JP2011503869A - 放射システムおよび方法、ならびにスペクトル純度フィルタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射システム(3)は、放射ビーム(B)を生成するように構成されている。システム(3)は、チャンバ(3)を有している。チャンバ(3)は、放射(B)を生成するように構成された放射源(50)および放射源(50)によって生成される放射(B)を集光してその集光した放射を放射ビーム放出アパーチャ(60)へと透過させるように構成された放射コレクタ(70)を含む。スペクトル純度フィルタ(80)は、アパーチャ(60)を介して放出される放射(B)のスペクトル純度を高める。フィルタ(80)は、チャンバ(3)を高圧領域(R1)と低圧領域(R2)とに分ける。
【選択図】図6b
Description
[0001] 本願は、2007年11月8日に出願した米国仮出願第60/996,280号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
上の式で、λは、使用される放射の波長であり、NAPSは、パターンを印刷するために使用される投影システムの開口数である。k1は、レイリー定数とも呼ばれているプロセス依存調整係数であり、CDは、印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、3つの方法:露光波長λを短くすることによって、開口数NAPSを大きくすることによって、あるいはk1の値を小さくすることによって達成することができる、と言える。
[0126] 非限定数値例では、図11の実施形態によるスペクトル純度フィルタ80’は、図5および図6bに示される構成におけるDUV放射を回折するために使用される。スペクトル純度フィルタ80’は、10.6ミクロンの入射(例えば、レーザ放射)51の大部分の反射もする(その前面82’において)。この例では、EUV放射に対する透過は、幾何学的な開口部分によって決定され、約70%以上であり得る。この例では、スペクトル純度フィルタ80’は、20ミクロンのスリットまたは穴(すなわち、d1=20μm)を有する。約200nmの波長を有するDUV放射の一次回折は、約10mradの角度で見出される。このフィルタ80’がD=6mmの直径の中間焦点アパーチャ60からG=1.5mに配置された場合、かなりの部分のDUV光が中間焦点アパーチャを通り抜けない(実際には、この場合、ゼロ次数のみが通る)。
Claims (20)
- 放射ビームを生成する放射システムであって、前記放射システムはチャンバを含んでおり、前記チャンバは、
放射を生成する放射源と、
放射ビーム放出アパーチャと、
前記放射源によって生成される放射を集光し、かつ前記集光した放射を前記放射ビーム放出アパーチャへと透過させる放射コレクタと、
前記アパーチャを介して放出される前記放射のスペクトル純度を高めるスペクトル純度フィルタとを含み、
前記スペクトル純度フィルタは、前記チャンバを高圧領域と低圧領域とに分けるように構成されている、放射システム。 - 前記放射源は、極端紫外線を生成する、請求項1に記載のシステム。
- 前記コレクタは、前記高圧領域の中に含まれるか、または前記高圧領域に隣接しており、前記低圧領域は、前記スペクトル純度フィルタと前記放射放出アパーチャとの間に構成されている、請求項1または2に記載のシステム。
- 前記コレクタは、
集光した放射を前記放射ビーム放出アパーチャへと合焦させるコレクタ、
前記放射源と一致する第1焦点および前記放射ビーム放出アパーチャと一致する第2焦点を有するコレクタ、
法線入射コレクタ、
単一の略楕円放射集光面部分を有するコレクタ、および
2つの放射集光面を有するシュヴァルツシルトコレクタ、
のうちの1つ以上である、請求項1〜3のいずれかに記載のシステム。 - ガスを前記高圧領域に供給するガス供給と、
ガスを前記低圧領域から除去する真空ポンプとを含む、請求項1〜4のいずれかに記載のシステム。 - 前記放射源は、所定の波長のコヒーレント放射ビームを燃料上へと合焦させる構成された放射源を含むレーザ生成プラズマ源であり、前記スペクトル純度フィルタは、前記コヒーレント放射の前記所定の波長を有する放射の少なくとも一部を前記放射源によって生成される前記放射源からフィルタする、請求項1〜5のいずれかに記載のシステム。
