JP2011220893A - マスク検査装置及びマスク検査方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】多段のパターンで形成されている測定対象に対して、SEM像から測定対象領域の凹凸を的確に特定し、その構造を正確に判定することのできるマスク検査装置及びマスク検査方法を提供すること。
【解決手段】マスク検査装置は、電子ビームを試料上に照射する照射手段と、電子ビームの照射によって、パターンが形成された試料上から発生する電子の電子量を検出する電子検出手段と、電子量を基にパターンの画像データを生成する画像処理手段と、電子検出手段で検出された電子の電子量を基に試料上に形成されたパターンのラインプロファイル及び微分プロファイルを作成する制御手段と、を有する。制御手段は、微分プロファイルを基に検出したパターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出し、当該エッジのデータ及び画像処理手段で作成された画像データを基に多段構造のマスクデータを生成する。
【選択図】図6
【解決手段】マスク検査装置は、電子ビームを試料上に照射する照射手段と、電子ビームの照射によって、パターンが形成された試料上から発生する電子の電子量を検出する電子検出手段と、電子量を基にパターンの画像データを生成する画像処理手段と、電子検出手段で検出された電子の電子量を基に試料上に形成されたパターンのラインプロファイル及び微分プロファイルを作成する制御手段と、を有する。制御手段は、微分プロファイルを基に検出したパターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出し、当該エッジのデータ及び画像処理手段で作成された画像データを基に多段構造のマスクデータを生成する。
【選択図】図6
Description
本発明は、CAD情報がなくても2段階のエッジ構造を判定することのできるマスク検査装置及びマスク検査方法に関する。
パターンの線幅測定方法として、走査型電子顕微鏡による測定が行われている。走査型電子顕微鏡では、電子線走査範囲内に入射電子を走査させながら照射し、シンチレータを介して試料から放出される2次電子を取得し、取得した電子の電子量を輝度に変換して表示装置に表示している。
このような走査型電子顕微鏡を用いて半導体装置の特性を管理する場合に、パターンの線幅が設計基準値内に形成されているか否かの作業を行うことが一般に採用されている。パターンの線幅の管理は、次のような手順によって行われている。フォトマスク上に形成されたパターンの所定範囲をディスプレイに表示した後、その表示範囲内の測定ポイントに照準を当てて電子ビームを照射し、測定ポイントから反射された二次電子に基づいて輝度分布の波形を取得する。そして、輝度分布の波形の高レベル部分の幅を線幅と判断する。この線幅が許容誤差の範囲内にあるか否かを判断し、許容誤差の範囲内であれば、次の工程に移り、許容誤差の範囲内でなければパターン形成の処理工程に戻される。
このように、パターンの線幅の測定は、半導体装置の製造工程において重要であり、線幅を正確に測定するための種々の手法が提案されている。
一般的に、2次電子量に対応する輝度の傾きが最大となる位置をパターンのエッジ位置としているが、特許文献1では、2次電子信号が極小値をとる位置をエッジ位置とみなすエッジ検出方法が開示されている。
上述したように、走査型電子顕微鏡を使用してパターンの線幅測定をする場合には、輝度の傾きが最大となる位置をエッジ位置としたり、2次電子信号が極小値をとる位置をエッジ位置とする方法が採用されている。
近年、半導体の微細化が進み、位相シフト等の2段階のエッジ構造を持つフォトマスクが使用されるようになっている。このような構造のフォトマスクについても走査型電子顕微鏡によりSEM画像を作成して正確にフォトマスクが作成されているか否かを測定している。
SEM画像は、輝度データを基に作成されている。2層構造のフォトマスクの場合は、パターンが形成された領域と、パターンが形成されていない領域との輝度が異なるため、SEM画像を用いてパターン構造を検出することが可能である。
しかし、2段階のエッジ構造を持つフォトマスクの場合は、パターンが形成されている領域とパターンが形成されていない領域とで輝度値が2分されるとは限らず、SEM画像のコントラスト情報から、フォトマスクのレイヤ構造を特定することは困難である。
本発明は、かかる従来技術の課題に鑑みなされたものであり、目的は、多段のパターンで形成されている測定対象に対して、SEM像から測定対象領域の凹凸を的確に特定し、その構造を正確に判定することのできるマスク検査装置及びマスク検査方法を提供することである。
