CN107505811B - 光罩 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种光罩，用于制作阵列基板的公共电极，包括中心部分、第一部分以及第二部分，第一部分连接中心部分且沿第一方向延伸，第二部分连接中心部分且沿第二方向延伸，第一方向与第二方向交叉，第一部分与中心部分的交界处形成第一凹槽，第二部分与中心部分的交界处形成第二凹槽，第二凹槽连通第一凹槽以共同形成第一凹陷区。上述光罩能够降低应用上述阵列基板的液晶显示面板出现显示不良的风险。

Description

光罩
技术领域
本发明涉及阵列基板制备技术领域，尤其涉及一种用于制作阵列基板上公共电极的光罩。
背景技术
液晶显示面板行业已经历了数十年的发展，垂直配向(vertical alignment，VA)显示模式以其宽视野角、高对比度和无须摩擦配相等优势，成为大尺寸电视机(Television，TV)用薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，TFT-LCD)的常见显示模式。对比度可以用最亮情况的亮度与最暗情况的亮度之比率来衡量。一个显示画面的内容，只有由像素与像素之间的差别来表现才能显示出来，而最简单的差别是亮与暗，其间的差别越大，人眼便越能感知到。人的瞳孔会随着所处环境的亮度而缩放来控制进入眼睛的光量，只要是在正常的亮度范围之内，当周围环境的亮度大时，瞳孔会缩小使进入光量变小，相反的，当周围环境的亮度低时，瞳孔会放大而使进入光量变大。因此，相较之下，对比度对于人眼感觉的影响更甚于亮度值本身的大小。
现有液晶显示面板的像素中，如果在显示区域内设有交叉的公共电极线时，由于交叉区域容易在蚀刻过程中出现额外的金属，使得公共电极线的交叉区域形成连接两个交叉走线的斜边(如45°斜边)，因此在VA显示模式下容易在交叉区域出现暗态亮纹，从而导致显示不良。
发明内容
本发明提供一种光罩，所述光罩用于制作阵列基板的公共电极，所述光罩能够降低应用所述阵列基板的液晶显示面板出现显示不良的风险。
本发明实施例采用如下技术方案：
提供一种光罩，用于制作阵列基板的公共电极，包括中心部分、第一部分以及第二部分，所述第一部分连接所述中心部分且沿第一方向延伸，所述第二部分连接所述中心部分且沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向交叉，所述第一部分与所述中心部分的交界处形成第一凹槽，所述第二部分与所述中心部分的交界处形成第二凹槽，所述第二凹槽连通所述第一凹槽以共同形成第一凹陷区。
其中，所述光罩还包括第三部分，所述第三部分连接所述中心部分且沿第三方向延伸，所述第三方向与所述第一方向相反，所述第二部分连接所述中心部分的交界处还形成第三凹槽，所述第三凹槽与所述第二凹槽相对设置，所述第三部分连接所述中心部分的交界处形成第四凹槽，所述第四凹槽连通所述第三凹槽以共同形成第二凹陷区。
其中，所述光罩还包括第四部分，所述第四部分连接所述中心部分且沿第四方向延伸，所述第四方向与所述第二方向相反，所述第三部分连接所述中心部分的交界处还形成第五凹槽，所述第五凹槽与所述第四凹槽相对设置，所述第一部分连接所述中心部分的交界处还形成第六凹槽，所述第六凹槽与所述第一凹槽相对设置，所述第四部分连接所述中心部分的交界处形成相对设置的第七凹槽和第八凹槽，所述第七凹槽连通所述第五凹槽以共同形成第三凹陷区，所述第八凹槽连通所述第六凹槽以形成第四凹陷区。
其中，所述第一方向与所述第二方向之间形成60°～90°的夹角。
其中，所述第一方向垂直于所述第二方向。
其中，所述第一凹槽的形状与所述第二凹槽的形状相同且彼此对称设置。
其中，所述第三凹槽与所述第二凹槽的形状相同且彼此对称设置。
其中，所述第一凹陷区和所述第二凹陷区相对于所述第二部分对称设置。
其中，在所述第一方向的垂直方向上，所述第一凹槽的深度小于等于二分之一的所述第一部分的宽度。
其中，在所述第二方向的垂直方向上，所述第二凹槽的深度小于等于二分之一的所述第二部分的宽度。
在本发明中，由于所述光罩的所述第一部分与所述中心部分的交界处和所述第二部分与所述中心部分的交界处共同设有所述第一凹陷区，因此在通过所述光罩形成所述公共电极时，所述第一凹陷区对应于所述公共电极的交叉区域，蚀刻过程中出现的额外金属能够与所述第一凹陷区进行互补，以形成规则的、标准的所述公共电极，从而使得所述公共电极可设于所述阵列基板的显示区内，且能够降低应用所述阵列基板的液晶显示面板出现显示不良的风险。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的光罩的一种实施方式的结构示意图。
