JP2011166042A - Substrate inspection device - Google Patents

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  • Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate inspection method that can reliably inspect failure of a flexible substrate. <P>SOLUTION: When inspection signals are supplied between a pair of conductive layers 101 in a flexible substrate 100 having a plurality of conductive layers 101 (conductive layers 101a to 101d) formed of conductive patterns and insulating layers 102 disposed between the conductive layers 101, respectively so that a capacitance between both the conductive layers is measured, and a measured value of the capacitance and a predetermined reference value are compared so that presence of peeling between the conductive layers and the insulating layers is inspected, the capacitance is measured, while bending the flexible substrate 100. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、導体パターンで構成された複数の導電層と各導電層の間に配設された絶縁層とを有する多層基板における導電層と絶縁層との剥離の有無を検査する基板検査方法および基板検査装置に関するものである。   The present invention relates to a substrate inspection method for inspecting the presence or absence of peeling between a conductive layer and an insulating layer in a multilayer substrate having a plurality of conductive layers composed of conductive patterns and an insulating layer disposed between the conductive layers, and The present invention relates to a substrate inspection apparatus.

測定した静電容量に基づいて基板の良否を検査する基板検査方法(一例として、特開2005−17095号公報において出願人が開示した回路基板検査方法)が知られている。この種の基板検査方法では、検査対象の基板が載置された基準電極、およびその基板の導電パターンに検査用信号を供給して基準電極と導電パターンとの間の静電容量を測定し、その静電容量の測定値が予め決められた許容範囲(基準値)内であるか否かに基づいて導電パターンに断線や短絡が生じているか否かを判定する。また、導体パターンで構成される導電層を複数有する基板を検査する際には、各導電層の2つに検査用信号を供給して各導電層の間の静電容量を測定し、その静電容量の測定値と基準値とを比較して導電パターンにおける断線や短絡の有無を判定する。この場合、この種の検査方法では、検査対象の基板を載置面が平坦な基準電極や載置台に載置して、基板を平らな状態にして検査が行われる。   A substrate inspection method for inspecting the quality of a substrate based on the measured capacitance (for example, a circuit substrate inspection method disclosed by the applicant in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-17095) is known. In this type of substrate inspection method, a reference signal on which a substrate to be inspected is placed, and an inspection signal is supplied to the conductive pattern of the substrate to measure the capacitance between the reference electrode and the conductive pattern, It is determined whether a disconnection or a short circuit has occurred in the conductive pattern based on whether or not the measured value of the capacitance is within a predetermined allowable range (reference value). Also, when inspecting a substrate having a plurality of conductive layers composed of conductor patterns, an inspection signal is supplied to two of the conductive layers to measure the capacitance between the conductive layers, and the static The measured value of the capacitance and the reference value are compared to determine the presence or absence of disconnection or short circuit in the conductive pattern. In this case, in this type of inspection method, the substrate to be inspected is placed on a reference electrode or a mounting table having a flat placement surface, and the substrate is flattened for inspection.

特開2005−17095号公報(第4−7頁、第1図)JP 2005-17095 A (page 4-7, FIG. 1)

ところが、上記の従来の基板検査方法には、改善すべき以下の課題がある。すなわち、複数の導電層と各導電層の間に配設された絶縁層とを有するフレキシブル基板を従来の基板検査方法によって検査したときには、不良を確実には発見できないことがある。具体的には、この種のフレキシブル基板は、一般的に、柔軟性を有するシート状の絶縁層と導体パターンで構成される導電層とを貼り合わせて製造される。この場合、貼り合わせが不十分なときには、導電層と絶縁層とが剥離することがある。しかしながら、従来の基板検査方法では、検査対象の基板を平坦な基準電極や載置台に載置して、基板を平らな状態にして検査している。このため、導電層と絶縁層とが剥離しているとしても、フレキシブル基板が平らな状態では、剥離している部分が密着するため、導電層に剥離以外の不良がないときには、2つの導電層の間の静電容量が基準値と乖離せずに良品と判定されることとなる。このように、従来の基板検査方法では、フレキシブル基板の不良を確実には発見できないことがあり、この点の改善が望まれている。   However, the above-described conventional substrate inspection method has the following problems to be improved. That is, when a flexible substrate having a plurality of conductive layers and an insulating layer disposed between the respective conductive layers is inspected by a conventional substrate inspection method, a defect may not be reliably detected. Specifically, this type of flexible substrate is generally manufactured by laminating a flexible sheet-like insulating layer and a conductive layer composed of a conductor pattern. In this case, when the bonding is insufficient, the conductive layer and the insulating layer may be separated. However, in the conventional substrate inspection method, a substrate to be inspected is placed on a flat reference electrode or a mounting table, and the substrate is inspected in a flat state. For this reason, even if the conductive layer and the insulating layer are peeled off, when the flexible substrate is flat, the peeled portions are in close contact with each other. Is determined as a good product without deviating from the reference value. As described above, in the conventional substrate inspection method, the defect of the flexible substrate may not be surely found, and improvement of this point is desired.

本発明は、かかる改善すべき課題に鑑みてなされたものであり、フレキシブル基板の不良を確実に検査し得る基板検査方法および基板検査装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of such a problem to be improved, and a main object of the present invention is to provide a substrate inspection method and a substrate inspection apparatus capable of reliably inspecting a defect of a flexible substrate.