上記した課題は、電子ビームを試料上に照射する照射手段と、前記電子ビームの照射によって、パターンが形成された前記試料上から発生する電子の電子量を検出する電子検出手段と、前記電子量を基に当該パターンの画像データを生成する画像処理手段と、前記電子検出手段で検出された電子の電子量を基に前記試料上に形成されたパターンのラインプロファイル及び微分プロファイルを作成する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記微分プロファイルを基に検出した前記パターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出し、当該エッジのデータ及び前記画像処理手段で作成された画像データを基に多段構造のマスクデータを生成することを特徴とするマスク検査装置により解決する。
この形態に係るマスク検査装置において、前記制御手段は、同一階層の対向する立下りエッジと立上がりエッジとのペアを検出してエッジデータとして記録するようにしてもよく、前記制御手段は、前記対向する立下りエッジと立上がりエッジの間の領域を、階層毎に異なる態様で表示するようにしてもよい。
また、上記した課題は、試料上に形成されたパターンのSEM画像を取得するステップと、前記SEM画像を基に2層構造としてのデータを作成するステップと、前記パターンのラインプロファイル及び微分プロファイルを作成するステップと、前記微分プロファイルから前記パターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出するステップと、当該エッジのデータ及び前記画像処理手段で作成された画像データを基に多段構造のマスクデータを生成するステップと、を有することを特徴とするマスク検査方法により解決する。
この形態に係るマスク検査方法において、前記パターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出するステップでは、同一階層の対向する立下りエッジと立上がりエッジとのペアを検出してエッジデータとして記録するステップであるようにしてもよく、さらに、前記対向する立下りエッジと立上がりエッジの間の領域を、階層毎に異なる態様で表示するステップを有するようにしてもよい。
本発明では、多段構造を有するマスクに対してSEM画像から2層構造としてのデータを生成し、パターンの微分プロファイルから立上がり及び立下りエッジのデータを生成する。これらのデータを基にパターンの多段構造データを作成する。これにより、CADデータの情報が無くても多段構造を有するマスクを正確に判定することができ、正しい測定を行うことが可能となる。
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
はじめに、パターン測定装置として使用される走査型電子顕微鏡の構成について説明する。次に、一般的なパターンの線幅の測定方法について説明する。次に、トライトーンマスクを対象としてレイヤ構造を含めたマスク検出について説明する。
(走査型電子顕微鏡の構成)
図1は、本実施形態に係る走査型電子顕微鏡の構成図である。
図1は、本実施形態に係る走査型電子顕微鏡の構成図である。
この走査型電子顕微鏡100は、電子走査部10と、信号処理部30と、画像表示部40と、記憶部55と、電子走査部10、信号処理部30、画像表示部40及び記憶部55の各部を制御する制御部20とに大別される。制御部20は、プロファイル作成部21、微分プロファイル作成部22及びエッジ検出部23を有している。
電子走査部10は、電子銃1とコンデンサレンズ2と偏向コイル3と対物レンズ4と移動ステージ5と試料ホルダ6とを有している。
電子銃1から照射された荷電粒子9をコンデンサレンズ2、偏向コイル3、対物レンズ4を通して移動ステージ5上の試料7に照射するようになっている。
荷電粒子9が照射されて試料7から放出される2次電子は、シンチレータ等で構成される電子検出器8によって検出される。検出された2次電子の電子量は、信号処理部30のAD変換器によってデジタル量に変換され、画像データとして記憶部55に格納される。画像データは輝度信号に変換されて画像表示部40で表示される。なお、画像データには、取得された画像の範囲や、SEMの倍率等の情報も含まれている。偏向コイル3の電子偏向量と画像表示部40の画像スキャン量は制御部20によって制御される。また、制御部20には、線幅測定を実行するためのプログラムが格納されている。
プロファイル作成部21では、指定された範囲のSEM画像データの輝度信号を表すラインプロファイルを作成する。ラインプロファイルは、2次電子の電子量に対応した輝度信号を表すものであり、測定パターンの断面形状を反映すると考えられている。
微分プロファイル作成部22では、ラインプロファイルに対して、1次微分処理及び2次微分処理を施し、1次微分プロファイル及び2次微分プロファイルを作成する。
エッジ検出部23は、ラインプロファイル、1次微分プロファイル及び2次微分プロファイルからパターンのエッジを検出する。
(一般的なSEM画像を利用したパターンサイズの測定)
次に、図1に示した走査型電子顕微鏡100を用いて、図2(a)に示す試料のパターンのエッジ検出を含むSEM画像を利用したパターンサイズの測定について説明する。
