JP2011153732A - 平板カセットの乾燥装置及びその方法 - Google Patents

平板カセットの乾燥装置及びその方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2011153732A
JP2011153732A JP2010014181A JP2010014181A JP2011153732A JP 2011153732 A JP2011153732 A JP 2011153732A JP 2010014181 A JP2010014181 A JP 2010014181A JP 2010014181 A JP2010014181 A JP 2010014181A JP 2011153732 A JP2011153732 A JP 2011153732A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compressed air
flat plate
cassette
drying
plate cassette
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010014181A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigehisa Kurozumi
茂久 黒住
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2010014181A priority Critical patent/JP2011153732A/ja
Publication of JP2011153732A publication Critical patent/JP2011153732A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

【課題】簡単な構成で大型の平板カセットに付着した水等を迅速且つ確実に除去する。
【解決手段】複数の基板を収容する基板カセット(平板カセット)の乾燥装置に、基板カセットが収容される乾燥室と、この乾燥室に圧縮エアーを供給する圧縮エアー供給装置とを設ける。乾燥室の内面に圧縮エアー供給装置から供給された圧縮エアーを基板カセットに向けて噴射する複数の第1及び第2噴射ノズル4,5を設ける。第1噴射ノズル4には、第1開口面積の大きさのノズル孔4aを設ける。第2噴射ノズル5を第1噴射ノズル4と並んで設け、この第2噴射ノズル5に、第1開口面積よりも小さい第2開口面積の大きさのノズル孔5aを設ける。
【選択図】図1

