JP2011192890A - 光電変換装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】バイパスダイオードの設置を容易にした光電変換装置を提供する。
【解決手段】分割された光電変換セルを直列に接続した光電変換モジュール202と、少なくともp層及びn層を積層したバイパスダイオード44が表面に形成されたバイパスダイオードフィルム204とを備え、隣接する光電変換セルに跨ってバイパスダイオード44が配置されるように直列接続の方向に沿ってバイパスダイオードフィルム204を延設する。
【選択図】図2
【解決手段】分割された光電変換セルを直列に接続した光電変換モジュール202と、少なくともp層及びn層を積層したバイパスダイオード44が表面に形成されたバイパスダイオードフィルム204とを備え、隣接する光電変換セルに跨ってバイパスダイオード44が配置されるように直列接続の方向に沿ってバイパスダイオードフィルム204を延設する。
【選択図】図2
Description
本発明は、光電変換装置に関する。
太陽光を利用した発電システムとして、アモルファスや微結晶等の半導体薄膜を積層した光電変換装置が用いられている。
光電変換装置では、複数の光電変換セルを直並列に接続して実用的な電気出力を取り出せる構成とされている。複数の光電変換セルを接続して透光性基板とエチレンビニルアセテート共重合体(EVA)などを主成分とする充填材で封入して光電変換モジュールが形成されている。このような光電変換モジュールを屋外に設置した場合、光電変換モジュール内のある1つの光電変換セルが何かの影になったときなどで発電が不十分になった場合、その光電変換セルは抵抗となる。このとき光電変換セルの両電極にはその抵抗値と流れる電流の積の電位差が発生する。すなわち、光電変換セルに逆方向のバイアス電圧が印加されることになり、このセルは発熱するようになる。このような状況をホットスポットと呼んでいる。このホットスポットの現象が発生し、光電変換セルの温度が上昇し続けると、最悪の場合、この光電変換セルは破壊して光電変換モジュールから所定の電気出力を取り出すことができなくなる。
そこで、ホットスポットによる光電変換モジュールの損傷を防ぐために、光電変換セルに正常時の出力に対して逆バイアスとなるようにバイパスダイオードを接続する方法が採用されている。バイパスダイオードを設けることによって、どこかの光電変換セルが陰になって発電量が落ちた場合であってもその部分を回避してバイパスダイオードを介して電流が流れるので、陰部分の影響が回路全体には及ぶことがなくなる。
ところで、光電変換装置では、多数の光電変換セルが直並列に接続されており、各光電変換セルに対して個別にバイパスダイオードを配置し、電気的に接続する処理が必要とされる。そこで、このような処理を簡易かつ迅速に行うことができる光電変換装置の構成が望まれている。
本発明の1つの態様は、スリットによって分割された光電変換セルを直列に接続した光電変換モジュールと、少なくともp層及びn層を積層したダイオードが表面に形成されたバイパスダイオードフィルムと、バイパスダイオードフィルムと共に光電変換モジュールの裏面を封止するバックシートと、光電変換モジュールとバックシートとの間に充填される充填材と、を備え、隣接する光電変換セルに跨ってダイオードが配置されるように直列接続の方向に沿ってバイパスダイオードフィルムが延設された、光電変換装置である。
本発明によれば、バイパスダイオードの設置を容易にした光電変換装置ができる。
本発明の実施の形態における光電変換装置200は、図1に示すように、光電変換モジュール202、バイパスダイオードフィルム204、バックシート206及び充填材208を含んで構成される。なお、図1は、バイパスダイオードフィルム204が延設された方向に沿った光電変換装置200の断面構造を模式的に示した図である。また、本発明の特徴を明確に示すために、図2に光電変換装置200のバックシート206及び充填材208を除去した状態の斜視図を示す。
