JP2011154115A - 光学走査装置及びそれを備えた画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光源からの複数の光ビームを光偏向器により主走査方向に偏向走査して被走査体における被走査面での副走査方向における異なる位置に照射するマルチビーム光学走査装置であって、簡単な構成でありながら、前記被走査面の主走査方向における走査位置での光量が不均一となる光量ムラを軽減できる光学走査装置及びそれを備えた画像形成装置を提供する。
【解決手段】マルチビーム光学走査装置３００は、複数の光ビームＬ１，Ｌ２による被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおけるそれぞれの光量分布γ１，γ２を各光ビームＬ１，Ｌ２間で平均化した平均光量分布γａｖｅに基づき設定された主走査方向Ｘにおける光透過率分布δを示す光量補正用光学フィルタ３６０，３７０を備え、光量補正用光学フィルタ３６０，３７０は、光源３１１と被走査体２１との間の光路上に設けられている。
【選択図】図２

Description

本発明は、デジタル複写機やプリンタ、ファクシミリ装置等の画像形成装置に適用できる光学走査装置及び画像形成装置に関する。

デジタル複写機やプリンタ、ファクシミリ装置等の画像形成装置に適用できる光学走査装置は、従来からデジタル複写機やプリンタ、ファクシミリ装置等の画像形成装置に搭載され、これらの画像形成装置における光書き込み手段として広く利用されている。

かかる光学走査装置を備えた画像形成装置においては、例えば、電子写真方式の画像形成プロセスにより画像形成する場合、被走査体として作用する像担持体（例えば感光体等）の表面を帯電させ、その帯電域を画像情報に基づいて、光学走査装置において光源からの光ビームを変調させながら光偏光器における回転多面鏡（ポリゴンミラーともいう）に照射することにより像担持体の表面に対して主走査方向に走査して静電潜像を形成し（書き込み）、現像剤を用いて該静電潜像を現像してトナー像を形成し、このトナー像を中間転写体や記録シート等の被転写体に転写し、該被転写体が中間転写体のときはさらに記録シートに転写し定着させ、該被転写体が記録シートのときはそのまま定着させる。

光学走査装置は、回転軸の周りに回転軸方向に沿って配置された複数の反射面を有する回転多面鏡に向かって光源から光ビームを照射し、該光源から回転多面鏡の反射面へ入射する入射ビームを回転多面鏡の反射面で反射（出射）させ、回転多面鏡の反射面で反射させた出射ビームによって被走査体における被走査面を走査する。

光学走査装置の光学系としては、大別して、光源からの光ビームを回転多面鏡の反射面の一部分のみに照射するアンダーフィル光学系と、光源からの光ビームを回転多面鏡の反射面の回転方向における幅よりも広く形成して回転多面鏡の反射面に照射するオーバーフィル光学系との２種類のものが知られている。

このうち、オーバーフィル光学系を備えた光学走査装置では、入射ビームを、被走査面に垂直であり、かつ、出射ビームの主走査方向に垂直な仮想垂直面に対して平行な状態で回転多面鏡の反射面に入射（平行入射）させる平行入射方式のもの（例えば特許文献１参照）と、入射ビームを、被走査面に垂直であり、かつ、出射ビームの主走査方向に垂直な方向に沿った仮想垂直面に対して角度を持たせた状態で反射面に入射（斜め入射）させる斜め入射方式のものとがある。

このような従来の光学走査装置では、回転多面鏡の反射面の反射特性や光学系の光学特性等により、光ビームによる被走査面での主走査方向における光量が不均一となる光量ムラが発生するという不都合がある。

かかる不都合について、光学系としてオーバーフィル光学系を備えた光学走査装置を例にとって以下に説明する。

図１０は、平行入射方式のオーバーフィル光学系３０１ａを備えた従来の光学走査装置を示す概略構成図である。

図１０に示す光学走査装置は、光源３１１ｄ、コリメータレンズ３１２ｄ、凹レンズ３１３ｄ、開口板３１４ｄ、シリンドリカルレンズ３１５ｄ、折り返しミラー３１６ｄ、回転多面鏡３２０ｄを有する光偏光器３１９ｄ、ｆθレンズ３３１ｄ、シリンドリカルレンズ３３２ｄ及び像担持体等の被走査体２１を備えている。

図１０に示す光学走査装置では、光源３１１ｄからの光ビームＬを回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａの回転方向（図示例では時計方向Ｚ）における幅よりも広く形成した入射ビームＬｉを回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａに入射させ、反射面３２０ａで反射させた出射ビームＬｏによって被走査体２１における被走査面２１ａを走査する。この場合、入射ビームＬｉは、被走査面２１ａに垂直であり、かつ、出射ビームＬｏの主走査方向Ｘに垂直な仮想垂直面αに対して平行な状態で回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａに入射している。

図１１は、光源３１１ｄから回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａに入射する入射ビームＬｉの幅方向Ｈの距離に対する光量（光強度）分布β０の一例を示すグラフである。

図１１に示すように、光源３１１ｄから回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａへ入射する入射ビームＬｉは、幅方向Ｈの中心Ｃで光強度が最も強く、幅方向Ｈの中心Ｃから両外側にいくに従って次第に減少する正規分布（ガウス分布）を示している。

図１０に示すようなオーバーフィル光学系３０１ａを備えた光学走査装置において、図１１に示すような入射ビームＬｉを回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａに入射すると、反射面３２０ａで出射した出射ビームＬｏによって被走査面２１ａを走査するときに、被走査面２１ａの主走査方向Ｘにおける何れの走査位置でも光量を均一にする必要があるにも拘わらず、不均一となってしまう。

図１２は、図１０に示す光学走査装置において、被走査体２１の被走査面２１ａでの主走査方向Ｘの距離に対する光量（光強度）分布γの一例を示すグラフである。

図１２に示すように、被走査面２１ａでの出射ビームＬｏの走査領域Ｒにおいては、出射ビームＬｏが回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａから仮想垂直面αを基準にした主走査方向Ｘの上流側に出射されるときには（γａ参照）、出射ビームＬｏが仮想垂直面αに平行になる走査位置Ｒ０に近づくに従って光量（光強度）が次第に増加する傾向を示す。また、出射ビームＬｏが回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａから仮想垂直面αに平行に出射されるときには（γｂ参照）、走査位置Ｒ０で光量（光強度）が最も強くなっている。また、出射ビームＬｏが回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａから仮想垂直面αを基準にした主走査方向Ｘの下流側に出射されるときには（γｃ参照）、走査位置Ｒ０から離れるに従って光量（光強度）が次第に減少する傾向を示す。

すなわち、被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおける光量分布γは、山形形状となっている。

なお、これらのことは、回転多面鏡３２０ｄが逆方向（図示例では反時計方向）に回転する場合でも同様である。

この点に関し、特許文献２には、オーバーフィルド走査光学系において、光源からの光を透過する回折光学素子として、像面（被走査面）での主走査方向における山形形状の光量分布に対し、ほぼ逆形状の光透過率分布を示す光学フィルタを用いた例が開示されている。こうすることで、光ビームによる被走査面での光量の不均一を補正することが可能となる。

特開２００３−２８７６９４号公報 特開２００３−３２２８１６号公報 特開２００２−１６２５８６号公報

ところで、画像形成（印刷）される画像の高解像度化や印刷速度の高速化が要求される場合のように、光源からの複数の光ビームを光偏向器により主走査方向に偏向走査して被走査体における被走査面での副走査方向における異なる位置に照射するマルチビーム光学走査装置が使用されることもある。

このような従来のマルチビーム光学走査装置では、複数の光ビームを用いるために、回転多面鏡の反射面の反射特性や光学系の光学特性等に加えて、光源の出力特性等により、通常は複数の光ビームによる被走査面での主走査方向におけるそれぞれの光量分布が互いに異なる。このため、次のような不都合がある。

図１３は、図１０に示す光学走査装置をマルチビーム光学走査装置とした場合において回転多面鏡３２０ｄの反射面３２０ａで反射させた第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２によって像担持体２１における被走査面２１ａの走査状態及び回転多面鏡３２０ｄからの第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２をオーバーフィル光学系３０１ａにより被走査面２１ａに集光させた光スポット（ＳＰ１ａ，ＳＰ１ｂ），（ＳＰ２ａ，ＳＰ２ｂ）を示す模式図である。図１３（ａ）は、被走査面２１ａに面する位置から像担持体２１を視た図を示しており、図１３（ｂ）は、被走査面２１ａに沿った方向から像担持体２１を視た図を示している。なお、図１３（ｂ）の矢印Ｂは、像担持体２１の回転方向（すなわち副走査方向）を示している。

また、図１４は、図１０に示す光学走査装置をマルチビーム光学走査装置とした場合において第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査体２１の被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおけるそれぞれの光量分布γ１，γ２の一例を示すグラフである。