Description

本発明は、液晶パネルに使用するガラス基板などの複数の平板を収容する平板カセットを乾燥させる乾燥装置及びその方法に関するものである。
近年、液晶画面のサイズは、見やすさ等の理由により、ますます大型化の傾向にある。液晶ディスプレイを製造するためには、マザーガラス基板からカラーフィルタ基板やアレイ基板を切り出す必要があるが、液晶画面のサイズの大型化に伴ってマザーガラス基板のサイズが大型化されている。
液晶ディスプレイを製造する各工程において、搬入された複数のマザーガラスを搬送したり、一時的に保管したりするために平板カセットが用いられている。この平板カセットにマザーガラスを収納した状態で、平板カセットが各ステーションに搬送されるので、平板カセットに埃等の種々の汚れが付着する。このため、平板カセットを洗浄水等を噴射して適宜洗浄する必要がある。洗浄後には、平板カセットに付着した水等を圧縮エアー等を用いて乾燥させることが知られている。
なお、平板カセットの乾燥装置ではないが、例えば、特許文献1のように、第1乾燥装置により開口面積の小さいノズルから風束断面積の小さい風速の大きい風を部品に当て、そのノズルを移動することにより部品の水の溜まりやすく水を吹き飛ばしにくい部分を含めて部品に付着したほとんどの水を吹き飛ばし、そののち部品を移動して部品表面にわずかに残存した水を第2乾燥装置により、一方のノズルよりも開口面積の大きいノズルから一方のノズルよりも風束断面積が大きく、風速の小さい風を部品に当て仕上げ乾燥するエアー乾燥機が知られている。
実開平5−40795号公報
ところで、圧縮エアーを噴射ノズルから噴射させて平板カセットに付着した水等を吹き飛ばす場合、平板カセットの大型化に伴い、平板カセットのうち噴射ノズルから離れた部分では圧縮エアーが十分に届かず、平板カセットに付着した水等を十分に除去できない。
しかしながら、上記特許文献1のように、異なる開口面積のノズルを有する乾燥装置を複数設け、各乾燥装置に大型の平板カセットを搬入して乾燥させるようにすると、大きな乾燥装置と、それを設置する広大な場所とが必要となるという問題がある。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、簡単な構成で大型の平板カセットに付着した水等を迅速且つ確実に除去することにある。
上記の目的を達成するために、この発明では、複数の異なる開口面積を有する複数の噴射ノズルを配置するようにした。
具体的には、第1の発明では、複数の平板を収容する平板カセットの乾燥装置を前提とし、
上記平板カセットの乾燥装置は、
上記平板カセットが収容される乾燥室と、
上記乾燥室に圧縮エアーを供給する圧縮エアー供給装置と、
上記乾燥室の内面に並んで配置され、上記圧縮エアー供給装置から供給された圧縮エアーを上記平板カセットに向けて噴射する複数の噴射ノズルとを備え、
上記複数の噴射ノズルは、
第1開口面積の大きさのノズル孔を有する第1噴射ノズルと、
上記第1噴射ノズルと並んで設けられ、第2開口面積の大きさのノズル孔を有する第2噴射ノズルとを含み、
上記第2開口面積は、上記第1開口面積よりも小さい構成とする。
上記の構成によると、平板カセットを乾燥室に収容した状態で、第1噴射ノズル及び第2噴射ノズルから圧縮エアーを噴射させ、平板カセットのうち、第1噴射ノズルから噴射される圧縮エアーによって噴射ノズルが設けられた乾燥室の内面から近い部分の水滴等が吹き飛ばされる。一方、第1噴射ノズルよりも開口面積の小さい第2噴射ノズルからは、同じ圧縮エアー供給装置から供給される圧縮エアーであっても、第1噴射ノズルよりも風速の大きい圧縮エアーが噴射されるので、圧縮エアーがより遠くに届く。このため、平板が大型化しても、平板カセットのうち噴射ノズルから遠い部分にある水滴等であっても、噴射ノズルを移動させたり、平板カセットを移動させたりすることなく、圧縮エアーによって迅速且つ確実に吹き飛ばされる。
第2の発明では、第1の発明において、
上記第2開口面積は、可変に構成されている。
上記の構成によると、第2開口面積を小さくすれば、さらに遠くまで圧縮エアーが届くので、平板カセットの形状に合わせて第2開口面積を変更することで、同じ乾燥装置で異なる平板カセットの乾燥を行うことができる。
第3の発明では、複数の平板を収容する平板カセットを乾燥させる方法を前提とし、
上記方法は、
上記平板カセットが収容される乾燥室と、該乾燥室に圧縮エアーを供給する圧縮エアー供給装置と、上記乾燥室の内面に並んで配置され、上記圧縮エアー供給装置から供給された圧縮エアーを上記平板カセットに向けて噴射する複数の噴射ノズルとを備えた乾燥装置を用意する準備工程と、