光電変換モジュール202は、図3の拡大断面図に示すように、基板20を光入射側として、光入射側から、透明電極層22、トップセルとして広いバンドギャップを有するアモルファスシリコン光電変換ユニット(a−Siユニット)24、中間層26、ボトムセルとしてa−Siユニット24よりバンドギャップの狭い微結晶シリコン光電変換ユニット(μc−Siユニット)28及び裏面電極層30、を積層した構造を有する。なお、本実施の形態では、a−Siユニット24及びμc−Siユニット28を積層したタンデム型光電変換装置を例に説明を行うが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、a−Siユニット24及びμc−Siユニット28のいずれかのみを用いたシングル型光電変換装置やさらに他種の光電変換ユニットを適用した光電変換装置であってもよい。
基板20は、例えば、ガラス基板、プラスチック基板等の少なくとも可視光波長領域において透過性を有する材料を適用することができる。基板20上に透明電極層22が形成される。透明電極層22は、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)、インジウム錫酸化物(ITO)等に錫(Sn)、アンチモン(Sb)、フッ素(F)、アルミニウム(Al)等をドープした透明導電性酸化物(TCO)のうち少なくとも一種類又は複数種を組み合わせて用いることが好適である。特に、酸化亜鉛(ZnO)は、透光性が高く、抵抗率が低く、耐プラズマ特性にも優れているので好適である。透明電極層22は、例えば、スパッタリング法やCVD法等により形成することができる。
光電変換モジュール202を複数の光電変換セルを直列に接続した構成とする場合、透明電極層22にスリットS1を形成して短冊状にパターニングする。例えば、波長1064nm、エネルギー密度13J/cm2、パルス周波数3kHzのYAGレーザを用いて透明電極層22を短冊状にパターニングすることができる。
透明電極層22上に、p型層、i型層、n型層のシリコン系薄膜を順に積層してa−Siユニット24を形成する。a−Siユニット24は、シラン(SiH4)、ジシラン(Si2H6)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)等のシリコン含有ガス、メタン(CH4)等の炭素含有ガス、ジボラン(B2H6)等のp型ドーパント含有ガス、フォスフィン(PH3)等のn型ドーパント含有ガス及び水素(H2)等の希釈ガスを混合した混合ガスをプラズマ化して成膜を行うプラズマ化学気相成長法(CVD法)により形成することができる。プラズマCVD法は、例えば、13.56MHzのRFプラズマCVD法を適用することが好適である。
a−Siユニット24上に、中間層26を形成する。中間層26は、酸化亜鉛(ZnO)、酸化シリコン(SiOx)等の透明導電性酸化物(TCO)を用いることが好適である。特に、マグネシウムMgがドープされた酸化亜鉛(ZnO)や酸化シリコン(SiOx)を用いることが好適である。中間層26は、例えば、スパッタリング法やCVD法等により形成することができる。中間層26の膜厚は10nm以上200nm以下の範囲とすることが好適である。なお、中間層26は、設けなくてもよい。
中間層26上に、p型層、i型層、n型層を順に積層したμc−Siユニット28を形成する。μc−Siユニット28は、シラン(SiH4)、ジシラン(Si2H6)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)等のシリコン含有ガス、メタン(CH4)等の炭素含有ガス、ジボラン(B2H6)等のp型ドーパント含有ガス、フォスフィン(PH3)等のn型ドーパント含有ガス及び水素(H2)等の希釈ガスを混合した混合ガスをプラズマ化して成膜を行うプラズマCVD法により形成することができる。プラズマCVD法は、a−Siユニット24と同様に、例えば、13.56MHzのRFプラズマCVD法を適用することが好適である。
複数のセルを直列接続する場合、a−Siユニット24及びμc−Siユニット28にスリットS2を形成して短冊状にパターニングする。透明電極層22に形成したスリットS1の位置から50μm横の位置にYAGレーザを照射してスリットS2を形成し、a−Siユニット24及びμc−Siユニット28を短冊状にパターニングする。YAGレーザは、例えば、エネルギー密度0.7J/cm2、パルス周波数3kHzのものを用いることが好適である。