このマルチビーム光学走査装置では、図１４に示すように、被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおける光量分布γ１，γ２が各出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２間で互いに異なる。例えば、図１４に示す例では、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査面２１ａでの光量分布γ１，γ２が交差している。

このように複数の光ビームを用いると、特許文献２の如く光学フィルタを用いる場合に、光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布を如何なる分布にするかが問題となる。

例えば、光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布が複数の光ビームのうち何れか一つの光ビームに対して補正するように設定されてしまうと、該一つの光ビームによる被走査面２１ａでの光量分布が均一になったとしても、残りの光ビームによる被走査面２１ａでの光量分布の補正度合いが低下する。

図１５は、図１０に示す光学走査装置をマルチビーム光学走査装置とした場合において光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布が第１出射ビームＬｏ１に対して補正するように設定されている場合での第１出射ビームＬｏ１による被走査面２１ａでの光量分布γ１の一例と第２出射ビームＬｏ２による被走査面２１ａでの光量分布γ２の一例とを示すグラフである。

図１５に示すように、光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布が第１出射ビームＬｏ１に対して補正するように設定されている場合には、第１出射ビームＬｏ１による被走査面２１ａでの光量分布γ１は均一な分布を示しているのに対して、第２出射ビームＬｏ２による被走査面２１ａでの光量分布γ２は、均一性が低下している。

このように、光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布が複数の光ビームのうち何れか一つの光ビームに対して補正するように設定されている場合には、残りの光ビームによる被走査面での光量分布の均一性が低下し、被走査面上での光量の不均一による濃度ムラが発生し、良好な画像を得ることができないという課題がある。

このような課題は、斜め入射方式のオーバーフィル光学系を備えた光学走査装置の場合に特に問題となる。

図１６は、図１０に示す光学走査装置を斜め入射方式のオーバーフィル光学系のマルチビーム光学走査装置とした場合において第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査体２１の被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおけるそれぞれの光量分布γ１，γ２の一例を示すグラフである。

図１６に示すように、第１出射ビームＬｏ１による反射面３２０ａでの主走査方向Ｘにおける光量分布γ１と、第２出射ビームＬｏ２による反射面３２０ａでの主走査方向Ｘにおける光量分布γ２とではさらに異なった分布になりやすい。

図１７は、図１０に示す光学走査装置を斜め入射方式のオーバーフィル光学系のマルチビーム光学走査装置とした場合において光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布が第１出射ビームＬｏ１に対して補正するように設定されている場合での第１出射ビームＬｏ１による被走査面２１ａでの光量分布γ１の一例と第２出射ビームＬｏ２による被走査面２１ａでの光量分布γ２の一例とを示すグラフである。

図１７に示すように、光学フィルタの光透過率分布が複数の光ビームのうち何れか一つ光ビーム（図１７の例では第１出射ビームＬｏ１）に対して補正するように設定されている場合には、残りの光ビーム（図１７の例では第２出射ビームＬｏ２）による被走査面２１ａでの光量分布γ２における走査領域Ｒの最大の光量と最小の光量との光量差Ｌｓ２は、図１５に示す平行入射方式のオーバーフィル光学系の光学走査装置における光量分布γ２における走査領域Ｒの最大の光量と最小の光量との光量差Ｌｓ１に比べて大きくなる傾向がある。

マルチビーム走査型画像形成装置を記載した特許文献３には、あらかじめ設定入力された補正値に基づいて、同期検知信号センサに入射する時の各ビームの強度が概略等しくなるように補正することで、複数のビームの強度の差異による画質劣化を防止することが開示されている。

しかしながら、特許文献３に記載のマルチビーム走査型画像形成装置では、複数のビームの強度の差異による画質劣化を防止できるものの、補正値に基づき各ビームの強度が概略等しくなるように補正するので、光量分布の変化に合わせて光源の発光量を制御する必要があり、それだけ制御構成が複雑化する。

そこで、本発明は、光源からの複数の光ビームを光偏向器により主走査方向に偏向走査して被走査体における被走査面での副走査方向における異なる位置に照射する光学走査装置であって、簡単な構成でありながら、前記被走査面の主走査方向における走査位置での光量が不均一となる光量ムラを軽減できる光学走査装置及びそれを備えた画像形成装置を提供することを目的とする。

本発明は、前記課題を解決するために、光源からの複数の光ビームを光偏向器により主走査方向に偏向走査して被走査体における被走査面での副走査方向における異なる位置に照射する光学走査装置であって、前記複数の光ビームによる前記被走査面での主走査方向におけるそれぞれの光量分布を各光ビーム間で平均化した平均光量分布に基づき設定された主走査方向における光透過率分布を示す光量補正用光学フィルタを備え、前記光量補正用光学フィルタは、前記光源と前記被走査体との間の光路上に設けられていることを特徴とする光学走査装置を提供する。また、本発明は、前記本発明に係る光学走査装置を備えていることを特徴とする画像形成装置も提供する。

本発明に光学走査装置及びそれを備えた画像形成装置によれば、前記光量補正用光学フィルタが前記光源と前記被走査体との間の光路上に設けられているので、構成が簡単である。しかも、前記複数の光ビームによる前記被走査面での主走査方向における光量分布がたとえ互いに異なっていても、前記光源と前記被走査体との間の光路上に設けられている前記光量補正用光学フィルタが前記複数の光ビームによる前記被走査面での主走査方向におけるそれぞれの光量分布を各光ビーム間で平均化した平均光量分布に基づき設定された前記光透過率分布を示すので、前記被走査面の主走査方向における走査位置での光量が不均一となる光量ムラを軽減でき、これにより良好が画像を得ることが可能となる。

本発明において、前記平均光量分布の具体的態様としては、前記複数の光ビームによる前記被走査面の主走査方向における走査位置での光量の値に対して各光ビーム間で平均値をとった平均光量値の主走査方向における光量分布を例示できる。

この態様では、前記平均光量値を主走査方向における前記平均光量分布とするので、簡単にかつ容易に前記平均光量分布を求めることができる。

本発明において、前記光偏向器及び前記光量補正用光学フィルタが設けられる筐体を備えていてもよい。また、前記光量補正用光学フィルタは、光透過性部材の片側に対して蒸着法によって遮光性材料が成膜されたものであってもよい。この場合、前記光透過性部材の蒸着面が前記筐体の内側に位置するように前記筐体に設けられていることが好ましい。

この態様では、前記光量補正用光学フィルタの前記蒸着面が前記筐体の内側に位置しているので、前記筐体の外側から前記光量補正用光学フィルタを清掃したとしても、清掃の際の擦れによる前記蒸着面の剥がれを回避でき、これにより前記蒸着面の剥がれによる光量ムラの発生を防止することが可能となる。

本発明において、形成される画像の印刷速度を高速化するという観点から、前記複数の光ビームは、同時に走査されることによりそれぞれ１ラインを構成してもよい。また、形成される画像を高解像度化するという観点から、前記複数の光ビームは、同時に走査されることにより該複数の光ビームで１ラインを構成してもよい。

ここで、１ラインとは、１本の走査線のことである。従って、前記複数の光ビームが同時に走査されることによりそれぞれ１ラインを構成する場合には、前記複数の光ビームによる１回の走査がそれぞれ複数の走査線に対応し、前記複数の光ビームが同時に走査されることにより該複数の光ビームで１ラインを構成する場合には、前記複数の光ビームによる１回の走査が１本の走査線に対応する。

ところで、前記複数の光ビームが同時に走査されることによりそれぞれ１ラインを構成する場合には、前記複数の光ビームによる前記被走査面での主走査方向における光量分布が互いに異なっていると、隣り合う光ビーム間（隣り合うライン間）では画像データが互いに異なる場合があるため、前記光量ムラによる濃度ムラが目立ちやすい。

これに対して、前記複数の光ビームが同時に走査されることにより該複数の光ビームで１ラインを構成する場合には、前記複数の光ビームによる前記被走査面での主走査方向における光量分布がたとえ互いに異なっていても、隣り合う光ビーム間（１ライン内）では同じ画像データであるため、前記光量ムラによる濃度ムラが目立ち難くすることができる。

本発明において、前記光源からの光ビームを前記被走査面に光スポットとして集光する走査結像光学系を備え、前記光偏向器は、回転多面鏡を有し、前記走査結像光学系は、前記光源からの複数の光ビームを前記回転多面鏡の反射面の回転方向における幅よりも広く形成した入射ビームを前記反射面に入射させ、前記反射面で反射させた出射ビームによって前記被走査面を走査するオーバーフィル光学系を構成し、前記入射ビームを、前記被走査面に垂直であり、かつ、前記出射ビームの主走査方向に垂直な方向に沿った仮想垂直面に対して角度を持たせた状態で前記反射面に入射させるように構成されている態様を例示できる。