图2是图1所示光罩的A处结构的放大示意图。
图3是通过图1所示光罩所形成的公共电极的结构示意图。
图4是本发明实施例提供的光罩的另一种实施方式的结构示意图。
图5是图4所示光罩的B处结构的放大示意图。
图6是通过图4所示光罩所形成的公共电极的结构示意图。
图7是本发明实施例提供的光罩的再一种实施方式的结构示意图。
图8是图7所示光罩的C处结构的放大示意图。
图9是通过图7所示光罩所形成的公共电极的结构示意图。
图10是通过本发明实施例提供的一种阵列基板。
图11是本发明实施例提供的光罩的再另一种实施方式的结构示意图。
图12是本发明实施例提供的光罩的再再一种实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
此外，以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本发明，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置在……上”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸地连接，或者一体地连接；可以是机械连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。若本说明书中出现“工序”的用语，其不仅是指独立的工序，在与其它工序无法明确区别时，只要能实现该工序所预期的作用则也包括在本用语中。另外，本说明书中用“～”表示的数值范围是指将“～”前后记载的数值分别作为最小值及最大值包括在内的范围。在附图中，结构相似或相同的单元用相同的标号表示。
请一并参阅1至图10，本发明实施例提供一种光罩100，所述光罩100用于制作阵列基板200的公共电极300。所述光罩100包括中心部分10、第一部分1以及第二部分2。所述第一部分1连接所述中心部分10且沿第一方向X1延伸。所述第二部分2连接所述中心部分10且沿第二方向Y1延伸，所述第一方向X1与所述第二方向Y1交叉(也即所述第一方向X1与所述第二方向Y1之间形成夹角)。所述第一部分1与所述中心部分10的交界处形成第一凹槽11，所述第二部分2与所述中心部分10的交界处形成第二凹槽21，所述第二凹槽21连通所述第一凹槽11以共同形成第一凹陷区101。
在本实施例中，由于所述光罩100的所述第一部分1与所述中心部分10的交界处和所述第二部分2与所述中心部分10的交界处共同设有所述第一凹陷区101，因此在通过所述光罩100形成所述公共电极300时，所述第一凹陷区101对应于所述公共电极300的交叉区域，蚀刻过程中出现的额外金属能够与所述第一凹陷区101进行互补，以形成规则的、标准的所述公共电极300，从而使得所述公共电极300可设于所述阵列基板200的显示区内(如图10所示)，且能够降低应用所述阵列基板200的液晶显示面板出现显示不良的风险。
可以理解的，可通过黄光制程形成所述阵列基板200上的所述公共电极300，所述光罩100为应用于所述黄光制程中的光罩。所述黄光制程是通过对涂覆在基材表面的光敏性物质(又称光刻胶或光阻)，经曝光(设所述光罩100)、显影后留下的部分对基材起保护作用，然后对基材进行刻蚀并最终获得图案化结构的过程。
在一种实施方式中，如图1至图3所示，图1是所述光罩100的一种实施方式的结构示意图，图2是图1所示光罩100的A处结构的放大示意图，图3是通过图1所示光罩100所形成的公共电极300的结构示意图。如图1和图2所示，所述光罩100设有所述第一凹陷区101，如图3所示，所述公共电极300对应于所述第一部分1的区域为第一区域301，所述公共电极300对应于所述中心部分的中心区域为30，所述公共电极300对应于所述第二部分2的区域为第二区域302。在所述第一方向X1的垂直方向上，所述第一区域301与所述中心区域为30的尺寸一致，在所述第二方向Y1的垂直方向上，所述第二区域302与所述中心区域为30的尺寸一致，所述公共电极300的形状规则且标准，能够避免所述公共电极300在交叉区域出现斜边等不良。
