JP2011222795A5 - 加工装置および液体送出吸引装置 - Google Patents

Description

本発明は、加工装置および液体送出吸引装置に関する。

本発明の目的は、被処理物に対して所望のエッチング処理を行うことができる加工装置および液体送出吸引装置を提供することにある。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。
［適用例１］
本発明の加工装置は、被処理物にエッチング液を供給することにより所望の形状に加工する加工装置であって、
前記被処理物を支持する支持台と、
前記被処理物に対して前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出された前記エッチング液を吸引する吸引口を有するノズルと、
シャッター部を有するシャッター装置と、を備え、
前記支持台と前記ノズルとは相対移動し、
前記シャッター装置は、前記シャッター部が前記被処理物と前記送出口との間に配置され、前記送出口から前記被処理物への前記エッチング液の供給を遮断する遮断状態と、前記シャッター部が前記被処理物と前記送出口との間から退避し、前記送出口から前記被処理物へ前記エッチング液を供給する供給状態とを選択できることを特徴とする。
これにより、被処理物に対して所望のエッチング処理を行うことができる加工装置を提供することができる。

［適用例２］
本発明の加工装置では、前記送出口からの前記エッチング液の送出が開始されてから、前記送出口から送出される前記エッチング液の単位時間当たりの流量が所定値に到達するまで、前記シャッター部が前記遮断状態にあることが好ましい。
これにより、被処理物の全域を所定のエッチングレートにて加工することができるため、被処理物に対して高精度のエッチング処理を施すことができる。

［適用例３］
本発明の加工装置では、前記送出口からの前記エッチング液の送出が開始されてから、前記送出口から送出される前記エッチング液の温度が所定値に到達するまでは、前記シャッター部が前記遮断状態にあることが好ましい。
これにより、被処理物の全域を所定のエッチングレートにて加工することができるため、被処理物に対して高精度のエッチング処理を施すことができる。

［適用例４］
本発明の加工装置では、前記ノズルと前記被処理物の縁部との間に前記シャッター部があることが好ましい。
これにより、被処理物に対して高精度のエッチング処理を施すことができる。
［適用例５］
本発明の加工装置では、前記送出口から前記エッチング液が送出されている状態で、前記シャッター部を前記遮断状態とすることにより前記被処理物への前記エッチング液の供給を遮断することが好ましい。
これにより、被処理物に対して高精度のエッチング処理を施すことができる。

［適用例６］
本発明の加工装置では、前記ノズルと前記被処理物とが対向したまま、前記シャッター部が前記供給状態から前記遮断状態へ変わることが好ましい。
これにより、被処理物に対して高精度のエッチング処理を施すことができる。
［適用例７］
本発明の加工装置では、前記被処理物への前記エッチング液の供給を終了する際には、前記シャッター部を前記供給状態から前記遮断状態とした後に、前記送出口からの前記エッチング液の送出を停止することが好ましい。
これにより、被処理物に対して高精度のエッチング処理を施すことができる。

［適用例８］
本発明の加工装置では、前記被処理物への前記エッチング液の供給を一時的に停止する際には、前記シャッター部を前記供給状態から前記遮断状態とすることが好ましい。
これにより、被処理物に対して高精度のエッチング処理を施すことができる。

［適用例９］
本発明の加工装置では、前記被処理物への前記エッチング液の供給を一時的に停止する際には、前記送出口から前記エッチング液を送出させた状態を維持したまま、前記シャッター部を前記供給から前記遮断状態とすることが好ましい。
これにより、被処理物に対して高精度のエッチング処理を施すことができる。

［適用例１０］
本発明の加工装置では、前記シャッター部は、前記ノズルと一体的に移動することが好ましい。
これにより、確実かつ迅速に、シャッター部を遮断状態または供給状態にすることができる。
［適用例１１］
本発明の液体送出吸引装置は、液体を送出および吸引する液体送出吸引装置であって、
支持台と、
前記支持台に対して前記液体を送出する送出口および前記送出口から送出された前記液体を吸引する吸引口を有するノズルと、
シャッター部を有するシャッター装置と、を備え、
前記支持台と前記ノズルとは相対移動し、
前記シャッター装置は、前記シャッター部が前記支持台と前記送出口との間に配置され、前記送出口から前記支持台への前記液体の供給を遮断する遮断状態と、前記シャッター部が前記支持台と前記送出口との間から退避し、前記送出口から前記支持台へ前記液体を供給する供給状態とを選択できることを特徴とする。

以下、本発明の液体送出吸引装置を適用した本発明の加工装置（表面加工装置）を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の表面加工装置の第１実施形態の概略構成を示す図、図２は、図１に示す表面加工装置が有する温度制御部の構成を示す図、図３は、図１に示す表面加工装置が有するシャッターを示す平面図および断面図、図４は、図３に示すシャッターの機能を説明する断面図、図５は、ワークに対するノズルの移動ルートを示す平面図、図６は、図１に示す表面加工装置が有する制御部のブロック図である。なお、以下の説明では、図１および図４中の上側を「上」、下側を「下」と言い、図４中の左側を「左」、右側を「右」と言う。

