JP2011187522A - 圧電素子接着方法及び圧電素子接着装置 - Google Patents

圧電素子接着方法及び圧電素子接着装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2011187522A
JP2011187522A JP2010048631A JP2010048631A JP2011187522A JP 2011187522 A JP2011187522 A JP 2011187522A JP 2010048631 A JP2010048631 A JP 2010048631A JP 2010048631 A JP2010048631 A JP 2010048631A JP 2011187522 A JP2011187522 A JP 2011187522A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piezoelectric element
adhesive
pressing
head
suction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2010048631A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanobu Tsuruko
昌宣 鶴子
Susumu Ichimura
進 市村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Brother Industries Ltd
Original Assignee
Brother Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Brother Industries Ltd filed Critical Brother Industries Ltd
Priority to JP2010048631A priority Critical patent/JP2011187522A/ja
Publication of JP2011187522A publication Critical patent/JP2011187522A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

【課題】圧電素子を基材上に塗布された接着剤上に押し当てて接着させる際に、圧電素子の破損を防止することができる製造方法を提供する。
【解決手段】チクソトロピー性を有する接着剤2でセラミックス製の圧電素子3を基材1に接着させる圧電素子接着方法において、基材1表面に接着剤2を塗布する塗布工程と、圧電素子3を、吸着穴81aが形成された吸引ヘッドで吸着し、塗布された接着剤2上に載置する仮置き工程と、圧電素子3を、押圧面82aが平面の押圧ヘッド82で押圧する押圧工程と、接着剤2を硬化させる硬化工程とからなることを特徴とする。これにより、平面の押圧面82aで押圧される圧電素子3には過大な応力が作用することないので、圧電素子3の破損を防止することが可能となる。
【選択図】図2

Description

本発明は、脆性材料である圧電素子を基材に接着させる技術に関する。
特許文献1に示されるように、振動するミラーによりレーザー光の走査を行うレーザー光走査デバイスが知られている。このようなレーザー光走査デバイスのミラー1aは、図7に示されるように、板状の基材1をプレス加工やエッチング加工等の除去加工を行うことにより形成される。ミラー1aの両側は、梁部1bにより回動可能に支持されている。レーザー光走査デバイス10は、ミラー1aを回動振動させるためのセラミックス製の圧電素子3を有している。この圧電素子3は、基材1上に接着されている。圧電素子3を基材1上に接着させるには、まず、基材1上に金属フィラーを含有する接着剤を塗布し、圧電素子3を前記塗布された接着剤に押し当てた後に、接着剤を熱硬化させることにより行われる。
圧電素子3を基材1上に接着させるには、まず、基材1上に接着剤を塗布し、図8の(A)に示されるような中央に吸着穴81aが形成された吸引ヘッド81で、圧電素子3を吸着して前記塗布された接着剤に押し当てた後に、接着剤を熱硬化させることにより行われる。なお、図8の(B)は、吸着穴81a部分の拡大図である。
特開2007−271788号公報