- 前記所定の波長は約10.6ミクロンである、請求項6に記載のシステム。
- 前記スペクトル純度フィルタは、第1波長を有する放射の少なくとも一部を第2波長を有する放射からフィルタし、前記第1波長は前記第2波長より少なくとも10倍大きい、請求項1〜7のいずれかに記載のシステム。
- 前記システムは、前記高圧領域内で10Paより大きい圧力を達する、請求項1〜8のいずれかに記載のシステム。
- 前記スペクトル純度フィルタは、所定の回折角で前記放射の少なくとも一部を回折し、前記スペクトル純度フィルタおよび前記放射ビーム放出アパーチャは、前記アパーチャを介する前記回折放射部分の放出を実質的に防ぐ、請求項1〜9のいずれかに記載のシステム。
- 前記スペクトル純度フィルタおよび前記放射ビーム放出アパーチャは、約1mより大きい距離によってお互いから間隔を空けて配置されている、請求項1〜10のいずれかに記載のシステム。
- 前記高圧領域は約100Paより高い圧力を有し、かつ前記低圧領域は約20Paより低い圧力を有している、請求項1〜11のいずれかに記載のシステム。
- 複数のアパーチャを含むリソグラフィスペクトル純度フィルタであって、前記スペクトル純度フィルタは、約10ミクロンより大きい第1波長の放射を反射することによって、および、所定の回折角で深紫外線範囲内にある第2波長の放射を回折することによって放射ビームのスペクトル純度を高め、前記所定の角度は約1mradより大きい、リソグラフィスペクトル純度フィルタ。
- 放射源を用いて放射を生成することと、
アパーチャを介して前記放射ビームを放出することと、
放射コレクタを用いて前記放射源によって生成される放射を集光し、かつ前記集光した放射を前記アパーチャへと透過させることと、
スペクトル純度フィルタを用いて前記放射の前記スペクトル純度を高めることとを含み、
前記スペクトル純度フィルタは、前記放射源を含むチャンバ内の圧力差を保ち、前記放射コレクタおよび前記スペクトル純度フィルタは、高圧領域および低圧領域を有する前記チャンバを結果として生じさせる、放射ビームを提供する方法。 - 前記高圧領域と前記低圧領域との間の圧力差は、約10Paより大きく、特に約100Paより大きい、請求項14に記載の方法。
- 放射源を用いて放射を生成することと、
アパーチャを介して前記放射ビームを放出することと、
放射コレクタを用いて前記放射源によって生成される放射を集光し、かつ前記集光した放射を前記アパーチャへと透過させることと、
スペクトル純度フィルタを用いて前記放射のスペクトル純度を高めることとを含み、
前記フィルタは、望ましくない放射の一部が前記アパーチャに届くことを実質的に防ぐために、所定の回折角で望ましくない放射の少なくとも一部を回折する、放射ビームを提供する方法。 - 前記フィルタは、前記アパーチャを通って放出される前記放射ビームの光透過軸に対して傾斜される入射面を有している、請求項16に記載の方法。
- 前記放射源は、所定の波長のコヒーレント放射ビームを燃料上へと合焦させる放射源を含むレーザ生成プラズマ源であり、前記スペクトル純度フィルタは、前記コヒーレントレーザ放射の少なくとも一部を前記放射源によって生成される前記放射からフィルタする、請求項14〜17のいずれかに記載の方法。
- 放射ビームを生成する放射システムであって、前記放射システムはチャンバを含んでおり、前記チャンバは、
放射を生成する放射源と、
放射ビーム放出アパーチャと、
前記放射源によって生成される放射を集光し、かつ前記集光した放射を前記放射ビーム放出アパーチャへと透過させる放射コレクタと、
前記アパーチャを介して放出される前記放射のスペクトル純度を高めるスペクトル純度フィルタとを含み、
前記スペクトル純度フィルタは、前記チャンバを第1圧力領域と第2圧力領域とに分けるように構成されている、放射システム。 - 前記第1圧力領域は約100Paより大きい圧力を有しており、かつ前記第2圧力領域は約20Paより低い圧力を有している、請求項19に記載のシステム。
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NL2006604A (en) | Lithographic apparatus, spectral purity filter and device manufacturing method. |
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