上記複数の噴射ノズルのうち、少なくとも1つの噴射ノズルのノズル孔の開口面積を小さくするノズル調整工程と、
上記乾燥室に平板カセットを収容した状態で、上記圧縮エアー供給装置から圧縮エアーを供給し、上記複数の噴射ノズルから圧縮エアーを噴射させる噴射工程とを含み、
上記噴射工程において、上記ノズル孔の開口面積を小さくした噴射ノズルから他の噴射ノズルよりも遠くへ圧縮エアーを噴射させるように構成されている。
上記の構成によると、平板カセットを乾燥室に収容した状態で、複数の噴射ノズルから圧縮エアーを噴射させ、平板カセットのうち、通常の噴射ノズルから噴射される圧縮エアーによって噴射ノズルが設けられた乾燥室の内面から近い部分の水滴等が吹き飛ばされる。一方、通常の噴射ノズルよりも開口面積の小さい噴射ノズルからは、同じ圧縮エアー供給装置から供給される圧縮エアーであっても、通常の噴射ノズルよりも風速の大きい圧縮エアーが噴射されるので、圧縮エアーがより遠くに届く。このため、平板が大型化しても、平板カセットのうち噴射ノズルから遠い部分にある水滴等であっても、噴射ノズルを移動させたり、平板カセットを移動させたりすることなく、圧縮エアーによって迅速且つ確実に吹き飛ばされる。
第4の発明では、第3の発明において、
上記方法は、上記噴射工程の後、温風を上記平板カセットに送風して該平板カセットを乾燥させる乾燥工程を含む構成とする。
上記の構成によると、平板カセットのうち噴射ノズルから遠い部分にある水滴等も圧縮エアーによって迅速且つ確実に吹き飛ばされるので、温風を送る時間を短くすることができ、全体の工程が短くなると共に、必要なエネルギーが確実に削減される。
以上説明したように、本発明によれば、通常の噴射ノズルよりも開口面積の小さい噴射ノズルから圧縮エアー供給装置から供給される圧縮エアーを通常の噴射ノズルよりも風速の大きい圧縮エアーとして噴射させるようにしたことにより、簡単な構成で大型の平板カセットに付着した水等を迅速且つ確実に除去することができる。
基板カセットの乾燥装置における噴射ノズルから圧縮エアーを噴射する様子を拡大して示す斜視図であり、(a)が第1噴射ノズルを示し、(b)が第2噴射ノズルを示す。 基板カセットを乾燥室に収容する様子を示す斜視図である。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
−基板カセットの乾燥装置の構成−
図2は本発明の実施形態の基板カセット10の乾燥装置1を示し、この乾燥装置1は、平板カセットとしての基板カセット10が収容される乾燥室2を備えている。例えば、この乾燥室2は、正面に基板カセット10を搬入するための搬入口3を備えている。この乾燥室2には、コンプレッサーなどの圧縮エアー供給装置6から所定の圧力の圧縮エアーが供給されるようになっている。
詳細は図示しないが、この乾燥室2内には、洗浄水が供給可能に構成され、乾燥室2内に設けた洗浄水噴射口から洗浄水を噴射させて基板カセット10を洗浄可能に構成されている。また、乾燥室2には、温風室が連設され、付着した水等の除去後に基板カセット10を搬送可能に構成されている。
基板カセット10は、例えば金属製の角パイプ、I型鋼等よりなる主柱11aを直方体に組み立てたフレーム本体11を備えている。フレーム本体11の左右には、上下に延びる一対のワイヤー固定部材12が前後に複数対並んで設けられ、各一対のワイヤー固定部材12には、上下に所定の間隔をあけてワイヤー13が連結されている。この前後に配置された同じ高さのワイヤー13上に、前方から平板としてのマザーガラス基板(図示せず)を挿入することで、複数のマザーガラス基板を収容可能となっている。マザーガラスの大型化に伴ってマザーガラス1枚当たりの質量が増加する傾向にある。このため、左右のワイヤー固定部材12は、角パイプからなる補強部材14で連結されて補強されている。
そして、上記乾燥室2の内面には、複数の第1及び第2噴射ノズル4,5が並んで配置されている。この第1及び第2噴射ノズル4,5は、圧縮エアー供給装置6から供給された圧縮エアーを基板カセット10に向けて噴射可能に構成されている。
具体的には、第1及び第2噴射ノズル4,5は、図1(a)に示すように、第1開口面積の大きさのノズル孔4aを有する第1噴射ノズル4と、図1(b)に示すように、第2開口面積の大きさのノズル孔5aを有する第2噴射ノズル5とを含んでいる。例えば、第1及び第2噴射ノズル4,5は、それぞれ噴射方向を変更可能に構成されている。第1噴射ノズル4と第2噴射ノズル5との割合は、任意であるが、基板カセット10の形状に合わせて適宜配置すればよく、第1噴射ノズル4と第2噴射ノズル5とは、ばらばらに並んで設けられている。そして、第2開口面積は、第1開口面積よりも小さく設定されている。例えば、第1噴射ノズル4と第2噴射ノズル5とで先端部分を取替可能にすれば、随時取替可能となる。また、第2噴射ノズル5の先端部分を回転可能にして絞ることにより、開口面積を調整可能としてもよい。
