JP2011506768A

JP2011506768A - シャッターシステム

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Publication number: JP2011506768A
Application number: JP2010537894A
Authority: JP
Inventors: ロドマル，マルクス
Original assignee: サンドビックインテレクチュアルプロパティーアクティエボラーグ
Priority date: 2007-12-12
Filing date: 2008-12-08
Publication date: 2011-03-03
Anticipated expiration: 2028-12-08
Also published as: EP2217737A1; US8232539B2; IL206245A0; EP2217737A4; CN101896633A; CN101896633B; US20100327193A1; WO2009075635A1; JP5237386B2; KR20100094506A

Abstract

本発明は、開放位置と、放射束に表面を意図せず曝すことを防止するように作動可能な閉鎖位置との間で作動可能なシャッターシステムに関する。このシャッターシステムは、少なくとも１対のシールドと、各シールド用の軸と、を備え、第１軸は、第１シールドの端部に連結されて、第１シールドの回転軸線に一致し、ある角度に折り曲げられたアーム形状の第２軸は第２シールドの端部に連結されて、第２シールドの回転軸線は第１シールドの回転軸線に平行であって第２シールドから距離を隔てられる。

Description

本発明は、開放位置と、放射束に表面を意図せず曝すことを防止するように作動可能な閉鎖位置との間で作動可能なシャッターシステムに関する。

例えば蒸着工程中の物質の放射束、又は、例えば紫外線（ＵＶ）や赤外線（ＩＲ）などの電磁放射の放射束に表面を意図せず曝すことを防止するために、今日の産業では様々な種類のシャッターが使用されている。シャッターは、閉鎖位置で、遮蔽されるべき領域の正面にシールドを置き、開放位置でシールドは遮蔽領域から外側の位置に移される。

すべての蒸着ソースが同時に使用されない時、物理蒸着（ＰＶＤ）工程では時にはシャッターが使用される。例えばＴｉＡｌ（チタンアルミニウム）ソース及びＴｉ（チタン）ソースは、ＴｉＡｌＮ（窒化チタンアルミニウム）層及びその後のＴｉＮ（窒化チタン）層の蒸着中に連続して使用される。Ｔｉソースは、当該Ｔｉソース上へのＴｉＡｌＮ層の形成を防止するためにＴｉＡｌＮの蒸着中にシャッターによって好適に遮蔽され、そして、ＴｉＮの蒸着中にはＴｉソースの正面のシャッターが開放されるものの、ＴｉＡｌソースの正面で別のシャッターが閉じられる。

別の具体例は、機器の検出器（例えば光学分光計）と検査処理、例えば光源（紫外線、可視光線又は紫外線）との間のシャッターである。このシャッターは、検出器が計測していない間の無用な曝露を防止する。

最も普及しているシャッターの構造が図１及び図２に概略的に示される。図１では、１つの軸１０２と、シールドに近い位置又はシールドの周縁に搭載されるシャッターシールド１０４と、を有するシャッター１００の２つの異なる側面を概略的に示す。シャッター１００は、シャッター１００の軸１０２を回転（矢印１０６）させることによって開き（位置Ａ）及び閉じる（位置Ｂ）。利点は、頑丈な設計であること、及び、蒸着ソース１０８の正面に余計な空間を必要としないことであるが、シールド１０４が開放位置（位置Ａ）にある時にはシャッター１００の脇に大きな空間が必要とされる。こうしたことは、例えば、ソース１０８、ヒータ及びビューポートがＰＶＤ受容体の壁１１０に配置されるＰＶＤ装置内において、シャッター１００の脇に配置される他の部品の数を制限する。

図２では、２つの軸１２２₁、１２２₂と、図２に示されるようにたいてい矩形の２つのシールド１２４₁、１２４₂と、を有するシャッター１２０の異なる２つの側面が示される。シャッター１２０は、２つの軸１２２₁、１２２₂を回転させることによって開き（位置Ａ）及び閉じる（位置Ｂ）。利点は頑丈な設計であり、また、シャッター１２０の脇の空間は、図１に示されるシャッターとは対照的に、開放位置（位置Ａ）ではシールド１２４₁、１２４₂の領域で占有されるのみである。従って、余計な空間をほとんど必要とせずに大きな矩形領域を遮蔽することが可能である。図２にはまた蒸着ソース１２６が示される。不都合な点は、閉鎖（位置Ｂ）から開放位置（位置Ａ）まで回転する時にシャッター１２０の正面に必要とされる空間と、図１に示されるシャッターのものより小さいものであるけれども、開放位置（位置Ａ）で必要とされる空間とである。シャッター１２０の正面に必要とされる空間は、いくつかの工程、例えばいくつかのＰＶＤ工程では重要な意味を持つ。この空間は、ＰＶＤ装置内におけるソース１２６及び基体の間の距離の短い方の限界値を設定し、成膜速度は、ソース１２６及び基体の間の距離が増大するにつれて減少する。図２から明らかなように、遮蔽幅はｗで示され、各シールド１２４の開放幅ｏはｗの２分の１であり、シャッター１２０の正面の臨界距離ａはｗの２分の１である。