この態様では、入射ビームが前記仮想垂直面に対して斜めから入射するので、前記被走査面での光量分布の最大の光量と最小の光量との光量差が大きくなりやすいため、当該光学走査装置において、前記平均光量分布に基づき設定された前記光量補正用光学フィルタを設けることが有利となる。

以上説明したように、本発明に係る光学走査装置及びそれを備えた画像形成装置によると、前記光量補正用光学フィルタが前記光源と前記被走査体との間の光路上に設けられているので、構成が簡単である。しかも、前記複数の光ビームによる前記被走査面での主走査方向における光量分布がたとえ互いに異なっていても、前記光源と前記被走査体との間の光路上に設けられている前記光量補正用光学フィルタが前記複数の光ビームによる前記被走査面での主走査方向におけるそれぞれの光量分布を各光ビーム間で平均化した平均光量分布に基づき設定されているので、前記複数の光ビームのうち何れか一つの光ビームに対して補正することなく、前記被走査面の主走査方向における走査位置での光量が不均一となる光量ムラを軽減でき、これにより良好が画像を得ることが可能となる。

本発明に係るマルチビーム光学走査装置の実施の形態を適用した画像形成装置を概略的に示す断面図である。 図１に示す画像形成装置におけるマルチビーム光学走査装置の概略構成を示す斜視図である。 図１及び図２に示すマルチビーム光学走査装置における光源の概略構成を示す模式図である。 図１に示す画像形成装置における制御部を中心に示すシステムブロック図である。 図１及び図２に示すマルチビーム光学走査装置の他の例の概略構成を示す斜視図である。 図１及び図２に示すマルチビーム光学走査装置において、第１及び第２出射ビームによる感光体ドラムの被走査面での主走査方向におけるそれぞれの光量分布の一例を示すグラフである。 光量補正用光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布の一例を示すグラフである。 図７及び表２に示す光透過率分布の光量補正用光学フィルタによって補正された場合での第１出射ビームによる被走査面での光量分布の一例と第２出射ビームによる被走査面での光量分布の一例とを示すグラフである。 出射折り返しミラーと感光体ドラムとの間の光路上に設けられた光量補正用光学フィルタがマルチビーム光学走査装置の筐体における第１及び第２出射ビームの通過口に設けられている状態を示す概略断面図である。 平行入射方式のオーバーフィル光学系を備えた従来の光学走査装置を示す概略構成図である。 光源から回転多面鏡の反射面に入射する入射ビームの幅方向の距離に対する光量（光強度）分布の一例を示すグラフである。 図１０に示す光学走査装置において、被走査体の被走査面での主走査方向の距離に対する光量（光強度）分布の一例を示すグラフである。 図１０に示す光学走査装置をマルチビーム光学走査装置とした場合において回転多面鏡の反射面で反射させた第１及び第２出射ビームによって像担持体における被走査面の走査状態及び回転多面鏡からの第１及び第２出射ビームをオーバーフィル光学系により被走査面に集光させた光スポットを示す模式図であって、（ａ）は、被走査面に面する位置から像担持体を視た図であり、（ｂ）は、被走査面に沿った方向から像担持体を視た図である。 図１０に示す光学走査装置をマルチビーム光学走査装置とした場合において第１及び第２出射ビームによる被走査体の被走査面での主走査方向におけるそれぞれの光量分布の一例を示すグラフである。 図１０に示す光学走査装置をマルチビーム光学走査装置とした場合において光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布が第１出射ビームに対して補正するように設定されている場合での第１出射ビームによる被走査面での光量分布の一例と第２出射ビームによる被走査面での光量分布の一例とを示すグラフである。 図１０に示す光学走査装置を斜め入射方式のオーバーフィル光学系のマルチビーム光学走査装置とした場合において第１及び第２出射ビームによる被走査体の被走査面での主走査方向Ｘにおけるそれぞれの光量分布の一例を示すグラフである。 図１０に示す光学走査装置を斜め入射方式のオーバーフィル光学系のマルチビーム光学走査装置とした場合において光学フィルタの主走査方向Ｘにおける光透過率分布が第１出射ビームに対して補正するように設定されている場合での第１出射ビームによる被走査面での光量分布の一例と第２出射ビームによる被走査面での光量分布の一例とを示すグラフである。

以下、本発明に係る実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施の形態は、本発明を具体化した例であって、本発明の技術的範囲を限定する性格のものではない。

先ず、図１に示す画像形成装置１００の全体の構成について説明する。図１に示す画像形成装置１００は、本実施の形態では、電子写真方式の画像形成プロセスによって画像を形成するものである。画像形成装置１００は、被走査体として作用する像担持体（ここでは感光体ドラム）２１と、感光体ドラム２１の被走査面（表面）２１ａを帯電させるための帯電装置（ここでは帯電器）２２と、感光体ドラム２１上に静電潜像を形成するためのマルチビーム光学走査装置３００と、静電潜像を現像剤によって現像して感光体ドラム２１上にトナー像を形成するための現像装置（ここでは現像器）２４と、感光体ドラム２１上のトナー像を普通紙等の記録シートＰに転写するための転写装置（ここでは転写ユニット）２５と、記録シートＰ上の転写画像を記録シートＰに定着するための定着装置（ここでは定着ユニット）２７と、転写ユニット２５によって転写されずに感光体ドラム２１の表面に残った残留トナーを除去するためのクリーニング装置（ここではクリーナユニット）２６と、画像形成装置１００全体の動作を制御するための制御部５０（図１では図示せず、後述する図４参照）とを備えている。

詳しくは、画像形成装置１００は、原稿から読み取った画像データ、或いは、図示しない外部装置から受け取った画像データに基づいて記録シートＰにモノクロ画像（単色又は黒色画像）を形成する電子写真方式のプリンタとされている。画像形成装置１００は、原稿読取装置２００、画像形成部１０３、シート搬送路４０、シート反転排出路１０４及び給紙部１０５を備えている。

原稿読取装置２００は、図示しない原稿を原稿搬送路Ｆに沿って搬送する自動原稿送り装置１と、搬送されてきた原稿又は位置決めされた原稿の画像を読み取る画像読取部１０とを備えている。

画像読取部１０は、自動原稿送り装置１にて搬送されてきた原稿を読み取るように構成されている。詳しくは、画像読取部１０は、光源１１、ミラー群１２（ここでは第１〜第３ミラー１２ａ，１２ｂ，１２ｃ）、レンズ１３及びＣＣＤ（イメージセンサ）等の撮像素子１４から構成される縮小光学系の読取手段であり、原稿走査部２に収容されている。

自動原稿送り装置１及び原稿走査部２は背面側において図示しないヒンジによって連結され、自動原稿送り装置１はヒンジの回動によって原稿走査部２に対して開閉可能となっている。そして、自動原稿送り装置１の下面は、原稿走査部２のプラテン板４上に載置された読み取り原稿を上から押さえる押さえ板２８となっている。

原稿走査部２は、筐体３と、透明なガラス板からなるプラテン板４と、筐体３内に収容される画像読取部１０とを備えている。

画像読取部１０は、光源１１及び第１ミラー１２ａを保持する光源ユニット１５と、第２ミラー１２ｂ及び第３ミラー１２ｃを保持するミラーユニット１６と、レンズ１３と、撮像素子１４とを備えている。

自動原稿送り装置１は、原稿載置台５と、原稿載置台５に載置された原稿を１枚ずつ本体内部へ呼び込む呼び込みローラ６と、呼び込まれた原稿を原稿搬送路Ｆに沿って搬送する複数対の原稿搬送ローラ７と、給紙タイミングを調節するレジストローラ８と、画像読み取りを終えた原稿を排紙トレイ３０へ排出する排紙ローラ９とを備えている。

自動原稿送り装置１では、原稿載置台５に載置された原稿は、原稿搬送路Ｆ中の原稿搬送ローラ７によってレジストローラ８まで搬送され、レジストローラ８に到達し一旦停止する。そして、一旦停止した原稿は、レジストローラ８が原稿搬送ローラ７と共に回転することで、原稿読取部１０に搬送された後、原稿読取部１０にて原稿の画像を読み取られ、排紙トレイ３０に排出される。

原稿走査部２は、ユーザーが原稿をプラテン板４上に載置して原稿画像の読み取りを行う原稿固定方式による画像読み取りと、自動原稿送り装置１によって自動的に原稿を搬送しながら原稿画像を読み取る原稿移動方式による画像読み取りとの両方式に対応している。

原稿固定方式によって原稿画像を読み取る場合、図１に示される原稿固定方式に対応したホームポジションに位置している光源ユニット１５は、原稿に対して光を照射しながら一定の速度で移動して原稿の画像を走査し、それと同時にミラーユニット１６は光源ユニット１５の移動速度の１／２の移動速度で移動する。

