JP2011257559A - 波長変換素子 - Google Patents

波長変換素子 Download PDF

Info

Publication number
JP2011257559A
JP2011257559A JP2010131396A JP2010131396A JP2011257559A JP 2011257559 A JP2011257559 A JP 2011257559A JP 2010131396 A JP2010131396 A JP 2010131396A JP 2010131396 A JP2010131396 A JP 2010131396A JP 2011257559 A JP2011257559 A JP 2011257559A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
harmonic
wavelength conversion
conversion element
waveguide
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010131396A
Other languages
English (en)
Inventor
Isao Tomita
勲 富田
Takeshi Umeki
毅伺 梅木
Osamu Tadanaga
修 忠永
Katsuaki Magari
克明 曲
Hongbin Song
紅彬 宋
Masaki Asobe
雅生 遊部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP2010131396A priority Critical patent/JP2011257559A/ja
Publication of JP2011257559A publication Critical patent/JP2011257559A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

【課題】本発明は、高効率な第三高調波を発生できる波長変換素子を提供する。
【解決手段】光の入射により第二高調波を発生し、入射光と第二高調波の和周波発生により第三高調波を発生する波長変換素子であって、周期分極反転構造を有する二次非線形光学媒質からなる導波路部であって、入射光を第二高調波に変換する第二高調波発生部と、入射光と第二高調波とを合波して第三高調波に変換する和周波発生部と、第二高調波の屈折率を変化させるための位相変調部とを有する、導波路部と、導波路部の入力端に設けられ、第二高調波を反射する第1の反射部と、導波路部の出力端に設けられ、第二高調波を反射する第2の反射部とを備え、位相調整部は、第1の反射部によって反射された第二高調波の位相と第二高調波発生部で発生する第二高調波の位相とを整合させる波長変換素子である。
【選択図】図2