上記目的を達成すべく請求項1記載の基板検査方法は、導体パターンで構成された複数の導電層と当該各導電層の間に配設された絶縁層とを有するフレキシブル基板における一対の当該導電層の間に検査信号を供給して当該両導電層の間の静電容量を測定し、当該静電容量の測定値と予め決められた基準値とを比較して前記導電層と前記絶縁層との剥離の有無を検査する基板検査方法であって、前記フレキシブル基板を湾曲させつつ前記静電容量を測定する。   In order to achieve the above object, a substrate inspection method according to claim 1, wherein a pair of the conductive layers in a flexible substrate having a plurality of conductive layers constituted by conductive patterns and an insulating layer disposed between the conductive layers. An inspection signal is supplied between the layers to measure the capacitance between the two conductive layers, and the measured value of the capacitance is compared with a predetermined reference value to compare the conductive layer and the insulating layer. A substrate inspection method for inspecting the presence or absence of peeling, wherein the capacitance is measured while bending the flexible substrate.

また、請求項2記載の基板検査方法は、請求項1記載の基板検査方法において、前記湾曲する部分の位置が移動するように前記フレキシブル基板を湾曲させる。   A substrate inspection method according to a second aspect is the substrate inspection method according to the first aspect, wherein the flexible substrate is curved so that the position of the curved portion is moved.

また、請求項3記載の基板検査方法は、請求項2記載の基板検査方法において、平らな状態の前記フレキシブル基板の一端部を固定した状態で当該フレキシブル基板の他端部を弧状の軌跡に沿って移動させて前記湾曲する部分の位置が当該他端部側から当該一端部側に向かって移動するように当該フレキシブル基板を湾曲させる。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the substrate inspection method according to the second aspect, wherein the other end portion of the flexible substrate follows an arcuate locus in a state where the one end portion of the flat flexible substrate is fixed. The flexible substrate is bent so that the position of the bent portion moves from the other end side toward the one end side.

また、請求項4記載の基板検査装置は、導体パターンで構成された複数の導電層と当該各導電層の間に配設された絶縁層とを有するフレキシブル基板における一対の当該導電層の間に検査信号が供給されている状態において当該両導電層の間の静電容量を測定する測定部を備えて、当該測定部によって測定された前記静電容量の測定値と予め決められた基準値とを比較して前記導電層と前記絶縁層との剥離の有無を検査する基板検査装置であって、前記フレキシブル基板を湾曲させる曲げ機構を備え、測定部は、前記フレキシブル基板が前記曲げ機構によって湾曲させられている状態において前記静電容量を測定する。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection apparatus comprising: a pair of conductive layers in a flexible substrate having a plurality of conductive layers formed of a conductor pattern and an insulating layer disposed between the conductive layers. A measurement unit that measures the capacitance between the two conductive layers in a state in which the inspection signal is supplied; and a measurement value of the capacitance measured by the measurement unit and a predetermined reference value; A substrate inspection apparatus for inspecting the presence or absence of separation between the conductive layer and the insulating layer, comprising a bending mechanism that bends the flexible substrate, and the measuring unit is configured to bend the flexible substrate by the bending mechanism. The capacitance is measured in a state where it is allowed to move.

また、請求項5記載の基板検査装置は、請求項4記載の基板検査装置において、前記曲げ機構は、前記湾曲する部分の位置が移動するように前記フレキシブル基板を湾曲させる。   The substrate inspection apparatus according to claim 5 is the substrate inspection apparatus according to claim 4, wherein the bending mechanism bends the flexible substrate so that a position of the bending portion moves.

また、請求項6記載の基板検査装置は、請求項5記載の基板検査装置において、前記曲げ機構は、平らな状態の前記フレキシブル基板の一端部を固定した状態で当該フレキシブル基板の他端部を弧状の軌跡に沿って移動させて前記湾曲する部分の位置が当該他端部側から当該一端部側に向かって移動するように当該フレキシブル基板を湾曲させる。   The substrate inspection apparatus according to claim 6 is the substrate inspection apparatus according to claim 5, wherein the bending mechanism fixes the other end portion of the flexible substrate in a state where the one end portion of the flat flexible substrate is fixed. The flexible substrate is bent so that the position of the curved portion is moved from the other end side toward the one end side by moving along the arcuate locus.

請求項1記載の基板検査方法、および請求項4記載の基板検査装置では、フレキシブル基板を湾曲させつつ一対の導電層の間の静電容量を測定してその測定値と基準値とを比較して導電層と絶縁層との剥離の有無を検査する。このため、この基板検査方法および基板検査装置では、導電層と絶縁層との間に剥離が生じているときには、フレキシブル基板を湾曲させて剥離部分を離間させ、これによって空間が生じることに起因して低下する静電容量の測定値を測定することで、剥離が生じていることを確実に検査することができる。したがって、この基板検査方法および基板検査装置によれば、フレキシブル基板を平らな状態で検査する従来の基板検査方法および基板検査装置とは異なり、導電層と絶縁層とが剥離しているフレキシブル基板の不良を確実に検査することができる。   In the substrate inspection method according to claim 1 and the substrate inspection apparatus according to claim 4, the capacitance between the pair of conductive layers is measured while bending the flexible substrate, and the measured value is compared with the reference value. Then, the presence or absence of peeling between the conductive layer and the insulating layer is inspected. For this reason, in this substrate inspection method and substrate inspection apparatus, when peeling occurs between the conductive layer and the insulating layer, the flexible substrate is bent to separate the peeling portion, thereby creating a space. By measuring the measured value of the capacitance that decreases as a result, it can be reliably inspected that peeling has occurred. Therefore, according to the substrate inspection method and the substrate inspection apparatus, unlike the conventional substrate inspection method and the substrate inspection apparatus that inspects the flexible substrate in a flat state, the conductive substrate and the insulating layer are separated from each other. Defects can be reliably inspected.