同様のシャッターは、図２に示されるシャッター１２０の一面のみ、すなわち、１つの軸と１つのシールドとから構成されるものであるが、このシャッターは、シャッターの正面に必要とされる空間を増大させる。

米国特許第６３１５８７７号明細書はＰＶＤ装置を記載している。この装置は、壁面に沿って、すなわち、真空チャンバの半径方向に垂直に及び真空チャンバの鉛直方向に垂直に移動するシャッターを含む。この解決策は、シャッターの正面に余計な空間を必要とせず、開放位置において遮蔽領域の脇にシールドの空間が必要とされるだけである。従って、この解決策は大きな矩形領域の遮蔽に適している。しかしながら、開放位置における占有領域は、図１に示されるシャッターと依然として同等である。米国特許第６３１５８７７号明細書のシャッターを制御する装置もやや複雑であり、従って、システムは、図１及び図２の少なくとも一方に示されるシャッターのように頑丈ではない。

前述の課題は請求項１に係るシャッターシステムで解決される。シャッターシステムは、開放位置と、放射束に表面を意図せず曝すことを防止するように作動可能な閉鎖位置との間で作動可能である。シャッターシステムは、少なくとも１対のシールドと、各シールド用の軸と、を備える。第１軸は、第１シールドの端部に連結され、かつ、第１シールドの回転軸線に一致する。第２軸は、ある角度に折り曲げられたアーム形状であり、第２シールドの端部に連結され、かつ、第２シールドの回転軸線は、前記第１シールドの回転軸線に平行であるとともに第２シールドから距離を隔てて配置される。

本発明に係るシャッターシステムの主な利点は、開放位置における占有領域が前述の公知のシャッターに比べて減少する点である。

さらに、本発明に係るシャッターシステムはシャッターの正面にかなり緩和された臨界空間を有する。この臨界空間は、例えば図２に示されるシャッターに比べて減少する。

当該シャッターシステムが前記閉鎖位置にある時に、ｘが、前記第２シールドの回転軸線と前記第２シールドの前記第１シールドに最も近い端との間の垂直距離を示し、ｙが、前記第２シールドの回転軸線と、前記第１軸が前記第１シールドの前記端部に連結される連結点との間の垂直距離を示す場合、ｘがｙ以上であればさらなる利点が得られる。

さらに、当該シャッターシステムが閉鎖位置にある時、前記第１シールド及び前記第２シールドが、相互に部分的に重なり合い、相互に一直線上に配列されなければ有利である。

他の実施形態によれば、当該シャッターシステムが閉鎖位置にある時、前記第１シールド及び前記第２シールドが、相互に部分的に重なり合い、重なり合った領域で屈曲し、前記重なり合った領域以外で相互に一直線上に配列されれば有利である。

当該シャッターシステムが開放位置にある時、前記第１シールド及び前記第２シールドが相互に重ね合わせられれば、さらなる利点が得られる。

さらに、前記第２軸が前記第２シールドの短辺の中央に連結されて、前記第２シールドの回転軸線が、当該シャッターシステムが閉鎖位置にある時、前記第１シールドの短辺の中心の上方の近くに位置決めされれば有利である。

当該シャッターシステムが閉鎖位置にある時の前記第１軸及び前記第２軸の位置に対して前記第１軸及び前記第２軸が９０度にわたって回転した場合、前記第１シールド及び前記第２シールドが相互に平行になれば、さらなる利点が得られる。

さらに、前記第１軸及び前記第２軸と同様の様態で前記第１シールド及び前記第２シールドに連結される一方で前記第１シールド及び前記第２シールドの中心軸線に対して鏡面対称である第３軸及び第４軸を当該シャッターシステムがさらに備えることが有利であり、前記中心軸線は前記第１軸〜前記第４軸の回転軸線に垂直である。

