JP2011505050A - 多区域圧力制御システム - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図1
Description
ここでは圧力及び真空分配マニホルド又は流体分配マニホルドとしても参照する分配マニホルド110は、現場で交換可能ないかなる部品をも含まない。本明細書においては、「分配マニホルド」、「流体分配マニホルド」及び「圧力及び真空分配マニホルド」という用語は、同じ意味を有し、互換的に使用される。図示の実施の形態においては、分配マニホルド110は規制された圧力ライン112及び真空ライン114から供給を受ける。
少なくとも1つの主マニホルドは分配マニホルド120に結合される。図1に示す実施の形態においては、主マニホルド組立体120を構成する数個の主マニホルド(120−aないし120−d)は分配マニホルド110に結合される。特に、1つの主マニホルドが各区域のために設けられる。主マニホルド組立体120の各マニホルド(120−aないし120−d)は圧力センサ122及び制御弁124並びに第2の弁126を保持する。したがって、圧力制御システム100内の室の数は区域の数に等しい。
図示の実施の形態では、1つの主マニホルドが複数の区域の各1つに対して設けられ、同様に、1つの使い捨てマニホルドが複数の区域の各1つに対して設けられるが、本開示の他の実施の形態は、異なる区域に対して、主マニホルド及び/又は使い捨てマニホルドの異なる組み合わせを含むことができる。一般に、各区域に対して、少なくとも1つの主マニホルド及び少なくとも1つの使い捨てマニホルドを設けることができる。
110 分配マニホルド
120 主マニホルド組立体
120−aないし120−d 主マニホルド
122 圧力センサ
124 制御弁
126、134、136 弁
130 使い捨てマニホルド組立体
130−aないし130−d 使い捨てマニホルド
160、170、180、190 区域
200 使い捨てマニホルド
210 真空ポート
220 区域ポート
300 主マニホルド
310 弁
320 圧力センサ
330 制御弁
400 分配マニホルド
410 真空出口ポート
420 圧力入口ポート
Claims (16)
- 複数の区域内の流体の圧力を制御するための圧力制御システムにおいて、
各区域内に位置する測定室に対して流体の出入り流れを生じさせるように、流体の加圧源から複数の区域へ流体を分配するように形状づけられた分配マニホルド;
上記分配マニホルドに接続され、上記各区域に対してその区域内の測定室内の圧力を測定するように形状づけられた圧力センサと、その区域を通る流体の流れを規制するように形状づけられた制御弁とを含む、少なくとも1つの主マニホルド;及び
上記分配マニホルド及び上記主マニホルドに接続され、当該分配マニホルド及び当該主マニホルドとは独立に交換できるようになっており、上記各区域及び少なくとも1つの真空源に接続された、少なくとも1つの使い捨てマニホルド;
を有することを特徴とする圧力制御システム。 - 上記使い捨てマニホルドが、
上記各区域に対して、上記使い捨てマニホルドをその区域に接続するように形状づけられた区域ポートと;
上記使い捨てマニホルドを上記真空源に接続するように形状づけられた1又はそれ以上の真空ポートと;
を有することを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。 - 上記使い捨てマニホルドがさらに、
上記各区域に対して、上記真空源に接続され、その区域を通って流れる流体の圧力を減少させるように形状づけられた弁と;
上記各区域に対して、その区域を通って流れる流体の圧力の減少率を低下させるように形状づけられた弁と;
を有することを特徴とする請求項2に記載の圧力制御システム。 - 上記主マニホルドが上記分配マニホルド及び上記使い捨てマニホルドとは独立に交換できるようになっていることを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。
- 上記分配マニホルドが、
圧力ラインを介して流体の加圧源に連通する圧力入口ポートと;
真空ラインを介して上記分配マニホルドを真空出口に接続する真空出口ポートと;
を有することを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。 - 流体がガスであり、上記測定室がCMPキャリヤヘッド内の袋を有することを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。