光源ユニット１５の光源１１から光照射された原稿からの反射光は、光源ユニット１５に設けられた第１ミラー１２ａで反射したのち、ミラーユニット１６の第２及び第３ミラー１２ｂ，１２ｃによって１８０°光路変換され、第３ミラー１２ｃから反射された光はレンズ１３を介して撮像素子１４に結像し、ここで原稿画像が読み取られて電気信号に変換される。

一方、原稿移動方式によって原稿画像を読み取る場合、光源ユニット１５及びミラーユニット１６は、ホームポジションに静止したまま、自動原稿送り装置１によってホームポジションの上部を通過するように搬送される原稿に対して光源１１から光を照射して原稿画像を走査し、原稿の表面側から反射された光は、前述の原稿固定方式と同様に第１ミラー１２ａによって反射された後、ミラーユニット１６の第２及び第３ミラー１２ｂ，１２ｃによって１８０°光路変換され、レンズ１３を介して撮像素子１４に結像し、ここで原稿画像が読み取られて電気信号に変換される。

こうして変換された電気信号は画像データとしてデジタル信号に変換された後、マイクロコンピュータ５６等を含む制御部５０の制御により各種の画像処理を施されてから、画像形成部１０３に出力される。

画像形成部１０３は、画像データに基づいて画像を記録シートＰに記録するものであって、既述の感光体ドラム２１、帯電器２２、マルチビーム光学走査装置３００、現像器２４、転写ユニット２５、クリーナユニット２６及び定着ユニット２７を備えている。

帯電器２２は、感光体ドラム２１の表面を所定の電位に均一に帯電させるための帯電手段であり、本実施の形態では、チャージャー型のものとされている。なお、帯電器２２は、感光体ドラム２１に接触するローラ型やブラシ型のものであってもよい。

マルチビーム光学走査装置３００は、本実施の形態では、レーザスキャニングユニット（ＬＳＵ）とされている。マルチビーム光学走査装置３００は、入力された画像データに応じて形成された複数のレーザビームによって、所定方向（図中矢印Ｂ方向）に回転した状態で帯電器２２にて均一に帯電された感光体ドラム２１の表面を偏向走査することで、感光体ドラム２１の表面に入力画像データに応じた静電潜像を形成する（書き込む）ものである。なお、マルチビーム光学走査装置３００については、のちほど詳しく説明する。

現像器２４は、トナーを感光体ドラム２１の表面に供給して、感光体ドラム２１の表面に形成された静電潜像を現像（顕像化）し、トナー像（可視像とも称する）を感光体ドラム２１の表面に形成するものである。

転写ユニット２５は、本実施の形態では、転写ベルト３１、駆動ローラ３２、従動ローラ３３及び弾性導電性ローラ３４を備えている。転写ベルト３１は、これらのローラ３２〜３４及び他のローラに張架されている。

転写ベルト３１は、これらのローラの回転によって表面が移動することで、その表面に載せられた記録シートＰを搬送するようになっている。転写ベルト３１は、所定の抵抗値（例えば、１×１０⁹Ω／ｃｍ〜１×１０¹³Ω／ｃｍ）を有している。

弾性導電性ローラ３４は、転写ベルト３１を介して感光体ドラム２１の表面に押圧されている。これにより、転写ベルト３１上の記録シートＰを感光体ドラム２１の表面に押し付けることができる。

弾性導電性ローラ３４には、感光体ドラム２１の表面のトナー像の電荷とは逆極性の転写電界が印加される。この逆極性の転写電界により感光体ドラム２１の表面のトナー像を転写ベルト３１上の記録シートＰに転写することができる。例えば、トナー像がマイナス極性の電荷を帯びている場合は、弾性導電性ローラ３４に印加される転写電界の極性がプラス極性とされる。この転写ユニット２５では、弾性導電性ローラ３４が弾性を有することによって、感光体ドラム２１と転写ベルト３１が線接触でなく、所定の幅（転写ニップと称される）を有する面接触となる。これにより、搬送される記録シートＰへの転写効率の向上させることができる。

転写ベルト３１の搬送方向において転写領域の下流側には、感光体ドラム２１との接触部を通過する際に印加された電圧により帯電した記録シートＰを除電し、次工程への搬送をスムーズに行うための除電ローラ５１が配置されている。除電ローラ５１は、転写ベルト３１の背面（記録シートＰの搬送面とは反対側の面）に接触配置されている。

また、転写ユニット２５には、転写ベルト３１上のトナーを除去するベルトクリーニングユニット５４及び転写ベルト３１の除電を行う除電機構５５が配置されている。除電機構５５は、転写ベルト３１を接地する手法、若しくは転写ベルト３１に対して積極的に前記転写電界の極性とは逆極性を印加する手法がある。

クリーナユニット２６は、現像、転写後に感光体ドラム２１の表面に残留したトナーを除去して回収するクリーニングブレード２６Ａを有するものである。

定着ユニット２７は、記録シートＰを加熱及び加圧して、記録シートＰ上のトナー像を加熱定着させるものである。詳しくは、定着ユニット２７は、加熱ローラ３５及び加圧ローラ３６を備えている。加熱ローラ３５の外周面には、記録シート剥離爪６４、ローラ表面温度検出部材（例えばサーミスター）６５及びローラ表面クリーニング部材６６が配置されている。加熱ローラ３５内側には、加熱ローラ３５表面を所定温度（定着温度：概ね１６０〜２００℃）に加熱するための熱源６７が設けられている。また、加熱ローラ３５に対して加圧ローラ３６が所定の荷重で圧接されるように、加圧ローラ３６の両端に図示しない荷重バネ等の圧接部材が配置されている。加圧ローラ３６の外周面には加熱ローラ３５の外周面と同様に、記録シート剥離爪６４、ローラ表面クリーニング部材６６が配置されている。

定着ユニット２７は、加熱ローラ３５と加圧ローラ３６間の圧接部（定着ニップ部と称される）に記録シートＰが搬送されてくると、加熱ローラ３５からの熱と加熱ローラ３５及び加圧ローラ３６の圧接力とによって記録シートＰ上の未定着トナー像が加熱溶融され加圧されるようになっている。これにより、トナー像を記録シートＰ上に定着することができる。

シート搬送路４０は、給紙部１０５における複数の給紙トレイ６０，…から画像形成部１０３へ記録シートＰを導くものである。詳しくは、シート搬送路４０には、記録シートＰを搬送するための複数対の搬送ローラ４１と、一対のレジストローラ４２とが設けられている。一対のレジストローラ４２は、複数対の搬送ローラ４１からの記録シートＰを感光体ドラム２１上の静電潜像と同期をとって搬送するものである。一対のレジストローラ４２は、シート搬送方向（図中Ａ方向）において感光体ドラム２１より上流側かつ複数対の搬送ローラ４１より下流側に配置されている。具体的には、一対のレジストローラ４２は、感光体ドラム２１のシート搬送方向Ａにおける上流側近傍に配置されている。

シート搬送路４０において、複数対の搬送ローラ４１は、記録シートＰを給紙トレイ６０，…から給紙機構７０を介して受け取り、記録シートＰの先端がレジストローラ４２に達するまで記録シートＰを搬送するようになっている。すなわち、複数対の搬送ローラ４１は、一時的に停止しているレジストローラ４２に記録シートＰの先端が達して当接し、記録シートＰが撓むまで記録シートＰを搬送するようになっている。この撓んだ記録シートＰの弾性力により、記録シートＰの先端部をレジストローラ４２に対して平行に揃えることが可能となる。レジストローラ４２は、この後、回転駆動されることにより、記録シートＰを画像形成部１０３の転写ユニット２５へ搬送するようになっている。

シート反転排出路１０４は、搬送経路４３及び反転搬送経路４４ａ，４４ｂを備えている。シート反転排出路１０４には、複数の分岐爪４５及び一対の排紙ローラ４６が設けられている。

シート反転排出路１０４は、画像形成部１０３にて画像形成された記録シートＰを排紙ローラ４６により搬送経路４３を通じて排紙トレイ４７へと搬送するようになっている。また、シート反転排出路１０４は、記録シートＰの裏面にも画像形成する場合は、複数の分岐爪４５がそれぞれ選択的に切り替えられることで、記録シートＰを搬送経路４３から反転搬送経路４４ｂへと導き入れて、記録シートＰの搬送を一旦停止させるようになっている。さらに、シート反転排出路１０４は、各分岐爪４５が選択的に再度切り替えられることで、該記録シートＰを反転搬送経路４４ｂから反転搬送経路４４ａへと導き入れるようになっている。これにより、記録シートＰは、表裏が反転されて、反転搬送経路４４ａ及びシート搬送路４０を通じてレジストローラ４２へ戻され、裏面にも画像が形成される。