当該シャッターシステムが、前記第３軸及び前記第４軸に連結されて前記第１シールド及び前記第２シールドに配置される支持台をさらに備えれば、さらなる利点が得られる。

さらに、当該シャッターシステムが、第２の対のシールドと、各シールド用の軸と、をさらに備え、前記第２の対のシールド及び前記軸は、前記第１の対のシールド並びに前記第１軸及び前記第２軸と同様の様態で配列される一方で、当該軸の前記回転軸線に平行であって当該シャッターシステムの中央に配置される中心軸線に対して前記軸が前記第１軸及び前記第２軸の鏡面対称であるように、配列されれば有利である。

当該シャッターシステムが開放される時、前記軸及び前記第１の対のシールドが時計回りに回転し、前記第２の対のシールドが反時計回りに回れば、さらなる利点が得られる。

さらに、当該シャッターシステムが閉鎖位置にある時、前記第２シールド及び前記シールドが、相互に部分的に重なり合い、相互に一直線上に配列されなければ有利である。

他の実施形態によれば、当該シャッターシステムが閉鎖位置にある時、前記第１シールド及び前記第２シールドが相互に部分的に重なり合い、重なり合った領域で屈曲し、前記重なり合った領域以外で相互に一直線上に配列されれば有利である。

本願で用いられる用語「備える／備えている」は、他の１以上の特性、完全なもの、工程、構成要素又はそれらの集合の存在を排除することなく、所定の特徴、工程又は構成要素の存在を示すことが意図されることが注目されるであろう。

従来技術のシャッターの２つの異なる側面を概略的に示す。他の従来技術のシャッターの２つの異なる側面を概略的に示す。本発明に係るシャッターシステム１０の２つの異なる側面を概略的に示す。本発明に係るシャッターシステム１０における距離ｘ及び距離ｙを概略的に示す。

本発明の実施形態は添付の図面を参照してここに説明されるであろう。

図３には、本発明に係るシャッターシステム１０の２つの異なる側面が概略的に示される。シャッターシステム１０は、開放位置Ａと、放射束に表面を意図せず曝すことを防止するように作動可能な閉鎖位置Ｂとの間で作動可能である。図３に示される実施形態では、シャッターシステム１０は、第１の対の第１シールド１０₁₁、１０₁₂と、各シールド１０₁₁、１１₁₂用の軸１２₁₁、１２₁₂と、を備える。第１軸１２₁₁は、前記第１の対の第１シールド１０₁₁の端部に連結され、第１シールド１０₁₁の（図３の矢印Ｃ₁₁で示される）回転軸線に一致する。第２軸１２₁₂は、ある角度に折り曲げられたアーム形状を有し、前記第１の対の第２シールド１０₁₂の端部に連結され、第２シールド１０₁₂の（図３の矢印Ｃ₁₂で示される）回転軸線は、第１シールド１０₁₁の回転軸線Ｃ₁₁に平行であり、第２シールド１０₁₂から距離を隔てて配置される。回転軸線Ｃ₁₂は、シャッターシステム１０が閉鎖位置にある時に第１シールド１０₁₁の上方に適切に位置決めされる。図３の実施形態では、シャッターシステム１０はさらに、第２の対のシールド１６₁₁、１６₁₂と、各シールド１６₁₁、１６₁₂用の軸１８₁₁、１８₁₂と、を備える。第２の対のシールド１６₁₁、１６₁₂及び軸１８₁₁、１８₁₂は、第１の対のシールド１６₁₁、１６₁₂並びに第１軸１２₁₁及び第２軸１２₁₂と同様に配列されるものの、軸１２₁₁、１２₁₂、１８₁₁、１８₁₂の回転軸線に平行でシャッターシステム１０の中央に配列された中心軸線に対して軸１８₁₁、１８₁₂が第１軸１２₁₁及び第２軸１２₁₂の鏡面対称であるような様態で、配列される。

図３から明らかなように、当該シャッターシステム１０が点線で示されるように開放位置Ａにある時、第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂は相互に重ね合わせられる。図３に同様に示されるように、同様のことが第２の対のシールド１６₁₁、１６₁₂にも当てはまり、すなわち、シャッターシステム１０が開放位置Ａにある時、第１シールド１６₁₁及び第２シールド１６₁₂は相互に重ね合わせられる。