また、請求項2記載の基板検査方法、および請求項5記載の基板検査装置によれば、湾曲する部分の位置が移動するようにフレキシブル基板を湾曲させることにより、剥離している部分がフレキシブル基板のどの位置に存在していても、剥離が生じていることを確実に検査することができる。   According to the substrate inspection method of claim 2 and the substrate inspection apparatus of claim 5, the peeled portion is formed by bending the flexible substrate so that the position of the curved portion moves. Even if it exists in any position, it can test | inspect reliably that peeling has arisen.

請求項3記載の基板検査方法、および請求項6記載の基板検査装置では、平らな状態のフレキシブル基板の一端部を固定した状態でフレキシブル基板の他端部を弧状の軌跡に沿って移動させて湾曲する部分の位置が他端部側から一端部側に向かって移動するようにフレキシブル基板を湾曲させる。このため、この基板検査方法および基板検査装置によれば、湾曲させる動作が単純な分、湾曲する部分を他端部側から一端部側まで短時間で移動させることができる結果、検査効率を十分に向上することができる。また、この基板検査方法および基板検査装置によれば、湾曲する部分を他端部側から一端部側まで確実に移動させることができる結果、検査精度を十分に向上することができる。   In the substrate inspection method according to claim 3, and the substrate inspection apparatus according to claim 6, the other end of the flexible substrate is moved along an arcuate locus while the one end of the flat flexible substrate is fixed. The flexible substrate is curved so that the position of the curved portion moves from the other end side toward the one end side. For this reason, according to the substrate inspection method and the substrate inspection apparatus, the curved portion can be moved from the other end side to the one end side in a short time because the bending operation is simple. Can be improved. Moreover, according to this board | substrate inspection method and board | substrate inspection apparatus, as a result of being able to move the curved part reliably from the other end part side to the one end part side, test | inspection precision can fully be improved.

基板検査装置1の構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a configuration of a substrate inspection apparatus 1. FIG. フレキシブル基板100の構成を示す断面図である。2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a flexible substrate 100. FIG. 曲げ機構15の構成を示すブロック図である。3 is a block diagram showing a configuration of a bending mechanism 15. FIG. 曲げ機構15の動作を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining operation | movement of the bending mechanism. フレキシブル基板100を湾曲させた状態の断面図である。It is sectional drawing of the state which curved the flexible substrate. 静電容量Cの測定値Cmの変化を示す変化図である。It is a change figure showing change of measured value Cm of capacitance C.

以下、基板検査装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of a substrate inspection apparatus will be described with reference to the accompanying drawings.

最初に、基板検査装置1の構成について、図面を参照して説明する。図1に示す基板検査装置1は、基板検査方法に従ってフレキシブル基板100の良否を検査可能に構成されている。ここで、フレキシブル基板100は、図2に示すように、導体パターンで構成された複数(この例では、4つ)の導電層101a〜101d(以下、区別しないときには「導電層101」ともいう)と、各導電層101の間に配設された複数(この例では、3つ)の絶縁層102とを備えた多層基板であって、全体として柔軟性を有して湾曲変形可能に構成されている。この場合、このフレキシブル基板100は、一例として、接着層103を挟んで導電層101と絶縁層102とを交互に積層して、各層101,102を接着層103によって貼り合わせることによって形成されている。   First, the configuration of the substrate inspection apparatus 1 will be described with reference to the drawings. The substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 is configured to be able to inspect the quality of the flexible substrate 100 according to the substrate inspection method. Here, as shown in FIG. 2, the flexible substrate 100 includes a plurality of (in this example, four) conductive layers 101 a to 101 d (hereinafter, also referred to as “conductive layer 101” when not distinguished from each other) configured by a conductor pattern. And a plurality of (three in this example) insulating layers 102 disposed between the conductive layers 101, and are configured to be flexible and bendable as a whole. ing. In this case, as an example, the flexible substrate 100 is formed by alternately laminating the conductive layers 101 and the insulating layers 102 with the adhesive layer 103 interposed therebetween, and bonding the layers 101 and 102 with the adhesive layer 103. .

一方、基板検査装置1は、図1に示すように、信号出力部11、測定部12、表示部13、記憶部14、曲げ機構15および制御部16を備えて構成されている。   On the other hand, as shown in FIG. 1, the substrate inspection apparatus 1 includes a signal output unit 11, a measurement unit 12, a display unit 13, a storage unit 14, a bending mechanism 15, and a control unit 16.

信号出力部11は、制御部16の制御に従い、検査用信号としての電流I(一例として、交流定電流)を出力し、その電流Iを一対のプローブ11a,11a(図2参照)を介してフレキシブル基板100における2つの導電層101の間に供給する。測定部12は、制御部16の制御に従って測定処理を実行する。この場合、測定部12は、この測定処理において、フレキシブル基板100における2つの導電層101の間に信号出力部11から出力された電流Iが供給されている状態において、その2つの導電層101の間に生じる電圧Vを一対のプローブ12a,12a(同図参照)を介して入力し、その電圧Vの電圧値を測定すると共に、測定した電圧Vの電圧値、供給されている電流Iの電流値、並びに電流Iおよび電圧Vの間の位相差に基づいて、その2つの導電層101の間の静電容量Cを測定(算出)する(以下、測定した静電容量Cの値を「測定値Cm」ともいう)。   The signal output unit 11 outputs a current I (an AC constant current as an example) as an inspection signal under the control of the control unit 16, and the current I is passed through a pair of probes 11a and 11a (see FIG. 2). It supplies between the two conductive layers 101 in the flexible substrate 100. The measurement unit 12 performs measurement processing according to the control of the control unit 16. In this case, in the measurement process, the measurement unit 12 in the state where the current I output from the signal output unit 11 is supplied between the two conductive layers 101 in the flexible substrate 100. A voltage V generated between them is input through a pair of probes 12a and 12a (see the figure), and the voltage value of the voltage V is measured, and the measured voltage value of the voltage V and the current I being supplied are measured. Based on the value and the phase difference between the current I and the voltage V, the capacitance C between the two conductive layers 101 is measured (calculated) (hereinafter, the value of the measured capacitance C is measured. Also referred to as “value Cm”).

