JP2011164376A - スポットサイズ変換導波路 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この発明に係るスポットサイズ変換導波路は、導波路構造の途中においてコア上部の一定厚み層を平面テーパ状に狭めていく構造、または導波路構造の途中においてコア上部に一定厚み層を積み増し、その積み増し開始位置より段階的に平面テーパ状に前記の層の幅を広げていく構造を有する。この発明によれば、導波路を平面製造プロセスのみで実現でき、工程が簡易化されるため低コスト化が可能である。
【選択図】図1
Description
図1は、この発明の実施の形態1に係るスポットサイズ変換導波路の構造を示す図である。図1において、スポットサイズ変換導波路部11は、下部クラッド層1、リブ構造の導波路コア層2、コア層2の上に形成された上部コア層3により構成される。上部コア層3は、Z軸方向に進むに従い幅がテーパ状に狭まる。また、上部コア層3の手前には上部コア層4が連続的に形成されており、Z軸方向に沿って一定の幅を有している。周囲は空気またはその他の導波路コア層2、上部コア層3より低屈折率の媒質で覆われている(図示せず)。
実施の形態1において、上部コア層3、導波路コア層2の材料をシリコン(屈折率3.5)、下部クラッド層1の材料を酸化シリコン(屈折率1.45)としたが、導波路を構成する材料はこれらに限定するものではなく、上部コア層3および下部クラッド層1の屈折率を導波路コア層2の屈折率以下とし導波路コア層2に光が主に閉じ込められる構成とすれば良い。周囲は導波路コア層2、上部コア層3より低屈折率の媒質とする。
実施の形態1では、図1に示す位置12の端面を外部光の入射端面と記載したが、逆に位置12を出射端面とし、厚み方向のスポットサイズが大きくなるように変換するためのスポットサイズ変換器としてスポットサイズ変換導波路部11を使用しても良い。すなわち、導波路構造の途中において導波路コア層2の上部に一定厚みの上部コア層3を積み増し、その積み増し開始位置より位置12の出射端面に向けて、段階的に平面テーパ状に上部コア層3の幅を広げていく構造として使用しても良い。
Claims (5)
- 導波路構造の途中においてコア上部の一定厚み層を平面テーパ状に狭めていく構造を有する
ことを特徴とするスポットサイズ変換導波路。 - 導波路構造の途中においてコア上部に一定厚み層を積み増し、その積み増し開始位置より段階的に平面テーパ状に前記の層の幅を広げていく構造を有する
ことを特徴とするスポットサイズ変換導波路。 - 請求項1または2に記載のスポットサイズ変換導波路において、
前記コア上部の一定厚み層の屈折率をその下部層の屈折率以下とする
ことを特徴とするスポットサイズ変換導波路。 - 請求項1から3までのいずれか1項に記載のスポットサイズ変換導波路において、
前記平面テーパ形状を膜堆積によりボトムアップで形成する
ことを特徴とするスポットサイズ変換導波路。 - 請求項1から3までのいずれか1項に記載のスポットサイズ変換導波路において、
前記平面テーパ形状をエッチング技術によりトップダウンで形成する
ことを特徴とするスポットサイズ変換導波路。
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2010
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