Description

本発明は、波長変換素子に関し、より詳細には、精密光周波数計測等で使用される波長変換素子に関する。
等しい周波数間隔の離散的なスペクトルを有する光は、光コム(Optical Comb)と呼ばれている。この光コムを利用した周波数の基準となる光源の研究開発は、近年活発に行われてきており、原子・分子等のスペクトル線の精密測定、及び光通信での波長多重分割通信等に応用されつつある。特に、非特許文献1に示されるように、光コム技術の原子・分子等のスペクトル線の精密測定への応用に対しては、2005年にノーベル物理学賞が与えられ、世界に注目されている。また、光通信での波長多重分割通信に関しても、我々の利用するブロードバンド光通信で活用できるので、研究の価値は大きい。
次に、従来の光コム技術について、詳しく説明する。光コムを生成する方法としては、例えばモード同期レーザ素子を用いて光コムを生成する方法がある。モード同期レーザ素子を用いる場合、正確なタイミングで光パルスを繰り返し発生できるので、スペクトルは元々等しい間隔の離散スペクトルになっている。このことは、時間領域と周波数領域のフーリエ変換との関係を考えると容易に理解できる。すなわち、光パルスの時間領域での繰り返し時間がTである場合、周波数領域での離散スペクトルの間隔は1/Tとなり、光パルス幅がτである場合、スペクトル拡がりがτの逆数の1/τとなる。ここで、周波数は、振動数(単位:Hz)として定義しているが、角振動数(単位:rad/s)として定義する場合には、振動数に係数2πを付け加えて、振動数1/Tは角振動数2π/Tとなり、振動数1/τは角振動数2π/τとなる。
しかしながら、モード同期レーザ素子を用いて光コムを生成する方法では、特に、広く使用されている半導体モード同期レーザ素子の場合には、上記のT及びτに制約があり、スペクトル幅は狭いため、利用できる光コムは数本程度である。
また、光コムを生成する他の方法としては、非特許文献2に示されるように、キャビティに挿入されたLiNbO3等の電気光学結晶に単一波長のレーザを入射させ、マイクロ波発振器等で電界を印加し、マイクロ波の周波数と同じ間隔で入射した単一波長の光の近傍にサイドモードを発生させ、これをキャビティ内で繰り返し行うことによって光コムを生成する方法も挙げられる。非特許文献2で示される方法においても、出射光はパルス化され、パルス幅の逆数が光コムのスペクトル拡がりとなるが、スペクトル拡がりはやはり狭い。
そこで、特許文献1及び非特許文献3に示されるように、光コムを光増幅器または光パルス圧縮ファイバに通過させ、光のピークパワーを増大し、ホーリーファイバ等の高非線形性を有する光ファイバに入射させて、光カー効果の自己位相変調により、光コムのスペクトルの拡大化を実現する方法(スーパーコンティニウム発生)が提案されている。特許文献1及び非特許文献3に示される方法を用いると、1オクターブ程度のスペクトル拡大が可能となっている。このスペクトル拡大は、光コムという「周波数の物差し」の目盛りを増やすことに相当する。
次に、光コムを周波数の基準光として利用する上で最も重要な点として、オフセット周波数と呼ばれる周波数の基準値f0を決める操作がある。オフセット周波数f0を決める操作が重要である理由を、図1を参照して説明する。
図1は、光コムの各周波数の名称及び定義を説明するための図である。図1に示されるように、光コムの離散スペクトルの間隔は、光パルスの繰り返し周波数frepに等しく、既知である。スペクトル線の周波数fは、f=f0+nfrepと表されるが、オフセット周波数f0が未定であるために未知である。但し、f0の大きさに関しては、0≦f0<frepという制限が存在する。すなわち、オフセット周波数f0は、スペクトル線の周波数fを求めるために非常に重要である。
このオフセット周波数f0を決定し、光コムという「周波数の物差し」に絶対的な周波数の目盛りを割り当てるため、自己参照法という方法を用いる。自己参照法について以下に説明する。
特許文献2及び非特許文献4に示されるように、自己参照法では、スペクトル拡大された光コムの長波長側のスペクトルの一部をバンドパスフィルタ等を用いて取り出し、取り出したスペクトルの一部を二次非線形光学材料に通過させて第二高調波を発生させる。この第二高調波を、バンドパスフィルタ等によってフィルタリングされた短波長側の光コムと干渉させてビート光を生成する。このビート光の最低次の周波数成分をフィルタで取り出して測定すると、このビート光の最低次の周波数成分がf0となっている。
また、特許文献3に示されるように、自己参照法を実施する際には、高次の高調波を干渉させてもよい。例えば、光コムの長波長側でのスペクトルの一部をバンドパスフィルタ等を用いて取り出し、取り出したスペクトルの一部を三次非線形光学材料に通過させ、第三高調波を発生させる。また、光コムの短波長側でのスペクトルの一部を同様にバンドパスフィルタ等で取り出して二次非線形光学材料に通過させ、第二高調波を発生させる。発生した第三高調波と第二高調波とを干渉させてビート光を発生させ、最低次の周波数成分をフィルタで取り出すと、これがやはりf0となっている。
第三高調波を発生させる方法としては、非特許文献5に示されるように、シリコン等の三次非線形光学材料に光を照射して発生させる方法がある。第三高調波を発生させる他の方法としては、非特許文献6に示されるように、二次非線形光学材料に光を入射して第二高調波発生を行い、発生した第二高調波を入射光とともに二次非線形光学材料に入射させて和周波発生を行い、第三高調波を発生させる方法がある。
特開平8−029815号公報 特開2009−116242号公報 特開2007−003511号公報
J. Hall and T. Hansch, ‘‘For their contributions to the development of laser-based precision spectroscopy, including the optical frequency comb technique’’, Nobel Prize in Physics, 2005. http://nobelprize.org M. Kourogi, K. Nakagawa, and M. Ohtsu, ‘‘Wide-span optical frequency comb generator for accurate optical frequency difference measurement’’, IEEE J. Quantum Electron. 