表示部13は、制御部16の制御に従い、測定部12によって測定された静電容量Cの測定値Cmを示す画像(例えば、測定値Cmの変化を示す画像(図6参照))や、制御部16によって実行される良否判定の結果などを表示する。記憶部14は、制御部16の制御に従って測定部12によって測定された静電容量Cの測定値Cmを記憶する。また、記憶部14は、制御部16による良否判定の際に用いられる各導電層101の間の静電容量Cの基準値Csを記憶する。   The display unit 13 controls the control unit 16 to control an image indicating the measured value Cm of the capacitance C measured by the measuring unit 12 (for example, an image showing a change in the measured value Cm (see FIG. 6)) or a control. The result of pass / fail judgment executed by the unit 16 is displayed. The storage unit 14 stores the measurement value Cm of the capacitance C measured by the measurement unit 12 according to the control of the control unit 16. In addition, the storage unit 14 stores a reference value Cs of the capacitance C between the conductive layers 101 used when the control unit 16 determines the quality.

曲げ機構15は、制御部16の制御に従い、フレキシブル基板100を湾曲(曲げ変形)させる湾曲処理(曲げ処理)を実行可能に構成されている。具体的には、曲げ機構15は、図3に示すように、第1吸着部21、第2吸着部22および駆動部23を備えて構成されている。   The bending mechanism 15 is configured to be capable of executing a bending process (bending process) for bending (bending deformation) the flexible substrate 100 under the control of the control unit 16. Specifically, as shown in FIG. 3, the bending mechanism 15 includes a first suction unit 21, a second suction unit 22, and a drive unit 23.

第1吸着部21は、吸気管を介して図外の吸気機構に接続されて、吸気機構によって吸気が行われることで、図4に示すように、フレキシブル基板100の一端部100aを吸着して保持する。また、第1吸着部21は、曲げ機構15を構成するフレーム15aに取り付けられている。このため、第1吸着部21によって吸着されているフレキシブル基板100の一端部100aは、第1吸着部21を介してフレーム15aに固定される。   The first suction unit 21 is connected to an unillustrated intake mechanism via an intake pipe, and is sucked by the intake mechanism to adsorb one end portion 100a of the flexible substrate 100 as shown in FIG. Hold. The first suction portion 21 is attached to a frame 15 a that constitutes the bending mechanism 15. For this reason, the one end part 100 a of the flexible substrate 100 sucked by the first suction part 21 is fixed to the frame 15 a via the first suction part 21.

第2吸着部22は、第1吸着部21と同様にして吸気管を介して図外の吸気機構に接続され、吸気機構によって吸気が行われることで、フレキシブル基板100の他端部100bを吸着して保持する。駆動部23は、一例として、図4に破線で示す弧状の軌跡Lに沿って第2吸着部22を移動させる移動処理を実行する。この場合、駆動部23が第2吸着部22をこのように移動させることにより、第2吸着部22によって吸着されているフレキシブル基板100の他端部100bが軌跡Lに沿って移動させられる。また、他端部100bの移動に伴い、同図に示すように、湾曲する部分(以下「湾曲部W」ともいう)の位置が、他端部100b側から一端部100a側に向かって移動するようにしてフレキシブル基板100が湾曲させられる。   The second adsorption unit 22 is connected to an intake mechanism (not shown) via an intake pipe in the same manner as the first adsorption unit 21, and sucks the other end 100 b of the flexible substrate 100 by performing intake by the intake mechanism. And hold. The drive part 23 performs the movement process which moves the 2nd adsorption | suction part 22 along the arc-shaped locus | trajectory L shown with a broken line in FIG. 4 as an example. In this case, the drive unit 23 moves the second suction unit 22 in this manner, so that the other end portion 100b of the flexible substrate 100 sucked by the second suction unit 22 is moved along the locus L. Further, as the other end portion 100b moves, the position of the curved portion (hereinafter also referred to as “curved portion W”) moves from the other end portion 100b side toward the one end portion 100a side, as shown in FIG. In this way, the flexible substrate 100 is bent.

制御部16は、信号出力部11、測定部12、表示部13、記憶部14および曲げ機構15を制御して各種の処理を実行させる。この場合、制御部16は、曲げ機構15に対して湾曲処理を実行させている状態、つまりフレキシブル基板100が湾曲させられている状態において、測定部12に対して測定処理を実行させる。また、制御部16は、測定部12によって測定された静電容量Cの測定値Cmと基準値Csとを比較して、フレキシブル基板100の良否を判定する判定処理を実行する。この判定処理では、制御部16は、測定値Cmが基準値Cs以上のときには、剥離が発生していないとして、そのフレキシブル基板100を良好と判定する。また、測定値Cmが基準値Cs未満のときには、剥離が発生しているとして、そのフレキシブル基板100を不良と判定する。   The control unit 16 controls the signal output unit 11, the measurement unit 12, the display unit 13, the storage unit 14, and the bending mechanism 15 to execute various processes. In this case, the control unit 16 causes the measurement unit 12 to execute the measurement process in a state where the bending mechanism 15 is executing the bending process, that is, in a state where the flexible substrate 100 is bent. Further, the control unit 16 compares the measured value Cm of the capacitance C measured by the measuring unit 12 with the reference value Cs, and executes a determination process for determining whether the flexible substrate 100 is acceptable. In this determination process, when the measured value Cm is equal to or greater than the reference value Cs, the control unit 16 determines that the flexible substrate 100 is good, assuming that no peeling has occurred. When the measured value Cm is less than the reference value Cs, it is determined that peeling has occurred, and the flexible substrate 100 is determined to be defective.