給紙部１０５は、複数の給紙トレイ６０，…と、それに対応して設けられた複数の給紙機構７０とを備えている。各給紙トレイ６０は、複数枚の記録シートＰを蓄積しておくためのものであり、画像形成装置１００の下部に設けられている。

画像形成装置１００は、高速画像形成処理を目的としているため、各給紙トレイ６０は、例えばＡ４、Ａ３やＢ４等の定型サイズの記録シートＰを５００〜１５００枚収容可能な容積が確保されている。

また、画像形成装置１００の側面には、同種又は異なる複数種の記録シートＰを多量に収容可能な大容量給紙カセット（ＬＣＣ）５２、及び、主として不定型サイズ及び／又は少量の記録シートＰを供給するための手差しトレイ５３が設けられている。

排紙トレイ４７は、手差しトレイ５３とは反対側の側面に配置されている。画像形成装置１００は、排紙トレイ４７に代えて、排紙記録シートの後処理装置（例えば、ステープル、パンチ処理等の後処理装置）や、複数段の排紙トレイをオプションとして配置することも可能な構成となっている。

なお、シート搬送路４０は、各給紙トレイ６０から画像形成部１０３に記録シートＰを搬送する搬送路を共有するため、１つの主搬送路４０ａと、複数の給紙トレイ６０，…から主搬送路４０ａにそれぞれ記録シートＰを搬送するための複数の副搬送路４０ｂ，…とを有している。即ち、主搬送路４０ａは、複数の給紙トレイ６０，…からの記録シートＰが対応する副搬送路４０ｂを介して導かれるように構成されている。

画像形成装置１００では、複数の給紙トレイ６０の中から選択された印字要求に適合する記録シートＰは、シート搬送路４０中の搬送ローラ４１によってレジストローラ４２まで搬送され、レジストローラ４２に到達し一旦停止する。そして、一旦停止した記録シートＰは、感光体ドラム２１上に形成されたトナー像と同期するタイミングでレジストローラ４２が搬送ローラ４１と共に回転することで、転写ユニット２５に搬送され、感光体ドラム２１上のトナー像が転写された後、定着ユニット２７へ導かれ、転写されたトナー像が固着され、さらに、排紙トレイ４７に排出される。

［マルチビーム光学走査装置］
次に、本発明の実施形態に係るマルチビーム光学走査装置３００について、図１から図３を参照しながら説明する。

図２は、図１に示す画像形成装置１００におけるマルチビーム光学走査装置３００の概略構成を示す斜視図である。図３は、図１及び図２に示すマルチビーム光学走査装置３００における光源３１１の概略構成を示す模式図である。

図２に示すマルチビーム光学走査装置３００は、光源３１１からの複数の光ビーム（ここでは第１及び第２レーザビーム）Ｌ１，Ｌ２を共通の（単一の）光偏向器３１９により主走査方向（図中矢印Ｘ方向）に偏向走査して被走査体として作用する感光体ドラム２１における被走査面（表面）２１ａでの副走査方向Ｂ（感光体ドラム２１の回転方向）における異なる位置に照射するように構成されている。

本実施の形態では、光学走査装置として、斜め入射方式のオーバーフィル光学系３０１を備えたマルチビーム光学走査装置３００を例にとって説明する。

すなわち、マルチビーム光学走査装置３００は、光源３１１からの第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２を光偏向器３１９における回転多面鏡３２０の反射面３２１の回転方向（図中矢印時計方向Ｚ）における幅よりも広く形成した第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２を回転多面鏡３２０の反射面３２１に入射させ、回転多面鏡３２０の反射面３２１で反射（出射）させた第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２によって感光体ドラム２１における被走査面２１ａを走査する斜め入射方式のオーバーフィル光学系３０１を備えている。詳しくは、マルチビーム光学走査装置３００は、光源３１１と、光偏向器３１９と、オーバーフィル光学系３０１と、これら光源３１１、光偏向器３１９及びオーバーフィル光学系３０１を収容する筐体３００ａ（図１参照）とを備えていている。

ここでは、光源３１１から回転多面鏡３２０までの光路を入射光路と称し、回転多面鏡３２０から感光体ドラム２１までの光路を出射光路と称する。また、入射光路上に配置されている光学部品の総称を入射光学系３１０と称し、出射光路上に配置されている光学部品の総称を出射光学系３３０と称する。入射光学系３１０及び出射光学系３３０によって、走査結像光学系としてオーバーフィル光学系３０１を構成している。

図３に示すように、光源３１１は、例えば、レーザダイオード等の二つの半導体レーザ素子ＬＤ１，ＬＤ２を備えている。二つの半導体レーザ素子ＬＤ１，ＬＤ２は、互いに近接して配置されている。すなわち、光源３１１は、二つの半導体レーザ素子ＬＤ１，ＬＤ２で半導体レーザアレイを構成している。

光源３１１は、書込制御部４００（後述する図４参照）の指示の下、画像データに応じて第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２を射出するものである。

なお、本実施の形態では、形成される画像の印刷速度の高速化が要求される場合には、光源３１１は、画像形成装置１００の図示しない操作部からの入力操作に基づく書込制御部４００からの指示の下、第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２が同時に走査されることによりそれぞれ１ラインを構成する速度優先制御が行われる。また、形成される画像の高解像度化が要求される場合には、光源３１１は、画像形成装置１００の図示しない操作部からの入力操作に基づく書込制御部４００からの指示の下、第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２が同時に走査されることにより第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２で１ラインを構成する解像度優先制御が行われる。これらの速度優先制御と解像度優先制御とは選択的に切り替え可能とされている。

光源３１１は、主走査方向Ｘ（回転多面鏡３２０によって第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２を偏向走査する方向）に対応する方向における拡がり角が副走査方向Ｂ（感光体ドラム２１の回転方向）に対応する方向における拡がり角よりも大きい拡散光である円錐状の発散光束を出射する。

入射光学系３１０は、光源３１１から射出された第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２を回転多面鏡３２０に導くように、かつ、第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２の断面形状が回転多面鏡３２０の反射面３２１の回転方向Ｚにおける幅よりも広い幅の矩形状となるように形成するようになっている。

入射光学系３１０において、入射光路における光の進行方向の上流側から下流側に向けて、コリメータレンズ３１２と、アパーチャ３１４と、第１シリンドリカルレンズ３１５と、入射折り返しミラー３１６とがこの順に配設されている。

コリメータレンズ３１２は、光源３１１から拡散するように射出された円錐状の第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２を平行状のものに整形する。アパーチャ３１４は、ここでは、平面視で略中央部に主走査方向に対応する方向に長い矩形状の開口３１４ａが形成された板状部材（開口板）とされている。第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２における光軸に垂直な断面が円形状から矩形状になるように第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２を整形する。第１シリンドリカルレンズ３１５及び入射折り返しミラー３１６は、回転多面鏡３２０の反射面３２１に対して第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２を集束させる。こうして、第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２が回転多面鏡３２０に入射される。なお、入射ビームとは、回転多面鏡３２０に向かって入射されるレーザビームをいう。

オーバーフィル光学系３０１は、オーバーフィル方式を採用したものであるため、入射光学系３１０の各光学部品は、回転多面鏡３２０に集束される第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２の各スポットの面積が回転多面鏡３２０における一つの反射面３２１の面積よりも大きくなるように設計されている。

そして、入射光学系３１０は、第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２を、感光体ドラム２１の被走査面２１ａに垂直であり、かつ、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２の主走査方向Ｘに垂直な仮想垂直面αに対して角度θを持たせた状態で（ここでは出射光学系３３０の外側から）回転多面鏡３２０の反射面３２１に入射（以下、「斜め入射」という）させるようになっている。主走査方向Ｘは、感光体ドラム２１の回転軸と平行な方向である。

ここで、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２の主走査方向Ｘに垂直な仮想垂直面αとは、回転多面鏡３２０によって走査される第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２が形成する仮想走査平面βに垂直な面をいう。なお、図２において、符号Ｒａは、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２が回転多面鏡３２０によって偏向走査される主走査方向Ｘの全範囲である最大走査範囲を示している。

回転多面鏡３２０は、回転軸の周りに回転軸方向に沿って配置された複数（ここでは１２個）の反射面３２１を有する回転体である。回転多面鏡３２０は、書込制御部４００（図４参照）からの指示命令によって駆動する駆動モータ等の回転駆動部３２２（図４参照）によって回転駆動されるようになっている。回転多面鏡３２０は、回転駆動部３２２によって、ここでは回転方向Ｚに回転駆動されることで、入射折り返しミラー３１６で反射された第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２を反射面３２１にて主走査方向Ｘに偏向走査する。こうして、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２が回転多面鏡３２０から出射される。なお、出射ビームとは、回転多面鏡３２０の反射面３２１で反射されたレーザビームをいう。

