JP2011248347A5 - - Google Patents
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- 角部に補助パターンを有する遮光部を有し、
前記補助パターンは、（ｋ＋１）個（ｋは３以上の自然数）の辺を有し、前記（ｋ＋１）個のうちの２個の辺でなす角度は鈍角であることを特徴とするフォトマスク。 - 角部に補助パターンを有する遮光部を有し、
前記補助パターンは、
２ｌ個（ｌは２以上の自然数）の辺を有し、
前記２ｌ個のうちの２個の辺でなす角には、第１の角度と第２の角度とがあり、
前記第１の角度は、０°より大きく１８０°未満であり、
前記第２の角度は、１８０°より大きく３６０°未満であり、
前記第１の角度と前記第２の角度は交互に設けられることを特徴とするフォトマスク。 - 請求項１または請求項２において、
前記角部の内角は、０°より大きく、１８０°未満であり、
前記補助パターンは前記角部より突き出ていることを特徴とするフォトマスク。 - 請求項１または請求項２において、
前記角部の内角は、１８０°より大きく、３６０°未満であり、
前記角部において、前記補助パターンが切り欠きされていることを特徴とするフォトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011097863A JP2011248347A (ja) | 2010-04-28 | 2011-04-26 | フォトマスク |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010104402 | 2010-04-28 | ||
| JP2010104402 | 2010-04-28 | ||
| JP2011097863A JP2011248347A (ja) | 2010-04-28 | 2011-04-26 | フォトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011248347A JP2011248347A (ja) | 2011-12-08 |
| JP2011248347A5 true JP2011248347A5 (ja) | 2014-05-29 |
Family
ID=44858493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011097863A Withdrawn JP2011248347A (ja) | 2010-04-28 | 2011-04-26 | フォトマスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8512917B2 (ja) |
| JP (1) | JP2011248347A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102749801A (zh) * | 2012-06-29 | 2012-10-24 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种掩模板 |
| JP6297430B2 (ja) * | 2014-06-30 | 2018-03-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
| CN104281000A (zh) * | 2014-10-23 | 2015-01-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板 |
| JP6501154B2 (ja) * | 2015-05-18 | 2019-04-17 | 大日本印刷株式会社 | フォトマスクおよび導電性パターンの製造方法 |
| CN106997147A (zh) * | 2017-05-27 | 2017-08-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、基板以及显示装置 |
| US10481487B2 (en) | 2017-09-11 | 2019-11-19 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd | Mask |
| CN107505811B (zh) * | 2017-09-11 | 2020-05-05 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光罩 |
| CN109143774A (zh) * | 2018-07-18 | 2019-01-04 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 掩膜板及金属线的制作方法 |
| JPWO2022210159A1 (ja) * | 2021-03-29 | 2022-10-06 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04251253A (ja) | 1991-01-09 | 1992-09-07 | Fujitsu Ltd | 露光マスク |
| US5920487A (en) * | 1997-03-03 | 1999-07-06 | Motorola Inc. | Two dimensional lithographic proximity correction using DRC shape functions |
| JP3241628B2 (ja) | 1997-03-21 | 2001-12-25 | シャープ株式会社 | 半導体装置の製造装置 |
| KR100283408B1 (ko) | 1998-01-21 | 2001-04-02 | 김영환 | 반도체용마스크 |
| US6811935B2 (en) * | 2000-07-05 | 2004-11-02 | Numerical Technologies, Inc. | Phase shift mask layout process for patterns including intersecting line segments |
| JP4736277B2 (ja) | 2001-08-28 | 2011-07-27 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルターの着色画素の形成方法及びカラーフィルターのブラックマトリックスの形成方法 |
| JP3998458B2 (ja) * | 2001-11-08 | 2007-10-24 | 富士通株式会社 | 波長に依存しないリソグラフィ用の露光パターン生成方法及び露光パターン生成装置 |
| JP2003255508A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-10 | Oki Electric Ind Co Ltd | マスクパターンの補正方法、フォトマスク、露光方法、半導体装置 |
| JP2004093705A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Fujitsu Ltd | マスクパターンの補正方法 |
| JP2004219587A (ja) * | 2003-01-10 | 2004-08-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 光近接補正パターンを有するフォトマスク用データの作成方法と、光近接補正パターンを有するフォトマスク |
| JP3746497B2 (ja) | 2003-06-24 | 2006-02-15 | 松下電器産業株式会社 | フォトマスク |
| JP2005173384A (ja) | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Advanced Color Tec Kk | フォトマスク |
| JP4677760B2 (ja) * | 2004-10-22 | 2011-04-27 | 凸版印刷株式会社 | 近接効果補正方法、フォトマスク、近接効果補正装置 |
| US7579220B2 (en) | 2005-05-20 | 2009-08-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device manufacturing method |
| EP3614442A3 (en) | 2005-09-29 | 2020-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufactoring method thereof |
| JP5078246B2 (ja) | 2005-09-29 | 2012-11-21 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、及び半導体装置の作製方法 |
| US7601566B2 (en) | 2005-10-18 | 2009-10-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
-
2011
- 2011-04-26 US US13/093,974 patent/US8512917B2/en active Active
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