次に、基板検査装置1を用いてフレキシブル基板100の良否を検査する方法(基板検査方法)、およびその際の基板検査装置1の動作について、図面を参照して説明する。   Next, a method for inspecting the quality of the flexible substrate 100 using the substrate inspection apparatus 1 (substrate inspection method) and the operation of the substrate inspection apparatus 1 at that time will be described with reference to the drawings.

まず、検査対象のフレキシブル基板100を曲げ機構15にセットする。具体的には、図4に実線で示すように、一端部100aが曲げ機構15における第1吸着部21の上に位置し、かつ他端部100bが第2吸着部22の上に位置するようにフレキシブル基板100を載置する。次いで、図外の吸気機構を作動させる。この際に、吸気機構の吸気によって第1吸着部21がフレキシブル基板100の一端部100aを吸着し、第2吸着部22がフレキシブル基板100の他端部100bを吸着する。   First, the flexible substrate 100 to be inspected is set in the bending mechanism 15. Specifically, as shown by a solid line in FIG. 4, one end 100 a is positioned on the first suction portion 21 in the bending mechanism 15 and the other end 100 b is positioned on the second suction portion 22. The flexible substrate 100 is placed on the substrate. Next, the intake mechanism (not shown) is operated. At this time, the first suction portion 21 sucks the one end portion 100 a of the flexible substrate 100 and the second suction portion 22 sucks the other end portion 100 b of the flexible substrate 100 by the intake air of the intake mechanism.

続いて、図2に示すように、フレキシブル基板100における各導電層101のうちの2つ導電層101(例えば、同図に示す導電層101a,101b)における一端部100a側(フレキシブル基板100が固定される端部側)に対して、信号出力部11に接続されている一対のプローブ11a,11aをそれぞれ接触させると共に、測定部12に接続されている一対のプローブ12a,12aをそれぞれ接触させる。   Subsequently, as shown in FIG. 2, one end portion 100a side (the flexible substrate 100 is fixed) of two conductive layers 101 (for example, the conductive layers 101a and 101b shown in the drawing) of the respective conductive layers 101 in the flexible substrate 100. The pair of probes 11a and 11a connected to the signal output unit 11 are brought into contact with each other, and the pair of probes 12a and 12a connected to the measuring unit 12 are brought into contact with each other.

次いで、図外の操作部を操作して検査の開始を指示する。続いて、制御部16が操作部からの操作信号に従って各部に対する制御を開始する。具体的には、制御部16は、信号出力部11に対して、検査用信号としての電流Iの出力開始を指示する。次いで、制御部16は、曲げ機構15に対して湾曲処理(曲げ処理)の開始を指示すると共に、測定部12に対して静電容量Cの測定処理の開始を指示する。   Next, an operation unit (not shown) is operated to instruct the start of inspection. Subsequently, the control unit 16 starts control of each unit in accordance with an operation signal from the operation unit. Specifically, the control unit 16 instructs the signal output unit 11 to start outputting the current I as the inspection signal. Next, the control unit 16 instructs the bending mechanism 15 to start a bending process (bending process) and instructs the measuring unit 12 to start a measurement process of the capacitance C.

続いて、制御部16による湾曲処理の開始の指示に従い、曲げ機構15の駆動部23が、第2吸着部22を移動させる移動処理を開始する。この移動処理では、駆動部23は、図4に示すように、軌跡Lに沿って第2吸着部22を一定の速度で移動させる。この第2吸着部22の移動により、第2吸着部22によって吸着されているフレキシブル基板100の他端部100bが軌跡Lに沿って移動させられる。また、他端部100bの移動に伴い、同図に示すように、湾曲部Wが他端部100b側から一端部100a側に移動するようにしてフレキシブル基板100が湾曲させられる。   Subsequently, in accordance with an instruction to start the bending process by the control unit 16, the drive unit 23 of the bending mechanism 15 starts a movement process for moving the second suction unit 22. In this movement process, the drive unit 23 moves the second adsorption unit 22 at a constant speed along the locus L as shown in FIG. By the movement of the second suction part 22, the other end part 100 b of the flexible substrate 100 sucked by the second suction part 22 is moved along the locus L. As the other end portion 100b moves, the flexible substrate 100 is bent so that the bending portion W moves from the other end portion 100b side to the one end portion 100a side, as shown in FIG.

一方、曲げ機構15による湾曲処理の実行中において、測定部12は、制御部16の指示に従って測定処理を開始する。この測定処理では、測定部12は、信号出力部11から出力されている電流Iの電流値と、電流Iの供給によって導電層101a,101b間に生じる電圧Vの電圧値と、電流Iおよび電圧Vの位相差とに基づいて導電層101a,101b間の静電容量Cを測定する。また、制御部16は、測定部12によって測定された測定値Cmを記憶部14に記憶させる。この場合、測定部12は、一定の時間刻みに静電容量Cを順次測定し、制御部16は、その測定値Cmを記憶部14に逐次記憶させる。   On the other hand, during the execution of the bending process by the bending mechanism 15, the measurement unit 12 starts the measurement process according to an instruction from the control unit 16. In this measurement process, the measurement unit 12 includes the current value of the current I output from the signal output unit 11, the voltage value of the voltage V generated between the conductive layers 101a and 101b by the supply of the current I, the current I and the voltage. The capacitance C between the conductive layers 101a and 101b is measured based on the V phase difference. In addition, the control unit 16 stores the measurement value Cm measured by the measurement unit 12 in the storage unit 14. In this case, the measurement unit 12 sequentially measures the capacitance C at regular time intervals, and the control unit 16 sequentially stores the measurement value Cm in the storage unit 14.