出射光学系３３０は、回転多面鏡３２０の反射面３２１により反射された第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２を回転多面鏡３２０から感光体ドラム２１に導くように、かつ、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２が感光体ドラム２１上を照射した際に、ビームスポット（Ｐｒ１，Ｐｒ２），（Ｐｃ１，Ｐｃ２），（Ｐｆ１，Ｐｆ２）が所定の大きさとなり、感光体ドラム２１上を等速度で走査するようになっている。

出射光学系３３０において、出射光路における光の進行方向の上流側から下流側に向けて、２組のレンズ３３１ａ，３３１ｂで構成されたｆθレンズ３３１と、第２シリンドリカルレンズ３３２と、出射折り返しミラー３３３とがこの順で配設されている。

ｆθレンズ３３１（３３１ａ，３３１ｂ）は、回転多面鏡３２０の偏向走査によって、主走査方向Ｘの両端部を通過する第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２の光路長と、主走査方向Ｘの中央部を通過する第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２の光路長との相違に起因して生じる画像の歪みを補正する。第２シリンドリカルレンズ３３２は、第１シリンドリカルレンズ３１５との相互作用によって、回転多面鏡３２０の面倒れを補正する。出射折り返しミラー３３３は、ガラス板にアルミニウム蒸着を施して形成されている。出射折り返しミラー３３３は、第２シリンドリカルレンズ３３２を通過してきた第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２を反射して被走査面２１ａへ導く。

なお、本実施の形態では、第２シリンドリカルレンズ３３２及び出射折返しミラー３３３をそれぞれ独立して設けているが、第２シリンドリカルレンズ３３２及び出射折返しミラー３３３に代えて、第２シリンドリカルレンズ３３２と出射折り返しミラー３３３との双方の機能を有するシリンドリカルミラーを設けてもよい。

ところで、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２は、被走査面２１ａを主走査方向Ｘに定期的に走査するが、感光体ドラム２１は矢印Ｂ方向に回転しているため、感光体ドラム２１上の副走査方向Ｂも走査することができる。

マルチビーム光学走査装置３００においては、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２が感光体ドラム２１を主走査方向Ｘに走査する毎に、ライン（解像度優先制御の場合には１ライン、速度優先制御の場合には２ライン）の走査開始位置ＳＴが同一となるように、走査開始位置ＳＴをライン毎に同期させる必要がある。

この同期を取るための信号として、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２によって被走査面２１ａに静電潜像を書き込むための有効な走査範囲Ｗの外側で第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２（以下、ここでいう第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２を同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２という）を検出している。

本実施の形態では、マルチビーム光学走査装置３００は、被走査面２１ａへの走査終了側で第１及び第２出射ビームＬｄ１，Ｌｄ２を検知するビーム検知部３４０をさらに備えている。

ビーム検知部３４０は、同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２の有無を検知するビーム検知（ＢＤ）センサ３４１と、走査範囲Ｗの外側（ここでは走査終了側）に位置する同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２をＢＤセンサ３４１に導く同期ビーム折り返しミラー３４２とを含んでいる。同期ビーム折り返しミラー３４２は、凹反射面を有している。

かかる構成を備えたビーム検知部３４０では、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２が回転多面鏡３２０により偏向走査されることでｆθレンズ３３１を通過して走査範囲Ｗの外側（ここでは走査終了側）に移行した同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２を同期ビーム折り返しミラー３４２で折り返してＢＤセンサ３４１にて同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２の有無を検知する。

次にマルチビーム光学走査装置３００において、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２の被走査面２１ａへの主走査方向Ｘの偏向走査について説明する。

マルチビーム光学走査装置３００では、被走査面２１ａに静電潜像が書き込まれるにあたって、書込制御部４００からの画像データに応じて変調制御された光源３１１から拡散光である発散光束が出射される。

光源３１１から拡散して出射した第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２は、図２に示すように、コリメータレンズ３１２によって、副走査方向Ｂに対応する方向には略平行にされ、主走査方向Ｘに対応する方向に緩く発散する発散光とされた略平行ビームに変換されて、次の開口板３１４へと導かれ、開口板３１４の開口３１４ａの主走査方向Ｘに対応する方向の幅より広い範囲にわたって照射される。

すなわち、コリメータレンズ３１２により略平行ビームとされた第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２は、装置内の迷光を防止するために、開口板３１４の略中央部に設けられた開口３１４ａによって、回転多面鏡３２０の近傍での主走査方向Ｘ及び副走査方向Ｂに対応する方向のビーム幅が制限される。

開口板３１４を通過してシリンドリカルレンズ３１５に入射した第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２は、シリンドリカルレンズ３１５により副走査方向Ｂに対応する方向においてのみ回転多面鏡３２０の反射面３２１又はその近傍で収束され、主走査方向Ｘに対応する方向に細長い線状のレーザビームに形成される。次に、シリンドリカルレンズ３１５を通過して入射折り返しミラー３１６にて反射された第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２が回転多面鏡３２０に導かれる。

ここで、オーバーフィル光学系３０１は、オーバーフィル方式を採用したものであるため、第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２は、回転多面鏡３２０の走査対象の反射面３２１に対して、それに隣接する両側の反射面３２１の全部又は一部を含むように照射される。

そして、第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２は、仮想垂直面αに対して角度θを有する状態で回転多面鏡３２０の反射面３２１に入射している。

第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２は、回転多面鏡３２０の反射面３２１で反射される際に、仮想走査平面βに平行な方向では略平行なビームのままで、仮想走査平面βに垂直な方向では拡散ビームとなって、ｆθレンズ３３１に向かう。

ｆθレンズ３３１を通過した第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２は、仮想走査平面βに平行な方向では、被走査面２１ａで収束するように収束ビームとされ、仮想走査平面βに垂直な方向では、拡散ビームのままである。その後、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２は、第２シリンドリカルレンズ３３２に向かう。第２シリンドリカルレンズ３３２を通過した第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２は、仮想走査平面βに平行な方向では、収束ビームのままであり、仮想走査平面βに垂直な方向では、感光体ドラム２１上で収束するような収束ビームに変えられ、出射折り返しミラー３３３により折り返されて、感光体ドラム２１に至る。

以上のようにして、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２は、感光体ドラム２１上に所定の大きさのビームスポット（Ｐｒ１，Ｐｒ２），（Ｐｃ１，Ｐｃ２），（Ｐｆ１，Ｐｆ２）を結ぶことになる。第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２のうちの同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２は、同期ビーム折り返しミラー３４２により、ＢＤセンサ３４１の受光面に向かう収束ビームに変えられる。なお、ｆθレンズ３３１は、前述した役割の他に、回転多面鏡３２０の等角速度運動により等角速度で移動する第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２が感光体ドラム２１上にビームスポット（Ｐｒ１，Ｐｒ２），（Ｐｃ１，Ｐｃ２），（Ｐｆ１，Ｐｆ２）を形成しつつ主走査方向Ｘにおいて等線速度で移動するように変換する役割も担っている。

図４は、図１に示す画像形成装置１００における制御部５０を中心に示すシステムブロック図である。

制御部５０は、例えば、マイクロコンピュータ等の処理装置５６及び記憶部５７を備えている。記憶部５７は、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）及び不揮発性メモリを含んでいる。

ＲＯＭは、マイクロコンピュータ５６が実行する処理の手順である制御プログラムを格納するものである。ＲＡＭは、作業用のワークエリアを提供するものである。不揮発性メモリは、制御に必要なデータをバックアップして保持したり、各種データを保持したりしておくものである。

なお、制御部５０は、入力系に接続された各種センサやスイッチなどの部材からの入力信号を入力する回路であって入力バッファやＡ／Ｄ変換回路を含む入力回路と、出力系に接続されたモータやソレノイド、ランプなどを駆動するドライバを含む出力回路とを備えている。制御部５０は、入力回路からの入力信号に基づき、出力回路から出力される出力信号のタイミング制御を行うようになっている。

制御部５０は、画像形成装置１００に設けられた画像メモリ６８（６８ａ，６８ｂ）、入力部６９、原稿読取部１０及びマルチビーム光学走査装置３００に接続されている。制御部５０は、原稿画像の原稿読取部１０による読み取り動作を制御する。制御部５０は、入力部６９からの印刷データのラスタ画像データをページ毎に画像メモリ６８ａに記憶し、或いは／さらに、原稿画像を読み取って原稿画像データを生成する原稿読取部１０からの原稿画像データを画像メモリ６８ｂにてページ毎に記憶する。制御部５０は、帯電された感光体ドラム２１の被走査面２１ａへのマルチビーム光学走査装置３００による書き込み動作を制御する。