29, p.2693 (1993). T. Morioka, K. Mori, and M. Saruwatari, ‘‘More than 100-wavelength-channel picosecond optical pulse generation from single laser source using supercontinuum in optical fibres’’, Electron. Lett. 29, p.862 (1993). R. Holzwarth, Th. Udem, T. W. Hansch, J. C. Knight, W. J. Wadsworth, and P. St. J. Russell, ‘‘Optical frequency synthesizer for precision spectroscopy’’, Phys. Rev. Lett. 85, p.2264 (2000). M. Mehendale, S. A. Mitchell, J.-P. Likforman, D. M. Villeneuve, and P. B. Corkum, ‘‘Method for single-shot measurement of the carrier envelope phase of a few-cycle laser pulse’’, Opt. Lett. 25, p.1672 (2000). K. Kintaka K, M. Fujimura T. Suhara, and H. Nishihara, ‘‘Third harmonic generation of Nd:YAG laser light in periodically poled LiNbO3 waveguide’’, Electron. Lett., 33, p.1459 (1997). M. Fujimura, M. Sudoh, K. Kintaka, T. Suhara, and H. Nishihara, ‘‘Enhancement of SHG efficiency in periodically poled LiNbO3 waveguide utilising a resonance effect’’, Electron. Lett., 32, p.1283 (1996).
非特許文献6で示される方法は、非特許文献5で示される方法よりも第三高調波の発生効率は大きいが、実用的な観点からすると、その発生効率はまだ小さい。そこで、本発明は、特に非特許文献6で示される方法に関して、以下に述べるような共振構造を設けることにより、高効率な第三高調波を発生できる波長変換素子を提供することを目的とする。
上記のような問題を解決するために、請求項1に記載の発明によれば、光の入射により第二高調波を発生し、入射光と第二高調波の和周波発生により第三高調波を発生する波長変換素子であって、周期分極反転構造を有する二次非線形光学媒質からなる導波路部であって、入射光を第二高調波に変換する第二高調波発生部と、入射光と第二高調波とを合波して第三高調波に変換する和周波発生部と、第二高調波の屈折率を変化させるための位相変調部とを有する、導波路部と、前記導波路部の入力端に設けられ、第二高調波を反射する第1の反射部と、前記導波路部の出力端に設けられ、第二高調波を反射する第2の反射部とを備え、前記位相調整部は、前記第1の反射部によって反射された第二高調波の位相と前記第二高調波発生部で発生する第二高調波の位相とを整合させることを特徴とする。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載されている波長変換素子において、前記導波路部は、それぞれ屈折率が異なる2枚の二次非線形光学材料基板で構成され、前記2枚の二次非線形光学材料基板は、基板直接接合法で接合され、前記2枚の二次非線形光学材料基板のうち、屈折率の高い方の基板は、ダイシングまたはエッチングにより加工された導波路であることを特徴とする。
また、請求項3に記載の発明は、請求項1に記載されている波長変換素子において、前記第1の反射部及び前記第2の反射部は、誘電体多層膜により形成されているか、あるいはブラッグ反射器により形成されていることを特徴とする。
また、請求項4に記載の発明は、請求項2に記載されている波長変換素子において、前記2枚の二次非線形光学材料基板は、LiNbO3、あるいは、Mg、Zn、Sc、Inからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を添加物として含有したLiNbO3で構成され、前記2枚の二次非線形光学材料基板のうち、屈折率の高い方の基板は周期分極反転構造を有する基板であることを特徴とする。
さらに、請求項5に記載の発明は、請求項2に記載されている波長変換素子において、前記2枚の二次非線形光学材料基板のうち、屈折率の高い方の基板は、LiNbO3、あるいは、Mg、Zn、Sc、Inからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を添加物として含有するLiNbO3で構成される周期分極反転構造を有する基板であり、屈折率の低い方の基板は、LiTaO3で構成されることを特徴とする。
本発明によれば、二次非線形光学媒質を備え、これに光を入射させて第二高調波を発生し、さらに入射光と第二高調波との和周波発生を二次非線形媒質内で行い、第三高調波を発生させることができる導波路形状の周期分極反転構造を有する波長変換素子において、導波路の入力端及び出力端に第二高調波を反射する反射部を備えることにより、第二高調波に対する共振器を形成し、さらに電気光学効果で共振器内の屈折率を変化させて第二高調波の位相整合条件を調整し、第二高調波のパワーを増大することができる。これにより、第三高調波の出力も増大させるという効果を奏する。さらに、導波路は、基板直接接合法で接合した基板をダイシングまたはエッチングで加工して作製するため、導波路内に閉じ込められた高パワーの第二高調波に対して、光損傷耐性が高いという効果を奏する。
光コムの各周波数の名称及び定義を説明するための図である。 本発明の実施例1に係る波長変換素子の構成を示す図であり、図2(a)は上面図を示し、図2(b)は側面図を示し、図2(c)は正面図を示す。 本発明の実施例1に係る波長変換素子の出力特性の解析方法を説明するための図である。 本発明の実施例1に係る波長変換素子の出力特性及び従来の波長変換素子の出力特性の解析結果を示す図である。 本発明の実施例1に係る波長変換素子の出力増大率の解析結果を示す図である。 本発明の実施例2に係る波長変換素子の構成を示す図であり、図6(a)は上面図を示し、図6(b)は側面図を示し、図6(c)は正面図を示す。 本発明の波長変換素子を用いてオフセット周波数を測定するための実験系の構成を示す図である。
以下、本発明の実施形態を、図を参照して説明する。