次いで、制御部16は、図4に示すように、フレキシブル基板100の他端部100bが、位置P1(フレキシブル基板100が平らな状態(初期状態)において他端部100bが位置していた位置)から位置P2まで移動した時点で、測定部12に対して測定処理の終了を指示すると共に、曲げ機構15に対して湾曲処理の終了を指示する。続いて、測定部12が制御部16の指示に従って測定処理を終了させ、曲げ機構15の駆動部23が制御部16の指示に従って第2吸着部22を移動させることにより、他端部100bを位置P1に復帰させる。   Next, as shown in FIG. 4, the control unit 16 is configured such that the other end portion 100 b of the flexible substrate 100 is at a position P <b> 1 (a position where the other end portion 100 b is located in a state where the flexible substrate 100 is flat (initial state)). When moving from the position to the position P2, the measurement unit 12 is instructed to end the measurement process and the bending mechanism 15 is instructed to end the bending process. Subsequently, the measurement unit 12 ends the measurement process according to the instruction of the control unit 16, and the driving unit 23 of the bending mechanism 15 moves the second suction unit 22 according to the instruction of the control unit 16, thereby positioning the other end 100b. Return to P1.

次いで、制御部16は、判定処理を実行する。この判定処理では、制御部16は、記憶部14に記憶されている測定処理の開始から終了までの間(測定処理の期間中)の測定値Cmを読み出すと共に、基準値Csを読み出す。次いで、制御部16は、測定値Cmと基準値Csとを比較する。   Next, the control unit 16 executes a determination process. In this determination process, the control unit 16 reads the measurement value Cm stored in the storage unit 14 from the start to the end of the measurement process (during the measurement process) and also reads the reference value Cs. Next, the control unit 16 compares the measured value Cm with the reference value Cs.

ここで、例えば、フレキシブル基板100における導電層101aと絶縁層102との間、または導電層101bと絶縁層102との間に剥離部分が存在していないときには、導電層101a,101b間の静電容量Cの値が、基準値Csから大きく乖離することなく、基準値Cs以上の値に維持される。また、例えば、フレキシブル基板100の導電層101bと絶縁層102との間に剥離部分が存在しているとしても、フレキシブル基板100が平らな状態(平板状態)では、その剥離部分が密着するため、導電層101a,101b間の静電容量Cの値は、基準値Csから大きく乖離することなく、基準値Csとほぼ同じ値に維持される。   Here, for example, when there is no peeled portion between the conductive layer 101a and the insulating layer 102 or between the conductive layer 101b and the insulating layer 102 in the flexible substrate 100, the electrostatic capacitance between the conductive layers 101a and 101b. The value of the capacitance C is maintained at a value equal to or higher than the reference value Cs without greatly deviating from the reference value Cs. In addition, for example, even if there is a peeled portion between the conductive layer 101b and the insulating layer 102 of the flexible substrate 100, since the peeled portion adheres when the flexible substrate 100 is in a flat state (flat plate state), The value of the capacitance C between the conductive layers 101a and 101b is maintained substantially the same as the reference value Cs without greatly deviating from the reference value Cs.

一方、導電層101bと絶縁層102との間に剥離部分が存在しているフレキシブル基板100を湾曲させたときには、例えば図5に示すように、導電層101bと絶縁層102とが離間して空間Aが生じ、この空間Aが生じることに起因して静電容量Cの値が低下して基準値Csよりも小さくなる。このため、剥離部分が存在しているフレキシブル基板100を湾曲部Wが移動するように湾曲させつつ静電容量Cの値を測定したときには、図6に示すように、湾曲部Wが剥離部分に移動した時点で、静電容量Cの値が基準値Csを下回ることとなる。このため、制御部16は、判定処理において、測定処理の期間中における各測定値Cmがいずれも基準値Cs以上のときには、導電層101aと絶縁層102との間、または導電層101bと絶縁層102との間に剥離が発生していないと判定し、測定処理の期間中におけるいずれかの測定値Cmが基準値Cs未満のときには、導電層101aと絶縁層102との間、または導電層101bと絶縁層102との間に剥離が発生しているとして、そのフレキシブル基板100を不良と判定する。   On the other hand, when the flexible substrate 100 having a peeled portion between the conductive layer 101b and the insulating layer 102 is curved, the conductive layer 101b and the insulating layer 102 are separated from each other as shown in FIG. A occurs, and the value of the capacitance C decreases due to the generation of the space A and becomes smaller than the reference value Cs. For this reason, when the value of the capacitance C is measured while bending the flexible substrate 100 in which the peeling portion exists so that the bending portion W moves, the bending portion W becomes the peeling portion as shown in FIG. At the time of movement, the value of the capacitance C will fall below the reference value Cs. For this reason, in the determination process, the control unit 16 determines whether the measured value Cm during the measurement process is equal to or greater than the reference value Cs, or between the conductive layer 101a and the insulating layer 102, or between the conductive layer 101b and the insulating layer. When any measurement value Cm during the measurement process is less than the reference value Cs, it is determined that no peeling has occurred between the conductive layer 101a and the insulating layer 102, or the conductive layer 101b. That the flexible substrate 100 is defective.