基材1と圧電素子3との導電性を確実にするために、圧電素子3は接着剤に確実に押し当てられる必要がある。しかし、圧電素子3は脆性材料であるセラミックスで構成されていることから破損し易く、また、吸引ヘッド81には吸着穴81aが形成されていることから、吸引ヘッド81で圧電素子を接着剤に押し当てる際に、圧電素子3に作用する応力が集中してしまう。このため、圧電素子3を接着剤に押し当てる工程で、圧電素子3が破損してしまう場合があり、製造上の歩留まりが低下して、製造コストが増大してしまうという問題があった。そこで、吸引ヘッドを多孔質材料で構成して、圧電素子3を接着剤に押し当てる際に、圧電素子3に作用する応力を緩和させることも考えられる。しかしながら、セラミックスで構成された圧電素子3の表面は平滑面でないことから、多孔質材料で構成された吸引ヘッドでは、圧電素子を吸引することができない。
本発明は、上記問題を解決し、圧電素子を基材上に塗布された接着剤上に押し当てて接着させる際に、圧電素子の破損を防止することができる製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するためになされた請求項1に記載の発明は、
チクソトロピー性を有する接着剤でセラミックス製の圧電素子を基材に接着させる圧電素子接着方法において、
前記基材表面に前記接着剤を塗布する塗布工程と、
前記圧電素子を、吸着穴が形成された吸引ヘッドで吸着し、塗布された接着剤上に載置する仮置き工程と、
前記圧電素子を、押圧面が平面の押圧ヘッドで押圧する押圧工程と、
前記接着剤を硬化させる硬化工程とからなることを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、
仮置き工程において、接着剤に作用する垂直方向の応力が接着剤の降伏値より小さくなるように、圧電素子を接着剤上に載置させることを特徴とする。
これにより、圧電素子に対して過大な応力が作用することなく、圧電素子の破損を防止することが可能となる。
請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の発明において、
押圧工程において、圧電素子に作用する応力が、圧電素子の抗折強度以下となる押圧力で押圧ヘッドを押圧することを特徴とする。
これにより、圧電素子の破損を防止することが可能となる。
請求項4に記載の発明は、請求項1〜請求項3に記載の発明において、
押圧工程において、接着剤の粘度が飽和するまで、押圧ヘッドで圧電素子を押圧することを特徴とする。
これにより、接着剤に金属フィラーを含有させ、圧電素子と基材とを導電させる必要がある場合に、接着剤層の粘度が飽和する際に、隣接する金属フィラー同士が接触して、接着剤層が導電性を有するようになるので、圧電素子と基材とを確実に導電させることが可能となる。
請求項5に記載の発明は、
基材表面に、チクソトロピー性を有する接着剤を塗布する接着剤塗布手段と、
吸着穴が形成された吸引ヘッドと、
平面の押圧面が形成された押圧ヘッドと、
前記吸引ヘッド及び押圧ヘッドを移動させる移動手段と、
前記接着剤塗布手段で前記接着剤を前記基材表面上に塗布させ、前記移動手段で吸引ヘッドを移動させることにより、セラミックス製の圧電素子を、前記吸引ヘッドの吸着面で吸着させて塗布された接着剤上に載置させ、前記移動手段で押圧ヘッドを移動させることにより、前記押圧ヘッドの押圧面で前記圧電素子を押圧させる制御を行う制御手段を有することを特徴とする。
これにより、平面の押圧面で押圧される圧電素子には過大な応力が作用することないので、圧電素子の破損を防止することが可能となる。
本発明によれば、圧電素子を、吸着穴が形成された吸着面を有する吸引ヘッドで吸着し、塗布された接着剤上に載置した後に、圧電素子を、押圧面が平面の押圧ヘッドで押圧する。これにより、平面の押圧面で押圧される圧電素子には過大な応力が作用することないので、圧電素子の破損を防止することが可能となる。
本発明の実施の形態を示す圧電素子接着装置の説明図である。 本発明の実施の形態を示す圧電素子の接着工程の説明図である。 圧電素子の接着に使用される接着剤の剪断速度と粘度の関係を表したグラフである。 圧電素子の接着に使用される接着剤の剪断速度と剪断応力の関係を表したグラフである。 回転粘度計の説明図である。 押圧ヘッドの説明図である。 レーザー光走査デバイスの斜視図である。 吸引ヘッドの説明図である。 三点曲げ試験の説明図である。
(レーザー光走査デバイスの説明)
以下に図面を参照しつつ、本発明の好ましい実施の形態を示す。まず、図2や図7を用いて、レーザー光走査デバイス10を構成する、基材1、接着剤2、圧電素子3について説明する。基材1は、ステンレス、チタン等の導電性材料で構成されている。或いは、基材1として、シリコンの表面に物理気相成長法や真空蒸着方等のよって金や白金等を0.2〜0,6μm積層して、表面に導電層を形成した構成のものであっても差し支えない。