図2は、本発明の実施例1に係る波長変換素子を示す。図2(a)は、本発明の実施例1に係る波長変換素子の上面図を示し、図2(b)は、本発明の実施例1に係る波長変換素子の側面図を示し、図2(c)は、本発明の実施例1に係る波長変換素子の正面図を示す。図2に示されるように、本発明の実施例1に係る波長変換素子は、第二高調波発生部30と和周波発生部40とを有する導波路部10と、基板部20と、電極60を有する位相調節部50と、誘電体多層膜70及び誘電体多層膜80と、誘電体スパッタ膜90とで構成される。
導波路部10は、LiNbO3にZnをドープしたZn−LiNbO3で作製されており、幾つかの周期の異なる周期分極反転構造を有している。基板部20は、導波路部10への光閉じ込めのため、導波路部10よりも屈折率が小さくなるように、LiNbO3にMgをドープしたMg−LiNbO3基板で作製されている。
導波路部10及び基板部20の材料の組み合わせとしては、LiNbO3、及びMg、Zn、Sc、Inからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を添加物として含有したLiNbO3、あるいはLiTaO3を使用し、導波路部10の屈折率が、基板部20の屈折率よりも大きくなるように選択されているものとする。
ここで、LiNbO3のような強誘電体結晶では、二次非線形光学定数の正負は自発分極の極性に対応している。そこで、自発分極を反転することにより二次非線形光学定数の符号を周期的に反転することができる。以下、二次非線形光学定数の符号が周期的に反転されている構成を有する構造を周期分極反転構造と呼ぶ。
導波路部10の第二高調波発生部30では、入射した波長λ1の入射光が、第二高調波発生部30で発生する波長λ2の第二高調波と擬似位相整合するように、第二高調波発生部30における周期分極反転構造の周期Λ0が、
Figure 2011257559
の関係を満たすように設定されている。ここで、n1は波長λ1に対する導波路部10の屈折率であり、n2は波長λ2に対する導波路部10の屈折率である。
導波路部10の和周波発生部40では、第二高調波発生部30で発生した第二高調波と第二高調波発生部30を透過した入射光とが和周波発生を行い、波長λ3の和周波光が発生する。発生した波長λ3の和周波光に対して、入射光及び第二高調波が擬似位相整合するように、和周波発生部40における周期分極反転構造の周期Λ1が、
Figure 2011257559
の関係を満たすように設定されている。ここで、n3は波長λ3に対する導波路部10の屈折率である。
cを光の速度とし、入射光の周波数をF=c/λ1とすると、入射光は第二高調波発生部30で二倍の周波数2F=c/λ2の第二高調波に変換され、和周波発生部40で三倍の周波数3F=c/λ3の和周波光に変換される。その結果、導波路部10から第三高調波が出力される。
本発明では、この第三高調波の出力を増大させるために、第二高調波を反射する誘電体多層膜70を導波路部10の入力端に設け、第二高調波を反射する誘電体多層膜80を導波路部10の出力端に設け、さらに導波路部10に光の屈折率を変化させる位相調節部50を設けた。
ここで、導波路部10の入力端とは、導波路部10において、入射光を入力する部位を示し、導波路部10の出力端とは、導波路部10において、第三高調波を出力する部位を示す。すなわち、導波路部10の入力端と出力端との間には、第二高調波発生部30と、和周波発生部40と、位相調節部50とが配置されている。また、誘電体多層膜70、80は、SiO2、TiO2等で構成される。
本発明の波長変換素子において、入射光は、第二高調波発生部30によって第二高調波に変換される。第二高調波発生部30において発生した第二高調波は、和周波発生部40に入射し、第二高調波発生部30を透過して変換されずに残留した入射光は、和周波発生部40に入射する。ここで、入射光パワーは十分に大きいものとして、以下では、その光損失を無視するものとする。和周波発生部40に入射した第二高調波及び和周波発生部40に入射した入射光は、互いに合波されて第三高調波に変換され、和周波発生部40を透過する。和周波発生部40で発生した第三高調波及び和周波発生部40を透過した入射光は、誘電体多層膜80を通過する。入射光と合波後に残留し、和周波発生部40を透過した第二高調波は位相調整部50により位相調整されて、位相調整された第二高調波は誘電体多層膜80によって反射される。位相調整部50による位相調整に関しては、後述する。誘電体多層膜80によって反射された第二高調波は、導波路部10を介して誘電体多層膜70に入射してさらに反射されて、第二高調波発生部30に入射する。ここで、誘電体多層膜70によって反射されて第二高調波発生部30に入射した第二高調波は、前述したように位相調整部50によって位相調整されており、第二高調波発生部30で入射光が新たに変換されて発生した第二高調波の位相と擬似位相整合されている。誘電体多層膜70によって反射されて第二高調波発生部30に入射した第二高調波と、第二高調波発生部30で入射光が新たに変換されて発生した第二高調波と、第二高調波発生部30を透過した入射光は、和周波発生部40に入射する。第二高調波発生部30で入射光が新たに変換されて発生した第二高調波及び誘電体多層膜70によって反射されて和周波発生部40に入射した第二高調波は、和周波発生部40において、第二高調波発生部30を透過した入射光と合波されて第三高調波に変換されて誘電体多層膜80を透過して出力され、合波後に残留する第二高調波は、和周波発生部40及び位相調整部50を通過して誘電体多層膜80によって反射される。この合波後に残留する和周波発生部40を透過した第二高調波は、和周波発生部40にて入射光と合波されて第三高調波に変換されるまで、誘電体多層膜70、80による反射が繰り返される。
本構成を利用して、誘電体多層膜70、80によって第二高調波と入射光とを多数回合波させ、誘電体多層膜70に反射された第二高調波と、第二高調波発生部30で入射光が新たに変換されて発生した第二高調波とを位相調節部50によって擬似位相整合させることにより、第三高調波の出力を増大させる。
誘電体多層膜70、80は、和周波発生部40で入射光と合波されずに残留した第二高調波を反射することにより、第二高調波を導波路部10内に多数回往復させて、第二高調波と入射光とを多数回合波させることを可能にする。第二高調波と入射光とを多数回合波させることにより、和周波発生部40において第三高調波を高効率で発生させることができる。
位相調節部50は、導波路部10に電界を印加して電気光学効果により光の屈折率を変化させる。具体的には、位相調節部50は、和周波発生部40を通過した第二高調波が誘電体多層膜70で反射され、誘電体多層膜70で反射された第二高調波が誘電体多層膜80でさらに反射されて第二高調波発生部30に再度入射する際、ここで新たに発生する第二高調波の位相と誘電体多層膜80によって反射された第二高調波の位相とが一致するように、残留した第二高調波に屈折率変化を与えて位相調節を行う。これにより、第二高調波の共振条件を保持しつつ、その光パワーを増大させることができる。