マルチビーム光学走査装置３００は、制御部５０、回転多面体３２０を回転駆動する回転駆動部３２２、及び光源３１１に接続された書込制御部４００をさらに備えている。マルチビーム光学走査装置３００による感光体ドラム２１への書き込みは、制御部５０から指示命令を受けた書込制御部４００によって行われる。

（光量補正用光学フィルタについて）
本実施の形態のマルチビーム光学走査装置３００では、図２に示すように、回転多面体３２０と感光体ドラム２１との間（ここではｆθレンズ３３１と第２シリンドリカルレンズ３３２との間）の光路において光ビームが通過するように光量補正用光学フィルタ３６０が設けられている。

光量補正用光学フィルタ３６０は、通過する光の光量を低減させるものであるので、ＢＤセンサ３４１への同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２を遮らないように配置されることが好ましい。

光量補正用光学フィルタ３６０は、ここでは、ｆθレンズ３３１と第２シリンドリカルレンズ３３２との間の光路上に配置されているが、ＢＤセンサ３４１への同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２を遮らないようにできる位置ならば、回転多面鏡３２０と感光体ドラム２１との間の光路上の何れの位置に配置されていてもよい。例えば、回転多面鏡３２０とｆθレンズ３３１との間の光路上に光量補正用光学フィルタ３６０を配置する場合のように、回転多面鏡３２０に近づくほど、光量補正用光学フィルタ３６０の長さを短くできるものの、走査範囲Ｗと最大走査範囲Ｒａとの間の距離が小さくなり、光量補正用光学フィルタ３６０が同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２にかかりやすくなるため、光量補正用光学フィルタ３６０の配置位置の精度が要求される。また、出射折り返しミラー３３３と感光体ドラム２１との間の光路上に光量補正用光学フィルタ３６０を配置する場合では、光量補正用光学フィルタ３６０の長さを長くする必要があるものの、同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２を考慮しなくてもよい。

本実施の形態のマルチビーム光学走査装置３００において、光量補正用光学フィルタ３６０に代えて或いは加えて、光源３１１と回転多面鏡３２０との間（ここでは第１シリンドリカルレンズ３１５と入射折り返しミラー３１６との間）の光路上に光量補正用光学フィルタ３７０（図５参照）が設けられていてもよい。

図５は、図１及び図２に示すマルチビーム光学走査装置３００の他の例の概略構成を示す斜視図である。

図５に示すマルチビーム光学走査装置３００では、光量補正用光学フィルタ３７０は、通過する光の光量を低減させるものであるので、ＢＤセンサ３４１への同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２を遮らないように配置されることが好ましい。

光量補正用光学フィルタ３７０は、ここでは、第１シリンドリカルレンズ３１５と入射折り返しミラー３１６との間の光路上に配置されているが、ＢＤセンサ３４１への同期検出ビームＬｄ１，Ｌｄ２を遮らないようにできる位置ならば、光源３１１と回転多面鏡３２０との間の光路上の何れの位置に配置されていてもよい。

ところで、マルチビーム光学走査装置３００では、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおけるそれぞれの光量分布が互いに異なることがあるため、光量補正用光学フィルタ３６０，３７０の主走査方向Ｘにおける光透過率分布を如何なる分布にするかが問題となる。

この点、本実施の形態では、光源３１１と感光体ドラム２１との間の光路上に設けられた光量補正用光学フィルタを次のように構成している。なお、以下では、回転多面体３２０と感光体ドラム２１との間の光路上に設けられた光量補正用光学フィルタ３６０について説明するが、光源３１１と回転多面体３２０との間の光路上に設けられた光量補正用光学フィルタ３７０についても同様に考えることができる。

図６は、図１及び図２に示すマルチビーム光学走査装置３００において、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による感光体ドラム２１の被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおけるそれぞれの光量分布γ１，γ２の一例を示すグラフである。なお、図６において、縦軸の光量比は、出射ビームＬｏが仮想垂直面αに平行になる走査位置Ｒ０の光量を基準（１００％）とした比率を百分率で示している。このことは、後述する表１、図８及び表３についても同様である。

図７は、光量補正用光学フィルタ３６０の主走査方向Ｘにおける光透過率分布δの一例を示すグラフである。

光量補正用光学フィルタ３６０は、ここでは、透明性部材として高光透過ガラスを用い、板厚が１．０ｍｍ、長さが２７６ｍｍ、幅が１６ｍｍのものとされている。なお、透明性部材としては、高光透過ガラスに限定されるものではなく、安価なガラス（いわゆる青板ガラス）を用いてもよいし、透明性樹脂材料を用いてもよい。

光量補正用光学フィルタ３６０は、主走査方向Ｘにおける光透過率分布δ（図７参照）が第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおけるそれぞれの光量分布γ１，γ２（図６参照）を各出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２間で平均化した単一の平均光量分布γａｖｅ（図６参照）に基づき（具体的には被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおける光量分布が均一になるように）設定されている。

ここで、平均光量分布は、同一タイプのマルチビーム光学走査装置毎に平均化されていてもよいが、同一タイプのマルチビーム光学走査装置であれば、似通った傾向を示すことから、共通のものとして平均化されていてもよい。例えば、実験等により予め基準となる平均光量分布を求めておき、この基準となる平均光量分布に基づき光量補正用光学フィルタを設定してもよい。

具体的には、平均光量分布は、１台又は複数台のサンプル機の各マルチビーム光学走査装置における複数の光ビームに対する各光量分布の実験データから平均化のための平均化計算法によって直接平均光量値を求め、これを主走査方向Ｘにおける光量分布としてもよい。

平均化計算法としては、代表的には、単純移動平均、加重移動平均及び指数移動平均等の平均計算法や、最小２乗法等による近似計算法を用いることができる。

また、平均光量分布は、複数台のサンプル機の各マルチビーム光学走査装置における複数の光ビームに対する各光量分布の実験データから前記平均化計算法によって一旦各光ビームに対する光量を平均化し、この平均化した各光ビームに対する光量の値に対してさらに各光ビーム間で平均値をとった平均光量値を求め、これを主走査方向Ｘにおける光量分布としてもよい。或いは、平均光量分布は、１台のサンプル機のマルチビーム光学走査装置における複数の光ビームに対する光量分布の実験データから各光ビーム間で平均値をとった平均光量値を求め、これを主走査方向Ｘにおける光量分布としてもよい。

本実施の形態では、以下の表１に示すように、平均光量分布γａｖｅは、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査面２１ａの主走査方向Ｘにおける走査位置での光量の値に対して各出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２間で平均値をとった平均光量値［（γ１＋γ２）／２］の主走査方向Ｘにおける光量分布とされている。

そして、図７に示す光透過率分布δは、図６及び表１に示す平均光量分布γａｖｅから、被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおける光量分布が均一になるように設定されている。

すなわち、光量補正用光学フィルタ３６０の主走査方向Ｘの各位置における光透過率は、
（各位置の光透過率）＝（基準位置の光透過率）／（各走査位置における平均光量比）
の式で求めることができる。

例えば、光透過率を光量補正用光学フィルタ３６０の基準位置（ここでは走査位置Ｒ０に対応する位置）で０．６２にする場合、被走査面２１ａでの走査位置が［−１５０ｍｍ］で平均光量比は０．６５９であるから該走査位置［−１５０ｍｍ］に対応する光量補正用光学フィルタ３６０の位置［−１２０ｍｍ］の光透過率は０．６２／０．６５９＝０．９４（＝９４％）となる。また、被走査面２１ａでの走査位置が［−１２５ｍｍ］で平均光量比は０．７２８であるから該走査位置［−１２５ｍｍ］に対応する光量補正用光学フィルタ３６０の位置［−１００ｍｍ］の光透過率は０．６２／０．７２８＝０．８５（＝８５％）となる。同様に計算すると、以下の表２に示すようになる。

図８は、図７及び表２に示す光透過率分布δの光量補正用光学フィルタ３６０によって補正された場合での第１出射ビームＬｏ１による被走査面２１ａでの光量分布γ１の一例と第２出射ビームＬｏ２による被走査面２１ａでの光量分布γ２の一例とを示すグラフであり、以下の表３はその値を示している。

光量補正用光学フィルタ３６０，３７０としては、光透過性部材に対して蒸着法によって遮光性材料を成膜したものを例示できる。

この場合、平均光量分布γａｖｅに基づく光透過率分布になるように蒸着法によって光量補正用光学フィルタ３６０，３７０を形成することができる。

例えば、本発明に係る光学走査装置に適用できる光量補正用光学フィルタが、ガラス板等の光透過性部材に対して蒸着法によって遮光性材料を成膜したものである場合において、平均光量分布γａｖｅに基づき光量補正用光学フィルタを形成する場合、前記光透過性部材へのコーティング蒸着時に前記遮光性材料に対して前記光透過性部材を覆うマスク部を平均光量分布γａｖｅに応じた速度で、すなわち、光量が小さい場合には速い速度（薄い膜厚）で、逆に光量が大きい場合には遅い速度（厚い膜厚）で連続的に移動させつつ成膜することができる。