図３の下側部分から同様に明らかであって、点線で示されるように、第１軸１２₁₁及び第２軸１２₁₂が、シャッターシステム１０が閉鎖位置Ｂにある時の第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂のそれぞれの位置に対して９０度回転した場合、第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂は、参照符号１０’₁₁、１０’₁₂で示されるように、相互に平行である。同様のことが、参照符号１６’₁₁、１６’₁₂で示されるように、第２の対のシールド１６₁₁、１６₁₂にも当てはまる。

図３に示されるシャッターシステム１０の一実施形態によると、第２軸１２₁₂は、第２シールド１０₁₂の短辺の中央に連結される。第２シールド１０₁₂の（矢印Ｃ₁₂で示される）回転軸線は、シャッターシステム１０が閉鎖位置Ｂにある場合に第１シールド１０₁₁の短辺の中央の上方の近くに位置決めされる。軸１８₁₂、すなわち、シールド１６₁₂の短辺の中央に連結される軸１８₁₂に対しても原則として同様のことが当てはまる。シールド１６₁₂の（図３の矢印Ｄ₁₂で示される）回転軸線は、シャッターシステム１０が閉鎖位置Ｂにある場合にシールド１６₁₁の短辺の中央の上方の近くに位置決めされる。軸１８₁₁は、シールド１６₁₁の端部に連結されて、シールド１６₁₁の（図３の矢印Ｄ₁₁で示される）回転軸線に一致する。

本発明に係るシャッターシステム１０の一実施形態によれば、シャッターシステム１０が閉鎖位置にある時、第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂は、相互に部分的に重なり合い、相互に一直線上に配列されない。同様のことがシールド１６₁₁、１６₁₂に当てはまる。

本発明に係るシャッターシステム１０の他の実施形態によれば、シャッターシステム１０が閉鎖位置にある時、第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂は、相互に部分的に重なり合い、重なり合っている領域で屈曲し、重なり合っている領域以外で相互に一直線上に配列される。この実施形態でもまた同様のことがシールド１６₁₁、１６₁₂に当てはまる。

図３から明らかなように、シャッターシステムが開放位置にある時、点線で示されるように、第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂は相互に重なり合う。同様に点線で示されるように、同様のことがシールド１６₁₁、１６₁₂にも当てはまる。

図３から明らかなように、シャッターシステム１０が開放された時、軸１２₁₁、１２₁₂及び第１の対のシールド１０₁₁、１０₁₂は反時計回りに回転し、軸１８₁₁、１８₁₂及び第２の対のシールド１６₁₁、１６₁₂は時計回りに回転する。

さらに、本発明に係るシャッターシステム１０の一実施形態によれば、シャッターシステム１０が閉鎖位置Ｂにある時、第２シールド１０₁₂及び第２シールド１６₁₂は、相互に部分的に重なり合い、相互に一直線上に配列されない。

本発明に係るシャッターシステム１０の他の実施形態によれば、シャッターシステム１０が閉鎖位置Ｂにある時、第２シールド１０₁₂及びシールド１６₁₂は、相互に部分的に重なり合い、重なり合っている領域で屈曲し、重なり合っている領域以外で相互に一直線上に配列される。

本発明に係るシャッターシステム１０の他の実施形態によれば、シャッターシステム１０は第３軸１４₁₁及び第４軸１４₁₂をさらに備え、第３軸１４₁₁及び第４軸１４₁₂は、第１軸１２₁₁及び第２軸１２₁₂と同様の様態で第１及び第２シールド１０₁₁、１０₁₂に連結されるものの、第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂の中心軸線に対して鏡面対称であり、この中心軸線は第１軸〜第４軸１２₁₁、１２₁₂、１４₁₁、１４₁₂の回転軸線に垂直である。さらに、シャッターシステム１０は、第３軸１４₁₁及び第４軸１４₁₂に連結されて第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂に配置される支持台も備えることがある。また、第２の対のシールド１６₁₁、１６₁₂は、第１シールド１０₁₁及び第２シールド１０₁₂上に第３軸１４₁₁及び第４軸１４₁₂と支持台とが配置されることと同様の様態で配置されるさらなる軸及び支持台を備えてもよい。言い替えれば、シャッターシステム１０は、シールドの他の短辺に軸及び支持台を取り付けることによってさらになお頑丈に作られることが可能である。