次に、図1に示した走査型電子顕微鏡100を用いて、図2(a)に示す試料のパターンのエッジ検出を含むSEM画像を利用したパターンサイズの測定について説明する。
試料7として、図2(a)に示すように、フォトマスク基板50上に配線パターン51が形成されたものを対象する。試料7の一部は図2(a)に示すような平面形状となっている。ここで、破線52で囲んだ部分は、走査型電子顕微鏡100の観察領域を示している。
図2(b)は、図2(a)に示す試料上に電子ビームを走査して得られる2次電子等の電子量を電子検出器8によって検出し、検出した電子量を輝度信号に変換し、電子ビームの走査と表示装置(表示部40)のCRTの走査とを同期させて表示したSEM画像の例を示している。
図2(b)に示すSEM画像から、測長エリアを指定してSEM画像を抽出する。測長エリアは例えば幅Hが400ピクセル、長さLの領域とする。この領域は、上側ラインマーカーLM1、下側ラインマーカーLM2、左側ラインマーカーLM3及び右側ラインマーカーLM4によってオペレータによって選択される。
抽出したSEM画像ピクセルデータから、測長エリアのH方向を分割し、分割した領域について輝度分布に対応するラインプロファイルを求める。なお、ラインプロファイルを求めるときに、長さL方向に例えば3ピクセル幅でスムージング処理を行うことによりノイズ成分を小さくすることができる。
図2(c)は、図2(a)のI−I線に沿って電子ビームを照射したときに得られる試料から放出される2次電子の電子量に対応するラインプロファイルを示した図である。図2(c)に示すように、ラインプロファイル(コントラストプロファイル)は、パターンのエッジ部分で急激に変化する。急激に変化する位置を求めるために、ラインプロファイルを微分して、微分信号量の最大ピークと最小ピークを求める。
更に、図2(d)に示すように、ピーク前後の複数の微分信号Dxからピクセル間を補完して微分波形C1,C2を求め、1/100の分解能で第1ピークP1と第2ピークP2のピーク位置を計算する。ラインパターンの幅W1は、第1ピークP1と第2ピークP2との間の距離として求められる。
以上の処理を分割したそれぞれの領域で行い、各領域で算出したパターンの幅の平均値を測長値とすることで、より正確なラインパターンの幅W1が得られる。
(多段構造のマスクのSEM画像による判定)
以下に、トライトーンマスクのようにガラス基板上に多段のパターンが形成されたマスクの構造を簡易かつ正しく判定する処理について説明する。
以下に、トライトーンマスクのようにガラス基板上に多段のパターンが形成されたマスクの構造を簡易かつ正しく判定する処理について説明する。
図3は、多層構造のデータを取得する処理の一例を示したフローチャートであり、図4から図6は、この処理を説明するための図である。なお、本処理では、予めパターンが形成された試料のSEM画像が取得され、記憶部55にSEM画像データが格納されているものとする。
本実施形態では、図4(a)に示すトライトーンマスクを対象とする。図4(a)に示すように、このトライトーンマスク(Ternary mask)は、石英よりなる透明ガラス基板上に、Mo・Si系、又はジルコニウムシリサイド系の材料による光半透過位相シフト膜が形成され、その上にCr(クロム)等の金属材料による遮光膜が形成されている。ガラス基板を第1レイヤ、光半透過位相シフト膜を第2レイヤ、遮光膜を第3レイヤとする。
第2レイヤのパターン42b、42c上には第3レイヤのクロムは存在せず、第2レイヤのパターン42a、42d上には一部にクロムパターン43a、43bが形成されている。
図3のステップS11において、対象領域のSEM画像を取得する。所望の検査エリアを指定して、SEM画像データを記憶部55から抽出する。図4(b)は、図4(a)のトライトーンマスク上を電子ビームを照射しながら走査して取得したSEM像の一例である。図4(b)に示すように、パターンが形成されていない領域41a、41b、41cに対応するSEM画像46c、46e、46gは輝度が低く黒表示になり、パターンが形成されている領域42b、42cに対応するSEM画像46d、46fは輝度が高く白に近い表示になっている。また、第2レイヤにパターンが形成されている領域42a、42dでは第3レイヤにパターンが形成されている領域43a、43bを除いた領域に対応するSEM画像46b、46hが白に近い表示になっているものの、第3レイヤにパターンが形成された領域43a、43bに対応するSEM画像46a、46iでは黒表示になっている。
次のステップS12において、ステップS11で取得したSEM画像を基に、2層構造としてのデータを作成する。図4(b)のSEM画像に示すように、このSEM画像からは3層構造であることを判別することができない。そこでまず、画像の濃淡を基に、2層構造の場合のパターン形成領域とパターンが形成されていない領域とを区別する画像データを生成する。図6(a)はその一例を示した図である。