以下、本発明の波長変換素子において、特に位相調節部50及び誘電体多層膜70、80によって実現されるような、第二高調波の共振条件を保持しつつ、その光パワーを増大させることができる構造を共振構造と呼ぶ。
なお、位相調節部50が設けられる部位には、電界を印加するための金属性の電極60を導波路上とその近傍の素子表面に作製する必要があるが、導波路部10に金属電極を直接接触させると大きな光損失が生じるため、導波路上にSiO2等から成る誘電体スパッタ膜90を作製後、電極60を作製した。
上記のような本発明の波長変換素子の構成により、入射光パワーが同じであっても出力が増大するため、出力効率が改善されたとも言える。ここで重要なことは、第三高調波のみが最終的に必要な出力であるため、第二高調波に対して高い反射率を有する反射鏡を用い、第二高調波を導波路部10内に閉じ込めることができるので、導波路部10内での第二高調波発生の効率を高めることができ、結果として第三高調波を高い効率で得ることができることである。
次に、本発明の波長変換素子の出力特性の解析方法と結果を示す。図3は、本発明の波長変換素子の出力特性の解析方法を説明するための図である。図3に示されるように、入射光の電界をE0、第二高調波発生部30の入力端での第二高調波の電界をAn、和周波発生部40に入射する第二高調波の電界をBn、和周波発生部40で入射光と合波されずに残留した第二高調波の電界をCn、素子外へ出射させる和周波光の電界をDnとする。電界An、Bn、Cn、Dnは、第二高調波が導波路部10をn回往復した場合の電界である。電界An、Bn、Cn、Dnが満たす漸化式は次のようになる。
Figure 2011257559
ここで、Dn=κSHG0nであり、κSHGは第二高調波の電界へ変換される際の結合係数であり、κSFGは和周波光の電界へ変換される際の結合係数である。また、定義より明らかなように、A0=0という初期条件を有する。また、入射光の電界E0は十分大きく、導波路内でも減衰しない。第二高調波及び第三高調波については、導波路部10の材料による光吸収は無視できるものとし、誘電体多層膜70、80での第二高調波の反射率は100%と仮定した。
(式3)、(式4)、及び(式5)は、解析的に計算することができ、出力される第三高調波の電界Dnは、次のBnの解析解
Figure 2011257559
を用いて、
Figure 2011257559
となる。
Figure 2011257559
の条件の下、無限回反射後の第三高調波の電界Dは、
Figure 2011257559
となる。従って、その第三高調波の出力パワーPoutは、入射光パワーをP0、第二高調波への変換効率をηSHG、和周波発生への変換効率をηSFGとすると、
Figure 2011257559
となる。波長変換素子が共振構造を有する場合の第三高調波の出力パワーPoutに対する波長変換素子が共振構造を有していない場合の第三高調波の出力パワーP'outの比を出力増大率eとする。波長変換素子が共振構造を有していない場合、
P'out=ηSFGηSHG0 3 (式10)
となるので、波長変換素子が共振構造を有する場合の(式9)で示されるPoutを(式10)で示されるP'outで割ると、出力増大率eは、
Figure 2011257559
となる。
さらに、本発明の波長変換素子では、取り扱っている周波数の関係から、和周波発生への変換効率は、第二高調波への変換効率の二倍(ηSFG=2ηSHG)となるので、(式9)及び(式11)は、
Figure 2011257559
と変形される。
図4は、入射光パワーP0に対する第三高調波の出力パワーの特性を示す。図4は、本願発明のように共振構造を有する波長変換素子が出力する第三高調波の出力パワーの特性を(式13)を利用して解析し、従来技術のように共振構造を有さない波長変換素子が出力する第三高調波の出力パワーの特性を(式10)を利用して解析したものである。第二高調波への変換効率ηSHG=100[%/W]と仮定した。また、(式12)の根号内の値が負にならないように、0≦P0≦500[mW]という制限が存在する。
図4の実線は、本願発明の波長変換素子が共振構造を有する場合に出力される第三高調波の出力パワーの特性を示し、図4の点線は、波長変換素子が共振構造を有していない場合に出力される第三高調波の出力パワーの特性を示している。図4に示されるように、共振構造が存在することにより、出力特性が大きく改善されることが分かる。
図5は、入射光パワーP0に対する第三高調波の出力増大率eの特性を示す。図5は、(式12)を利用することにより、第三高調波の出力増大率eの特性を解析したものである。ここでも、第二高調波への変換効率ηSHG=100[%/W]と仮定した。
図5で示される出力増大率eは、入射光パワーP0が大きくなるにつれて小さくなり、P0=500[mW]でe=1となる。e=1となる理由は、第二高調波発生部30では、P0の自乗で第二高調波が発生するが、和周波発生部40では、P0の三乗に比例して和周波光が発生するためである。その結果、入射光パワーP0が大きくなると、導波路部10における第二高調波のパワー消費が大きくなり、誘電体多層膜70、80で有効にフィードバックされる第二高調波がなくなり、最小値としては1パス分の第三高調波の出力しか得られないため、最終的にe=1となる。逆に、入射光パワーP0が小さくなると、誘電体多層膜70、80により多数回のフィードバックが掛かることになり、出力増大率eが増加する。
非特許文献7に示されるように、周期分極反転構造を有する導波路型のLiNbO3波長変換素子の入力端及び出力端に誘電体多層膜からなる反射部を設け、第二高調波を増大させる波長変換素子は既に開発されている。しかしながら、これは第二高調波を出力する波長変換素子であり、第三高調波を出力する本発明の波長変換素子とは異なる。
また、非特許文献7に示される波長変換素子は、「第二高調波」ではなく、「入射光」を反射鏡で往復させ、フィードバック効果を得た第二高調波を出力するものであるが、入射光を種光として波長変換素子外から入射する必要があるため、入射光に対して100%の反射率の反射鏡を使用することはできず、フィードバック効果も最大限には得られない。
それに対して、本発明の波長変換素子では、種光として波長変換素子外から入射光を入射し、入射光と第二高調波との和周波発生で生成した第三高調波を出射させるものである。従って、第二高調波は、入出射とは無関係な中間状態に発生するものであるため、本発明の波長変換素子においては、第二高調波に対する反射率が100%の反射部を使用することができる。そのため、第二高調波を反射率100%の反射部を使用して波長変換素子内に閉じ込めて、最大限に有効なフィードバック効果を得た第二高調波を出力することができる。
