JP2011251237A - 洗浄方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】洗浄装置1(洗浄方法)は、被洗浄物に洗浄溶剤を適用する第1洗浄処理槽2及び第2洗浄処理槽3(薬剤洗浄工程)と、洗浄処理後の被洗浄物を水ですすぐ第1すすぎ槽4及び第2すすぎ槽5(すすぎ工程)と、被洗浄物に付着した水分を除去するための水切り乾燥槽群6(水切り乾燥工程)を備える。水切り乾燥槽群6は、前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げる温純水引き上げ槽11(水引き上げ工程)と、水を取り込む乾燥用溶剤の蒸気を当てる溶剤乾燥槽13(溶剤乾燥工程)を含む。
【選択図】図1
Description
本発明の実施例として、水切り乾燥槽群6の前半に温純水槽10及び温純水引き上げ槽11を配置し、後半に溶剤乾燥槽13を配置したもの〔実施例1,図1(b)〕あるいはリンス槽12及び溶剤乾燥槽13を配置したもの〔実施例2,図1(c)〕と、水切り乾燥槽群6の前半に温純水引き上げ槽11を配置し、後半に溶剤乾燥槽13を配置したもの〔実施例3,図1(d)〕あるいはリンス槽12及び溶剤乾燥槽13を配置したもの〔実施例4,図1(e)〕を作成し、比較例として、水切り乾燥槽群6の構成を様々に変更した比較例1〜12を作成した。これらの構成等を[表1]に示す。
実施例1〜4及び比較例1〜12で洗浄したガラスモールドにつき、「JIS T 7336:2010 ISO 8980−5:2005」で規格された検査と同等の手法により、目視で乾燥状況を判定した。なお、この規格は、眼鏡レンズの耐きず性確認に関するものであるが、検査対象をガラスモールドに置き換えて適用した。又、本乾燥判定は、この規格の内、特に「5.1.5 検査用照明」「5.2.1 試験場所」「5.2.2 レンズサンプル」を参照したものであり、検査用照明の項で示される反射試験法ないし側方照明試験法により照らしたガラスモールドにおいて、残存水分(視認可能な擦り水滴)の有無を目視で隈無く確認するものである。
実施例1〜4,比較例1〜12で洗浄したガラスモールドに係る乾燥判定結果を[表1]右側の「乾燥判定」欄に示す。ここで、残存水分がガラスモールド及び洗浄治具の双方に認められないと判断した場合に「◎」を付し、ガラスモールドに残存水分は認められないが洗浄治具の一部に残存水分が認められた場合に「○」を付し、ガラスモールドに残存水分が認められた場合に「×」を付す。
実施例1〜4,比較例1〜12における洗浄費用について、[表1]右側の「洗浄費用」欄に示す。通常の規模のガラスモールドの洗浄を想定した場合の薬剤の月間コストが30万円未満である場合に「◎」を付し、当該月間コストが30万円以上50万円未満である場合に「○」を付し、当該月間コストが50万円以上70万円未満である場合に「△」を付し、当該月間コストが70万円以上である場合に「×」を付す。
実施例1〜4,比較例1〜12で洗浄したガラスモールドに係る離型性の判定結果を[表1]右側の「作業性判定」欄に示す。ここで、ガラスモールドと成型品の分離作業が容易である場合に「○」を付し、分離作業が一部又は全部できず、分離作業が困難である場合に「×」を付す。
ガラスモールドに水分が残存すると、プラスチックレンズの成形に支障を来すおそれがあるため、比較例5〜8,10,11は採用できない。又、リンス槽12及び溶剤乾燥槽13に加え水切り槽を設けて合計3槽で溶剤乾燥を行う比較例1,2,4,9では、洗浄費用が嵩む。
上述の通り、温純水引き上げ槽11(及び温純水槽10)と溶剤乾燥槽13(及びリンス槽12)を組み合わせることで、管理が容易で乾燥性能が高い洗浄を現実に提供することができており、産業上利用可能であって、発明の開示としては上記で十分と考えるが、便宜のため更にその仕組みにつき考察する。
6 水切り乾燥槽群
10 温純水槽(プレ水引き上げ槽)
11 温純水引き上げ槽(水引き上げ槽)
12 リンス槽(第1の溶剤乾燥槽)
13 溶剤乾燥槽(第2の溶剤乾燥槽)