−基板カセットの乾燥方法−
次に、本実施形態にかかる基板カセット10の乾燥方法について説明する。
まず、準備工程で、上記乾燥装置1を準備する。乾燥室2には、洗浄水と圧縮エアーとがそれぞれ供給されるようにしておく。圧縮エアー供給装置6から供給される圧縮エアーの容量は、例えば、20,000L/minとする。第1及び第2噴射ノズル4,5を適当な割合で乾燥室2の左右の内面に26個ずつ配置すれば、1つの噴射ノズル4,5からは約400L/minの圧縮エアーを噴射可能となる。
次いで、ノズル調整工程で、第1及び第2噴射ノズル4,5のうち、第2噴射ノズル5のノズル孔5aの第2開口面積を第1開口面積よりも小さくしておく。このノズル調整工程は、常時同じ形の基板カセット10を乾燥させる場合には、最初に一度設定しておけばよい。異なる形の基板カセット10がライン上に流れる場合には、異なる形の基板カセット10が流れてくる前にノズル調整工程を行えばよい。第2噴射ノズル5の第2開口面積が可変に構成されている場合には、先端部分を絞る等により調整する。このように、第2開口面積を小さくすれば、さらに遠くまで圧縮エアーが届くので、基板カセット10の形状に合わせて第2開口面積を変更することで、同じ乾燥装置1で異なる基板カセット10の乾燥を行うことができる。
次いで、マザーガラス基板を収容していない基板カセット10を搬入口3から搬入する。
次いで、洗浄水噴射口から洗浄水を噴射させて基板カセット10を洗浄し、溜まった汚れを洗い流す。
次いで、噴射工程で、圧縮エアー供給装置6から圧縮エアーを供給し、第1及び第2噴射ノズル4,5から圧縮エアーを噴射させる。図1(a)に示すように、第1噴射ノズル4から噴射される圧縮エアーによって、基板カセット10のうち、第1及び第2噴射ノズル4,5が設けられた乾燥室2の内面から近い部分(左右の主柱11a、ワイヤー固定部材12等)の水滴が吹き飛ばされる。一方、第1噴射ノズル4よりも開口面積の小さい第2噴射ノズル5からは、同じ圧縮エアー供給装置6から供給される圧縮エアーであっても、第1噴射ノズル4よりも風速の大きい圧縮エアーが噴射される。このため、圧縮エアーがより遠くに届くので、基板カセット10のうち第1及び第2噴射ノズル4,5から遠い部分(特に水滴の溜まりやすい補強部材14の左右中央部分の上面14a)にある水滴も圧縮エアーによって迅速且つ確実に吹き飛ばされる。したがって、基板が大型化して水滴が残りやすい補強部材14の左右中央部分の上面14aの水滴も、圧縮エアー供給装置6の容量を変えることなく、圧縮エアーによって迅速且つ確実に吹き飛ばされる。
次いで、乾燥工程において、乾燥室2に連設された温風室に基板カセット10が搬送され、この温風室内で温風を基板カセット10に送風して基板カセット10を乾燥させる。このとき、すでに基板カセット10に付着した水滴がほとんど吹き飛ばされているので、温風を送る時間を短くすることができる。したがって、全体の工程が短くなると共に、必要なエネルギーを確実に削減することができる。
したがって、本実施形態にかかる基板カセット10の乾燥装置1によると、噴射ノズル4,5を移動させたり、基板カセット10を移動させたりすることなく、簡単な構成で大型の基板カセット10に付着した水等を迅速且つ確実に除去することができる。
(その他の実施形態)
本発明は、上記実施形態について、以下のような構成としてもよい。
すなわち、上記実施形態では、基板カセット10は、液晶ディスプレイのマザーガラス基板を収容するためのものとしたが、これに限定されず、カラーフィルタ基板、アレイ基板、液晶パネル、プラズマディスプレイ用パネル等の平板を収容するカセットに適用可能である。
上記基板カセット10の形状は、上記実施形態に限定されず、樹脂製であってもよい。
また、上記実施形態では、乾燥室2に連設した温風室で乾燥工程を行うようにしているが、乾燥室2内で乾燥工程まで行ってもよい。
なお、以上の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物や用途の範囲を制限することを意図するものではない。
1 基板カセットの乾燥装置(平板カセットの乾燥装置)
2 乾燥室
4 第1噴射ノズル
4a ノズル孔
5 第2噴射ノズル
5a ノズル孔
6 圧縮エアー供給装置
10 基板カセット(平板カセット)