また、本発明の波長変換素子の導波路部10は、所望の設計に基づいて、周期分極反転構造を有するZn−LiNbO3基板をMg−LiNbO3基板又はLiTaO3基板に基板直接接合法を利用して接合した後、Zn−LiNbO3基板をダイシングまたはエッチングで加工することにより作製される。
それに対して、周期分極反転構造を有する導波路型の他のLiNbO3波長変換素子の導波路部の多くは、Ti拡散等を利用して作製される。Ti拡散等を利用して作製された波長変換素子に反射鏡を用いた共振構造を設けた場合、導波路内部に閉じ込められる光のパワーが非常に大きくなる。そのため、光誘起のキャリアが生成されやすくなり、光誘起屈折率変化(光損傷ともいう)により共振条件の制御が難しくなる。
本発明の波長変換素子は、Zn−LiNbO3基板をダイシングまたはエッチングで加工して作製され、Tiのような光損傷を引き起こす元素を含まないため、光損傷に対する高い耐性を有するという特徴がある。
また、本発明の波長変換素子の共振構造は、通常の誘電体多層膜の蒸着で作製できるが、蒸着の際、位相調節部50の電極60の作製予定部位には、誘電体多層膜70、80の材料が付着しないように注意する必要がある。誘電体多層膜70、80の材料が付着しないように作製するためには、例えば、フォトレジスト等の保護材料を用いて電極60の作製予定部位を保護してから、誘電体多層膜70、80の蒸着を行い、その後、溶剤で保護材料を除去すればよい。
共振構造の他の作製方法として、本発明の実施例2で示す波長変換素子の共振構造の作製方法を示す。図6は、本発明の実施例2に係る波長変換素子を示す図である。図6(a)は、本発明の実施例2に係る波長変換素子の上面図を示し、図6(b)は、本発明の実施例2に係る波長変換素子の側面図を示し、図6(c)は、本発明の実施例2に係る波長変換素子の正面図を示す。図6に示されるように、本発明の実施例2に係る波長変換素子は、第二高調波発生部30と和周波発生部40とを有する導波路部10と、基板部20と、電極60を有する位相調節部50と、ブラッグ反射器110及びブラッグ反射器120と、誘電体スパッタ膜90とで構成される。
本発明の実施例2で示す波長変換素子の共振構造の作製方法は、周期分極反転構造を有するZn−LiNbO3基板に対して、ブラッグ反射器110、120の作製予定部位である導波路部10の入力端及び出力端付近をプロトン交換法等で周期的に屈折率変化を与えてブラッグ反射器110、120を構成し、このようにして作製した基板をMg−LiNbO3基板またはLiTaO3基板に基板直接接合法で接合し、ダイシングまたはエッチングで導波路を加工して、ブラッグ反射器110、120を有する導波路部10を作製するものである。
本発明の実施例2に係る波長変換素子の作製方法は、誘電体多層膜70、80の蒸着する必要がないため、保護材料を用いて電極60の作成予定部位を保護し、作成後に保護材料を除去するという工程を経る必要がない。従って、本発明の実施例2に係る波長変換素子の作製方法は、本発明の実施例1に係る波長変換素子を作製する際に行われる工程よりも簡略化された工程で行うことができる。
図7は、本発明の波長変換素子を用いたオフセット周波数f0を測定するための実験系の一例である。
図7に示される実験系は、モード同期レーザ素子210と、Erドープ光ファイバ増幅器220と、λ/2波長板230と、ホーリーファイバ240と、本発明の波長変換素子250と、LiNbO3からなる周期分極反転構造を有する導波路型の第二高調波発生素子260と、ロングパスフィルタ270と、ビームスプリッタ280と、遅延線290と、バンドパスフィルタ300と、フォトダイオード310とで構成される。
図7に示される実験系では、まずモード同期レーザ素子210から出射された光コムの光パルス列が、Erドープ光ファイバ増幅器220を通過して、光パルスのピークパワーが増大される。Erドープ光ファイバ増幅器220を通過後、光コムは、λ/2波長板230で偏波が90度回転され、高光非線形特性を有するホーリーファイバ240に入射する。
光コムがホーリーファイバ240に入射することにより、光コムのスペクトル幅が拡大される。λ/2波長板230による90度の偏波の回転は、後に光が入射される本発明の波長変換素子250の偏波と第二高調波発生素子260の偏波との整合を取るために行われる。
図7に示されるように、次に、このスペクトル拡大された光コムは、ロングパスフィルタ270を通って長波長側の光が透過される。この透過光は、本発明の波長変換素子250に入射し、本発明の波長変換素子250により第三高調波が発生する。また、ロングパスフィルタ270によってフィルタリングされた短波長側の光コムは、第二高調波発生素子260に入射し、第二高調波発生素子260により第二高調波が発生する。
この際、周知のように、本発明の波長変換素子250及び第二高調波発生素子260のような周期分極反転構造を有するLiNbO3波長変換素子は、設計された変換波長(又は変換周波数)周辺の0.2nm程度(25GHz程度)の幅の光のみを変換するため、一種のバンドパスフィルタとして機能する。今、本発明の波長変換素子250は周波数f1の光を選択して、周波数3f1の光に変換し、第二高調波発生素子260は周波数f2の光を選択して、周波数2f2の光に変換し、周波数f1、f2は、3f1≒2f2(f1<f2)を満たすように設定されているものとする。この場合、光コムのスペクトルは、ホーリーファイバ240を透過後、周波数f1、f2を含む程度の幅に拡大されているものとする。
図7に示されるように、本発明の波長変換素子250及び第二高調波発生素子260において、上記のような周波数3f1、2f2の変換光をそれぞれ発生した後、2つの変換光をビームスプリッタ280で合波して、ビート光を発生させる。第二高調波発生素子260の後段の遅延線290は、第二高調波発生素子260を透過後の光と本発明の波長変換素子250を透過後の光との位相ずれを補正することができる。
このようにして生成されたビート光のうち、最低次の周波数の光をバンドパスフィルタ300で取り出した後、フォトダイオード310でその値を測定するとオフセット周波数f0が得られる。
10 導波路部
20 基板部
30 第二高調波発生部
40 和周波発生部
50 位相調節部
60 電極
70、80 誘電体多層膜
90 誘電体スパッタ膜
110、120 ブラッグ反射器
210 モード同期レーザ素子
220 Erドープ光ファイバ増幅器
230 λ/2波長板
240 ホーリーファイバ
250 本発明の波長変換素子
260 第二高調波発生素子
270 ロングパスフィルタ
280 ビームスプリッタ
290 遅延線
300 バンドパスフィルタ
310 フォトダイオード