シャッターブレード５１は、板状をなしており、図３中右側の縁部には、ノズル４の外形に沿った略半円状の切り欠きが形成れている。このように、シャッターブレード５１を板状とすることにより、ノズル４と被処理面１０１との離間距離を小さくすることができるため、ノズル４から送出されたエッチング液を効率的に被処理面１０１に供給することができるとともに、被処理面１０１の所望の部位（微少領域）に正確にエッチング液を供給することができる。
このようなシャッター装置５は、図４（ａ）に示すように、シャッターブレード５１がノズル４とワーク１０（チャッキングプレート２１に固定されたワーク１０、以下同様）との間に位置する第１の状態（遮断状態）と、図４（ｂ）に示すように、シャッターブレード５１がノズル４とワーク１０との間から退避する第２の状態（供給状態）とを取ることができる。

＜第２実施形態＞
次に、本発明の加工装置（表面加工装置）の第２実施形態について説明する。
図７は、本願発明の第２実施形態にかかる表面加工装置が備えるノズルの平面図、図８は、図７に示すノズルの変形例を示す平面図である。
以下、第２実施形態の表面加工装置について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本発明の第２実施形態にかかる加工装置（表面加工装置）では、ノズル４Ａの構成が異なる以外は、前述した第１実施形態の表面加工装置１と同様である。なお、図７および図８にて、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。

＜第３実施形態＞
次に、本発明の加工装置（表面加工装置）の第３実施形態について説明する。
図９は、本願発明の第３実施形態にかかる表面加工装置が備えるシャッターの平面図である。
以下、第３実施形態の表面加工装置について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本発明の第３実施形態にかかる加工装置（表面加工装置）では、シャッター装置５Ｂの構成が異なる以外は、前述した第１実施形態の表面加工装置１と同様である。なお、図９にて、前述した第１実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。

以上、本発明の加工装置および液体送出吸引装置を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、他の任意の構成物や、工程が付加されていてもよい。また、前述した各実施形態を適宜組み合わせてもよい。
また、本発明の加工装置および液体送出吸引装置が有するシャッターとして、第１実施形態の構成や、第３実施形態の構成について説明したが、シャッターの構成としては、前述した第１の状態と第２の状態とをとることができれば、特に限定されず、例えば、シャッターブレードを複数枚有していてもよい。

Claims (11)

1. 被処理物にエッチング液を供給することにより所望の形状に加工する加工装置であって、
   前記被処理物を支持する支持台と、
   前記被処理物に対して前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出された前記エッチング液を吸引する吸引口を有するノズルと、
   シャッター部を有するシャッター装置と、を備え、
   前記支持台と前記ノズルとは相対移動し、
   前記シャッター装置は、前記シャッター部が前記被処理物と前記送出口との間に配置され、前記送出口から前記被処理物への前記エッチング液の供給を遮断する遮断状態と、前記シャッター部が前記被処理物と前記送出口との間から退避し、前記送出口から前記被処理物へ前記エッチング液を供給する供給状態とを選択できることを特徴とする加工装置。
2. 前記送出口からの前記エッチング液の送出が開始されてから、前記送出口から送出される前記エッチング液の単位時間当たりの流量が所定値に到達するまで、前記シャッター部が前記遮断状態にある請求項１に記載の加工装置。
3. 前記送出口からの前記エッチング液の送出が開始されてから、前記送出口から送出される前記エッチング液の温度が所定値に到達するまでは、前記シャッター部が前記遮断状態にある請求項１または２に記載の加工装置。
4. 前記ノズルと前記被処理物の縁部との間に前記シャッター部がある請求項１ないし３のいずれか一項に記載の加工装置。
5. 前記送出口から前記エッチング液が送出されている状態で、前記シャッター部を前記遮断状態とすることにより前記被処理物への前記エッチング液の供給を遮断する請求項４に記載の加工装置。
6. 前記ノズルと前記被処理物とが対向したまま、前記シャッター部が前記供給状態から前記遮断状態へ変わる請求項１ないし５のいずれか一項に記載の加工装置。
7. 前記被処理物への前記エッチング液の供給を終了する際には、前記シャッター部を前記供給状態から前記遮断状態とした後に、前記送出口からの前記エッチング液の送出を停止する請求項６に記載の加工装置。
8. 前記被処理物への前記エッチング液の供給を一時的に停止する際には、前記シャッター部を前記供給状態から前記遮断状態とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の加工装置。
9. 前記被処理物への前記エッチング液の供給を一時的に停止する際には、前記送出口から前記エッチング液を送出させた状態を維持したまま、前記シャッター部を前記供給から前記遮断状態とする請求項８に記載の加工装置。
10. 前記シャッター部は、前記ノズルと一体的に移動する請求項１ないし９のいずれか一項に記載の加工装置。
11. 液体を送出および吸引する液体送出吸引装置であって、
    支持台と、
    前記支持台に対して前記液体を送出する送出口および前記送出口から送出された前記液体を吸引する吸引口を有するノズルと、
    シャッター部を有するシャッター装置と、を備え、
    前記支持台と前記ノズルとは相対移動し、
    前記シャッター装置は、前記シャッター部が前記支持台と前記送出口との間に配置され、前記送出口から前記支持台への前記液体の供給を遮断する遮断状態と、前記シャッター部が前記支持台と前記送出口との間から退避し、前記送出口から前記支持台へ前記液体を供給する供給状態とを選択できることを特徴とする液体送出吸引装置。