この場合、導電層101a,101bの間の静電容量Cの測定値に基づく判定処理において剥離が発生していないと判定されたときには、次いで、他の組み合わせの2つの導電層101(例えば導電層101b,101c)を選択して、上記と同様の手順で検査を行う。以下、各導電層101の中から2つを選択する全ての組み合わせについて検査を行う。この場合、制御部16は、全ての組み合わせについて剥離が発生していないと判定したときには、そのフレキシブル基板100を良好と判定する。以上により、フレキシブル基板100に対する良否の検査が終了する。   In this case, when it is determined in the determination process based on the measured value of the capacitance C between the conductive layers 101a and 101b that separation has not occurred, then two combinations of two conductive layers 101 (for example, conductive layers) 101b, 101c) is selected and the inspection is performed in the same procedure as described above. Hereinafter, all combinations for selecting two of the conductive layers 101 are inspected. In this case, when it determines with peeling not having generate | occur | produced about all the combinations, the control part 16 determines that the flexible substrate 100 is favorable. Thus, the quality inspection for the flexible substrate 100 is completed.

このように、この基板検査方法および基板検査装置1では、フレキシブル基板100を湾曲させつつ一対の導電層101の間の静電容量Cを測定する測定処理を実行してその測定値Cmと基準値Csとを比較して導電層101と絶縁層102との剥離の有無を検査する。このため、この基板検査方法および基板検査装置1では、導電層101と絶縁層102との間に剥離が生じているときには、フレキシブル基板100を湾曲させて剥離部分を離間させ、これによって空間Aが生じることに起因して低下する静電容量Cの測定値Cmを測定することで、剥離が生じていることを確実に検査することができる。したがって、この基板検査方法および基板検査装置1によれば、フレキシブル基板100を平らな状態で検査する従来の基板検査方法および基板検査装置とは異なり、導電層101と絶縁層102とが剥離しているフレキシブル基板100の不良を確実に検査することができる。   Thus, in this board | substrate inspection method and the board | substrate inspection apparatus 1, the measurement process which measures the electrostatic capacitance C between a pair of conductive layers 101 is performed while curving the flexible substrate 100, and the measured value Cm and reference value are performed. The presence or absence of peeling between the conductive layer 101 and the insulating layer 102 is inspected by comparing Cs. For this reason, in this board | substrate inspection method and the board | substrate inspection apparatus 1, when peeling has arisen between the conductive layer 101 and the insulating layer 102, the flexible substrate 100 is curved and a peeling part is spaced apart, thereby space A is made. By measuring the measured value Cm of the capacitance C that decreases due to the occurrence, it can be reliably inspected that peeling has occurred. Therefore, according to this substrate inspection method and substrate inspection apparatus 1, unlike the conventional substrate inspection method and substrate inspection apparatus that inspects the flexible substrate 100 in a flat state, the conductive layer 101 and the insulating layer 102 are separated. The defective flexible substrate 100 can be inspected reliably.

また、この基板検査方法および基板検査装置1によれば、湾曲部Wの位置が移動するようにフレキシブル基板100を湾曲させることにより、剥離している部分がフレキシブル基板100のどの位置に存在していても、剥離が生じていることを確実に検査することができる。   Moreover, according to this board | substrate inspection method and the board | substrate inspection apparatus 1, by curving the flexible substrate 100 so that the position of the bending part W may move, the part which has peeled exists in which position of the flexible substrate 100 However, it can be reliably inspected that peeling has occurred.

また、この基板検査方法および基板検査装置1では、平らな状態のフレキシブル基板100の一端部100aを固定した状態でフレキシブル基板100の他端部100bを弧状の軌跡に沿って移動させて湾曲部Wの位置が他端部100b側から一端部100a側に向かって移動するようにフレキシブル基板100を湾曲させる。このため、この基板検査方法および基板検査装置1によれば、湾曲させる動作が単純な分、湾曲部Wを他端部100b側から一端部100a側まで短時間で移動させることができる結果、検査効率を十分に向上することができる。また、湾曲部Wを他端部100b側から一端部100a側まで確実に移動させることができる結果、検査精度を十分に向上することができる。   Moreover, in this board | substrate inspection method and the board | substrate inspection apparatus 1, in the state which fixed the one end part 100a of the flexible substrate 100 of the flat state, the other end part 100b of the flexible substrate 100 is moved along an arc-shaped locus | trajectory, and the curved part W The flexible substrate 100 is curved so that the position of the second side moves from the other end portion 100b side toward the one end portion 100a side. Therefore, according to the substrate inspection method and the substrate inspection apparatus 1, the bending portion W can be moved from the other end portion 100b side to the one end portion 100a side in a short time because the bending operation is simple. Efficiency can be sufficiently improved. Moreover, as a result of being able to move the bending part W from the other end part 100b side to the one end part 100a side reliably, test | inspection precision can fully be improved.

なお、上記した方法および構成は適宜変更することができる。例えば、平らな状態のフレキシブル基板100の表面に対して平行な方向に沿ってフレキシブル基板100の両端部100a,100bの一方または双方を互いに近接させることにより、湾曲部Wを移動させつつフレキシブル基板100を湾曲させる方法および構成を採用することもできる。また、フレキシブル基板100に弛みが生じる状態で両端部100a,100bを保持し、その状態のフレキシブル基板100の一面に押し当てた棒状の部材を一面に沿って両端部100a,100bの間で移動させることにより、湾曲部Wを移動させつつフレキシブル基板100を湾曲させる方法および構成を採用することもできる。   The above-described method and configuration can be changed as appropriate. For example, the flexible substrate 100 is moved while moving the curved portion W by bringing one or both ends 100a, 100b of the flexible substrate 100 close to each other along a direction parallel to the surface of the flat flexible substrate 100. It is also possible to adopt a method and a configuration for bending the wire. Further, both ends 100a and 100b are held in a state where the flexible substrate 100 is loosened, and a rod-shaped member pressed against one surface of the flexible substrate 100 in that state is moved between the both ends 100a and 100b along the entire surface. Accordingly, it is possible to adopt a method and a configuration in which the flexible substrate 100 is bent while the bending portion W is moved.