Claims (4)

  1. 複数の平板を収容する平板カセットの乾燥装置において、
    上記平板カセットが収容される乾燥室と、
    上記乾燥室に圧縮エアーを供給する圧縮エアー供給装置と、
    上記乾燥室の内面に並んで配置され、上記圧縮エアー供給装置から供給された圧縮エアーを上記平板カセットに向けて噴射する複数の噴射ノズルとを備え、
    上記複数の噴射ノズルは、
    第1開口面積の大きさのノズル孔を有する第1噴射ノズルと、
    上記第1噴射ノズルと並んで設けられ、第2開口面積の大きさのノズル孔を有する第2噴射ノズルとを含み、
    上記第2開口面積は、上記第1開口面積よりも小さい
    ことを特徴とする平板カセットの乾燥装置。
  2. 請求項1に記載の平板カセットの乾燥装置において、
    上記第2開口面積は、可変に構成されている
    ことを特徴とする平板カセットの乾燥装置。
  3. 複数の平板を収容する平板カセットを乾燥させる方法において、
    上記平板カセットが収容される乾燥室と、該乾燥室に圧縮エアーを供給する圧縮エアー供給装置と、上記乾燥室の内面に並んで配置され、上記圧縮エアー供給装置から供給された圧縮エアーを上記平板カセットに向けて噴射する複数の噴射ノズルとを備えた乾燥装置を用意する準備工程と、
    上記複数の噴射ノズルのうち、少なくとも1つの噴射ノズルのノズル孔の開口面積を小さくするノズル調整工程と、
    上記乾燥室に平板カセットを収容した状態で、上記圧縮エアー供給装置から圧縮エアーを供給し、上記複数の噴射ノズルから圧縮エアーを噴射させる噴射工程とを含み、
    上記噴射工程において、上記ノズル孔の開口面積を小さくした噴射ノズルから他の噴射ノズルよりも遠くへ圧縮エアーを噴射させる
    ことを特徴とする平板カセットの乾燥方法。
  4. 請求項3に記載の平板カセットの乾燥方法において、
    上記噴射工程の後、温風を上記平板カセットに送風して該平板カセットを乾燥させる乾燥工程を含む
    ことを特徴とする平板カセットの乾燥方法。
JP2010014181A 2010-01-26 2010-01-26 平板カセットの乾燥装置及びその方法 Pending JP2011153732A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010014181A JP2011153732A (ja) 2010-01-26 2010-01-26 平板カセットの乾燥装置及びその方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010014181A JP2011153732A (ja) 2010-01-26 2010-01-26 平板カセットの乾燥装置及びその方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011153732A true JP2011153732A (ja) 2011-08-11

Family

ID=44539839

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010014181A Pending JP2011153732A (ja) 2010-01-26 2010-01-26 平板カセットの乾燥装置及びその方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011153732A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019016861A1 (ja) * 2017-07-18 2019-01-24 シャープ株式会社 カセット乾燥装置、カセット乾燥方法、elデバイスの製造装置、及びelデバイスの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019016861A1 (ja) * 2017-07-18 2019-01-24 シャープ株式会社 カセット乾燥装置、カセット乾燥方法、elデバイスの製造装置、及びelデバイスの製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100440446C (zh) 基板处理装置
KR101366135B1 (ko) 포스트 퍼지 장치
KR102092702B1 (ko) 기판 세정 장치
KR20080090070A (ko) 에어나이프 및 이를 포함하는 기판 건조 장치
KR100817505B1 (ko) 평판램프 제조용 성형유리기판 세정 장치 및 방법
JP2007300118A5 (ja)
US10157754B2 (en) Liquid knife cleaning device
JP5362623B2 (ja) 基板処理装置
JP2008311657A (ja) 基板エッチング装置及び基板の処理方法
JP6389988B2 (ja) 異物除去装置
EP2594340A1 (en) Surface treatment apparatus
JP2011153732A (ja) 平板カセットの乾燥装置及びその方法
KR101874714B1 (ko) 대면적 기판의 건식 세정 장치용 노즐 어셈블리
TWI489574B (zh) 蝕刻基板的設備
JP2008023467A (ja) フィルム洗浄装置
CN104550157A (zh) 清洗装置
KR100684048B1 (ko) 유체분사장치
KR20100059235A (ko) 유체 분사 장치
KR101224904B1 (ko) 마스크 세정장치
JP2002113430A (ja) 基板処理装置
KR101315256B1 (ko) 유리 기판 균일 건조용 에어나이프 분사장치
KR102491879B1 (ko) 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치
KR101388505B1 (ko) 대면적 기판용 세정장치
JP4036818B2 (ja) 洗浄装置および洗浄方法
KR101075483B1 (ko) 기판 세정장치 및 방법