次のステップS13において、輝度波形データ(ラインプロファイル)の2次微分波形データを取得する。
記憶部55に格納されたSEM画像のうち、測定対象となっている領域を抽出し、SEM画像データのうちの輝度情報を抽出してラインプロファイルを作成する。微分プロファイル作成部22において、このラインプロファイルを2次微分する処理を行う。
図5は、トライトーンマスクのSEM画像から得られる輝度信号を表すラインプロファイル61、ラインプロファイル61を1次微分及び2次微分した1次微分プロファイル62及び2次微分プロファイル63を示している。
図5のラインプロファイル61に示すように、各パターンのエッジ部分(E1〜E8)でラインプロファイル61の信号量が大きくなっている。また、第1レイヤの信号量、第2レイヤの信号量、及び第3レイヤの信号量はそれぞれ異なっている。図5の場合は、第1レイヤの信号量が一番小さく、第2レイヤの信号量が一番大きくなっている。
一般に、パターンのエッジは、ラインプロファイルの中で、傾斜が最も急な位置が採用されている。この最も急な位置を算出するために、ラインプロファイルを1次微分し、1次微分プロファイルの極大値、極小値を求めている。
図5の1次微分プロファイル62から分かるように、パターン43aとパターン42aとの境界E1や、パターン42aとスペース41aとの境界E2等に対応する位置で極値をとっている。これらの極値は、パターン間の境界やパターンとスペースとの境界、つまりエッジ位置を示している。このように、1次微分プロファイル62の極大値、極小値の位置を算出することによりエッジ位置を求める。
図5の2次微分プロファイル63のデータを基に、エッジの立上がりと立下りを判定する。パターンのエッジに対応する位置の近傍には、2次微分プロファイル63に強度の値の異なる2つのピークが現れている。この2つの信号量の異なるピークの出現する位置(並び位置)によって、エッジが立上がるのか立下がるのかを判定している。
エッジ位置の近傍に現れる2次微分プロファイルの、2つのピーク位置において、ピーク位置X1のピーク値をP1,ピーク位置X2(>X1)のピーク値をP2としたとき、P1>P2のときは、パターンのエッジが立ち上がり、P1<P2のときは、パターンのエッジが立ち下がると判定される。
例えば、2次微分プロファイル63において、ピーク値63aとピーク値63bがエッジE1に対応する位置に発生し、ピーク値63aよりも右側のピーク値63bのほうが信号量が大きくなっている。この場合、対応するエッジE1は立下りエッジであると判定する。
同様に、エッジE2に対応する位置に、ピーク値63c及びピーク値63dが発生し、ピーク値63cよりも右側のピーク値63dのほうが信号量が大きくなっている。よって、このエッジE2も立下りエッジと判定される。
また、エッジE3に対応する位置に、ピーク値63eとピーク値63fが発生し、ピーク値63eよりも右側のピーク値63fのほうが信号量が小さくなっている。この場合は、エッジE3が立上がると判定される。
同様に、すべてのエッジに対して対応する2次微分プロファイルから、エッジが立上がりエッジか立下りエッジかを判定する。
図3のステップS14において、ステップS13で取得した2次微分波形データを基に、同一レイヤの対向する立上がりエッジと立下りエッジのペアを検出する。
2次微分した結果、エッジ位置の近傍に出現する2つのピーク位置及それらのピーク位置のピーク値を記録する。これらの値は、エッジ位置と関連付けて記憶部55に格納する。図5の2次微分プロファイルの結果から、エッジE1,E2,E4,E6が立下りエッジと判定され、エッジE3,E5,E7,E8が立上がりエッジと判定される。
検出された立下りエッジと立上がりエッジは、同一レイヤであって対向するエッジをペアとして記録する。例えば、図5の2次微分プロファイルの結果から、図6(b)に示すように、エッジE2とエッジE3、エッジE4とエッジE5、エッジE6とエッジE7がそれぞれレイヤ2におけるエッジペアとなる。また、エッジE1とエッジE8がレイヤ3におけるエッジペアとなる。
なお、エッジ位置は、ラインプロファイルを1次微分して、信号量の最大値及び最小値をとる位置を検出して記録する。1次微分処理は微分プロファイル作成部22が行い、例えば、一般的な画像処理で使用されるソーベルフィルタなどの微分フィルタを用いて行う。
次のステップS15において、ステップS12で作成した2層構造としてのデータ、及び立下りエッジと立上がりエッジとのエッジペアのデータを基に、3層構造のエッジデータを作成し、ステップS16において3層構造のデータを表示する。
2層構造としてのデータを基に、図6(a)に示すような画像が生成される。この画像において、第2レイヤの立下りエッジと立上がりエッジの間は、第1レイヤの表面に対応し、一般的にパターン形成領域よりも輝度が低く、斜線で表示している。第2レイヤの立下りエッジと立上がりエッジのエッジペアに対する画像データは、そのまま維持される。