- ガスが窒素であることを特徴とする請求項6に記載の圧力制御システム。
- 上記複数の区域のうちの少なくとも1つが上記圧力センサから及び上記制御弁から遠隔的に位置することを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。
- 上記区域の少なくともいくつかが互いに結合されることを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。
- 少なくとも1つの上記主マニホルドが複数の主マニホルドを含む主マニホルド組立体を有し;上記主マニホルドの各1つが上記複数の区域のそれぞれ1つに接続されることを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。
- 上記少なくとも1つの使い捨てマニホルドが使い捨てマニホルド組立体を有し、上記使い捨てマニホルド組立体が複数の使い捨てマニホルドを含み、上記使い捨てマニホルドの各1つが上記複数の区域のそれぞれ1つに接続されることを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。
- 上記区域の少なくともいくつかが互いに異なる圧力制御範囲を有することを特徴とする請求項1に記載の圧力制御システム。
- 複数の区域内の流体の圧力を制御するように形状づけられた多区域圧力制御システムのための使い捨てマニホルドにおいて、
上記使い捨てマニホルドを真空源に接続するように形状づけられた1又はそれ以上の真空ポートと;
上記各区域に対して:
上記使い捨てマニホルドをその区域に接続するように形状づけられた区域ポートと;
上記真空源に接続され、その区域を通って流れる流体の圧力を減少させるように形状づけられた弁と;
その区域を通って流れる流体の圧力の減少率を低下させるように形状づけられた弁と;
を有し、
上記使い捨てマニホルドが、流体の加圧源から流体を受け取るように及び上記複数の区域を通して流体を流れさせるように形状づけられた分配マニホルドに接続され、かつ、上記各区域に対して、その区域内の測定室内の圧力を測定するように形状づけられた圧力センサと、その区域を通る流体の流れを規制するように形状づけられた制御弁とを含む主マニホルドに接続され;
上記使い捨てマニホルドが上記分配マニホルド及び上記主マニホルドとは独立に交換できるようになっている;
ことを特徴とする使い捨てマニホルド。 - 複数の区域内の流体の圧力を制御するように形状づけられた多区域圧力制御システムのための主マニホルドにおいて、
各区域に対して:その区域内の測定室内の流体の圧力を測定するように形状づけられた圧力センサと、その区域を通る流体の流れを規制するように形状づけられた制御弁とを有し;
上記主マニホルドが、流体の加圧源から流体を受け取るように及び上記複数の区域を通して流体を流れさせるように形状づけられた分配マニホルドに接続され、かつ、当該分配マニホルド及び当該主マニホルドとは独立に交換できるようになった使い捨てマニホルドに接続され、上記複数の区域及び上記圧力制御システムの真空源に連通する;
ことを特徴とする主マニホルド。 - 上記主マニホルドが上記分配マニホルド及び上記使い捨てマニホルドとは独立に交換できるようになっていることを特徴とする請求項14に記載の主マニホルド。
- CMP(化学機械的な研磨)キャリヤヘッドにおいて、
複数の袋を含むキャリヤヘッド;
上記袋内の流体の圧力を制御するように形状づけられ、分配マニホルドと、上記分配マニホルドに結合された少なくとも1つの主マニホルドと、当該分配マニホルドとは独立に交換できるようになった少なくとも1つの使い捨てマニホルドとを含む圧力制御システムであって;該分配マニホルドが加圧源から上記袋へ流体を分配するように形状づけられ;上記主マニホルドが、当該各袋に対して、その袋内の圧力を測定するように形状づけられた圧力センサと、その袋を通る流体の流れを規制するように形状づけられた制御弁とを含み;上記使い捨てマニホルドが少なくとも1つの真空源及び各袋に接続される;ような圧力制御システム;及び
上記キャリヤヘッドと上記圧力制御システムとの間の回転カップリング;
を有することを特徴とするCMPキャリヤヘッド。
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