図3に示されるように、接着剤2は、熱硬化性を有するエポキシ系、アクリル系、シリコン系等の合成樹脂製の基剤2a内に、銀、金、銅等で構成された円盤状の金属フィラー2bを分散させたものである。図3に示されるように、静止時の接着剤2は粘度が高い一方で、接着剤2は剪断すると粘度が低下するチクソトロピー性を有している。また、図4に示されるように、接着剤2の剪断速度と剪断応力の関係は非線形であり、所定の降伏応力以上の剪断応力が接着剤2に作用しない場合には、接着剤2は剪断しないようになっている。
圧電素子3は、厚さが30〜100μmであり、一辺の長さが約3〜5mmの板状のセラミックスである。
(圧電素子接着装置の説明)
図1を用いて、以下、圧電素子接着装置80の説明をする。なお、図1の(B)は、ヘッド固定部85の裏面図である。圧電素子接着装置80は、図1の(A)に示されるように、駆動部83、真空供給部84、ヘッド固定部85からなるロボットアーム部87を有している。駆動部83は、複数のアクチュエータを有していて、ヘッド固定部85をX、Y、Zの3軸方向に関して移動させる装置である。駆動部83は、吸引ヘッド81や押圧ヘッド82(図6に示す)を移動させる移動手段となっている。真空供給部84は、真空ポンプと接続した配管が分岐して格納してあり、分岐された複数の配管はヘッド固定部85の複数の吸着穴85aに連通されている。真空ポンプにより複数の吸着穴85a内は略真空にされる。
図1の(B)に示されるように、ヘッド固定部85の裏面は平面となっている。ヘッド固定部85の裏面には、位置決め用突起85bが突設されている。図1の(B)に示される実施形態では、位置決め用突起85bは、ヘッド固定部85の裏面の角部に形成されている。ヘッド固定部85の裏面には、複数の吸着穴85aが形成されている。吸着穴85aは配管を介して真空ポンプと連通している。このような構成により、ヘッド固定部85の吸着穴85aにより、吸引ヘッド81や押圧ヘッド82が吸引されて、固定部85に固定される。この際に、吸引ヘッド81や押圧ヘッド82に形成された位置決め凹部81b、82bと位置決め突起85bとが係合して、吸引ヘッド81や押圧ヘッド82のヘッド固定部85に対する位置決めが行われる。ヘッド固定部85の裏面には、ピックアップセンサー86が取り付けられている。ピックアップセンサー86は、吸引ヘッド81や押圧ヘッド82の、ヘッド固定部85への固定を検知するセンサーである。ピックアップセンサー86には、超音波や電磁波を利用した近接センサーや、機械的なスイッチ等が含まれる。
圧電素子接着装置80は、印刷マスク88(図2に示す)、印刷マスク移動手段(図示せず)、接着剤供給手段(図示せず)、スキージ89(図2に示す)、スキージ走査手段(図示せず)とからなる接着剤塗布手段を有している。また、圧電素子接着装置80は、制御部90を有している。制御部90は、駆動部83、真空ポンプ、ピックアップセンサー86、接着剤供給手段、スキージ走査手段と接続し、後述する圧電素子接着方法の各工程を制御する。
(圧電素子接着方法の説明)
次に、図2を用いて、本発明の圧電素子接着方法について説明する。図2の(A)と(B)は基材1上に接着剤2を塗布する塗布工程を表している。図2の(A)に示されるように、印刷マスク移動手段が、基材1上に開口部88aが形成された印刷マスク88を載置する。そして、接着剤供給手段が、印刷マスク88に接着剤を供給する。次に、スキージ走査手段がスキージ89を走査すると、接着剤層2が形成される。次に、図2の(B)に示されるように、印刷マスク移動手段が、印刷マスク88を上方に持ち上げると、基材1上に開口部88aに対応した形状の接着剤層2が形成される。このように本実施形態では、印刷マスク88を使用して、スキージ89の走査により基材1上に接着剤層2を形成することにしたので、接着剤層2の上面を略平面にすることが可能となる。
図2の(C)及び(D)は、吸引ヘッド81で圧電素子3を吸着して接着剤層2上に載置する載置工程を表している。図2の(C)に示されるように、載置工程では、ヘッド固定部85には吸引ヘッド81が装着される。ヘッド固定部85に吸引ヘッド81(図8参照)が装着される際に、ピックアップセンサー86が、吸引ヘッド81のヘッド固定部85への固定を検知しない場合には、次工程に進まず、エラーが報知される。次に、駆動部83を駆動させることにより、ヘッド固定部85の先端に取り付けられた吸引ヘッド81で、圧電素子3を吸引し、当該圧電素子3を基材1上に形成された接着剤層2上に載置する(図2の(D)の状態)。なお、仮置き工程では、圧電素子3に負担をかけないように、吸引ヘッド81で吸引した圧電素子3を、接着剤層2上に載置する際に、接着剤層2に作用する垂直方向の応力が接着剤層2の降伏値よりも小さくなるようにしている。