前記蒸着法としては、例えば、電子ビーム法、加熱抵抗法、スパッタリング法、イオンビームスパッタリング法などを挙げることができる。但し、それに限定されるものではない。

前記遮光性材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化タンタル（Ｔａ₂Ｏ₅）、酸化亜鉛（ＺｒＯ₂）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ₂）、酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）などを挙げることができる。但し、それに限定されるものではない。

ところで、光量補正用光学フィルタ３６０は、マルチビーム光学走査装置３００の筐体３００ａに設けられた第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２の通過口３００ｄ（図９参照）に設けられていてもよい。

図９は、出射折り返しミラー３３３と感光体ドラム２１との間の光路上に設けられた光量補正用光学フィルタ３６０がマルチビーム光学走査装置３００の筐体３００ａにおける第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２の通過口３００ｄに設けられている状態を示す概略断面図である。

このように光量補正用光学フィルタ３６０が筐体３００ａの通過口３００ｄに設けられていると、光量補正用光学フィルタ３６０における筐体３００ａの外側の面３６０ｂは外部に露出していることが多い。そうすると、光量補正用光学フィルタ３６０における筐体の外側の面３６０ｂに埃が付着しやすい。そのため、光量補正用光学フィルタ３６０における筐体の外側の面３６０ｂを清掃することが多い。

かかる観点から、光量補正用光学フィルタ３６０が光透過性部材３６１の片側に対して蒸着法によって遮光性材料３６２が成膜されたものである場合には、光量補正用光学フィルタ３６０は、光透過性部材３６１の蒸着面３６０ａが筐体３００ａの内側に位置するように筐体３００ａに設けられていることが好ましい。

以上説明したように、本実施の形態のマルチビーム光学走査装置３００によれば、光量補正用光学フィルタ３６０，３７０が光源３１１と感光体ドラム２１との間の光路上に設けられているので、構成が簡単である。しかも、図６に示すように、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおける光量分布がたとえ互いに異なっていても、光源３１１と感光体ドラム２１との間の光路上に設けられている光量補正用光学フィルタ３６０，３７０が、図７に示すように、第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおけるそれぞれの光量分布を各出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２間で平均化した単一の平均光量分布に基づき設定された光透過率分布δを示すので、被走査面２１ａの主走査方向Ｘにおける走査位置での光量が不均一となる光量ムラを軽減でき、これにより良好が画像を得ることが可能となる。

また、本実施の形態では、平均光量分布γａｖｅが第１及び第２出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２による被走査面２１ａの主走査方向Ｘにおける走査位置での光量の値に対して各出射ビームＬｏ１，Ｌｏ２間で平均値をとった平均光量値の主走査方向における光量分布とされているので、簡単にかつ容易に平均光量分布γａｖｅを求めることができる。

また、図９に示すように、光量補正用光学フィルタ３６０が光透過性部材３６１の片側に対して蒸着法によって遮光性材料３６２が成膜されたものである場合であって、光量補正用光学フィルタ３６０は、光透過性部材３６１の蒸着面３６０ａが筐体３００ａの内側に位置するように筐体３００ａに設けられている場合には、光透過性部材３６１の蒸着面３６０ａとは反対側の蒸着が施されていない反対面３６０ｂが筐体３００ａの外側に位置しているので、筐体３００ａの外側から光量補正用光学フィルタ３６０を清掃したとしても、清掃の際の擦れによる蒸着面３６０ａの剥がれを回避でき、これにより蒸着面３６０ａの剥がれによる光量ムラの発生を防止することが可能となる。

また、本実施の形態において、第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２が同時に走査されることにより第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２で１ラインを構成する場合には第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２による被走査面２１ａでの主走査方向Ｘにおける光量分布がたとえ互いに異なっていても、隣り合う光ビーム間（１ライン内）では同じ画像データであるため、光量ムラによる濃度ムラが目立ち難くすることができる。

また、本実施の形態では、光源３１１からの第１及び第２レーザビームＬ１，Ｌ２を被走査面２１ａに光スポット（Ｐｒ１，Ｐｒ２），（Ｐｃ１，Ｐｃ２），（Ｐｆ１，Ｐｆ２）として集光する走査結像光学系は、オーバーフィル光学系３０１を構成し、第１及び第２入射ビームＬｉ１，Ｌｉ２が仮想垂直面αに対して斜めから入射するので、被走査面２１ａでの光量分布の最大の光量と最小の光量との光量差が大きくなりやすいため、マルチビーム光学走査装置３００において、平均光量分布γａｖｅに基づき設定された光量補正用光学フィルタ３６０，３７０を設けることが有利となる。

なお、本実施の形態では、光学走査装置として、斜め入射方式のオーバーフィル光学系３０１を備えたものとしたが、平行入射方式のオーバーフィル光学系を備えたものとしてもよい。また、オーバーフィル光学系に代えて、アンダーフィル光学系を備えたものとしてもよい。

また、本実施の形態では、マルチビーム光学走査装置３００を光源３１１からの二つのレーザビームＬ１，Ｌ２を偏向走査するものとしたが、３つ以上のレーザビームを偏向走査するものであってもよい。

２１ 感光体（被走査体の一例）
２１ａ 被走査面
１００ 画像形成装置
３００ マルチビーム光学走査装置
３００ａ 筐体
３０１ オーバーフィル光学系
３１０ 入射光学系
３１１ 光源
３１９ 光偏向器
３２０ 回転多面鏡
３２１ 反射面
３３０ 出射光学系
３４０ ビーム検知部
３６０ 光量補正用光学フィルタ
３６０ａ 蒸着面
３６１ 光透過性部材
３６２ 遮光性材料
３７０ 光量補正用光学フィルタ
Ｌ１ 第１レーザビーム
Ｌ２ 第２レーザビーム
Ｌｉ１ 第１入射ビーム
Ｌｉ２ 第２入射ビーム
Ｌｏ１ 第１出射ビーム
Ｌｏ２ 第２出射ビーム
Ｘ 主走査方向（感光体の回転方向）
Ｂ 副走査方向
Ｚ 回転方向
α 仮想垂直面
δ 光透過率分布
γ１ 第１出射ビームによる光量分布
γ２ 第２出射ビームによる光量分布
γａｖｅ 平均光量分布
θ 角度

Claims (6)

1. 光源からの複数の光ビームを光偏向器により主走査方向に偏向走査して被走査体における被走査面での副走査方向における異なる位置に照射する光学走査装置であって、
   前記複数の光ビームによる前記被走査面での主走査方向におけるそれぞれの光量分布を各光ビーム間で平均化した平均光量分布に基づき設定された主走査方向における光透過率分布を示す光量補正用光学フィルタを備え、
   前記光量補正用光学フィルタは、前記光源と前記被走査体との間の光路上に設けられていることを特徴とする光学走査装置。
2. 請求項１に記載の光学走査装置であって、
   前記平均光量分布は、前記複数の光ビームによる前記被走査面の主走査方向における走査位置での光量の値に対して各光ビーム間で平均値をとった平均光量値の主走査方向における光量分布であることを特徴とする光学走査装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の光学走査装置であって、
   前記光偏向器及び前記光量補正用光学フィルタを収納する筐体を備え、
   前記光量補正用光学フィルタは、光透過性部材の片側に対して蒸着法によって遮光性材料が成膜されたものであり、前記光透過性部材の蒸着面が前記筐体の内側に位置するように前記筐体に設けられていることを特徴とする光学走査装置。
4. 請求項１から請求項３までの何れか一つに記載の光学走査装置であって、
   前記複数の光ビームは、同時に走査されることにより該複数の光ビームで１ラインを構成することを特徴とする光学走査装置。
5. 請求項１から請求項４までの何れか一つに記載の光学走査装置であって、
   前記光源からの光ビームを前記被走査面に光スポットとして集光する走査結像光学系を備え、
   前記光偏向器は、回転多面鏡を有し、
   前記走査結像光学系は、前記光源からの複数の光ビームを前記回転多面鏡の反射面の回転方向における幅よりも広く形成した入射ビームを前記反射面に入射させ、前記反射面で反射させた出射ビームによって前記被走査面を走査するオーバーフィル光学系を構成し、
   前記入射ビームを、前記被走査面に垂直であり、かつ、前記出射ビームの主走査方向に垂直な方向に沿った仮想垂直面に対して角度を持たせた状態で前記反射面に入射させるように構成されていることを特徴とする光学走査装置。
6. 請求項１から請求項５までの何れか一つに記載の光学走査装置を備えていることを特徴とする画像形成装置。

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