在另一种实施方式中，如图4至图6所示，图4是所述光罩100的另一种实施方式的结构示意图，图5是图4所示光罩100的B处结构的放大示意图，图6是通过图4所示光罩100所形成的公共电极300的结构示意图。
所述光罩100还包括第三部分3，所述第三部分3连接所述中心部分10且沿第三方向X2延伸，所述第三方向X2与所述第一方向X1相反。所述第二部分2连接所述中心部分10的交界处还形成第三凹槽22，所述第三凹槽22与所述第二凹槽21相对设置。所述第三部分3连接所述中心部分10的交界处形成第四凹槽31，所述第四凹槽31连通所述第三凹槽22以共同形成第二凹陷区102。所述第二凹陷区102和所述第一凹陷区101间隔设置。
如图4和图5所示，所述光罩100设有所述第一凹陷区101和所述第二凹陷区102。如图6所示，所述公共电极300还包括对应于所述第三部分33的第三区域303。在所述第一方向X1的垂直方向上，所述第一区域301、所述中心区域为30以及第三区域303的尺寸一致，在所述第二方向Y1的垂直方向上，所述第二区域302与所述中心区域为30的尺寸一致，所述公共电极300的形状规则且标准，能够避免所述公共电极300在交叉区域出现斜边等不良。
可以理解的是，在其他实施方式中，所述第三方向X2也可以是不同于所述第一方向X1和所述第二方向Y1的其他方向。
在再一种实施方式中，如图7至图9所示，图7是所述光罩100的再一种实施方式的结构示意图，图8是图7所示光罩100的C处结构的放大示意图，图9是通过图7所示光罩100所形成的公共电极300的结构示意图。
所述光罩100还包括第四部分4，所述第四部分4连接所述中心部分10且沿第四方向Y2延伸，所述第四方向Y2与所述第二方向Y1相反。所述第三部分3连接所述中心部分10的交界处还形成第五凹槽32，所述第五凹槽32与所述第四凹槽31相对设置。所述第一部分1连接所述中心部分10的交界处还形成第六凹槽12，所述第六凹槽12与所述第一凹槽11相对设置。所述第四部分4连接所述中心部分10的交界处形成相对设置的第七凹槽41和第八凹槽42，所述第七凹槽41连通所述第五凹槽32以共同形成第三凹陷区103，所述第八凹槽42连通所述第六凹槽12以形成第四凹陷区104。所述第一凹陷区101、所述第二凹陷区102、所述第三凹陷区103以及所述第四凹陷区104彼此间隔设置。
如图7和图8所示，所述光罩100设有所述第一凹陷区101、所述第二凹陷区102、所述第三凹陷区103以及所述第四凹陷区104。如图9所示，所述公共电极300还包括第四区域304。在所述第一方向X1的垂直方向上，所述第一区域301、所述中心区域为30以及第三区域303的尺寸一致，在所述第二方向Y1的垂直方向上，所述第二区域302、所述中心区域为30以及所述第四区域304的尺寸一致，所述公共电极300的形状规则且标准，能够避免所述公共电极300在交叉区域出现斜边等不良。
可以理解的是，在其他实施方式中，所述第四方向Y2也可以是不同于所述第一方向X1、所述第二方向Y1及所述第三方向X2的其他方向。
可以理解的是，本发明所述光罩100包括图1所示结构、图4所示结构或图7所述结构中的一种或多种。
请一并参阅图1至图9，作为一种可选实施例，所述第一方向X1与所述第二方向Y1之间形成60°～90°的夹角。所述第一方向X1和所述第二方向Y1之间的夹角的大小可以依据具体的需求进行设计，本发明对此不作限定。
可选的，所述第一方向X1垂直于所述第二方向Y1。此时，如图1所示，所述第一部分1、所述中心部分10及所述第二部分2大致构成直角形。如图4所示，所述第一部分1、所述中心部分10、所述第二部分2及所述第三部分3大致构成T形。如图7所示，所述第一部分1、所述中心部分10、所述第二部分2、所述第三部分3及所述第四部分4大致构成十字形。
请一并参阅图1至图9、图11以及图12，作为一种可选实施例，所述第一凹槽11的形状与所述第二凹槽21的形状相同且彼此对称设置。若所述第一方向与所述第二方向之间的夹角大小为α，则所述第一凹槽11与所述第二凹槽21的对称轴1010与所述第一方向X1之间形成大小为α/2夹角、且与所述第二方向Y1之间形成大小为α/2夹角，所述第一凹槽11与所述第二凹槽21的对称轴1010经过所述中心部分10的中心点。
所述第三凹槽22的形状与所述第二凹槽21的形状相同且彼此对称设置(对称轴为所述第二部分2的中心线)。其余凹槽参考所述第一凹槽11、所述第二凹槽21及所述第三凹槽31设置。