μc−Siユニット28上に、裏面電極層30を形成する。裏面電極層30は、透明導電性酸化物(TCO)と反射性金属とを順に積層した構造とすることが好適である。透明導電性酸化物(TCO)としては、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)、インジウム錫酸化物(ITO)等の透明導電性酸化物(TCO)、又は、これらの透明導電性酸化物(TCO)に不純物をドープしたものが用いられる。例えば、酸化亜鉛(ZnO)にアルミニウム(Al)を不純物としてドープしたものでもよい。また、反射性金属としては、銀(Ag)、アルミニウム(Al)等の金属が使用できる。透明導電性酸化物(TCO)は、例えば、スパッタリング法やCVD法等により形成することができる。裏面電極層30は、合わせて1μm程度の膜厚とすることが好適である。裏面電極層30の少なくとも一方には、光閉じ込め効果を高めるための凹凸が設けることが好適である。
複数のセルを直列接続する場合、裏面電極層30にスリットS3を形成して短冊状にパターニングする。a−Siユニット24及びμc−Siユニット28に形成したスリットS2の位置から50μm横の位置にYAGレーザを照射してスリットS3を形成し、裏面電極層30を短冊状にパターニングする。YAGレーザは、エネルギー密度0.7J/cm2、パルス周波数4kHzのものを用いることが好適である。
これにより、スリットS2に埋め込まれた裏面電極層30を介して1つの光電変換セルの裏面電極層30が隣り合う光電変換セルの透明電極層22に電気的に接続され、隣り合う光電変換セル同士が直列に接続された構造となる。
次に、バイパスダイオードフィルム204の構成及び製造方法を説明する。バイパスダイオードフィルム204は、図4の拡大断面図に示すように、基板40、第1電極層42、バイパスダイオード44及び第2電極層46を積層して構成される。バイパスダイオードフィルム204は、絶縁性材料からなるテープ状、フィルム状又はシート状の基板40上にバイパスダイオード44を複数並べて形成したものである。
基板40は、可撓性を有する絶縁材料で構成される。例えば、ポリエチレン、ポリイミド等のプラスチック材料のフィルムとする。基板40上に第1電極層42が形成される。第1電極層42は、導電性の材料で構成される層であればよい。第1電極層42は、例えば、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)、インジウム錫酸化物(ITO)等に錫(Sn)、アンチモン(Sb)、フッ素(F)、アルミニウム(Al)等をドープした透明導電性酸化物(TCO)のうち少なくとも一種類又は複数種の組み合わせ、又は、銀(Ag)、アルミニウム(Al)等の金属を用いることが好適である。特に、酸化亜鉛(ZnO)や金属は、抵抗率が低く、耐プラズマ特性にも優れているので好適である。第1電極層42は、例えば、スパッタリング法やCVD法等により形成することができる。
第1電極層42は、スリットS4によって短冊状にパターニングされる。バイパスダイオード44を、隣り合う光電変換セル毎に設ける場合には、バイパスダイオードフィルム204に形成されるバイパスダイオード44を光電変換モジュール202に形成される光電変換セルと同じピッチで形成する必要があるので、スリットS4を光電変換セルの配置のピッチP1に合わせたピッチP2で形成する。第1電極層42は、例えば、波長1064nm、エネルギー密度13J/cm2、パルス周波数3kHzのYAGレーザを用いて短冊状にパターニングすることができる。なお、第1電極層42は、マスクを用いたスパッタリング法やスクリーン印刷法によって形成してもよい。
第1電極層42上に、少なくともp型層及びn型層のシリコン系薄膜を順に積層してバイパスダイオード44となる半導体層を形成する。半導体層は、全体としてpn接合特性を有すればよく、p/nの2層積層やp/i/nの3層積層等の態様を採ることができる。半導体層は、アモルファスシリコン薄膜や微結晶シリコン薄膜を積層することにより構成することができる。アモルファスシリコン薄膜や微結晶シリコン薄膜は、シラン(SiH4)、ジシラン(Si2H6)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)等のシリコン含有ガス、メタン(CH4)等の炭素含有ガス、ジボラン(B2H6)等のp型ドーパント含有ガス、フォスフィン(PH3)等のn型ドーパント含有ガス及び水素(H2)等の希釈ガスを混合した混合ガスをプラズマ化して成膜を行うプラズマ化学気相成長法(CVD法)により形成することができる。プラズマCVD法は、例えば、13.56MHzのRFプラズマCVD法を適用することが好適である。