これに対し、第3レイヤの立下りエッジと立上がりエッジ(図6(b)のエッジE1とエッジE8)の間は、第2レイヤを基板とみなしたときのパターンが形成されていない領域とみなし、第2レイヤのエッジペアにおける画像とは異なる態様(図では逆斜線で表示している)で画像データを生成する。
これらの画像を重ね合わせることにより、図6(c)のような画像が生成される。この画像において領域72aは第3レイヤにおけるパターンが形成されていない領域であり、領域71c、71e、71gはさらに第2レイヤにおけるパターンが形成されていない領域である。すなわち、斜線と逆斜線とが重ね合わせて表示されている領域71c、71e、71gは、第1レイヤの上にパターンが形成されていない領域であることがわかる。また、逆斜線だけが表示されている領域71b、71d、71f、71hは、第2レイヤのパターンが存在する領域であることがわかる。このように、パターンが2段構造であることがわかるように表示される。
以上説明したように、本実施形態のマスク検査装置及びマスク検査方法では、多段構造を有するマスクに対してSEM画像から2層構造としてのデータを生成し、パターンの微分プロファイルから立上がり及び立下りエッジのデータを生成する。これらのデータを基にパターンの多段構造データを作成する。これにより、CADデータの情報が無くても多段構造を有するマスクを正確に判定することができ、正しい測定を行うことが可能となる。
また、本実施形態では、立上がりエッジと立下がりエッジとを識別することが可能になるため、パターンの測定の完全自動化を行うことが可能となる。
なお、本実施形態では、試料を照射する荷電粒子ビームとして電子ビームを使用した場合について説明したが、これに限らず、例えばイオンビームを使用する装置にも適用可能である。
1…電子銃、
2…コンデンサレンズ、
3…偏向コイル、
4…対物レンズ、
5…移動ステージ、
7…試料、
8…電子検出器、
9…荷電粒子、
10…電子走査部、
20…制御部、
21…プロファイル作成部、
22…微分プロファイル作成部、
30…信号処理部、
40…画像表示部、
41…ガラス基板(第1レイヤ)、
42…光半透過位相シフト膜(第2レイヤ)、
43…遮光膜(第3レイヤ)、
50…下地層、
51…レジストパターン、
55…記憶部、
61…ラインプロファイル、
62…1次微分プロファイル、
63…2次微分プロファイル、
71b、71d、71f、71h…第2レイヤにパターンが形成されている領域、
71c、71e、71g…第1レイヤの上にパターンが形成されていない領域、
72a…第3レイヤのパターンが形成されていない領域、
100…走査型電子顕微鏡。
2…コンデンサレンズ、
3…偏向コイル、
4…対物レンズ、
5…移動ステージ、
7…試料、
8…電子検出器、
9…荷電粒子、
10…電子走査部、
20…制御部、
21…プロファイル作成部、
22…微分プロファイル作成部、
30…信号処理部、
40…画像表示部、
41…ガラス基板(第1レイヤ)、
42…光半透過位相シフト膜(第2レイヤ)、
43…遮光膜(第3レイヤ)、
50…下地層、
51…レジストパターン、
55…記憶部、
61…ラインプロファイル、
62…1次微分プロファイル、
63…2次微分プロファイル、
71b、71d、71f、71h…第2レイヤにパターンが形成されている領域、
71c、71e、71g…第1レイヤの上にパターンが形成されていない領域、
72a…第3レイヤのパターンが形成されていない領域、
100…走査型電子顕微鏡。
Claims (6)
- 電子ビームを試料上に照射する照射手段と、
前記電子ビームの照射によって、パターンが形成された前記試料上から発生する電子の電子量を検出する電子検出手段と、
前記電子量を基に当該パターンの画像データを生成する画像処理手段と、
前記電子検出手段で検出された電子の電子量を基に前記試料上に形成されたパターンのラインプロファイル及び微分プロファイルを作成する制御手段と、
を有し、
前記制御手段は、前記微分プロファイルを基に検出した前記パターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出し、当該エッジのデータ及び前記画像処理手段で作成された画像データを基に多段構造のマスクデータを生成することを特徴とするマスク検査装置。 - 前記制御手段は、同一階層の対向する立下りエッジと立上がりエッジとのペアを検出してエッジデータとして記録することを特徴とする請求項1に記載のマスク検査装置。
- 前記制御手段は、前記対向する立下りエッジと立上がりエッジの間の領域を、階層毎に異なる態様で表示することを特徴とする請求項2に記載のマスク検査装置。
- 試料上に形成されたパターンのSEM画像を取得するステップと、
前記SEM画像を基に2層構造としてのデータを作成するステップと、
前記パターンのラインプロファイル及び微分プロファイルを作成するステップと、
前記微分プロファイルから前記パターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出するステップと、