可选的，所述第一凹陷区101和所述第二凹陷区102相对于所述第二部分2(也即所述第二部分2的中心线)对称设置。所述第三凹陷区103和所述第二凹陷区102相对于所述第三部分3(也即所述第三部分3的中心线)对称设置。所述第四凹陷区104和所述第三凹陷区103相对于所述第四部分4(也即所述第四部分4的中心线)对称设置。所述第一凹陷区101和所述第四凹陷区104相对于所述第一部分1(也即所述第一部分1的中心线)对称设置。
所述第一凹陷区101大致呈直角尺形(如图1至图9所示)、方形(如图11所示)或弧形(如图12所示)。
请一并参阅图1至图12，作为一种可选实施例，在所述第一方向X1的垂直方向上，所述第一凹槽11的深度h1小于等于二分之一的所述第一部分1的宽度H1。此时，所述光罩100能够防止所述公共电极300的所述中心区域30的尺寸大于所述公共电极300的所述第一区域301的尺寸，也能够避免因所述第一凹陷区101的尺寸过大而导致所述公共电极300的所述中心区域30的尺寸明显小于所述公共电极300的所述第一区域301的区域的尺寸，所述公共电极300的尺寸规则。所述第三部分3参考所述的一部分设计。
请一并参阅图1至图12，作为一种可选实施例，在所述第二方向Y1的垂直方向上，所述第二凹槽21的深度h2小于等于二分之一的所述第二部分2的宽度H2。此时，所述光罩100能够防止所述公共电极300的所述中心区域30的尺寸大于所述公共电极300的所述第二区域302的尺寸，也能够避免因所述第二凹陷区102的尺寸过大而导致所述公共电极300的所述中心区域30的区域的尺寸明显小于所述公共电极300的所述第二区域302的尺寸，所述公共电极300的尺寸规则。所述第四部分4参考所述第二部分2设计。
以上对本发明实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (7)

1.一种光罩，用于制作阵列基板的公共电极，其特征在于，包括中心部分、第一部分以及第二部分，所述第一部分连接所述中心部分且沿第一方向延伸，所述第二部分连接所述中心部分且沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向交叉，所述第一部分与所述中心部分的交界处形成第一凹槽，所述第二部分与所述中心部分的交界处形成第二凹槽，所述第二凹槽连通所述第一凹槽以共同形成第一凹陷区,所述第一凹槽的形状与所述第二凹槽的形状相同且彼此对称设置，所述第一凹陷区呈直角尺形、方形或弧形；所述光罩还包括第三部分，所述第三部分连接所述中心部分且沿第三方向延伸，所述第三方向与所述第一方向相反，所述第二部分连接所述中心部分的交界处还形成第三凹槽，所述第三凹槽与所述第二凹槽相对设置，所述第三部分连接所述中心部分的交界处形成第四凹槽，所述第四凹槽连通所述第三凹槽以共同形成第二凹陷区；所述第一凹陷区和所述第二凹陷区相对于所述第二部分对称设置。
2.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述光罩还包括第四部分，所述第四部分连接所述中心部分且沿第四方向延伸，所述第四方向与所述第二方向相反，所述第三部分连接所述中心部分的交界处还形成第五凹槽，所述第五凹槽与所述第四凹槽相对设置，所述第一部分连接所述中心部分的交界处还形成第六凹槽，所述第六凹槽与所述第一凹槽相对设置，所述第四部分连接所述中心部分的交界处形成相对设置的第七凹槽和第八凹槽，所述第七凹槽连通所述第五凹槽以共同形成第三凹陷区，所述第八凹槽连通所述第六凹槽以形成第四凹陷区。
3.如权利要求1～2任一项所述的光罩，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向之间形成60°～90°的夹角。
4.如权利要求3所述的光罩，其特征在于，所述第一方向垂直于所述第二方向。
5.如权利要求1或2所述的光罩，其特征在于，所述第三凹槽与所述第二凹槽的形状相同且彼此对称设置。
6.如权利要求1～2任一项所述的光罩，其特征在于，在所述第一方向的垂直方向上，所述第一凹槽的深度小于等于二分之一的所述第一部分的宽度。
7.如权利要求6所述的光罩，其特征在于，在所述第二方向的垂直方向上，所述第二凹槽的深度小于等于二分之一的所述第二部分的宽度。
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