次に、半導体層をスリットS5により短冊状に分割してバイパスダイオード44を形成する。第1電極層42に形成したスリットS4の位置から50μm横の位置にYAGレーザを照射してスリットS5を形成し、半導体層を短冊状にパターニングする。YAGレーザは、例えば、エネルギー密度0.7J/cm2、パルス周波数3kHzのものを用いることが好適である。
バイパスダイオード44上に、第2電極層46を形成する。第2電極層46は、導電性の材料で構成される層であればよい。第2電極層46は、例えば、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)、インジウム錫酸化物(ITO)等に錫(Sn)、アンチモン(Sb)、フッ素(F)、アルミニウム(Al)等をドープした透明導電性酸化物(TCO)のうち少なくとも一種類又は複数種の組み合わせ、又は、銀(Ag)、アルミニウム(Al)等の金属を用いることが好適である。第2電極層46は、例えば、スパッタリング法やCVD法等により形成することができる。
次に、第2電極層46にスリットS6を形成して短冊状にパターニングする。半導体層に形成したスリットS5の位置から50μm横の位置にYAGレーザを照射してスリットS6を形成し、第2電極層46を短冊状にパターニングする。YAGレーザは、エネルギー密度0.7J/cm2、パルス周波数4kHzのものを用いることが好適である。なお、第2電極層46は、マスクを用いたスパッタリング法やスクリーン印刷法によって形成してもよい。
これにより、スリットS5に埋め込まれた第2電極層46を介して1つのバイパスダイオード44の第2電極層46が隣り合うバイパスダイオード44の第1電極層42に電気的に接続され、隣り合うバイパスダイオード44同士が直列に接続されたバイパスダイオードフィルム204が形成される。
このように形成されたバイパスダイオードフィルム204を光電変換モジュール202上に配置し、光電変換モジュール202の光電変換セルが正常に発電している状態において、電圧が逆バイアスの状態で印加されるようにバイパスダイオードフィルム204のバイパスダイオード44を光電変換セルに接続する。すなわち、バイパスダイオードフィルム204のバイパスダイオード44が直列接続された方向を光電変換モジュール202の光電変換セルが直列接続された方向に合わせ、バイパスダイオードフィルム204の1つのバイパスダイオード44の第2電極層46を光電変換モジュール202の光電変換セルの1つの裏面電極層30に接触させ、そのバイパスダイオード44に隣接するバイパスダイオード44の第2電極層46をその光電変換モジュール202に隣接する光電変換セルの裏面電極層30に接触させる。
このとき、バイパスダイオードフィルム204のバイパスダイオード44の配置のピッチP2と、光電変換モジュール202の光電変換セルの配置のピッチP1と、を一致させているので、直列接続された光電変換セルの1つずつに対応付けてバイパスダイオード44を接続することができる。なお、スリットS1〜S3とスリットS4〜S5とが重なり合うようにすることによって、バイパスダイオードフィルム204と光電変換モジュール202との位置合わせを容易に行うことができる。
なお、直列接続された光電変換セルの1つずつにバイパスダイオード44を設けず、複数の光電変換セルに跨ってバイパスダイオード44を設けてもよい。この場合には、バイパスダイオードフィルム204には複数の光電変換セルに跨るようなピッチP2でバイパスダイオード44を形成する。具体的には、n個の光電変換セルに跨ってバイパスダイオード44を配置する場合、バイパスダイオード44の配置のピッチP2を光電変換セルの配置のピッチP1のn倍とすることが好適である。