当該エッジのデータ及び前記画像処理手段で作成された画像データを基に多段構造のマスクデータを生成するステップと、
を有することを特徴とするマスク検査方法。 - 前記パターンの立上がりエッジ及び立下りエッジを検出するステップでは、同一階層の対向する立下りエッジと立上がりエッジとのペアを検出してエッジデータとして記録するステップであることを特徴とする請求項4に記載のマスク検査方法。
- さらに、前記対向する立下りエッジと立上がりエッジの間の領域を、階層毎に異なる態様で表示するステップを有することを特徴とする請求項4に記載のマスク検査方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010091556A JP2011220893A (ja) | 2010-04-12 | 2010-04-12 | マスク検査装置及びマスク検査方法 |
US13/066,180 US8675948B2 (en) | 2010-04-12 | 2011-04-07 | Mask inspection apparatus and mask inspection method |
DE102011001986A DE102011001986A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-04-12 | Maskenbetrachtungsgerät und Maskenbetrachtungsverfahren |
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---|---|
JP2011220893A true JP2011220893A (ja) | 2011-11-04 |
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ID=44658268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010091556A Pending JP2011220893A (ja) | 2010-04-12 | 2010-04-12 | マスク検査装置及びマスク検査方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8675948B2 (ja) |
JP (1) | JP2011220893A (ja) |
DE (1) | DE102011001986A1 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06337514A (ja) * | 1993-05-31 | 1994-12-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | マスクおよびパタン形成方法 |
JP2007292732A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-11-08 | Advantest Corp | パターン測定装置及びパターン測定方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05296754A (ja) | 1992-04-17 | 1993-11-09 | Nikon Corp | エッジ検出方法 |
US7796801B2 (en) * | 1999-08-26 | 2010-09-14 | Nanogeometry Research Inc. | Pattern inspection apparatus and method |
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-
2010
- 2010-04-12 JP JP2010091556A patent/JP2011220893A/ja active Pending
-
2011
- 2011-04-07 US US13/066,180 patent/US8675948B2/en active Active
- 2011-04-12 DE DE102011001986A patent/DE102011001986A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110249108A1 (en) | 2011-10-13 |
DE102011001986A1 (de) | 2011-10-13 |
US8675948B2 (en) | 2014-03-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120830 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131010 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140318 |