図３からまた明らかなように、シャッターシステム１０が閉鎖位置Ｂにある時、４つのシールド１０₁₁、１０₁₂、１６₁₁、１６₁₂は、蒸着ソース５０の正面に配置され、この状態では、蒸着ソース５０は、一方で４つのシールド１０₁₁、１０₁₂、１６₁₁、１６₁₂との間に配置され、他方で受容壁５２との間に配置される。

図３からまた明らかなように、本発明に係る、少なくとも図３の実施形態に係るシャッターシステム１０のいくつかの利点を説明するために重要ないくつかの異なる距離が同様に示される。遮蔽幅、すなわち、シャッターシステム１０が閉鎖位置Ｂにある時に４つのシールド１０₁₁、１０₁₂、１６₁₁、１６₁₂が覆う幅はｗで示される。開放幅、すなわち、シャッターシステム１０が開放位置Ａにある時に蒸着ソース５０のそれぞれの脇で規定される幅はｏで示され、図３から明らかなように、ｏはｗの４分の１に相当する。やはり図３に同様に示されるように、臨界距離、すなわち、シールド１０₁₁、１０₁₂、１６₁₁、１６₁₂を開けたり閉じたりする時にシャッターシステム１０の正面に必要とされる最大距離はａで示され、ａはｗの２分の１に４分の３を掛けたものに相当する。

これは、臨界距離ａが、図２のシャッターに比べて４分の３倍であることを示している。さらに、開放位置での占有領域は、図１及び図２のシャッターに比べて半分まで縮小される。

これらの距離は、各シールドの幅がｓであって、第２シールド１０₁₂の回転軸線と第１軸１２₁₁がシールド１０₁₁の端部に連結される連結点との間の垂直距離がｓの２分の１である場合に、正確であることが指摘される。

図４にさらに一般的な例が示される。第１シールド１０₁₁、第２シールド１０₁₂、第１軸１２₁₁及び第２軸１２₁₂が例えば平面図で示される。ｘは、シャッターシステム１０が閉鎖位置にある時、第２シールド１０₁₂の回転軸線と、第１シールド１０₁₁に最も近い位置の第２シールド１０₁₂の端との間の垂直距離を示す。ｙは、第２シールド１０₁₂の回転軸線と、第１軸１２₁₁が第１シールド１０₁₁の端部に連結される連結点との間の垂直距離を示す。この一般的な例ではｘはｙ以上（ｘ≧ｙ）である。

いずれの図面にも示されていないものの、本発明に係るシャッターシステム１０の他の実施形態は、例えば２つのシールド１０₁₁、１０₁₂のみを備える、すなわち、図３に示されるシャッターシステム１０の半分のシールドのみを備えることが同様に指摘される。