このようにバイパスダイオードフィルム204を配置した状態において、充填材208を用いて裏面電極層30の表面をバックシート206で覆って封止する。充填材208及びバックシート206は、EVA、ポリイミド等の樹脂材料とすることができる。バイパスダイオードフィルム204を配置した裏面電極層30上に充填材208を配置し、充填材208上をバックシート206で覆い、150℃程度の温度に加熱しつつ裏面電極層30へ向かってバックシート206に圧力を加えることによって封止を行うことができる。これによって、光電変換装置200の発電層への水分の侵入等を防ぐことができる。
このとき、バックシート206によってバイパスダイオードフィルム204が光電変換モジュール202に向けて押圧され、バイパスダイオード44のアノード電極及びカソード電極が裏面電極層30に押し付けられ、ハンダ付け等の作業を行うことなくアノード電極及びカソード電極と裏面電極層30との良好な電気的接続を得ることができる。
また、図5の断面図及び図6の内部斜視図に示すように、バイパスダイオードフィルム204上を覆うようにカバー部材210を設けてもよい。なお、図5は、バイパスダイオードフィルム204及びカバー部材210が延設された方向に沿って光電変換装置300の断面構造を模式的に示した図である。また、図6は、本発明の特徴を明確に示すために、光電変換装置300のバックシート206及び充填材208を除去した状態の斜視図を示す。図6の内部斜視図では、構成を明確にするためにカバー部材210で覆われているバイパスダイオードフィルム204を破線で示している。
カバー部材210は、絶縁性材料からなるテープ状、フィルム状又はシート状の部材である。カバー部材210は、バックシート206の封止処理における加熱に耐えられる程度の耐熱性を有することが好適である。加熱処理は150℃程度で行われるので、カバー部材210を例えばテフロン(登録商標)とすることが好適である。
カバー部材210によりバイパスダイオードフィルム204を覆うことで、バックシート206で封止を行う際に充填材208がバイパスダイオード44の第2電極層46と裏面電極層30との間に入り込むことがなくなり、第2電極層46と裏面電極層30との電気的接触が不良になることを防ぐことができる。
また、裏面電極層30とバイパスダイオードフィルム204との間の段差をカバー部材210で覆うことによって滑らかな傾斜とすることができる。これによって、段差によるバックシート206の浮き上がりを抑制し、バックシート206の凹凸を小さくすることができる。
以上のように、本実施の形態の光電変換装置によれば、ホットスポットが発生した場合にバイパスダイオードによって光電変換セルの破損を防ぐことができる。さらに、光電変換装置を製造する際に、バイパスダイオードの設置を容易にすることができる。
20 基板、22 透明電極層、24 アモルファスシリコン光電変換ユニット、26 中間層、28 微結晶シリコン光電変換ユニット、30 裏面電極層、40 基板、42 第1電極層、44 バイパスダイオード、46 第2電極層、200 光電変換装置、202 光電変換モジュール、204 バイパスダイオードフィルム、206 バックシート、208 充填材、210 カバー部材。
Claims (3)
- スリットによって分割された光電変換セルを直列に接続した光電変換モジュールと、
少なくともp層及びn層を積層したダイオードが表面に形成されたバイパスダイオードフィルムと、
前記バイパスダイオードフィルムと共に前記光電変換モジュールの裏面を封止するバックシートと、
前記光電変換モジュールと前記バックシートとの間に充填される充填材と、
を備え、
隣接する前記光電変換セルに跨って前記ダイオードが配置されるように前記直列接続の方向に沿って前記バイパスダイオードフィルムが延設されていることを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1に記載の光電変換装置であって、
前記バイパスダイオードフィルムは、前記スリットのピッチと同じピッチで前記ダイオードが並べられていることを特徴とする光電変換装置。 - 請求項1又は2に記載の光電変換装置であって、
前記バイパスダイオードフィルムを覆うようにカバー部材が設けられていることを特徴とする光電変換装置。
Priority Applications (2)
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