これは、図3に示されるように、本発明に使用される接着剤2は、静止時の粘度が大きく、吸引穴81aが形成されている吸引ヘッド81で圧電素子3を押圧すると、圧電素子3に過大な応力が作用して、圧電素子3が破損する恐れがあるからである。そこで、圧電素子3と接着剤層2が接触しない近接位置で、吸引ヘッド81で吸引されている圧電素子3を離すことが好ましい。一方で、圧電素子3と接着剤層2が大きく離間した位置で、吸引ヘッド81で吸引されている圧電素子3を離すと、落下する圧電素子3が接着剤層2と衝突して、圧電素子3に過大な応力が作用する恐れがあるだけでなく、接着剤層2に対する圧電素子3の載置位置がズレてしまう恐れがある。このため、本実施形態では、吸引ヘッドが基材1と接触することの無き様に基材1の反り量バラツキを考慮して、圧電素子3と接着剤層2が約0.06mm離間した近接位置で、吸引ヘッド81で吸引されている圧電素子3を離すことにしている。なお、前記した接着剤層2に作用する垂直方向の応力とは、仮置き工程時に、接着剤層2に作用する荷重を、接着剤層2上面の面積で除した値をいう。また、前記した接着剤2の降伏応力とは、図5に示されるような回転粘度計の測定用コーンプレート91が回転しないトルクから算出される応力のことをいう。
図2の(B)に示されるように、基材1上に接着剤層2が形成された状態では、接着剤層2の上面は、微少に凹凸状となっている。これは、接着剤2がチクソトロピー性を有し、所定の降伏応力以下では、接着剤2が流動しないからである。一方で、図2の(D)に示されるように、圧電素子3が接着剤層2上に載置されると、圧電素子3の質量により、微少に凹凸している接着剤層2の上面が流動して、圧電素子3と接着剤層2とが密着した状態となる。なお、圧電素子3と接着剤層2が密着した状態では、接触面積が大きく、接着剤2に作用する剪断応力が、降伏応力以下となるので、圧電素子3が沈降することがない。
図2の(E)は、圧電素子3を押圧ヘッド82(図6参照)で押圧する押圧工程を表している。図2の(E)に示されるように、押圧工程では、ヘッド固定部85には、平面の押圧面82aが形成された押圧ヘッド82が装着される。ヘッド固定部85に押圧ヘッド82が装着される際に、ピックアップセンサー86が、吸引ヘッド81のヘッド固定部85への固定を検知しない場合には、次工程に進まず、エラーが報知される。駆動部83を駆動させることにより、押圧ヘッド82の押圧面82aで、接着剤層2上に載置された圧電素子3を押圧して、圧電素子3を接着剤層2に押し付ける。この際に、接着剤層2の流動に伴い、接着剤層2内に含まれる金属フィラー2bが水平方向に配向し(図3に示す)、更に、隣接する金属フィラー2b同士が接触して、接着剤層2が導電性を有するようになる。図3に示されるように、接着剤層2の粘度が飽和する際に、隣接する金属フィラー2b同士が接触して、接着剤層2が導電性を有するようになる。接着剤層2が確実に導電性を有するように、本発明では、接着剤層2の粘度が飽和するまで、押圧ヘッド82で圧電素子3を押圧することにしている。なお、本明細書において、接着剤層2の粘度の飽和とは、圧電素子3のZ軸方向の積載位置の変化が停止、即ち金属フィラー2b同士が接触して接着剤層2の厚み変化が無くなる点のことをいう。なお、接着剤層2の厚み変化がある場合、圧電素子3、接着剤層2、基材3が相互に完全には接触しておらず、所望の押圧応力(抗折強度未満で設定)を基板1側は受けない。なお、積載位置の変化の停止とは、圧電素子3の降下速度:0.01mm/s(制御下限値)未満と定義する。
本発明では、押圧面82aが平面の押圧ヘッド82で、接着剤層2上に載置されている圧電素子3を押圧することにしたので、圧電素子3のある箇所に応力が集中することがなく、圧電素子3に作用する応力が過大とならず、圧電素子3が破損することがない。また、吸引ヘッド81で圧電素子3を接着剤層2上へ載置後、押圧ヘッド82で圧電素子3を押圧するまでの間に(図2の(D)の状態)、圧電素子3の質量により、微少に凹凸している接着剤層2の上面が流動して、圧電素子3と接着剤層2とが密着した状態となることから、接着剤層2の上面が微少に凹凸している状態で圧電素子3が押圧された場合と比較して、押圧時の接着剤層2から圧電素子3に作用する応力が過大とならず、圧電素子3が破損することがない。なお、本実施形態では、押圧工程時の圧電素子3の破損を防止するために、押圧ヘッド82の降下速度を、0.2mm/s未満(望ましくは降下速度の最小値:0.01mm/s)に設定している。
なお、本発明では、押圧工程時に、圧電素子3に作用する応力を、圧電素子3の抗折強度δ以下となる押圧力で押圧ヘッド82を押圧することにしている。