Claims (5)

  1. 光の入射により第二高調波を発生し、入射光と第二高調波の和周波発生により第三高調波を発生する波長変換素子であって、
    周期分極反転構造を有する二次非線形光学媒質からなる導波路部であって、入射光を第二高調波に変換する第二高調波発生部と、入射光と第二高調波とを合波して第三高調波に変換する和周波発生部と、第二高調波の屈折率を変化させるための位相変調部とを有する、導波路部と、
    前記導波路部の入力端に設けられ、第二高調波を反射する第1の反射部と、
    前記導波路部の出力端に設けられ、第二高調波を反射する第2の反射部と
    を備え、
    前記位相調整部は、前記第1の反射部によって反射された第二高調波の位相と前記第二高調波発生部で発生する第二高調波の位相とを整合させることを特徴とする波長変換素子。
  2. 前記導波路部は、それぞれ屈折率が異なる2枚の二次非線形光学材料基板で構成され、前記2枚の二次非線形光学材料基板は、基板直接接合法で接合され、前記2枚の二次非線形光学材料基板のうち、屈折率の高い方の基板は、ダイシングまたはエッチングにより加工された導波路であることを特徴とする請求項1に記載の波長変換素子。
  3. 前記第1の反射部及び前記第2の反射部は、誘電体多層膜により形成されているか、あるいはブラッグ反射器により形成されていることを特徴とする請求項1に記載の波長変換素子。
  4. 前記2枚の二次非線形光学材料基板は、LiNbO3、あるいは、Mg、Zn、Sc、Inからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を添加物として含有したLiNbO3で構成され、前記2枚の二次非線形光学材料基板のうち、屈折率の高い方の基板は周期分極反転構造を有する基板であることを特徴とする請求項2に記載の波長変換素子。
  5. 前記2枚の二次非線形光学材料基板のうち、屈折率の高い方の基板は、LiNbO3、あるいは、Mg、Zn、Sc、Inからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を添加物として含有するLiNbO3で構成される周期分極反転構造を有する基板であり、屈折率の低い方の基板は、LiTaO3で構成されることを特徴とする請求項2に記載の波長変換素子。
JP2010131396A 2010-06-08 2010-06-08 波長変換素子 Pending JP2011257559A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010131396A JP2011257559A (ja) 2010-06-08 2010-06-08 波長変換素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010131396A JP2011257559A (ja) 2010-06-08 2010-06-08 波長変換素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011257559A true JP2011257559A (ja) 2011-12-22