Claims (8)
- 被洗浄物を薬剤により洗浄する薬剤洗浄工程と、
前記被洗浄物に付着した前記薬剤を水によりすすぐすすぎ工程と、
前記被洗浄物から水を除去する水切り乾燥工程
を含んでおり、
前記水切り乾燥工程は、
前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げる水引き上げ工程と、
水を取り込む乾燥用溶剤の蒸気を当てる1つ又は2つの溶剤乾燥工程
を含む
ことを特徴とする洗浄方法。 - 前記水引き上げ工程は、30〜90℃の温純水を用いるものである
ことを特徴とする請求項1に記載の洗浄方法。 - 前記溶剤乾燥工程は、
20〜60℃の乾燥用溶剤の上に前記被洗浄物を位置させるものであり、
あるいは、0〜40℃の乾燥用溶剤の上に前記被洗浄物を位置させた後、20〜60℃の乾燥用溶剤の上に前記被洗浄物を位置させるものである
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の洗浄方法。 - 前記水切り乾燥工程は、前記水引き上げ工程の前に、室温以上で前記水引き上げ工程における水の温度未満である水に前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げるプレ水引き上げ工程を含む
ことを特徴とする請求項1ないし請求項3の何れかに記載の洗浄方法。 - 被洗浄物を薬剤により洗浄する薬剤洗浄槽、又は当該洗浄槽が複数集まった薬剤洗浄槽群と、
前記被洗浄物に付着した前記薬剤を水によりすすぐすすぎ槽、又は当該すすぎ槽が複数集まったすすぎ槽群と、
前記被洗浄物から水を除去する水切り乾燥槽が複数集まった水切り乾燥槽群
を含んでおり、
前記水切り乾燥槽群は、
前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げるための水引き上げ槽と、
水を取り込む乾燥用溶剤の蒸気を当てる1つ又は2つの溶剤乾燥槽
を含む
ことを特徴とする洗浄装置。 - 前記水引き上げ槽において、30〜90℃の温純水を用いる
ことを特徴とする請求項5に記載の洗浄装置。 - 前記溶剤乾燥槽は、
20〜60℃の乾燥用溶剤の上に前記被洗浄物を位置させる1つの溶剤乾燥槽、
あるいは、0〜40℃の乾燥用溶剤の上に前記被洗浄物を位置させる第1の溶剤乾燥槽、及び20〜60℃の乾燥用溶剤の上に前記被洗浄物を位置させる第2の溶剤乾燥槽の2つの溶剤乾燥槽から成る
ことを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の洗浄装置。 - 前記水切り乾燥槽群は、前記水引き上げ槽の前に、室温以上で前記水引き上げ工程における水の温度未満である水に前記被洗浄物を浸漬した後で引き上げるためのプレ水引き上げ槽を含む
ことを特徴とする請求項5ないし請求項7の何れかに記載の洗浄装置。
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---|---|---|---|---|
JPH0568951A (ja) * | 1991-09-18 | 1993-03-23 | Canon Inc | 洗浄方法 |
JPH0874078A (ja) * | 1994-09-05 | 1996-03-19 | Dainippon Ink & Chem Inc | 金属製円筒状ドラムの洗浄方法 |
JPH10216658A (ja) * | 1997-02-13 | 1998-08-18 | Canon Inc | 精密洗浄方法、洗浄装置及びこれを用いて製造された磁気ヘッド |
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- 2010-06-01 JP JP2010126065A patent/JP5649335B2/ja not_active Expired - Fee Related
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