つまり、下式(1)又は(2)を満たす押圧力で圧電素子3を押圧することにしている。
抗折強度=δ
押圧ヘッド82の押圧力=F
押圧ヘッド82の押圧面82a面積=A
圧電素子3の面積=a
押圧ヘッド82の押圧面82aの面積Aが、圧電素子3の面積aより大きい場合には、下式(1)を満たす押圧力Fで圧電素子3を押圧する。
F<δ・a…式(1)
押圧ヘッド82の押圧面82aの面積Aが、圧電素子3の面積aより小さい場合には、下式(2)を満たす押圧力Fで圧電素子3を押圧する
F<δ・A…式(2)
なお、圧電素子3の抗折強度δは、図9に示されるような三点曲げ試験により下式(3)で求められる値である。
δ=3/2×LP/WT …式(3)
なお、Lは試験装置の支点間距離、Wは圧電素子3の幅、Tは圧電素子3の厚み、Pは圧電素子3が破断する荷重である。
次に、押圧ヘッド82を上方に移動させる(図2の(E)の状態)。次に、接着剤層2を加熱して、接着剤層2を熱硬化させる熱硬化工程を行う。なお、本実施形態では、圧電素子得3が取り付けられた基板1を、100〜200℃の雰囲気に保たれた加熱炉内に30〜60分間装入する。
以上、現時点において、もっとも、実践的であり、かつ好ましいと思われる実施形態に関連して本発明を説明したが、本発明は、本願明細書中に開示された実施形態に限定されるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う圧電素子接着方法及び圧電素子接着装置もまた技術的範囲に包含されるものとして理解されなければならない。
1 基材
1a ミラー
1b 梁部
2 接着剤(接着剤層)
2a 基剤
2b 金属フィラー
3 圧電素子
10 レーザー光走査デバイス
80 圧電素子接着装置
81 吸引ヘッド
81a 吸着穴
81b 位置決め凹部
82 押圧ヘッド
82a 押圧面
82b 位置決め凹部
83 駆動部
84 真空供給部
85 ヘッド固定部
85a 吸着穴
85b 位置決め用突起
86 ピックアップセンサー
87 ロボットアーム部
88 印刷マスク
88a 開口部
89 スキージ
90 制御部
91 測定用コーンプレート

Claims (5)

  1. チクソトロピー性を有する接着剤でセラミックス製の圧電素子を基材に接着させる圧電素子接着方法において、
    前記基材表面に前記接着剤を塗布する塗布工程と、
    前記圧電素子を、吸着穴が形成された吸引ヘッドで吸着し、塗布された接着剤上に載置する仮置き工程と、
    前記圧電素子を、押圧面が平面の押圧ヘッドで押圧する押圧工程と、
    前記接着剤を硬化させる硬化工程とからなることを特徴とする圧電素子接着方法。
  2. 仮置き工程において、接着剤に作用する垂直方向の応力が接着剤の降伏値より小さくなるように、圧電素子を接着剤上に載置させることを特徴とする請求項1に記載の圧電素子接着方法。
  3. 押圧工程において、圧電素子に作用する応力が、圧電素子の抗折強度以下となる押圧力で押圧ヘッドを押圧することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の圧電素子接着方法。
  4. 押圧工程において、接着剤の粘度が飽和するまで、押圧ヘッドで圧電素子を押圧することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の圧電素子接着方法。
  5. 基材表面に、チクソトロピー性を有する接着剤を塗布する接着剤塗布手段と、
    吸着穴が形成された吸引ヘッドと、
    平面の押圧面が形成された押圧ヘッドと、
    前記吸引ヘッド及び押圧ヘッドを移動させる移動手段と、
    前記接着剤塗布手段で前記接着剤を前記基材表面上に塗布させ、前記移動手段で吸引ヘッドを移動させることにより、セラミックス製の圧電素子を、前記吸引ヘッドの吸着面で吸着させて塗布された接着剤上に載置させ、前記移動手段で押圧ヘッドを移動させることにより、前記押圧ヘッドの押圧面で前記圧電素子を押圧させる制御を行う制御手段を、
    有することを特徴とする圧電素子接着装置。
JP2010048631A 2010-03-05 2010-03-05 圧電素子接着方法及び圧電素子接着装置 Withdrawn JP2011187522A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010048631A JP2011187522A (ja) 2010-03-05 2010-03-05 圧電素子接着方法及び圧電素子接着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010048631A JP2011187522A (ja) 2010-03-05 2010-03-05 圧電素子接着方法及び圧電素子接着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011187522A true JP2011187522A (ja) 2011-09-22