Family

ID=45473796

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010131396A Pending JP2011257559A (ja) 2010-06-08 2010-06-08 波長変換素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011257559A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012118333A (ja) * 2010-12-01 2012-06-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 波長変換素子
JP2014041273A (ja) * 2012-08-23 2014-03-06 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 自己参照干渉装置および方法
JP2015155984A (ja) * 2014-02-21 2015-08-27 日本電信電話株式会社 自己参照干渉装置
JP2015200800A (ja) * 2014-04-08 2015-11-12 日本電信電話株式会社 波長変換素子および光周波数コム発生装置
JP2017146386A (ja) * 2016-02-16 2017-08-24 株式会社島津製作所 波長変換光学装置及びレーザ装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06265954A (ja) * 1993-03-15 1994-09-22 Mitsui Petrochem Ind Ltd 波長変換素子
JP2003140214A (ja) * 2001-11-02 2003-05-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 波長変換素子用薄膜基板の製造方法及び波長変換素子の製造方法
WO2005012996A1 (ja) * 2003-08-01 2005-02-10 Nippon Telegraph And Telephone Corporation レーザ光源
JP2006189587A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Nidek Co Ltd 医療用レーザ装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06265954A (ja) * 1993-03-15 1994-09-22 Mitsui Petrochem Ind Ltd 波長変換素子
JP2003140214A (ja) * 2001-11-02 2003-05-14 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 波長変換素子用薄膜基板の製造方法及び波長変換素子の製造方法
WO2005012996A1 (ja) * 2003-08-01 2005-02-10 Nippon Telegraph And Telephone Corporation レーザ光源
JP2006189587A (ja) * 2005-01-05 2006-07-20 Nidek Co Ltd 医療用レーザ装置

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6013048195; Electronics Letters Vol.33 No.17(1997), p.1459-1461 *
JPN6013048198; Electronics Letters Vol.32 No.14(1996), p.1283-1284 *
JPN6013048201; IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics Vol.2 No.2 (1996), p.396-400 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012118333A (ja) * 2010-12-01 2012-06-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 波長変換素子
JP2014041273A (ja) * 2012-08-23 2014-03-06 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 自己参照干渉装置および方法
JP2015155984A (ja) * 2014-02-21 2015-08-27 日本電信電話株式会社 自己参照干渉装置
JP2015200800A (ja) * 2014-04-08 2015-11-12 日本電信電話株式会社 波長変換素子および光周波数コム発生装置
JP2017146386A (ja) * 2016-02-16 2017-08-24 株式会社島津製作所 波長変換光学装置及びレーザ装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7339718B1 (en) Generation of terahertz radiation in orientation-patterned semiconductors
Cerullo et al. Ultrafast optical parametric amplifiers
US8599476B1 (en) Alignment and optimization of a synchronously pumped optical parametric oscillator for nonlinear optical generation
FI127382B (en) Method and apparatus for generating a frequency comb using an optical manipulator
JPH05333395A (ja) 光波長変換装置
Yu et al. Grazing-incidence periodically poled LiNbO 3 optical parametric oscillator
JP2011257559A (ja) 波長変換素子
JP2685969B2 (ja) 第2高調波発生装置
JPH05273624A (ja) 光波長変換素子およびそれを用いた短波長レーザ光源および短波長レーザ光源を用いた光情報処理装置および光波長変換素子の製造方法
Bradler et al. Broadband difference frequency mixing between visible and near-infrared pulses for few-cycle pulse generation with stable carrier-envelope phase
US6700905B1 (en) Ultrawide-band light pulse generation
Sjaardema et al. Low‐Harmonic Generation in Cascaded Thin‐Film Lithium Niobate Waveguides
Rotermund et al. Laser-diode-seeded operation of a femtosecond optical parametric amplifier with MgO: LiNbO 3 and generation of 5-cycle pulses near 3 µm
JPH10254001A (ja) 光波長変換モジュール
Jankowski et al. Supercontinuum generation by saturated second-order nonlinear interactions
US20120093181A1 (en) Laser device for production of a frequency comb free of CEO
JP2014041273A (ja) 自己参照干渉装置および方法
Mutter et al. Phase-locked degenerate backward wave optical parametric oscillator
JPH08304864A (ja) レーザの周波数倍増に基づくポンプの減損による自己安定化コンパクト光源
JPH06110095A (ja) ミリ波・サブミリ波発生方法ならびにその装置
JP2013250403A (ja) 光合分波器および波長変換デバイス
JP2718259B2 (ja) 短波長レーザ光源
US20090207876A1 (en) Laser Source for the Infrared Wavelength Range
US7106496B2 (en) Element for wavelength conversion and/or optical computing
JPH0566440A (ja) レーザ光源

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130129

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130925

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131001

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140218