さらに、フレキシブル基板100の一方の端部(一端部100aまたは他端部100b)を固定した状態でフレキシブル基板100に対して気体を吹き当てることにより、フレキシブル基板100を湾曲させる方法および構成を採用することもできる。また、第1吸着部21および第2吸着部22による吸着によって各端部100a,100bを保持する方法および構成に代えて、クランプ機構によって各端部100a,100bを挟持して保持する方法および構成を採用することもできる。   Furthermore, a method and a configuration in which the flexible substrate 100 is bent by spraying gas onto the flexible substrate 100 in a state where one end (one end portion 100a or the other end portion 100b) of the flexible substrate 100 is fixed are adopted. You can also. Further, instead of the method and configuration of holding the end portions 100a and 100b by suction by the first suction portion 21 and the second suction portion 22, a method and configuration of holding and holding the end portions 100a and 100b by a clamp mechanism. Can also be adopted.

1 基板検査装置
12 測定部
15 曲げ機構
16 制御部
21 第1吸着部
22 第2吸着部
23 駆動機構
100 フレキシブル基板
100a 一端部
100b 他端部
101a〜101d 導電層
102 絶縁層
C 静電容量
Cm 測定値
Cs 基準値
W 湾曲部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate inspection apparatus 12 Measuring part 15 Bending mechanism 16 Control part 21 1st adsorption | suction part 22 2nd adsorption | suction part 23 Drive mechanism 100 Flexible substrate 100a One end part 100b Other end part 101a-101d Conductive layer 102 Insulating layer C Electrostatic capacity Cm measurement Value Cs Reference value W Curved part

Claims (6)

導体パターンで構成された複数の導電層と当該各導電層の間に配設された絶縁層とを有するフレキシブル基板における一対の当該導電層の間に検査信号を供給して当該両導電層の間の静電容量を測定し、当該静電容量の測定値と予め決められた基準値とを比較して前記導電層と前記絶縁層との剥離の有無を検査する基板検査方法であって、
前記フレキシブル基板を湾曲させつつ前記静電容量を測定する基板検査方法。
An inspection signal is supplied between a pair of conductive layers in a flexible substrate having a plurality of conductive layers composed of conductive patterns and an insulating layer disposed between the conductive layers, and between the conductive layers. Measuring the capacitance of the substrate, comparing the measured value of the capacitance with a predetermined reference value, and inspecting the presence or absence of peeling between the conductive layer and the insulating layer,
A substrate inspection method for measuring the capacitance while curving the flexible substrate.
前記湾曲する部分の位置が移動するように前記フレキシブル基板を湾曲させる請求項1記載の基板検査方法。   The substrate inspection method according to claim 1, wherein the flexible substrate is bent so that the position of the curved portion moves. 平らな状態の前記フレキシブル基板の一端部を固定した状態で当該フレキシブル基板の他端部を弧状の軌跡に沿って移動させて前記湾曲する部分の位置が当該他端部側から当該一端部側に向かって移動するように当該フレキシブル基板を湾曲させる請求項2記載の基板検査方法。   With the one end of the flexible substrate in a flat state fixed, the other end of the flexible substrate is moved along an arcuate trajectory so that the position of the curved portion is changed from the other end to the one end. The substrate inspection method according to claim 2, wherein the flexible substrate is curved so as to move toward the substrate. 導体パターンで構成された複数の導電層と当該各導電層の間に配設された絶縁層とを有するフレキシブル基板における一対の当該導電層の間に検査信号が供給されている状態において当該両導電層の間の静電容量を測定する測定部を備えて、当該測定部によって測定された前記静電容量の測定値と予め決められた基準値とを比較して前記導電層と前記絶縁層との剥離の有無を検査する基板検査装置であって、
前記フレキシブル基板を湾曲させる曲げ機構を備え、
測定部は、前記フレキシブル基板が前記曲げ機構によって湾曲させられている状態において前記静電容量を測定する基板検査装置。
In a state in which an inspection signal is supplied between a pair of conductive layers in a flexible substrate having a plurality of conductive layers composed of conductive patterns and an insulating layer disposed between the conductive layers. A measuring unit for measuring the capacitance between the layers, and comparing the measured value of the capacitance measured by the measuring unit with a predetermined reference value, and the conductive layer and the insulating layer; A substrate inspection apparatus for inspecting the presence or absence of peeling,
A bending mechanism for bending the flexible substrate;
The measurement unit is a substrate inspection apparatus that measures the capacitance in a state where the flexible substrate is bent by the bending mechanism.
前記曲げ機構は、前記湾曲する部分の位置が移動するように前記フレキシブル基板を湾曲させる請求項4記載の基板検査装置。   The substrate inspection apparatus according to claim 4, wherein the bending mechanism bends the flexible substrate so that a position of the curved portion moves. 前記曲げ機構は、平らな状態の前記フレキシブル基板の一端部を固定した状態で当該フレキシブル基板の他端部を弧状の軌跡に沿って移動させて前記湾曲する部分の位置が当該他端部側から当該一端部側に向かって移動するように当該フレキシブル基板を湾曲させる請求項5記載の基板検査装置。   The bending mechanism moves the other end portion of the flexible substrate along an arcuate locus while fixing one end portion of the flexible substrate in a flat state, so that the position of the curved portion is moved from the other end portion side. The board inspection apparatus according to claim 5, wherein the flexible board is bent so as to move toward the one end side.
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