Family

ID=44793514

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010048631A Withdrawn JP2011187522A (ja) 2010-03-05 2010-03-05 圧電素子接着方法及び圧電素子接着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011187522A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113432763A (zh) * 2021-06-17 2021-09-24 中北大学 夹芯式pvdf压力计真空环境压制装置及方法
JP2022068592A (ja) * 2020-10-22 2022-05-10 株式会社デンソー 圧電アクチュエータの検査装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022068592A (ja) * 2020-10-22 2022-05-10 株式会社デンソー 圧電アクチュエータの検査装置
JP7363739B2 (ja) 2020-10-22 2023-10-18 株式会社デンソー 圧電アクチュエータの検査装置
CN113432763A (zh) * 2021-06-17 2021-09-24 中北大学 夹芯式pvdf压力计真空环境压制装置及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI671875B (zh) 覆晶之雷射接合用的裝置以及覆晶之雷射接合方法
TWI283906B (en) Pick-up tool for mounting semiconductor chips
US9627347B2 (en) Method of manufacturing semiconductor device and semiconductor device manufacturing apparatus
WO2004066694A1 (ja) 回路基板用部材、回路基板の製造方法および回路基板の製造装置
JP5226937B2 (ja) フリップチップボンディング技術を用いた、半導体チップの基板への実装方法
JP6234277B2 (ja) 圧着ヘッド、それを用いた実装装置および実装方法
JP2011187522A (ja) 圧電素子接着方法及び圧電素子接着装置
JP2007214291A (ja) フリップチップ実装方法
JP2010067922A (ja) 熱圧着装置及び電気部品の実装方法
JP4486914B2 (ja) 固体撮像素子のダイボンド方法及びその装置
JP2009295825A (ja) 固体撮像装置
JP6554643B2 (ja) 電子デバイス及びその製造方法
JP5663764B2 (ja) 接合装置
JP5317753B2 (ja) ボンダ装置
JP2015053418A (ja) 半導体製造装置
JP2010199190A (ja) 接合方法およびデバイス製造方法
JP7163047B2 (ja) 実装装置ならびに実装方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法
JP2010067715A (ja) 電子部品の実装装置及び実装方法
JP2011165850A (ja) 基板吸着装置及び基板吸着方法
JP2011217446A (ja) 圧電アクチュエータの製造方法
JP2011180492A (ja) 圧電素子接着方法
JP5501784B2 (ja) 接着装置及び接着方法
JP6819354B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2006278415A (ja) 超音波接合装置及びその製造方法
JP2007175882A (ja) フレキシブル基板の実装方法、フレキシブル基板の実装構造、液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120313

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20130401