本発明は前述の実施形態に限定されない。以下の特許請求の範囲の範囲内で多くの様々な変形が可能であることは明らかであろう。

Claims

開放位置（Ａ）と、放射束に表面を意図せず曝すことを防止するように作動可能な閉鎖位置（Ｂ）との間で作動可能なシャッターシステム（１０）であって、前記シャッターシステム（１０）は、少なくとも１対のシールド（１０₁₁、１０₁₂）と、各前記シールド（１０₁₁、１０₁₂）用の軸（１２₁₁、１２₁₂）と、を備え、第１軸（１２₁₁）は、第１シールド（１０₁₁）の端部に連結されて、前記第１シールド（１０₁₁）の回転軸線（Ｃ₁₁）に一致し、ある角度に折り曲げられたアーム形状の第２軸（１２₁₂）は第２シールド（１０₁₂）の端部に連結されて、前記第２シールド（１０₁₂）の回転軸線（Ｃ₁₂）は前記第１シールド（１０₁₁）の前記回転軸線（Ｃ₁₁）に平行であって前記第２シールド（１０₁₂）から距離を隔てて配置されることを特徴とするシャッターシステム（１０）。
ｘが、当該シャッターシステム（１０）が前記閉鎖位置（Ｂ）にある時、前記第２シールド（１０₁₂）の前記回転軸線（Ｃ₁₂）と、前記第２シールド（１０₁₂）の前記第１シールド（１０₁₁）に最も近い端との間の垂直距離を示し、ｙが、前記第２シールド（１０₁₂）の前記回転軸線（Ｃ₁₂）と、前記第１軸（１２₁₁）が前記第１シールド（１０₁₁）の前記端部に連結される連結点との間の垂直距離を示す場合、ｘはｙ以上（ｘ≧ｙ）である請求項１に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）が前記閉鎖位置（Ｂ）にある時、前記第１シールド（１０₁₁）と前記第２シールド（１０₁₂）とは、相互に部分的に重なり合い、相互に一直線上に配列されない請求項１又は２に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）が前記閉鎖位置（Ｂ）にある時、前記第１シールド（１０₁₁）と前記第２シールド（１０₁₂）とは、相互に部分的に重なり合い、重なり合った領域で屈曲し、前記重なり合った領域以外で相互に一直線上に配列される請求項１又は２に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）が前記開放位置（Ａ）にある時、前記第１シールド（１０₁₁）と前記第２シールド（１０₁₂）とは相互に重なり合う請求項１〜４のいずれか１項に記載のシャッターシステム（１０）。
前記第２軸（１２₁₂）は、前記第２シールド（１０₁₂）の短辺の中央に連結され、当該シャッターシステム（１０）が前記閉鎖位置にある時、前記第２シールド（１０₁₂）の前記回転軸線（Ｃ₁₂）は、前記第１シールド（１０₁₁）の短辺の中央の上方の近くに位置決めされる請求項１〜５のいずれか１項に記載のシャッターシステム（１０）。
前記第１軸（１２₁₁）及び前記第２軸（１２₁₂）が、当該シャッターシステム（１０）が前記閉鎖位置にある時の前記第１軸（１２₁₁）及び前記第２軸（１２₁₂）の位置に対して９０度回転した場合、前記第１シールド（１０₁₁）及び前記第２シールド（１０₁₂）は相互に平行である請求項１〜６のいずれか１項に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）は、前記第１軸（１２₁₁）及び前記第２軸（１２₁₂）と同様の様態で前記第１シールド（１０₁₁）及び前記第２シールド（１０₁₂）に連結される一方で前記第１シールド（１０₁₁）及び前記第２シールド（１０₁₂）の中心軸線に対して鏡面対称である第３軸（１４₁₁）及び第４軸（１４₁₂）をさらに備え、前記中心軸線は前記第１軸〜前記第４軸（１２₁₁、１２₁₂、１４₁₁、１４₁₂）の回転軸線に垂直である請求項１〜７のいずれか１項に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）は、前記第３軸（１４₁₁）及び前記第４軸（１４₁₂）に連結されて前記第１シールド（１０₁₁）及び前記第２シールド（１０₁₂）に配置される支持台をさらに備える請求項８に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）は、第２の対のシールド（１６₁₁、１６₁₂）と、各前記シールド（１６₁₁、１６₁₂）用の軸（１８₁₁、１８₁₂）と、をさらに備え、前記第２の対のシールド（１６₁₁、１６₁₂）及び前記軸（１８₁₁、１８₁₂）は、前記第１の対のシールド（１０₁₁、１０₁₂）並びに前記第１軸（１２₁₁）及び前記第２軸（１２₁₂）と同様の様態で配列される一方で、前記軸（１２₁₁、１２₁₂、１８₁₁、１８₁₂）の回転軸線（Ｃ₁₁、Ｃ₁₂、Ｄ₁₁、Ｄ₁₂）に平行であって当該シャッターシステム（１０）の中央に配置される中心軸線に対して前記軸（１８₁₁、１８₁₂）が前記第１軸（１２₁₁）及び前記第２軸（１２₁₂）の鏡面対称であるように、配列される請求項１〜９のいずれか１項に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）が開放される時、前記軸（１２₁₁、１２₁₂）及び前記第１の対のシールド（１０₁₁、１０₁₂）は反時計回りに回転し、前記軸（１８₁₁、１８₁₂）及び前記第２の対のシールド（１６₁₁、１６₁₂）は時計回りに回転する請求項１０に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）が前記閉鎖位置（Ｂ）にある時、前記第２シールド（１０₁₂）及び前記シールド（１６₁₂）は相互に部分的に重なり合い、相互に一直線上に配列されない請求項１０又は１１に記載のシャッターシステム（１０）。
当該シャッターシステム（１０）が前記閉鎖位置（Ｂ）にある時、前記第２シールド（１０₁₂）及び前記シールド（１６₁₂）は相互に部分的に重なり合い、重なり合った領域で屈曲し、前記重なり合った領域以外で相互に一直線上に配列される請求項１０又は１１に記載のシャッターシステム（１０）。