の加熱式バルブ組立体が、さらに、
第2の本体と、
少なくとも部分的に前記第2の本体内に収容される少なくとも1つの加熱源と、
前記第2の本体に結合される、追加の少なくとも3つのバルブと
を備える、前記機器。 - 前記第2の加熱式バルブ組立体の前記少なくとも1つの加熱源が、少なくとも1つの内蔵された電気加熱器を備える、請求項1に記載の機器。
- 前記第2の加熱式バルブ組立体がさらに、前記少なくとも1つの加熱源に結合されたサーモスタットを備える、請求項1に記載の機器。
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