JP2011185881A - 層厚測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 蛍光X線分析法を用いて非磁性支持体上に少なくとも磁性層を設けた磁気記録媒体の磁性層厚さを測定する層厚測定装置であって、該層厚測定装置は、X線の発生源であるX線管と、磁気記録媒体に照射されたX線により発生した蛍光X線を受ける検出器と、これらを含んで外気と遮断し、前記X線と前記蛍光X線を透過させるX線窓を有する密閉箱と、を含み、該密閉箱内は空気よりも密度の小さい気体で置換されており、前記X線窓と前記磁性層との距離が1〜50mmであることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
このため、これらの低ノイズ磁気記録媒体の製造にあたっては蛍光X線強度が弱く、磁性層の正確な厚さ管理が困難な状況になっていた。
2 内部空間
3 X線管
4a 検出器1
4b 検出器2
5 X線窓
6 X線
7 蛍光X線
10 磁性層厚測定装置
11 磁性層
12 非磁性層
13 非磁性支持体
T 磁気シート
Claims (2)
- 蛍光X線分析法を用いて非磁性支持体上に少なくとも磁性層を設けた磁気記録媒体の磁性層厚さを測定する磁性層厚測定装置であって、該磁性層厚測定装置は、
X線の発生源であるX線管と、
磁気記録媒体に照射されたX線により発生した蛍光X線を受ける検出器と、
これらを含んで外気と遮断し、前記X線と前記蛍光X線を透過させるX線窓を有する密閉箱と、を含み、
該密閉箱内は空気よりも密度の小さい気体で置換されており、
前記X線窓と前記磁性層との距離が1〜50mmであることを特徴とする磁性層厚測定装置。
- 請求項1に記載の磁性層厚測定装置を用いて磁気記録媒体を製造することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105866155A (zh) * | 2016-04-11 | 2016-08-17 | 中国科学院声学研究所 | 一种用于深井探测的x射线荧光测井探管 |
CN110132188A (zh) * | 2019-06-19 | 2019-08-16 | 中国人民解放军空军工程大学 | 一种基于多元素x射线特征光谱综合分析的涂渗层厚度计算方法 |
CN113983971A (zh) * | 2021-10-15 | 2022-01-28 | 西安特种设备检验检测院 | 一种保障超临界机组安全运行的监测方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0213803A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-01-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の膜厚測定方法 |
JPH0555012U (ja) * | 1991-12-24 | 1993-07-23 | 横河電機株式会社 | 厚さ計安全装置 |
JPH05209847A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-08-20 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 蛍光x線分析方法および装置 |
JP2000146874A (ja) * | 1998-11-17 | 2000-05-26 | Nkk Corp | メッキ鋼板の分析方法およびその分析装置 |
JP2001304843A (ja) * | 2000-04-26 | 2001-10-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 膜厚測定方法と装置 |
JP2001349852A (ja) * | 2000-04-06 | 2001-12-21 | Seiko Instruments Inc | チャンバー開放型蛍光x線分析装置 |
JP2007078616A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Sony Corp | 複数層からなる薄膜の各構成層の膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
JP2008039542A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Sony Corp | 磁気テープの膜厚測定装置および膜厚測定方法 |
-
2010
- 2010-03-11 JP JP2010053891A patent/JP2011185881A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0213803A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-01-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の膜厚測定方法 |
JPH05209847A (ja) * | 1991-10-18 | 1993-08-20 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 蛍光x線分析方法および装置 |
JPH0555012U (ja) * | 1991-12-24 | 1993-07-23 | 横河電機株式会社 | 厚さ計安全装置 |
JP2000146874A (ja) * | 1998-11-17 | 2000-05-26 | Nkk Corp | メッキ鋼板の分析方法およびその分析装置 |
JP2001349852A (ja) * | 2000-04-06 | 2001-12-21 | Seiko Instruments Inc | チャンバー開放型蛍光x線分析装置 |
JP2001304843A (ja) * | 2000-04-26 | 2001-10-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 膜厚測定方法と装置 |
JP2007078616A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Sony Corp | 複数層からなる薄膜の各構成層の膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
JP2008039542A (ja) * | 2006-08-04 | 2008-02-21 | Sony Corp | 磁気テープの膜厚測定装置および膜厚測定方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105866155A (zh) * | 2016-04-11 | 2016-08-17 | 中国科学院声学研究所 | 一种用于深井探测的x射线荧光测井探管 |
CN110132188A (zh) * | 2019-06-19 | 2019-08-16 | 中国人民解放军空军工程大学 | 一种基于多元素x射线特征光谱综合分析的涂渗层厚度计算方法 |
CN110132188B (zh) * | 2019-06-19 | 2020-11-10 | 中国人民解放军空军工程大学 | 一种基于多元素x射线特征光谱综合分析的涂渗层厚度计算方法 |
CN113983971A (zh) * | 2021-10-15 | 2022-01-28 | 西安特种设备检验检测院 | 一种保障超临界机组安全运行的监测方法 |
CN113983971B (zh) * | 2021-10-15 | 2023-06-16 | 西安特种设备检验检测院 | 一种保障超临界机组安全运行的监测方法 |
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